JP3408904B2 - 回転式基板処理装置 - Google Patents
回転式基板処理装置Info
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
型基板、半導体ウエハ、カラーフィルタ用ガラス基板な
どの基板(以下「基板」という)にレジスト液、現像液
等の処理液を供給した後、あるいは供給しながら、基板
を回転させることにより基板に所定の処理を施す回転式
基板処理装置に関する。
るスピンコータでは、図5に示すように、スピンチャッ
ク104に水平保持された基板101の表面にノズル1
02からレジスト液(処理液)を供給した後、図示しな
い駆動機構の駆動力が回転軸103によって伝えられて
スピンチャック104を回転駆動する。これによりスピ
ンチャック104上の基板101を回転させてレジスト
液を遠心力で拡散流動させ、均一な膜厚のレジスト膜が
基板101上に形成される。
スト液を拡散流動させる際に余剰のレジスト液は周囲に
飛散する。この飛散するレジスト液のミストの大部分は
スピンチャック104に保持されながら回転する基板1
01を取り囲むように設けられたカップ105によって
捕らえられ、スピンコータの周囲に及ばないようになっ
ている。
の上部には基板101をスピンチャック104上に搬入
し、またスピンチャック104から基板101を搬出す
るための開口部105hが設けられており、その開口部
105hからレジスト液のミストの一部は基板101の
回転により発生する気流とともにカップ105の外部に
飛散していた。そのため、カップ105の外部に飛散し
たレジスト液のミストはカップ105の外周面のみなら
ず、カップ105の周囲の他の機構部に付着し、パーテ
ィクル発生の原因となっていた。特にカップ105周辺
の機構部の洗浄処理は通常行われず、しかも付着したレ
ジスト液は容易に取り除くことが難しいために、それら
に付着したパーティクルについてはほとんど除去するこ
とができない。
05の開口部105hの周縁部CEの上方に設ける技術
が提案されている。この提案技術によれば、開口部から
カップ外に飛散しようとするミストは飛散防止部材によ
り補集されるので、カップ外へのミストの飛散を防止す
ることができ、カップ周辺の機構部の汚染を防いで当該
機構部からのパーティクルの発生を防止することができ
る。しかしながら、開口部に飛散防止部材を設けたこと
により、次のような問題が生じる。すなわち、そのレジ
スト液のミストが飛散防止部材によって跳ね返って、ふ
たたび基板上に戻り基板を汚染したり、レジスト液のミ
ストを含んだ気流が飛散防止部材の上部で内側に巻き込
まれて逆流して下降する際に、レジスト液のミストが固
化してパーティクルとなって基板表面に付着して、基板
を汚染するといった問題があった。
の克服を意図しており、カップ周辺を汚すことなく、し
かも基板表面を汚染することもなく基板の処理を行うこ
とができる回転式基板処理装置を提供することを目的と
する。
を回転させてその表面に処理液を供給することにより当
該基板に所定の処理を施す回転式基板処理装置であっ
て、上記目的を達成するため、上面の一部に開口部を備
えるとともに排気配管が取り付けられ、基板の回転に伴
って基板表面から振り切られる処理液を受けるカップ
と、前記カップの外周のほぼ鉛直上方に配置され、前記
開口部から前記カップの外周側に飛散する処理液を受け
る飛散防止手段と、前記飛散防止手段に設けられた通気
孔と、を備え、前記飛散防止手段と前記カップとの間の
空間は前記通気孔を介して前記回転式基板処理装置の外
部側方の空間と通じている。
通気孔にミスト捕集部材を設けている。請求項3の発明
は、基板を回転させてその表面に処理液を供給すること
により当該基板に所定の処理を施す回転式基板処理装置
であって、上記目的を達成するため、上面の一部に開口
部を備え、基板の回転に伴って基板表面から振り切られ
る処理液を受けるカップと、前記カップの外周のほぼ鉛
直上方に配置され、前記開口部から前記カップの外周側
に飛散する処理液を受ける飛散防止手段と、を備え、前
記飛散防止手段に通気孔を設け、前記通気孔にミスト捕
集部材を設けている。
図面を参照しつつ本発明の実施の形態にかかる回転式基
板処理装置について、その一例であるスピンコータの構
成・動作を詳細に説明する。図1は、本発明の実施の形
態のスピンコータ1の断面を示した説明図である。この
スピンコータ1は基板上にレジスト液を回転塗布するた
めの装置である。図示のように、このスピンコータ1
は、基板10を吸引保持するスピンチャック13と、こ
のスピンチャック13を回転軸14を介して回転駆動し
てスピンチャック13上の基板10を回転させる回転駆
動部15と、図示しないノズルによって供給されたレジ
スト液が基板10の回転によって装置周辺に飛散するこ
とを防止するとともに、この基板10から振り切られる
レジスト液を受けて排液として装置外に排出するカップ
12と、カップ12の開口部12hを通過したレジスト
液が飛散するのを防ぐための飛散防止部材11とを備え
ている。
ける側壁部分12aと、基板10から流下するレジスト
液を下方において受け止めるとともに、そのレジスト液
と側壁部分12aによって回収されたレジスト液を併せ
て排出し、さらに基板10の回転により発生した気流を
受けて排気する受け皿部分12b,12cとからなって
いる。
斜視図である。カップ12の側壁部分12aの上部は同
図から分かるように円錐台状に形成されており、さらに
その円錐台の上面の中央には基板10をスピンチャック
13との間で搬入および搬出するための開口部12hが
設けられている。この開口部12hは図1から分かるよ
うにカップ12の側壁部分12aの外周部分ORから基
板サイズに合わせ距離DOだけ内側に設けられている。
側壁部分12aによって受け止められた余剰のレジスト
液と、基板10の外縁部から下方に滴下したレジスト液
とを集めて排液として装置外に排出する配管PAと、基
板10の回転に伴って発生したレジスト液のミストを含
む気流を排気するための配管PB,PCが取り付けられ
ている。
壁部分12aの外周の鉛直上方に設けられている。した
がってカップ12の開口部12hから飛散防止部材11
までは距離DOだけ隔たっている。この距離DOは、図
1の矢符MA,MBに示すように基板10の回転により
飛散したレジスト液のミストが跳ね返って開口部12h
に戻るのを防止するのに十分な距離になっている。
り欠き部11hが設けられており、カップ12に組み付
けられると通気孔として機能する。通気孔がないと飛散
防止部材11とカップ12aの表面とで形成される空間
によどみが生じ、レジストミストあるいはパーティクル
を含んだ気流の滞留が発生し、基板に悪影響を及ぼす。
また、回転と同時に発生するレジストを含んだ気流の一
部が開口部12hを通じて流出し、矢符EA,EBのよ
うに外部に排出されずに逆流するのを防ぐことができ、
常に基板周囲の気流を清浄に保つことができる。
タ1では、飛散防止部材11とカップ12は着脱自在に
構成されており、さらにカップ12の受け皿部分12
b,12cとカップ12の側壁部分12aとに分解する
ことができる構成となっている。そのため、洗浄の際に
はカップ12を各部に分解することにより、各部材ごと
に洗浄することができる。
て前項の説明のように構成されたスピンコータ1の動作
および特徴について説明していく。
の上面に水平に吸引保持された基板10表面に図示しな
いノズルからレジスト液が供給される。続いて、回転駆
動部15を作動させることで回転軸14を回転させ、そ
の回転軸14の他端に固着されたスピンチャック13を
回転させることによって基板10が回転する。そして、
それによって基板10上に供給されていたレジスト液が
遠心力により拡散流動され、膜厚の均一なレジスト膜が
形成される。
であるため、この回転の際に余剰に供給されていたレジ
スト液は遠心力によって周囲に飛散される。この飛散さ
れたレジスト液の多くはカップ12の側壁部分12aの
内面に捕らえられ、側壁部分12aの内面を伝わって受
け皿部分12bに至り、一カ所に集められて最終的に配
管PAを通して装置外に排出される。また、カップ12
の側壁部分12aの上部に設けられた開口部12hを通
じてカップ12の斜め上方に矢符MAおよびMBのよう
に飛散されたレジスト液のミストは、飛散防止部材11
の内面に捕らえらるので、レジスト液のミストが周辺の
他の機構部にまで至って汚染することがない。さらに、
飛散防止部材11に飛散してきたミストの一部は飛散防
止部材11により跳ね返され、基板10側に戻ろうとす
るがこのスピンコータ1では飛散防止部材11とカップ
12上面の開口部12hの周縁部とは距離DOだけ離れ
ているため、跳ね返されたレジスト液のミストは再び開
口部12hを通過して基板10上に至ることがなく、基
板10表面の汚染を効果的に防止することができる。
によってレジスト液のミストを含んだ気流が生じ、その
一部が矢符EAおよびEBに示すように開口部12hを
通過し、飛散防止部材11とカップ12aの表面で構成
される空間に流出し、その後ダウンフローDFの影響を
受けて逆流し、再び下降する。ところがこの実施の形態
のスピンコータ1では飛散防止部材11の下部に4つの
通気孔11hが設けられているため、これらの通気孔1
1hを通じて上記の流出した気流がスピンコータ1の側
方に放出されるため、流出した気流の逆流によってレジ
スト液の固化したパーティクルが基板10の表面に運ば
れるのを防止することができ、基板10の汚染を効果的
に阻止することができる。このとき気流EA、EB中に
含まれるレジストミストは微量であり、そのほとんどが
スピンコータ1の側方に放出される経路途中でカップ1
2の表面に衝突、付着するのでスピンコータ1の周辺を
汚すことはない。
ータ1では周辺の他の機構部を汚すことがなく、さらに
基板10表面をレジスト液のミストや、パーティクルで
汚染することがないという効果を有している。
(スピンコータ1)では飛散防止部材11とカップ12
の受け皿部分12b,12cとカップ12の側壁部分1
2aとの4つの部分に分解することができる構成とした
が、図3に示すように飛散防止部材11とカップ12の
受け皿部分12bとを一体化させることも可能であり、
さらにカップ12の側壁部分12aと受け皿部分12b
も飛散防止部材11とともに一体化してしまうことも可
能である。
置ではカップ12と飛散防止部材11とを一体化させて
切り欠き部11hを通気孔として機能させているが、図
4に示すように、切り欠き部11hの内側にミスト捕集
部材11rを設けることもできる。このミスト捕集部材
11rは図示しない支持部材によって支持されている。
また、このミスト捕集部材11rは4つの切り欠き部1
1hのすべてに設けられている。このような構成にする
ことにより、レジスト液のミストを含んだ気流はミスト
捕集部材11r間を通過し、その通過途中で気流に含ま
れるレジスト液のミストの大半をミスト捕集部材11r
に衝突させ、捕集することができ、カップ12周辺の他
の機構部に対するレジスト液のミストによる汚染をさら
に抑制することができる。
置ではレジスト液の基板表面への塗布を対象としている
が、本発明の回転式基板処理装置はそれに限定されるも
のではなく、現像液やエッチング液等を含む処理液一般
を基板表面に供給して所定の基板処理するものを対象と
している。
置では飛散防止部材11を円筒状としたが本発明はそれ
に限られるものではなく、たとえば、上部を円錐台等の
形状にしたものであってもよい。
装置では飛散防止部材11の下部の四方に切り欠き部1
1hを設けたが、切り欠き部11hの数は4つに限定さ
れるものではなく、たとえば三方に設ける等の構成でも
よい。
求項3の発明ではカップの外周のほぼ鉛直上方に飛散防
止手段を設けることにより、処理液のミストがカップ外
に至ることがないためカップ周辺の汚染を防止すること
ができる。また、飛散防止手段とカップの開口部との間
に十分な距離があるため飛散防止手段によって跳ね返っ
た処理液のミストが基板に戻るのを防いで、その表面へ
の再付着を防止している。
から、あふれ出したレジストミストを含む気流や、滞留
する気流をカップ外に放出できるので、同じく基板表面
への再付着を防止できる。
ミスト捕集部材を設けたので、ミストとを含んだ気流が
カップ外に流出するミストを効果的に防止することで、
外部雰囲気の汚染を防止することができる。
態を示す断面図である。
る。
部分斜視図である。
の変形例の部分拡大図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 基板を回転させてその表面に処理液を供
給することにより当該基板に所定の処理を施す回転式基
板処理装置において、 上面の一部に開口部を備えるとともに排気配管が取り付
けられ、基板の回転に伴って基板表面から振り切られる
処理液を受けるカップと、 前記カップの外周のほぼ鉛直上方に配置され、前記開口
部から前記カップの外周側に飛散する処理液を受ける飛
散防止手段と、前記飛散防止手段に設けられた通気孔と、 を備え、前記飛散防止手段と前記カップとの間の空間は前記通気
孔を介して前記回転式基板処理装置の外部側方の空間と
通じている ことを特徴とする回転式基板処理装置。 - 【請求項2】 請求項1における前記通気孔にミスト捕
集部材を設けたことを特徴とする回転式基板処理装置。 - 【請求項3】 基板を回転させてその表面に処理液を供
給することにより当該基板に所定の処理を施す回転式基
板処理装置において、 上面の一部に開口部を備え、基板の回転に伴って基板表
面から振り切られる処理液を受けるカップと、 前記カップの外周のほぼ鉛直上方に配置され、前記開口
部から前記カップの外周側に飛散する処理液を受ける飛
散防止手段と、 を備え、 前記飛散防止手段に通気孔を設け、前記通気孔にミスト
捕集部材を設けたことを特徴とする回転式基板処理装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30018795A JP3408904B2 (ja) | 1995-11-17 | 1995-11-17 | 回転式基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP30018795A JP3408904B2 (ja) | 1995-11-17 | 1995-11-17 | 回転式基板処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH09148218A JPH09148218A (ja) | 1997-06-06 |
JP3408904B2 true JP3408904B2 (ja) | 2003-05-19 |
Family
ID=17881786
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30018795A Expired - Lifetime JP3408904B2 (ja) | 1995-11-17 | 1995-11-17 | 回転式基板処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3408904B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180028372A (ko) * | 2016-09-08 | 2018-03-16 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 처리 장치 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100594119B1 (ko) * | 2004-06-29 | 2006-06-28 | 삼성전자주식회사 | 기판 표면 처리 장치 |
KR100757846B1 (ko) * | 2006-03-29 | 2007-09-11 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
JP6077769B2 (ja) * | 2011-09-02 | 2017-02-08 | 東京応化工業株式会社 | 基板処理装置 |
-
1995
- 1995-11-17 JP JP30018795A patent/JP3408904B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR20180028372A (ko) * | 2016-09-08 | 2018-03-16 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 처리 장치 |
KR101962542B1 (ko) | 2016-09-08 | 2019-07-18 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 처리 장치 |
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JPH09148218A (ja) | 1997-06-06 |
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