JP3411499B2 - 耐摩耗性摺動部材の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、例えば遮断器の
操作機構などに多用されるリンク機構の摺動部材の製造
方法に関し、特に、耐摩耗性と機械強度を向上した摺動
部材の製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図１４は特開平６−３２２５５７号公報
の従来例として示された従来の摺動部材を示す断面図で
あり、図において、５は摺動部基材、６はグリースであ
る。また、図１５は特開昭５３−８３９３８号公報に示
された従来の摺動部材を示す断面図であり、図におい
て、７は金属マトリックス、８は潤滑性微粒子、９は硬
質性微粒子である。また、図１６は特開昭６２−２０２
０２７号公報に示された従来の摺動部材を示す断面図で
あり、図において、１０はニッケルリン合金層である。
さらに、図１７は特開平６−３２２５５７号公報に示さ
れた従来の摺動部材を示す断面図であり、図において、
１１は耐食性被膜、１２は加熱により形成されたＮｉ化
合物である。

【０００３】次に動作について説明する。摺動部材が摺
動部基材５のままならば、例えば、リンク機構の摺動部
で、経年的に酸化劣化や腐食などが発生するだけでな
く、異常摩耗、焼付きが発生し、動作不良のような不具
合が発生する。そこで、これらの対策として、図１４の
例のように、グリース６を設けることにより、基材５の
耐食性を保つと同時に、摺動部材どうしが接触するのを
避けようとする方法がとられている、また、図１５の例
のように、金属マトリックス７中に潤滑性微粒子８と硬
質性粒子９とを共析させることにより、基材５の潤滑性
と耐摩耗性を向上させようとする方法がとられている。
また、図１６や図１７の例のように、無電解ＮｉＰめっ
きや被膜を施した後、めっき膜や被膜を加熱し硬化させ
ることにより、基材の耐食性を保つと同時に耐摩耗性を
向上させようとする方法がとられている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図１４
の例のように、グリースを塗布したものでは、使用環境
や経年的な酸化により劣化し、これを起因として動作特
性を損なうだけでなく、動作不良を起こすこともあり、
定期的なグリース補給という保守点検をしなければなら
ない等の問題がある。また、図１５の例のように、金属
マトリックス中に潤滑性微粒子と硬質性微粒子を共析さ
せたものでは、金属マトリックスの硬度が十分でないた
め、クラックが発生しやすくなり、共析させた潤滑性微
粒子や硬質性微粒子が脱落しやすくなる等の問題があ
る。また、図１６や図１７の例のように、無電解ＮｉＰ
めっきや被膜を施した後、加熱硬化させたものでは、基
材が焼き入れ可能な鋼材であった場合にはめっき膜や被
膜の加熱プロセス中に基材が軟化し、基材の機械強度が
低下する等の問題がある。

【０００５】この発明は前記のような問題点を解消する
ためになされたもので、リンク機構等の摺動部材にグリ
ースを塗布することなく、耐摩耗性が十分にあるのでメ
ンテナンスなしで長期間に渡って動作特性を安定でき、
機械強度の低下もなく、製作コストの低減ができる耐摩
耗性摺動部材の製造方法を提供することを目的とする。

【０００６】請求項１に係る発明は、焼き入れした鋼材
を基材とし、ＮｉＰめっき、ＮｉＢめっき、あるいは、
ＮｉＷめっきから形成される膜を前記基材に被膜した
後、基材の軟化温度以下の温度で加熱し、その後冷却
（焼き戻し）し、ニッケルリン化合物、ニッケルボロン
化合物、あるいは、ニッケルタングステン化合物を前記
被膜に析出させ、前記基材の軟化を起こさずに被膜を硬
化させることを特徴とする耐摩耗性摺動部材の製造方法
である。請求項２に係る発明は、焼き入れした鋼材を基
材とし、Ａｌ ₂ Ｏ ₃ 、ＴｉＯ ₂ 、ＺｒＯ ₂ 、ＴｈＯ ₂ 、Ｓｉ
Ｃ、ＺｒＢ ₂ およびダイヤモンドから選択された硬質粒
子が混濁したＮｉＰめっき、ＮｉＢめっき、あるいは、
ＮｉＷめっき液中に前記基材を浸漬し、前記硬質粒子を
膜中に分散させためっき膜を前記基材に被膜した後、前
記の被膜が形成された前記基材を軟化温度以下の温度で
加熱した後冷却（焼き戻し）し、前記硬質粒子を分散さ
せたままで、ニッケルリン化合物、ニッケルボロン化合
物、あるいは、ニッケルタングステン化合物を前記被膜
に析出させ、前記基材の軟化を起こさずに被膜を硬化さ
せたことを特徴とする耐摩耗性摺動部材の製造方法であ
る。 請求項３に係る発明は、焼き入れした鋼材を基材と
し、グラファイト、４ふっ化エチレン重合体、２硫化モ
リブデンおよび窒化ボロンから選択された自己潤滑性粒
子が混濁したＮｉＰめっき、ＮｉＢめっき、あるいは、
ＮｉＷめっき液中に前記基材を浸漬し、前記自己潤滑性
粒子を膜中に分散させためっき膜を前記基材に被膜した
後、前記の被膜が形成された前記基材を軟化温度以下の
温度で加熱した後冷却（焼き戻し）し、前記自己潤滑性
粒子を分散させたままで、ニッケルリン化合物、ニッケ
ルボロン化合物、あるいは、ニッケルタングステン化合
物を前記被膜に析出させ、前記基材の軟化を起こさずに
被膜を硬化させたことを特徴とする耐摩耗性摺動部材の
製造方法である。

【０００７】

【０００８】

【０００９】

【００１０】

【００１１】

【００１２】

【００１３】請求項１に係る発明の耐摩耗性摺動部材の
製造方法は、硬化のために焼き入れした鋼材の基材に、
ＮｉＰめっき、ＮｉＢめっき、あるいは、ＮｉＷめっき
等から形成される膜を被膜した後、加熱し、その後冷却
し、ニッケルリン化合物、ニッケルボロン化合物、ある
いは、ニッケルタングステン化合物等を被膜中に析出さ
せるので、基材である鋼材の軟化を起こさずに被膜中に
ニッケルリン化合物、もしくは、ニッケルボロン化合
物、あるいは、ニッケルタングステン化合物を析出し、
被膜は硬化し、耐摩耗性がよくなり、リンク機構等が動
作してもメンテナンスなしで長期間安定的に動作を維持
できる。

【００１４】

【００１５】請求項２に係る発明の耐摩耗性摺動部材の
製造方法は、硬化のために焼き入れした鋼材の基材に、
Ａｌ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＴｈＯ₂、ＳｉＣ、Ｚｒ
Ｂ₂、ダイヤモンド等の硬質粒子を分散したＮｉＰめっ
き、ＮｉＢめっき、あるいは、ＮｉＷめっき等から形成
される膜を被膜した後、加熱し、その後冷却し、ニッケ
ルリン化合物、ニッケルボロン化合物、あるいは、ニッ
ケルタングステン化合物等を被膜中に析出させるので、
基材の鋼材は軟化を起こさずに硬化安定したままで、機
械強度の低下がなく、被膜はニッケルリン化合物、ニッ
ケルボロン化合物、あるいは、ニッケルタングステン化
合物を析出し、被膜は硬化し、かつ、被膜中にはＡｌ₂
Ｏ₃、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＴｈＯ₂、ＳｉＣ、ＺｒＢ₂、
ダイヤモンド等の硬質粒子を分散しており、被膜は一層
硬化しており、耐摩耗性が一層よくなり、リンク機構等
が動作してもメンテナンスなしで長期間安定的に動作を
維持できる。

【００１６】

【００１７】請求項３に係る発明の耐摩耗性摺動部材の
製造方法は、硬化のために焼き入れした鋼材の基材に、
グラファイト、４ふっ化エチレン重合体、２硫化モリブ
デン、窒化ボロン等の自己潤滑性粒子を分散したＮｉＰ
めっき、ＮｉＢめっき、あるいは、ＮｉＷめっき等から
形成される膜を被膜した後、加熱し、その後冷却し、ニ
ッケルリン化合物、ニッケルボロン化合物、あるいは、
ニッケルタングステン化合物等を被膜中に析出させるの
で、基材の鋼材は軟化を起こさずに硬化安定したまま
で、機械強度の低下がなく、被膜はニッケルリン化合
物、ニッケルボロン化合物、あるいは、ニッケルタング
ステン化合物を析出し、被膜は硬化し、かつ、被膜中に
はグラファイト、４ふっ化エチレン重合体、２硫化モリ
ブデン、窒化ボロン等の自己潤滑性粒子を分散してお
り、被膜は低摩擦化しており、耐摩耗性や潤滑性がよく
なり、リンク機構等が動作してもメンテナンスなしで長
期間安定的に動作を維持できる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
について説明する。 実施の形態１．（参考例） 実施の形態１．は、耐摩耗性摺動部材の一例であり、図
１はこの発明を示す断面図で、図において、１は浸炭焼
き入れ焼き戻したクロムモリブデン鋼ＳＣＭ４１５（Ｊ
ＩＳ規格）であり、２はＮｉ₃Ｐを析出した無電解Ｎｉ
Ｐめっき被膜である。

【００１９】Ｎｉ₃Ｐは硬質であり、Ｎｉ₃Ｐを析出した
無電解ＮｉＰめっき被膜は実開昭６４−４５７６９によ
るとビッカース硬度で約ＨＶ８００以上もあることが知
られている。また、浸炭焼き入れ焼き戻したクロムモリ
ブデン鋼ＳＣＭ４１５の表面からの深さと硬度との関係
を図２に示す。この図から表面ではＨＶ７００程度の硬
度を持って硬化していることがわかる。また、この図か
ら、約ＨＶ４２０以上を焼き入れによる硬化層と考える
と、その硬化層は表面下０．９ｍｍの深さまであること
がわかる。なお、いまの場合、無電解ＮｉＰめっき被膜
の熱処理をしていない場合のビッカース硬度は約ＨＶ４
２０（図４から）なので、硬化層の境界を約ＨＶ４２０
とした。

【００２０】いま、リンク機構等の動作が行われると、
機構内の摺動部材が摺動するが、２のＮｉ₃Ｐを析出し
た無電解ＮｉＰめっきも基材であるクロムモリブデン鋼
も硬化しているため、耐摩耗性が向上し、長期間に渡っ
てメンテナンスなしで、安定した動作を保つことができ
るようになる。

【００２１】実施の形態２．（参考例) 実施の形態２．は、耐摩耗性摺動部材の他の実施の形態
であり、前記実施の形態１．との相違点に限って説明す
る。

【００２２】前記実施の形態１．では、焼き入れ焼き戻
しした鋼材として、浸炭焼き入れ焼き戻ししたＳＣＭ４
１５としたが、ＳＣＭ４１８やＳＣＭ４２０やＳＣＭ４
２１等のクロムモリブデン鋼であればよく、前記実施の
形態１．と同様の効果を奏する。

【００２３】実施の形態３．（参考例） 実施の形態３．は、耐摩耗性摺動部材の他の実施の形態
であり、前記実施の形態１．との相違点に限って説明す
る。

【００２４】前記実施の形態１．では、焼き入れ焼き戻
しした鋼材として、浸炭焼き入れ焼き戻ししたＳＣＭ４
１５としたが、ＳＮＣＭ２２０、ＳＮＣＭ４２０等のよ
うなニッケルクロムモリブデン鋼や、ＳＮＣ４１５、Ｓ
ＮＣ４１８等のようなニッケルクロム鋼やＳＭｎ４２
０、ＳＭｎ４３３等のようなマンガンクロム鋼やＳＣｒ
４１５、ＳＣｒ４２０等のようなクロム鋼やＳ１５Ｃ、
Ｓ４５Ｃ等のような炭素鋼等のような焼き入れ焼き戻し
が可能な鋼材であればよく、前記実施の形態１．と同様
の効果を奏する。

【００２５】実施の形態４．（参考例) 実施の形態４．は、耐摩耗性摺動部材の他の実施の形態
であり、前記実施の形態１．との相違点に限って説明す
る。

【００２６】前記実施の形態１．では、めっき被膜はＮ
ｉ₃Ｐを析出した無電解ＮｉＰめっきとしたが、ニッケ
ルリン化合物を析出した無電解ＮｉＰめっきであればよ
く、前記実施の形態１．と同様の効果を奏する。また、
無電解ＮｉＰめっきだけでなく電解ＮｉＰめっきでも前
記実施の形態１．と同様な効果を奏する。

【００２７】実施の形態５．（参考例） 実施の形態５．は、耐摩耗性摺動部材の他の実施の形態
であり、前記実施の形態１．との相違点に限って説明す
る。

【００２８】前記実施の形態１．では、めっき被膜はＮ
ｉ₃Ｐを析出した無電解ＮｉＰめっきとしたが、ニッケ
ルボロン化合物を析出した無電解ＮｉＢめっきでもよ
く、前記実施の形態１．と同様の効果を奏する。また、
無電解ＮｉＢめっきだけでなく電解ＮｉＢめっきでも前
記実施の形態１．と同様な効果を奏する。

【００２９】実施の形態６．（参考例) 実施の形態６．は、耐摩耗性摺動部材の他の実施の形態
であり、前記実施の形態１．との相違点に限って説明す
る。

【００３０】前記実施の形態１．では、めっき被膜はＮ
ｉ₃Ｐを析出した無電解ＮｉＰめっきとしたが、ニッケ
ルタングステン化合物を析出した無電解ＮｉＷめっきで
あればよく、前記実施の形態１．と同様の効果を奏す
る。また、無電解ＮｉＷめっきだけでなく電解ＮｉＷめ
っきでも前記実施の形態１．と同様な効果を奏する。

【００３１】実施の形態７． 実施の形態７．は、請求項１に係る発明の耐摩耗性摺動
部材の製造方法の一例であり、図３はこの発明の製造プ
ロセスを示す図で、図１１は従来行われていた製造プロ
セスを示す図である。

【００３２】従来の製造プロセスでは、焼き入れ焼き戻
しが可能な鋼材を事前に焼き入れ焼き戻しした後に、め
っき被膜し、その後、めっき被膜の硬化のために加熱処
理する。図４に無電解ＮｉＰめっき膜のビッカース硬度
と熱処理温度との関係を示す。図４から、耐摩耗性、す
なわち、被膜の硬度の点では、めっき被膜の加熱処理と
しては約４００℃が最適であることがわかる。しかし、
図１１に示すように、４００℃で加熱処理をすると、基
材が軟化し、軟らかい基材の上に硬いめっき膜が被膜さ
れた構造になる。そのため、リンク機構等の摺動部材の
ように高荷重がかかる部材ではめっき膜に簡単に亀裂が
発生し、めっき膜が剥がれやすくなる。

【００３３】図５に浸炭焼き入れしたクロムモリブデン
鋼４１５を一定温度で４時間だけ焼き戻した場合の硬化
層深さと焼き戻し温度との関係を示す。なお、硬化層は
ＨＶ４２０よりも硬度が高い層と定義した。また、図５
から焼き戻し温度が３００℃以上の場合には硬化層が少
なくなっていることがわかる。図６に無電解ＮｉＰめっ
き膜の熱処理温度をパラメータとした場合の硬度と熱処
理時間の関係を示す。よって、この場合の基材の軟化温
度は約３００℃と考えられる。図６から３００℃以下の
熱処理温度でも熱処理時間をかけることにより、めっき
膜は十分に硬化していることがわかる。例えば、２００
℃で熱処理するならば、約２０００分の時間をかければ
めっき膜は硬化することがわかる。したがって、図３に
示した製造プロセスのように、浸炭焼き入れしたクロム
モリブデン鋼４１５に無電解ＮｉＰめっきを施し、その
後、被膜したクロムモリブデン鋼を２００〜３００℃で
長時間、熱処理すれば、基材の軟化を生ぜずに被膜の硬
度を上げることが出来ることがわかる。

【００３４】いま、リンク機構等の動作が行われると、
機構内の摺動部材が摺動するが、２のＮｉ₃Ｐを析出し
た無電解ＮｉＰめっきも基材であるクロムモリブデン鋼
も硬化しているため、耐摩耗性が向上し、長期間に渡っ
てメンテナンスなしで、安定した動作を保つことができ
るようになる。

【００３５】実施の形態８． 実施の形態８．は、請求項１に係る発明の摩耗性摺動部
材の製造方法の他の実施の形態であり、前記実施の形態
７．との相違点に限って説明する。

【００３６】前記実施の形態７では、焼き入れした鋼材
として、浸炭焼き入れしたＳＣＭ４１５としたが、ＳＣ
Ｍ４１８やＳＣＭ４２０やＳＣＭ４２１等のクロムモリ
ブデン鋼であればよく、前記実施の形態７．と同様の効
果を奏する。

【００３７】実施の形態９． 実施の形態９．は、請求項１に係る発明の耐摩耗性摺動
部材の製造方法の他の実施の形態であり、前記実施の形
態７．との相違点に限って説明する。

【００３８】前記実施の形態７．では、焼き入れした鋼
材として、浸炭焼き入れしたＳＣＭ４１５としたが、Ｓ
ＮＣＭ２２０、ＳＮＣＭ４２０等のようなニッケルクロ
ムモリブデン鋼や、ＳＮＣ４１５、ＳＮＣ４１８等のよ
うなニッケルクロム鋼やＳＭｎ４２０、ＳＭｎ４３３等
のようなマンガンクロム鋼やＳＣｒ４１５、ＳＣｒ４２
０等のようなクロム鋼やＳ１５Ｃ、Ｓ４５Ｃ等のような
炭素鋼等のような焼き入れ焼き戻しが可能な鋼材であれ
ばよく、前記実施の形態７．と同様の効果を奏する。

【００３９】実施の形態１０． 実施の形態１０．は、請求項１に係る発明の耐摩耗性摺
動部材の他の実施の形態であり、前記実施の形態７．と
の相違点に限って説明する。

【００４０】前記実施の形態７．では、めっき被膜はＮ
ｉ₃Ｐを析出した無電解ＮｉＰめっきとしたが、ニッケ
ルリン化合物を析出した無電解ＮｉＰめっきであればよ
く、前記実施の形態７．と同様の効果を奏する。また、
無電解ＮｉＰめっきだけでなく電解ＮｉＰめっきでも前
記実施の形態７．と同様な効果を奏する。

【００４１】実施の形態１１． 実施の形態１１．は、請求項１に係る発明の耐摩耗性摺
動部材の他の実施の形態であり、前記実施の形態７．と
の相違点に限って説明する。

【００４２】前記実施の形態７．では、めっき被膜はＮ
ｉ₃Ｐを析出した無電解ＮｉＰめっきとしたが、ニッケ
ルボロン化合物を析出した無電解ＮｉＢめっきでもよ
く、前記実施の形態７と同様の効果を奏する。また、無
電解ＮｉＢめっきだけでなく電解ＮｉＢめっきでも前記
実施の形態７．と同様な効果を奏する。

【００４３】実施の形態１２． 実施の形態１２．は、請求項１に係る発明の耐摩耗性摺
動部材の他の実施の形態であり、前記実施の形態７．と
の相違点に限って説明する。

【００４４】前記実施の形態７．では、めっき被膜はＮ
ｉ₃Ｐを析出した無電解ＮｉＰめっきとしたが、ニッケ
ルタングステン化合物を析出した無電解ＮｉＷめっきで
もよく、前記実施の形態７と同様の効果を奏する。ま
た、無電解ＮｉＷめっきだけでなく電解ＮｉＷめっきで
も前記実施の形態７と同様な効果を奏する。

【００４５】実施の形態１３．（参考例） 実施の形態１３．は、耐摩耗性摺動部材の一例であり、
図７はこの発明を示す断面図で、図において、１は浸炭
焼き入れ焼き戻したクロムモリブデン鋼ＳＣＭ４１５
（ＪＩＳ規格）であり、２はＮｉ₃Ｐを析出した無電解
ＮｉＰめっき被膜、３はＳｉＣである。

【００４６】Ｎｉ₃Ｐは硬質であり、Ｎｉ₃Ｐを析出した
無電解ＮｉＰめっき被膜はビッカース硬度で約ＨＶ８０
０以上もあることが知られている。また、浸炭焼き入れ
焼き戻したクロムモリブデン鋼ＳＣＭ４１５の表面はＨ
Ｖ７００程度の硬度を持って硬化している。また、無電
解ＮｉＰめっき膜中のＳｉＣは硬質粒子である。したが
って、基材、被膜ともに硬度が高くなっており、耐摩耗
性がよくなっていることがわかる。

【００４７】いま、リンク機構等の動作が行われると、
機構内の摺動部材が摺動するが、２のＮｉ₃Ｐを析出し
た無電解ＮｉＰめっきも基材であるクロムモリブデン鋼
も硬化し、さらに、めっき膜中には硬質粒子であるＳｉ
Ｃを持っているのため、耐摩耗性が向上し、長期間に渡
ってメンテナンスなしで、安定した動作を保つことがで
きるようになる。

【００４８】実施の形態１４．（参考例） 実施の形態１４．は、耐摩耗性摺動部材の他の実施の形
態であり、前記実施の形態１３．との相違点に限って説
明する。

【００４９】前記実施の形態１３．では、焼き入れ焼き
戻しした鋼材として、浸炭焼き入れ焼き戻ししたＳＣＭ
４１５としたが、ＳＣＭ４１８やＳＣＭ４２０やＳＣＭ
４２１等のクロムモリブデン鋼であればよく、前記実施
の形態１３．と同様の効果を奏する。

【００５０】実施の形態１５．（参考例） 実施の形態１５．は、耐摩耗性摺動部材の他の実施の形
態であり、前記実施の形態１３．との相違点に限って説
明する。

【００５１】前記実施の形態１３では、焼き入れ焼き戻
しした鋼材として、浸炭焼き入れ焼き戻ししたＳＣＭ４
１５としたが、ＳＮＣＭ２２０、ＳＮＣＭ４２０等のよ
うなニッケルクロムモリブデン鋼や、ＳＮＣ４１５、Ｓ
ＮＣ４１８等のようなニッケルクロム鋼やＳＭｎ４２
０、ＳＭｎ４３３等のようなマンガンクロム鋼やＳＣｒ
４１５、ＳＣｒ４２０等のようなクロム鋼やＳ１５Ｃ、
Ｓ４５Ｃ等のような炭素鋼等のような焼き入れ焼き戻し
が可能な鋼材であればよく、前記実施の形態１３．と同
様の効果を奏する。

【００５２】実施の形態１６．（参考例） 実施の形態１６．は、耐摩耗性摺動部材の他の実施の形
態であり、前記実施の形態１３．との相違点に限って説
明する。

【００５３】前記実施の形態１３．では、めっき被膜は
Ｎｉ₃Ｐを析出した無電解ＮｉＰめっきとしたが、ニッ
ケルリン化合物を析出した無電解ＮｉＰめっきであれば
よく、前記実施の形態１３．と同様の効果を奏する。ま
た、無電解ＮｉＰめっきだけでなく電解ＮｉＰめっきで
も前記実施の形態１３．と同様な効果を奏する。

【００５４】実施の形態１７．（参考例） 実施の形態１７．は、耐摩耗性摺動部材の他の実施の形
態であり、前記実施の形態１３．との相違点に限って説
明する。

【００５５】前記実施の形態１３．では、めっき被膜は
Ｎｉ₃Ｐを析出した無電解ＮｉＰめっきとしたが、ニッ
ケルボロン化合物を析出した無電解ＮｉＢめっきでもよ
く、前記実施の形態１３．と同様の効果を奏する。ま
た、無電解ＮｉＢめっきだけでなく電解ＮｉＢめっきで
も前記実施の形態１３．と同様な効果を奏する。

【００５６】実施の形態１８．（参考例） 実施の形態１８．は、耐摩耗性摺動部材の他の実施の形
態であり、前記実施の形態１３．との相違点に限って説
明する。

【００５７】前記実施の形態１３．では、めっき被膜は
Ｎｉ₃Ｐを析出した無電解ＮｉＰめっきとしたが、ニッ
ケルタングステン化合物を析出した無電解ＮｉＷめっき
でもよく、前記実施の形態１３．と同様の効果を奏す
る。また、無電解ＮｉＷめっきだけでなく電解ＮｉＷめ
っきでも前記実施の形態１３．と同様な効果を奏する。

【００５８】実施の形態１９．（参考例） 実施の形態１９．は、耐摩耗性摺動部材の他の実施の形
態であり、前記実施の形態１３．との相違点に限って説
明する。

【００５９】前記実施の形態１３．では、硬質粒子はＳ
ｉＣとしたが、Ａｌ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ｔｈ
Ｏ₂、ＺｒＢ₂、ダイヤモンド等の硬質粒子であればよ
く、前記実施の形態１３．と同様の効果を奏する。

【００６０】実施の形態２０． 実施の形態２０．は、請求項２に係る発明の耐摩耗性摺
動部材の製造方法の一例であり、図８はこの発明の製造
プロセスを示す図で、図１２は従来行われていた製造プ
ロセスを示す図である。

【００６１】従来の製造プロセスでは、焼き入れ焼き戻
しが可能な鋼材を事前に焼き入れ焼き戻しした後に、め
っき被膜し、その後、めっき被膜の硬化のために加熱処
理する。図４に無電解ＮｉＰめっき膜のビッカース硬度
と熱処理温度との関係を示す。図４から、耐摩耗性、す
なわち、被膜の硬度の点では、めっき被膜の加熱処理と
しては約４００℃が最適であることがわかる。このよう
に、無電解ＮｉＰめっき膜が４００℃で最高に硬化する
現象はめっき液に硬質粒子ＳｉＣを分散させた場合も同
様である。しかし、図１２に示すように、４００℃で加
熱処理をすると、基材が軟化し、軟らかい基材の上に硬
いめっき膜が被膜された構造になる。そのため、リンク
機構等の摺動部材のように高荷重がかかる部材ではめっ
き膜に簡単に亀裂が発生し、めっき膜が剥がれやすくな
る。

【００６２】図５に浸炭焼き入れしたクロムモリブデン
鋼４１５を一定温度で４時間だけ焼き戻した場合の硬化
層深さと焼き戻し温度との関係を示す。なお、硬化層は
ＨＶ４２０よりも硬度が高い層と定義した。また、図５
から焼き戻し温度が３００℃以上の場合には硬化層が少
なくなっていることがわかる。図６に無電解ＮｉＰめっ
き膜の熱処理温度をパラメータとした場合の硬度と熱処
理時間の関係を示す。図６から３００℃以下の熱処理温
度でも熱処理時間をかけることにより、めっき膜は十分
に硬化していることがわかる。例えば、２００℃で熱処
理するならば、約２０００分の時間をかければめっき膜
は硬化することがわかる。この現象は、無電解ＮｉＰめ
っき膜だけのものでなく、硬質粒子を分散させた場合も
同様である。したがって、図８に示した製造プロセスの
ように、浸炭焼き入れしたクロムモリブデン鋼４１５に
硬質粒子ＳｉＣを分散させた無電解ＮｉＰめっきを施
し、その後、被膜したクロムモリブデン鋼を２００〜３
００℃で長時間、熱処理すれば、基材の軟化を生ぜずに
被膜の硬度を上げることが出来ることがわかる。

【００６３】いま、リンク機構等の動作が行われると、
機構内の摺動部材が摺動するが、めっき膜中のＳｉＣが
硬質なだけでなく、２のＮｉ₃Ｐを析出した無電解Ｎｉ
Ｐめっきも基材であるクロムモリブデン鋼も硬化してい
るため、耐摩耗性が向上し、長期間に渡ってメンテナン
スなしで、安定した動作を保つことができるようにな
る。

【００６４】実施の形態２１． 実施の形態２１．は、請求項２に係る発明の耐摩耗性摺
動部材の製造方法の他の実施の形態であり、前記実施の
形態２０．との相違点に限って説明する。

【００６５】前記実施の形態２０．では、焼き入れした
鋼材として、浸炭焼き入れしたＳＣＭ４１５としたが、
ＳＣＭ４１８やＳＣＭ４２０やＳＣＭ４２１等のクロム
モリブデン鋼であればよく、前記実施の形態２０．と同
様の効果を奏する。

【００６６】実施の形態２２． 実施の形態２２．は、請求項２に係る発明の耐摩耗性摺
動部材の製造方法の他の実施の形態であり、前記実施の
形態２０．との相違点に限って説明する。

【００６７】前記実施の形態２０．では、焼き入れした
鋼材として、浸炭焼き入れしたＳＣＭ４１５としたが、
ＳＮＣＭ２２０、ＳＮＣＭ４２０等のようなニッケルク
ロムモリブデン鋼や、ＳＮＣ４１５、ＳＮＣ４１８等の
ようなニッケルクロム鋼やＳＭｎ４２０、ＳＭｎ４３３
等のようなマンガンクロム鋼やＳＣｒ４１５、ＳＣｒ４
２０等のようなクロム鋼やＳ１５Ｃ、Ｓ４５Ｃ等のよう
な炭素鋼等のような焼き入れ焼き戻しが可能な鋼材であ
ればよく、前記実施の形態２０．と同様の効果を奏す
る。

【００６８】実施の形態２３． 実施の形態２３．は、請求項２に係る発明の耐摩耗性摺
動部材の他の実施の形態であり、前記実施の形態２０．
との相違点に限って説明する。

【００６９】前記実施の形態２０．では、めっき被膜は
Ｎｉ₃Ｐを析出した無電解ＮｉＰめっきとしたが、ニッ
ケルリン化合物を析出した無電解ＮｉＰめっきであれば
よく、前記実施の形態２０．と同様の効果を奏する。ま
た、無電解ＮｉＰめっきだけでなく電解ＮｉＰめっきで
も前記実施の形態２０．と同様な効果を奏する。

【００７０】実施の形態２４． 実施の形態２４．は、請求項２に係る発明の耐摩耗性摺
動部材の他の実施の形態であり、前記実施の形態２０．
との相違点に限って説明する。

【００７１】前記実施の形態２０．では、めっき被膜は
Ｎｉ₃Ｐを析出した無電解ＮｉＰめっきとしたが、ニッ
ケルボロン化合物を析出した無電解ＮｉＢめっきでもよ
く、前記実施の形態２０と同様の効果を奏する。また、
無電解ＮｉＢめっきだけでなく電解ＮｉＢめっきでも前
記実施の形態２０．と同様な効果を奏する。

【００７２】実施の形態２５． 実施の形態２５．は、請求項２に係る発明の耐摩耗性摺
動部材の他の実施の形態であり、前記実施の形態２０．
との相違点に限って説明する。

【００７３】前記実施の形態２０．では、めっき被膜は
Ｎｉ₃Ｐを析出した無電解ＮｉＰめっきとしたが、ニッ
ケルタングステン化合物を析出した無電解ＮｉＷめっき
であればよく、前記実施の形態２０．と同様の効果を奏
する。また、無電解ＮｉＷめっきだけでなく電解ＮｉＷ
めっきでも前記実施の形態２０．と同様な効果を奏す
る。

【００７４】実施の形態２６． 実施の形態２６．請求項２に係る発明の耐摩耗性摺動部
材の他の実施の形態であり、前記実施の形態２０．との
相違点に限って説明する。

【００７５】前記実施の形態２０．では、硬質粒子はＳ
ｉＣとしたが、Ａｌ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ｔｈ
Ｏ₂、ＺｒＢ₂、ダイヤモンド等の硬質粒子であればよ
く、前記実施の形態２０．と同様の効果を奏する。

【００７６】実施の形態２７．（参考例） 実施の形態２７．は、耐摩耗性摺動部材の一例であり、
図９はこの発明を示す断面図で、図において、１は浸炭
焼き入れ焼き戻したクロムモリブデン鋼ＳＣＭ４１５
（ＪＩＳ規格）であり、２はＮｉ₃Ｐを析出した無電解
ＮｉＰめっき被膜、４はふっ化エチレン重合体である。

【００７７】Ｎｉ₃Ｐは硬質であり、Ｎｉ₃Ｐを析出した
無電解ＮｉＰめっき被膜はビッカース硬度で約ＨＶ８０
０以上もあることが知られている。また、浸炭焼き入れ
焼き戻したクロムモリブデン鋼ＳＣＭ４１５の表面はＨ
Ｖ７００程度の硬度を持って硬化している。また、無電
解ＮｉＰめっき膜中の４ふっ化エチレン重合体は自己潤
滑性粒子であり、潤滑性に優れている。したがって、基
材、被膜ともに硬度が高くなっており、耐摩耗性がよく
なっていることがわかる。

【００７８】いま、リンク機構等の動作が行われると、
機構内の摺動部材が摺動するが、２のＮｉ₃Ｐを析出し
た無電解ＮｉＰめっきも基材であるクロムモリブデン鋼
も硬化し、さらに、めっき膜中には自己潤滑性粒子であ
る４ふっ化エチレン重合体を持っているため、潤滑性が
あり、耐摩耗性が向上し、長期間に渡ってメンテナンス
なしで、安定した動作を保つことができるようになる。

【００７９】実施の形態２８．（参考例） 実施の形態２８．は、耐摩耗性摺動部材の他の実施の形
態であり、前記実施の形態２７．との相違点に限って説
明する。

【００８０】前記実施の形態２７では、焼き入れ焼き戻
しした鋼材として、浸炭焼き入れ焼き戻ししたＳＣＭ４
１５としたが、ＳＣＭ４１８やＳＣＭ４２０やＳＣＭ４
２１等のクロムモリブデン鋼であればよく、前記実施の
形態２７．と同様の効果を奏する。

【００８１】実施の形態２９．（参考例） 実施の形態２９．は、耐摩耗性摺動部材の他の実施の形
態であり、前記実施の形態２７．との相違点に限って説
明する。

【００８２】前記実施の形態２７では、焼き入れ焼き戻
しした鋼材として、浸炭焼き入れ焼き戻ししたＳＣＭ４
１５としたが、ＳＮＣＭ２２０、ＳＮＣＭ４２０等のよ
うなニッケルクロムモリブデン鋼や、ＳＮＣ４１５、Ｓ
ＮＣ４１８等のようなニッケルクロム鋼やＳＭｎ４２
０、ＳＭｎ４３３等のようなマンガンクロム鋼やＳＣｒ
４１５、ＳＣｒ４２０等のようなクロム鋼やＳ１５Ｃ、
Ｓ４５Ｃ等のような炭素鋼等のような焼き入れ焼き戻し
が可能な鋼材であればよく、前記実施の形態２７．と同
様の効果を奏する。

【００８３】実施の形態３０．（参考例） 実施の形態３０．は、耐摩耗性摺動部材の他の実施の形
態であり、前記実施の形態２７．との相違点に限って説
明する。

【００８４】前記実施の形態２７．では、めっき被膜は
Ｎｉ₃Ｐを析出した無電解ＮｉＰめっきとしたが、ニッ
ケルリン化合物を析出した無電解ＮｉＰめっきであれば
よく、前記実施の形態２７と同様の効果を奏する。ま
た、無電解ＮｉＰめっきだけでなく電解ＮｉＰめっきで
も前記実施の形態２７．と同様な効果を奏する。

【００８５】実施の形態３１．（参考例） 実施の形態３１．は、耐摩耗性摺動部材の他の実施の形
態であり、前記実施の形態２７．との相違点に限って説
明する。

【００８６】前記実施の形態２７．では、めっき被膜は
Ｎｉ₃Ｐを析出した無電解ＮｉＰめっきとしたが、ニッ
ケルボロン化合物を析出した無電解ＮｉＢめっきでもよ
く、前記実施の形態２７．と同様の効果を奏する。ま
た、無電解ＮｉＢめっきだけでなく電解ＮｉＢめっきで
も前記実施の形態２７．と同様な効果を奏する。

【００８７】実施の形態３２．（参考例） 実施の形態３２．は、耐摩耗性摺動部材の他の実施の形
態であり、前記実施の形態２７．との相違点に限って説
明する。

【００８８】前記実施の形態２７．では、めっき被膜は
Ｎｉ₃Ｐを析出した無電解ＮｉＰめっきとしたが、ニッ
ケルタングステン化合物を析出した無電解ＮｉＷめっき
であればよく、前記実施の形態２７と同様の効果を奏す
る。また、無電解ＮｉＷめっきだけでなく電解ＮｉＷめ
っきでも前記実施の形態２７．と同様な効果を奏する。

【００８９】実施の形態３３．（参考例） 実施の形態３３．は、耐摩耗性摺動部材の他の実施の形
態であり、前記実施の形態２７．との相違点に限って説
明する。

【００９０】前記実施の形態２７．では、自己潤滑性粒
子は４ふっ化エチレン重合体としたが、グラファイト、
２硫化モリブデン、窒化ボロン等の自己潤滑性粒子であ
ればよく、前記実施の形態２７．と同様の効果を奏す
る。

【００９１】実施の形態３４． 実施の形態３４．は、請求項３に係る発明の耐摩耗性摺
動部材の製造方法の一実施の形態であり、図１０はこの
発明の製造プロセスを示す図で、図１３は従来行われて
いた製造プロセスを示す図である。

【００９２】従来の製造プロセスでは、焼き入れ焼き戻
しが可能な鋼材を事前に焼き入れ焼き戻しした後に、め
っき被膜し、その後、めっき被膜の硬化のために加熱処
理する。図４に無電解ＮｉＰめっき膜のビッカース硬度
と熱処理温度との関係を示す。図４から、耐摩耗性、す
なわち、被膜の硬度の点では、めっき被膜の加熱処理と
しては約４００℃が最適であることがわかる。このよう
に、無電解ＮｉＰめっき膜が４００℃で最高に硬化する
現象はめっき液に自己潤滑性粒子４ふっ化エチレン重合
体を分散させた場合も同様である。しかし、図１３に示
すように、４００℃で加熱処理をすると、基材が軟化
し、軟らかい基材の上に硬いめっき膜が被膜された構造
になる。そのため、リンク機構等の摺動部材のように高
荷重がかかる部材ではめっき膜に簡単に亀裂が発生し、
めっき膜が剥がれやすくなる。

【００９３】図５に浸炭焼き入れしたクロムモリブデン
鋼４１５を一定温度で４時間だけ焼き戻した場合の硬化
層深さと焼き戻し温度との関係を示す。なお、硬化層は
ＨＶ４２０よりも硬度が高い層と定義した。また、図５
から焼き戻し温度が３００℃以上の場合には硬化層が少
なくなっていることがわかる。図６に無電解ＮｉＰめっ
き膜の熱処理温度をパラメータとした場合の硬度と熱処
理時間の関係を示す。図６から３００℃以下の熱処理温
度でも熱処理時間をかけることにより、めっき膜は十分
に硬化していることがわかる。例えば、２００℃で熱処
理するならば、約２０００分の時間をかければめっき膜
は硬化することがわかる。この現象は、無電解ＮｉＰめ
っき膜だけのものでなく、自己潤滑性粒子を分散させた
場合も同様である。したがって、図１０に示した製造プ
ロセスのように、浸炭焼き入れしたクロムモリブデン鋼
４１５に自己潤滑性粒子４ふっ化エチレン重合体を分散
させた無電解ＮｉＰめっきを施し、その後、被膜したク
ロムモリブデン鋼を２００〜３００℃で長時間、熱処理
すれば、基材の軟化を生ぜずに被膜の硬度を上げること
が出来ることがわかる。

【００９４】いま、リンク機構等の動作が行われると、
機構内の摺動部材が摺動するが、めっき膜中の４ふっ化
エチレン重合体が潤滑性を示すだけでなく、２のＮｉ₃
Ｐを析出した無電解ＮｉＰめっきも基材であるクロムモ
リブデン鋼も硬化しているため、耐摩耗性が向上し、長
期間に渡ってメンテナンスなしで、安定した動作を保つ
ことができるようになる。

【００９５】実施の形態３５． 実施の形態３５．は、請求項３に係る発明の耐摩耗性摺
動部材の製造方法の他の実施の形態であり、前記実施の
形態３４．との相違点に限って説明する。

【００９６】前記実施の形態３４．は、焼き入れした鋼
材として、浸炭焼き入れしたＳＣＭ４１５としたが、Ｓ
ＣＭ４１８やＳＣＭ４２０やＳＣＭ４２１等のクロムモ
リブデン鋼であればよく、前記実施の形態３４．と同様
の効果を奏する。

【００９７】実施の形態３６． 実施の形態３６．は、請求項３に係る発明の耐摩耗性摺
動部材の製造方法の他の実施の形態であり、前記実施の
形態３４．との相違点に限って説明する。

【００９８】前記実施の形態３４．では、焼き入れした
鋼材として、浸炭焼き入れしたＳＣＭ４１５としたが、
ＳＮＣＭ２２０、ＳＮＣＭ４２０等のようなニッケルク
ロムモリブデン鋼や、ＳＮＣ４１５、ＳＮＣ４１８等の
ようなニッケルクロム鋼やＳＭｎ４２０、ＳＭｎ４３３
等のようなマンガンクロム鋼やＳＣｒ４１５、ＳＣｒ４
２０等のようなクロム鋼やＳ１５Ｃ、Ｓ４５Ｃのような
炭素鋼等のような焼き入れ焼き戻しが可能な鋼材であれ
ばよく、前記実施の形態３４．と同様の効果を奏する。

【００９９】実施の形態３７． 実施の形態３７．は、請求項３に係る発明の耐摩耗性摺
動部材の他の実施の形態であり、前記実施の形態３４．
との相違点に限って説明する。

【０１００】前記実施の形態３４．では、めっき被膜は
Ｎｉ₃Ｐを析出した無電解ＮｉＰめっきとしたが、ニッ
ケルリン化合物を析出した無電解ＮｉＰめっきであれば
よく、前記実施の形態３４．と同様の効果を奏する。ま
た、無電解ＮｉＰめっきだけでなく電解ＮｉＰめっきで
も前記実施の形態３４．と同様な効果を奏する。

【０１０１】実施の形態３８． 実施の形態３８．は、請求項３に係る発明の耐摩耗性摺
動部材の他の実施の形態であり、前記実施の形態３４．
との相違点に限って説明する。

【０１０２】前記実施の形態３４．では、めっき被膜は
Ｎｉ₃Ｐを析出した無電解ＮｉＰめっきとしたが、ニッ
ケルボロン化合物を析出した無電解ＮｉＢめっきでもよ
く、前記実施の形態３４と同様の効果を奏する。また、
無電解ＮｉＢめっきだけでなく電解ＮｉＢめっきでも前
記実施の形態３４．と同様な効果を奏する。

【０１０３】実施の形態３９． 実施の形態３９．は、請求項３に係る発明の耐摩耗性摺
動部材の他の実施の形態であり、前記実施の形態３４．
との相違点に限って説明する。

【０１０４】前記実施の形態３４．では、めっき被膜は
Ｎｉ₃Ｐを析出した無電解ＮｉＰめっきとしたが、ニッ
ケルタングステン化合物を析出した無電解ＮｉＷめっき
であればよく、前記実施の形態３４．と同様の効果を奏
する。また、無電解ＮｉＷめっきだけでなく電解ＮｉＷ
めっきでも前記実施の形態３４．と同様な効果を奏す
る。

【０１０５】実施の形態４０． 実施の形態４０．は、請求項３に係る発明の耐摩耗性摺
動部材の他の実施の形態であり、前記実施の形態３４．
との相違点に限って説明する。

【０１０６】前記実施の形態３４では、自己潤滑性粒子
は４ふっ化エチレン重合体としたが、グラファイト、２
硫化モリブデン、窒化ボロン等の自己潤滑性粒子であれ
ばよく、前記実施の形態３４と同様の効果を奏する。

【０１０７】

【発明の効果】請求項１に係る耐摩耗性摺動部材の製造
方法は、硬化のために焼き入れした鋼材の基材にめっき
被膜した後、２００〜３００℃の低温で４時間以上の長
時間の加熱、冷却しているので、基材は軟化せず、被膜
中にニッケルリン化合物、もしくは、ニッケルボロン化
合物、あるいは、ニッケルタングステン化合物等を析出
させ、被膜は硬化、耐摩耗性がよくなる効果がある。 ま
た、請求項２に係る耐摩耗性摺動部材の製造方法は、硬
化のために焼き入れした鋼材の基材にめっき被膜した
後、２００〜３００℃の低温で４時間以上の長時間の加
熱、冷却しているので、基材は軟化せず、被膜中にニッ
ケルリン化合物、もしくはニッケルボロン化合物、ある
いは、ニッケルタングステン化合物等を析出させ、被膜
は硬化、耐摩耗性がよくなる効果がある。また、被膜中
にはＡｌ ₂ Ｏ ₃ 、ＴｉＯ ₂ 、ＺｒＯ ₂ 、ＴｈＯ ₂ 、ＳｉＣ、
ＺｒＢ ₂ 、ダイヤモンド等の硬質粒子を分散しており、
被膜は一層硬化しており、耐摩耗性が一層よくなる効果
がある。 また、請求項３に係る耐摩耗性摺動部材の製造
方法は、硬化のために焼き入れした鋼材の基材にめっき
被膜した後、２００〜３００℃の低温で４時間以上の長
時間の加熱、冷却しているので、基材は軟化せず、被膜
中にニッケルリン化合物、もしくはニッケルボロン化合
物、あるいは、ニッケルタングステン化合物等を析出さ
せ、被膜は硬化し、耐摩耗性がよくなる効果がある。ま
た、被膜中にはグラファイト、４ふっ化エチレン重合
体、２硫化モリブデン、窒化ボロン等の自己潤滑性粒子
を分散しているので、被膜は潤滑性がよくなり、より安
定した動作になる効果がある。

【０１０８】

【０１０９】

【０１１０】

【０１１１】

【０１１２】

【図面の簡単な説明】

【図１】 実施の形態１．による耐摩耗性摺動部材の断
面図である。

【図２】 実施の形態１．による浸炭焼き入れ焼き戻し
たクロムモリブデン鋼ＳＣＭ４１５の表面からの深さと
硬度との関係を示す図である。

【図３】 請求項１の発明に対応した実施の形態７．に
よる耐摩耗性摺動部材の製造方法を示す製造プロセス図
である。

【図４】 実施の形態７．による無電解ＮｉＰめっき膜
のビッカース硬度と熱処理温度との関係を示す図であ
る。

【図５】 実施の形態７．による浸炭焼き入れしたクロ
ムモリブデン鋼４１５を一定温度で４時間だけ焼き戻し
た場合の硬化層深さと焼き戻し温度との関係を示す図で
ある。

【図６】 実施の形態７．による無電解ＮｉＰめっき膜
の熱処理温度をパラメータとした場合の硬度と熱処理時
間の関係を示す図である。

【図７】 実施の形態１３．による耐摩耗性摺動部材の
断面図である。

【図８】 請求項２の発明に対応した実施の形態２０．
による耐摩耗性摺動部材の製造方法を示す製造プロセス
図である。

【図９】 実施の形態２７．による耐摩耗性摺動部材の
断面図である。

【図１０】 請求項３の発明に対応した実施の形態３
４．による耐摩耗性摺動部材の製造方法を示す製造プロ
セスを示す図である。

【図１１】 従来例の耐摩耗性摺動部材の製造方法を示
す製造プロセス図である。

【図１２】 従来例の耐摩耗性摺動部材の製造方法を示
す製造プロセス図である。

【図１３】 従来例の耐摩耗性摺動部材の製造方法を示
す製造プロセス図である。

【図１４】 従来例の摺動部材を示す断面図である。

【図１５】 他の従来例の摺動部材を示す断面図であ
る。

【図１６】 他の従来例の摺動部材を示す断面図であ
る。

【図１７】 他の従来例の摺動部材を示す断面図であ
る。

【符号の説明】

１ 浸炭焼き入れ焼き戻したクロムモリブデン鋼ＳＣＭ
４１５、２ Ｎｉ₃Ｐを析出した無電解ＮｉＰめっき被
膜、３ ＳｉＣ、４ ４ふっ化エチレン重合体、５ 摺
動部基材、６ グリース、７ 金属マトリックス、８
潤滑性微粒子、９ 硬質性微粒子、１０ ニッケルリン
合金層、１１ 耐食性被膜、１２ 加熱により形成され
たＮｉ化合物。

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平９−20982（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−322557（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−138374（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−134659（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−102383（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−153282（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−313434（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C23C 18/52

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 焼き入れした鋼材を基材とし、ＮｉＰめ
   っき、ＮｉＢめっき、あるいは、ＮｉＷめっきから形成
   される膜を前記基材に被膜した後、基材の軟化温度以下
   の温度で加熱し、その後冷却（焼き戻し）し、ニッケル
   リン化合物、ニッケルボロン化合物、あるいは、ニッケ
   ルタングステン化合物を前記被膜に析出させ、前記基材
   の軟化を起こさずに被膜を硬化させることを特徴とする
   耐摩耗性摺動部材の製造方法。
2. 【請求項２】 焼き入れした鋼材を基材とし、Ａｌ
   ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＴｈＯ₂、ＳｉＣ、ＺｒＢ₂お
   よびダイヤモンドから選択された硬質粒子が混濁したＮ
   ｉＰめっき、ＮｉＢめっき、あるいは、ＮｉＷめっき液
   中に前記基材を浸漬し、前記硬質粒子を膜中に分散させ
   ためっき膜を前記基材に被膜した後、前記の被膜が形成
   された前記基材を軟化温度以下の温度で加熱した後冷却
   （焼き戻し）し、前記硬質粒子を分散させたままで、ニ
   ッケルリン化合物、ニッケルボロン化合物、あるいは、
   ニッケルタングステン化合物を前記被膜に析出させ、前
   記基材の軟化を起こさずに被膜を硬化させたことを特徴
   とする耐摩耗性摺動部材の製造方法。
3. 【請求項３】 焼き入れした鋼材を基材とし、グラファ
   イト、４ふっ化エチレン重合体、２硫化モリブデンおよ
   び窒化ボロンから選択された自己潤滑性粒子が混濁した
   ＮｉＰめっき、ＮｉＢめっき、あるいは、ＮｉＷめっき
   液中に前記基材を浸漬し、前記自己潤滑性粒子を膜中に
   分散させためっき膜を前記基材に被膜した後、前記の被
   膜が形成された前記基材を軟化温度以下の温度で加熱し
   た後冷却（焼き戻し）し、前記自己潤滑性粒子を分散さ
   せたままで、ニッケルリン化合物、ニッケルボロン化合
   物、あるいは、ニッケルタングステン化合物を前記被膜
   に析出させ、前記基材の軟化を起こさずに被膜を硬化さ
   せたことを特徴とする耐摩耗性摺動部材の製造方法。