JP3169666B2 - 現像装置及び現像方法 - Google Patents
現像装置及び現像方法Info
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Description
【０００１】（目次） ・産業上の利用分野 ・従来の技術（図５〜図７） ・発明が解決しようとする課題 ・課題を解決するための手段 ・作用 ・実施例 （１）第１の実施例（図１，図２） （２）第２の実施例（図３，図４） ・発明の効果
【０００２】
【産業上の利用分野】本発明は、現像装置及び現像方法
に関し、更に詳しく言えば、ウエハ上に形成された露光
済のレジスト膜の現像及び現像後の現像液等の乾燥を行
う現像装置及び現像方法に関する。
に関し、更に詳しく言えば、ウエハ上に形成された露光
済のレジスト膜の現像及び現像後の現像液等の乾燥を行
う現像装置及び現像方法に関する。
【０００３】
【従来の技術】図５（ａ）は、ウエハ上に形成された露
光済のレジスト膜の現像及び現像後の洗浄液の乾燥を行
う従来例の現像装置の構成図、図５（ｂ）は、ウエハ載
置部の詳細を示す側面構成図である。
光済のレジスト膜の現像及び現像後の洗浄液の乾燥を行
う従来例の現像装置の構成図、図５（ｂ）は、ウエハ載
置部の詳細を示す側面構成図である。
【０００４】図５（ａ），（ｂ）において、１は現像液
等を受けて、排出口２により現像液等を排出するカッ
プ、３は円板状のウエハ載置部で、載置面にウエハを真
空チャックするための不図示の排気口が形成されてい
る。４はウエハ載置部１を回転するスピンモータ、５は
スピンモータ４の回転軸と共通になっているウエハ載置
部１の回転軸で、回転軸５の中心の回りの回転とともに
回転軸５自身の上下移動も行えるようになっている。６
はシリンダ、７は現像液ノズル１３及び洗浄液ノズル１
６が取り付けられたアーム、８はアーム７を回動してウ
エハ載置部３の上方に現像液ノズル１３及び洗浄液ノズ
ル１６を移動させる回動軸、９は吐出口１４により現像
液を吐出する現像液ノズル１３への現像液の導入口、１
０は現像後にウエハ上の現像液を置換・洗浄する洗浄液
を吐出口１７により吐出する洗浄液ノズル１６への洗浄
液の導入口である。
等を受けて、排出口２により現像液等を排出するカッ
プ、３は円板状のウエハ載置部で、載置面にウエハを真
空チャックするための不図示の排気口が形成されてい
る。４はウエハ載置部１を回転するスピンモータ、５は
スピンモータ４の回転軸と共通になっているウエハ載置
部１の回転軸で、回転軸５の中心の回りの回転とともに
回転軸５自身の上下移動も行えるようになっている。６
はシリンダ、７は現像液ノズル１３及び洗浄液ノズル１
６が取り付けられたアーム、８はアーム７を回動してウ
エハ載置部３の上方に現像液ノズル１３及び洗浄液ノズ
ル１６を移動させる回動軸、９は吐出口１４により現像
液を吐出する現像液ノズル１３への現像液の導入口、１
０は現像後にウエハ上の現像液を置換・洗浄する洗浄液
を吐出口１７により吐出する洗浄液ノズル１６への洗浄
液の導入口である。
【０００５】次に、上記の現像装置を用いて従来例の現
像方法について図６（ａ），（ｂ）、図７（ｃ），
（ｄ）を参照しながら説明する。まず、回転軸５を上に
移動し、露光済のレジスト膜１２の形成されたウエハ１
１をレジスト膜１２側を上にしてウエハ載置部３に載置
した後、ウエハ載置部３がカップ１の内側に収まるよう
に回転軸５を下に移動する（図６（ａ））。
像方法について図６（ａ），（ｂ）、図７（ｃ），
（ｄ）を参照しながら説明する。まず、回転軸５を上に
移動し、露光済のレジスト膜１２の形成されたウエハ１
１をレジスト膜１２側を上にしてウエハ載置部３に載置
した後、ウエハ載置部３がカップ１の内側に収まるよう
に回転軸５を下に移動する（図６（ａ））。
【０００６】次いで、現像液ノズル１３をウエハ載置部
３の上方に移動し、吐出口１４から現像液１５をウエハ
１１上に吐出し、自然流動させてレジスト膜１２を被覆
する。
３の上方に移動し、吐出口１４から現像液１５をウエハ
１１上に吐出し、自然流動させてレジスト膜１２を被覆
する。
【０００７】次に、所定の時間この状態を保持した後、
スピンモータ４を回転してウエハ１１上の現像液１５を
流動・飛散させる（図６（ｂ））。次いで、ウエハ１１
を回転させたまま洗浄液ノズル１６の吐出口１７から洗
浄液１８を吐出し続けることにより、現像を停止すると
ともに、ウエハ１１表面上の現像液を洗浄液１８で置換
し、洗浄する（図７（ｃ））。
スピンモータ４を回転してウエハ１１上の現像液１５を
流動・飛散させる（図６（ｂ））。次いで、ウエハ１１
を回転させたまま洗浄液ノズル１６の吐出口１７から洗
浄液１８を吐出し続けることにより、現像を停止すると
ともに、ウエハ１１表面上の現像液を洗浄液１８で置換
し、洗浄する（図７（ｃ））。
【０００８】次いで、洗浄液１８の吐出を停止するとと
もに、スピンモータ４の回転数を上げ、回転による遠心
力によりウエハ１１上に残存する洗浄液１８を流動・飛
散させることによりウエハ１１表面から洗浄液１８を除
去し、乾燥すると、現像が完了する（図７（ｄ））。
もに、スピンモータ４の回転数を上げ、回転による遠心
力によりウエハ１１上に残存する洗浄液１８を流動・飛
散させることによりウエハ１１表面から洗浄液１８を除
去し、乾燥すると、現像が完了する（図７（ｄ））。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図７（ｄ）
に示すように、回転による遠心力を用いて洗浄液１８を
除去する際、ウエハ１１の周辺部と中央部とで遠心力の
大きさが異なっている。このため、遠心力の小さいウエ
ハ１１の中央部では洗浄液１８の流動が遅く、洗浄液１
８が完全に除去されないで残存する場合が多い。
に示すように、回転による遠心力を用いて洗浄液１８を
除去する際、ウエハ１１の周辺部と中央部とで遠心力の
大きさが異なっている。このため、遠心力の小さいウエ
ハ１１の中央部では洗浄液１８の流動が遅く、洗浄液１
８が完全に除去されないで残存する場合が多い。
【００１０】従って、微少のレジスト材を含む洗浄液１
８が残存し、乾燥後にシミとなって残る場合がある。こ
のため、後の工程で、エッチングが正常に行えなかった
り、ウエハが汚染されたりするという問題がある。
８が残存し、乾燥後にシミとなって残る場合がある。こ
のため、後の工程で、エッチングが正常に行えなかった
り、ウエハが汚染されたりするという問題がある。
【００１１】本発明は、かかる従来技術の問題点に鑑み
て創作されたものであり、現像後の洗浄の際、被現像体
上に洗浄液等が残存しないように除去することができる
現像装置及び現像方法の提供を目的とする。
て創作されたものであり、現像後の洗浄の際、被現像体
上に洗浄液等が残存しないように除去することができる
現像装置及び現像方法の提供を目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は現像装置に係り、ウェハ載置部と、現像液
の吐出口を有する現像液ノズルと、洗浄液の吐出口を有
する洗浄液ノズルと、前記洗浄液ノズル及び洗浄ノズル
のうち、少なくともいずれか一方の吐出口と前記ウェハ
載置部とが対向するように、前記現像液及び洗浄液ノズ
ルのうち少なくともいずれか一方を移動させる第１の移
動手段と、前記ウェハ載置部の対向面に垂直な軸の回り
に前記ウェハ載置部を回転させる第１の回転手段とを少
なくとも有する現像装置であって、ガス導入口及び噴出
口を有するガスノズルと、前記ガスノズルの噴出口と前
記ウェハ載置部とが対向するように前記ガスノズルを移
動させる第２の移動手段と、前記ウェハ載置部と前記ガ
スノズルの噴出口を対向させた状態で、前記ガスノズル
を前記対向面に垂直な軸の回りに回転させる第２の回転
手段とを有することを特徴する。また、本発明は現像方
法に係り、露光の終わったウェハ上の感光性膜を現像液
で被覆することにより現像する工程と、前記ウェハを回
転するとともに前記ウェハ表面に洗浄液を吐出すること
により、現像を停止するとともに、前記現像液を飛散・
流動し、かつ前記洗浄液で置換して前記ウェハ表面に残
存する現像液を洗浄する工程と、前記ウェハ上に残存す
る洗浄液を除去する工程とを有する現像方法において、
前記洗浄液を除去する工程が、前記ウェハの対向面に噴
出口を有するガスノズルを前記ウェハ面に垂直な軸の回
りに回転させながらガスを前記ウェハに噴出して、前記
洗浄液を飛散または流動させることにより前記ウェハ上
に残存する洗浄液を除去することを特徴とする。
め、本発明は現像装置に係り、ウェハ載置部と、現像液
の吐出口を有する現像液ノズルと、洗浄液の吐出口を有
する洗浄液ノズルと、前記洗浄液ノズル及び洗浄ノズル
のうち、少なくともいずれか一方の吐出口と前記ウェハ
載置部とが対向するように、前記現像液及び洗浄液ノズ
ルのうち少なくともいずれか一方を移動させる第１の移
動手段と、前記ウェハ載置部の対向面に垂直な軸の回り
に前記ウェハ載置部を回転させる第１の回転手段とを少
なくとも有する現像装置であって、ガス導入口及び噴出
口を有するガスノズルと、前記ガスノズルの噴出口と前
記ウェハ載置部とが対向するように前記ガスノズルを移
動させる第２の移動手段と、前記ウェハ載置部と前記ガ
スノズルの噴出口を対向させた状態で、前記ガスノズル
を前記対向面に垂直な軸の回りに回転させる第２の回転
手段とを有することを特徴する。また、本発明は現像方
法に係り、露光の終わったウェハ上の感光性膜を現像液
で被覆することにより現像する工程と、前記ウェハを回
転するとともに前記ウェハ表面に洗浄液を吐出すること
により、現像を停止するとともに、前記現像液を飛散・
流動し、かつ前記洗浄液で置換して前記ウェハ表面に残
存する現像液を洗浄する工程と、前記ウェハ上に残存す
る洗浄液を除去する工程とを有する現像方法において、
前記洗浄液を除去する工程が、前記ウェハの対向面に噴
出口を有するガスノズルを前記ウェハ面に垂直な軸の回
りに回転させながらガスを前記ウェハに噴出して、前記
洗浄液を飛散または流動させることにより前記ウェハ上
に残存する洗浄液を除去することを特徴とする。
【００１３】
【作 用】本発明の現像装置によれば、ガスの噴出口を
有するガスノズルと、ウエハ載置部と対向するようにガ
スノズルを移動させる第２の移動手段とを有しているの
で、本発明の現像方法のように、現像液を置換した洗浄
液の残存するウエハ表面にガスを噴出することにより、
従来の回転による遠心力を用いる場合と異なり、中心部
と周辺部との間での飛散又は流動させる洗浄液の受ける
除去力をより均一化することができる。また、ウエハ載
置部とガスノズルの噴出口とを対向させた状態でガスノ
ズルを対向面に垂直な軸の回りに回転させる第２の回転
手段を有しているので、ガスを噴出する際ガスノズルを
回転させることにより個々のガスの噴出口のガスの噴出
力にバラツキがある場合でも、ウエハ上の洗浄液の受け
るガスの噴出力に基づく除去力を一層均一化することが
できる。
有するガスノズルと、ウエハ載置部と対向するようにガ
スノズルを移動させる第２の移動手段とを有しているの
で、本発明の現像方法のように、現像液を置換した洗浄
液の残存するウエハ表面にガスを噴出することにより、
従来の回転による遠心力を用いる場合と異なり、中心部
と周辺部との間での飛散又は流動させる洗浄液の受ける
除去力をより均一化することができる。また、ウエハ載
置部とガスノズルの噴出口とを対向させた状態でガスノ
ズルを対向面に垂直な軸の回りに回転させる第２の回転
手段を有しているので、ガスを噴出する際ガスノズルを
回転させることにより個々のガスの噴出口のガスの噴出
力にバラツキがある場合でも、ウエハ上の洗浄液の受け
るガスの噴出力に基づく除去力を一層均一化することが
できる。
【００１４】これにより、被現像体上に洗浄液等が残存
しないように除去することができる。
しないように除去することができる。
【００１５】
（１）第１の実施例 図１（ａ）は、ウエハ上に形成された露光済のレジスト
膜の現像から洗浄液の除去までを行う、本発明の第１の
実施例の現像装置の構成図、図１（ｂ）は、ウエハ載置
部の詳細を示す側面構成図、図２（ｃ）は現像液ノズル
及び洗浄液ノズルの詳細を示す側面構成図、図２（ｄ）
はガスノズルの詳細を示す側面構成図である。
膜の現像から洗浄液の除去までを行う、本発明の第１の
実施例の現像装置の構成図、図１（ｂ）は、ウエハ載置
部の詳細を示す側面構成図、図２（ｃ）は現像液ノズル
及び洗浄液ノズルの詳細を示す側面構成図、図２（ｄ）
はガスノズルの詳細を示す側面構成図である。
【００１６】図１（ａ），（ｂ）において、２１は現像
済の現像液等を受けて、排出口２２により現像液等を排
出するカップ、２３は円板状のウエハ載置部で、載置面
にウエハを真空チャックするための不図示の吸気口が形
成されている。２４はウエハ載置部２１を回転するスピ
ンモータ、２５はスピンモータ２４の回転軸と共通にな
っているウエハ載置部２３の回転軸で、回転軸２５の中
心の回りの回転とともに回転軸２５自身の上下移動も行
えるようになっている。なお、スピンモータ２４と回転
軸２５とが第１の回転手段を構成する。２６はシリンダ
である。
済の現像液等を受けて、排出口２２により現像液等を排
出するカップ、２３は円板状のウエハ載置部で、載置面
にウエハを真空チャックするための不図示の吸気口が形
成されている。２４はウエハ載置部２１を回転するスピ
ンモータ、２５はスピンモータ２４の回転軸と共通にな
っているウエハ載置部２３の回転軸で、回転軸２５の中
心の回りの回転とともに回転軸２５自身の上下移動も行
えるようになっている。なお、スピンモータ２４と回転
軸２５とが第１の回転手段を構成する。２６はシリンダ
である。
【００１７】図１（ａ），図２（ｃ）において、２７は
現像液ノズル３６及び洗浄液ノズル３８が取り付けられ
たアーム、２８はアーム２７を回動してウエハ載置部２
３の上方に現像液ノズル３６及び洗浄液ノズル３８を移
動させる回動軸である。なお、アーム２７，回動軸２８
及び回動軸２８を回動させる不図示のモータ等が第１の
移動手段を構成する。３６は現像液を導入する導入口２
９と導入された現像液を吐出する吐出口３７とを有する
現像液ノズルで、３８は現像後にウエハ上の現像液を洗
浄する洗浄液を導入する導入口３０と洗浄液をウエハ上
に吐出する吐出口３９とを有する洗浄液ノズルである。
現像液ノズル３６及び洗浄液ノズル３８が取り付けられ
たアーム、２８はアーム２７を回動してウエハ載置部２
３の上方に現像液ノズル３６及び洗浄液ノズル３８を移
動させる回動軸である。なお、アーム２７，回動軸２８
及び回動軸２８を回動させる不図示のモータ等が第１の
移動手段を構成する。３６は現像液を導入する導入口２
９と導入された現像液を吐出する吐出口３７とを有する
現像液ノズルで、３８は現像後にウエハ上の現像液を洗
浄する洗浄液を導入する導入口３０と洗浄液をウエハ上
に吐出する吐出口３９とを有する洗浄液ノズルである。
【００１８】図１（ａ），図２（ｄ）において、３１は
ガスを噴出するガスノズル３３が取り付けられたアー
ム、３２はアーム３１を回動してウエハ載置部２３の上
方にガスノズル３３を移動させる回動軸で、アーム３
１，回動軸３２及び回動軸３２を回動させる不図示のモ
ータ等が第２の移動手段を構成する。３３は円板状の基
体のウエハ載置部２３との対向面に例えば放射状に形成
された、ガスを噴出する複数の噴出口４０を有するガス
ノズルである。３４はガスノズル３３を回転するスピン
モータ、４５はスピンモータ３４と接続し、ガスノズル
３３と一体的に形成されているガスノズル３３の回転軸
で、スピンモータ３４及び回転軸４５が第２の回転手段
を構成する。３５はスピンモータ３４及び回転軸４５内
部を貫通してガスノズル３３と連通しているガスノズル
３３へのガス導入口である。
ガスを噴出するガスノズル３３が取り付けられたアー
ム、３２はアーム３１を回動してウエハ載置部２３の上
方にガスノズル３３を移動させる回動軸で、アーム３
１，回動軸３２及び回動軸３２を回動させる不図示のモ
ータ等が第２の移動手段を構成する。３３は円板状の基
体のウエハ載置部２３との対向面に例えば放射状に形成
された、ガスを噴出する複数の噴出口４０を有するガス
ノズルである。３４はガスノズル３３を回転するスピン
モータ、４５はスピンモータ３４と接続し、ガスノズル
３３と一体的に形成されているガスノズル３３の回転軸
で、スピンモータ３４及び回転軸４５が第２の回転手段
を構成する。３５はスピンモータ３４及び回転軸４５内
部を貫通してガスノズル３３と連通しているガスノズル
３３へのガス導入口である。
【００１９】以上のように、本発明の第１の実施例の現
像装置によれば、ガスの噴出口４０を有するガスノズル
３３と、ウエハ載置部２３と対向するようにガスノズル
３３を移動させるアーム３１及び回動軸３２を有してい
るので、現像液を洗浄液で置換した後に洗浄液の残存す
るウエハ表面にガスを噴出することにより、従来の回転
による遠心力を用いる場合と異なり、中心部と周辺部と
の間での洗浄液を飛散又は流動させる洗浄液の受ける除
去力をより均一化することができる。また、ウエハ載置
部２３と対向しているガスノズル３３を対向面に垂直な
軸の回りに回転させるスピンモータ３４を有しているの
で、個々のガスの噴出口４０のガスの噴出力にバラツキ
がある場合でも、ウエハ上の洗浄液の受けるガスの噴出
力に基づく除去力を一層均一化することができる。
像装置によれば、ガスの噴出口４０を有するガスノズル
３３と、ウエハ載置部２３と対向するようにガスノズル
３３を移動させるアーム３１及び回動軸３２を有してい
るので、現像液を洗浄液で置換した後に洗浄液の残存す
るウエハ表面にガスを噴出することにより、従来の回転
による遠心力を用いる場合と異なり、中心部と周辺部と
の間での洗浄液を飛散又は流動させる洗浄液の受ける除
去力をより均一化することができる。また、ウエハ載置
部２３と対向しているガスノズル３３を対向面に垂直な
軸の回りに回転させるスピンモータ３４を有しているの
で、個々のガスの噴出口４０のガスの噴出力にバラツキ
がある場合でも、ウエハ上の洗浄液の受けるガスの噴出
力に基づく除去力を一層均一化することができる。
【００２０】これにより、ウエハ上に洗浄液等が残存し
ないように乾燥することができる。なお、第１の実施例
では、ガスノズル３３として円板状の基体のウエハ載置
部２３との対向面に複数の噴出口４０が放射状に形成さ
れているものを用いているが、他の並びでもよいし，一
本の管状の基体に横並びに形成されたものを用いてもよ
い。
ないように乾燥することができる。なお、第１の実施例
では、ガスノズル３３として円板状の基体のウエハ載置
部２３との対向面に複数の噴出口４０が放射状に形成さ
れているものを用いているが、他の並びでもよいし，一
本の管状の基体に横並びに形成されたものを用いてもよ
い。
【００２１】（２）第２の実施例 次に、上記の現像装置を用いてウエハ上のレジスト膜
（感光性膜）を現像する方法について説明する。図３
（ａ），（ｂ），図４（ｃ），（ｄ）は本発明の第２の
実施例の現像方法について説明する側面図である。
（感光性膜）を現像する方法について説明する。図３
（ａ），（ｂ），図４（ｃ），（ｄ）は本発明の第２の
実施例の現像方法について説明する側面図である。
【００２２】まず、回転軸２３を上に移動し、露光済の
レジスト膜４２の形成されたウェハ４１をレジスト膜４
２側を上にしてウェハ載置部２３に載置した後、ウェハ
載置部２３がカップ２１の内側に納まるように回転軸２
５を下に移動する（図３（ａ））。
レジスト膜４２の形成されたウェハ４１をレジスト膜４
２側を上にしてウェハ載置部２３に載置した後、ウェハ
載置部２３がカップ２１の内側に納まるように回転軸２
５を下に移動する（図３（ａ））。
【００２３】次いで、現像液ノズル３６をウエハ載置部
２３上に移動し、噴出口３７から現像液４３をウエハ４
１上に吐出し、自然流動させてレジスト膜４２を被覆す
る。次に、所定の時間この状態を保持してレジスト膜４
２を現像した後、スピンモータ２４を回転してウエハ４
１上の現像液４３を流動・飛散させる（図３（ｂ））。
２３上に移動し、噴出口３７から現像液４３をウエハ４
１上に吐出し、自然流動させてレジスト膜４２を被覆す
る。次に、所定の時間この状態を保持してレジスト膜４
２を現像した後、スピンモータ２４を回転してウエハ４
１上の現像液４３を流動・飛散させる（図３（ｂ））。
【００２４】次いで、スピンモータ２４を回転しつつ、
洗浄液ノズル３８の噴出口３９から洗浄液４４を噴出し
続けて現像液を洗浄液４４で置換し、洗浄する。これに
より、現像は停止する（図４（ｃ））。
洗浄液ノズル３８の噴出口３９から洗浄液４４を噴出し
続けて現像液を洗浄液４４で置換し、洗浄する。これに
より、現像は停止する（図４（ｃ））。
【００２５】次いで、洗浄液４４の噴出を停止するとと
もに、スピンモータ２４の回転を停止した後、回転軸２
８を回動して、ウェハ４１上部から現像液ノズル３６／
洗浄液ノズル３８を取り除く。続いて、回動軸３２を回
動し、ガスノズル３３をウェハ４１の上方に移動した
後、スピンモータ３４を回転してガスノズル３３を回転
させるとともに、ガスの導入口３４から高圧の窒素ガス
を導入して噴出口４０から噴出する（図４（ｄ））。こ
れにより、ウェハ４１上に残存する洗浄液４４を流動・
飛散させて、ウェハ４１表面を除去し、乾燥すると、現
像／乾燥が完了する。
もに、スピンモータ２４の回転を停止した後、回転軸２
８を回動して、ウェハ４１上部から現像液ノズル３６／
洗浄液ノズル３８を取り除く。続いて、回動軸３２を回
動し、ガスノズル３３をウェハ４１の上方に移動した
後、スピンモータ３４を回転してガスノズル３３を回転
させるとともに、ガスの導入口３４から高圧の窒素ガス
を導入して噴出口４０から噴出する（図４（ｄ））。こ
れにより、ウェハ４１上に残存する洗浄液４４を流動・
飛散させて、ウェハ４１表面を除去し、乾燥すると、現
像／乾燥が完了する。
【００２６】以上のように、本発明の第２の実施例の現
像方法によれば、現像液４３を置換した洗浄液４４の残
存するウェハ４１表面に窒素ガスを噴出することによ
り、従来の回転による遠心力を用いる場合と異なり、中
心部と周辺部との間での洗浄液４４を飛散又は流動させ
る洗浄液４４の受ける除去力をより均一化することがで
きる。また、スピンモータ３４によりウェハ載置部２３
と対向しているガスノズル３３を対向面に垂直な軸の回
りに回転しているので、個々のガスの噴出口４０のガス
の噴出力にバラツキがある場合でも、ウェハ４１上の洗
浄液４４の受けるガスの噴出力に基づく除去力を一層均
一化することができる。
像方法によれば、現像液４３を置換した洗浄液４４の残
存するウェハ４１表面に窒素ガスを噴出することによ
り、従来の回転による遠心力を用いる場合と異なり、中
心部と周辺部との間での洗浄液４４を飛散又は流動させ
る洗浄液４４の受ける除去力をより均一化することがで
きる。また、スピンモータ３４によりウェハ載置部２３
と対向しているガスノズル３３を対向面に垂直な軸の回
りに回転しているので、個々のガスの噴出口４０のガス
の噴出力にバラツキがある場合でも、ウェハ４１上の洗
浄液４４の受けるガスの噴出力に基づく除去力を一層均
一化することができる。
【００２７】これにより、ウエハ４１上に洗浄液４４等
が残存しないように乾燥することができる。
が残存しないように乾燥することができる。
【００２８】
【発明の効果】以上のように、本発明の現像装置によれ
ば、ガスの噴出孔を有するガスノズルと、ウエハ載置部
と対向するようにガスノズルを移動させる第２の移動手
段とを有しているので、本発明の現像方法のように、現
像液の洗浄液の残存するウエハ表面にガスを噴出するこ
とにより、中心部と周辺部との間での洗浄液を飛散又は
流動させる洗浄液の除去力をより均一化することができ
る。
ば、ガスの噴出孔を有するガスノズルと、ウエハ載置部
と対向するようにガスノズルを移動させる第２の移動手
段とを有しているので、本発明の現像方法のように、現
像液の洗浄液の残存するウエハ表面にガスを噴出するこ
とにより、中心部と周辺部との間での洗浄液を飛散又は
流動させる洗浄液の除去力をより均一化することができ
る。
【００２９】また、ウエハ載置部と対向しているガスノ
ズルを対向面に垂直な軸の回りに回転させる第２の回転
手段を有しているので、ガスを噴出する際ガスノズルを
回転させることにより、ガスの噴出力のバラツキを均一
化し、ウエハ上の洗浄液の受けるガスの噴出力に基づく
除去力を一層均一化することができる。
ズルを対向面に垂直な軸の回りに回転させる第２の回転
手段を有しているので、ガスを噴出する際ガスノズルを
回転させることにより、ガスの噴出力のバラツキを均一
化し、ウエハ上の洗浄液の受けるガスの噴出力に基づく
除去力を一層均一化することができる。
【００３０】これにより、被現像体上に洗浄液等が残存
しないように乾燥することができる。
しないように乾燥することができる。
【図１】本発明の第１の実施例の現像装置の構成図（そ
の１）である。
の１）である。
【図２】本発明の第１の実施例の現像装置の構成図（そ
の２）である。
の２）である。
【図３】本発明の第２の実施例の現像方法について説明
する側面図（その１）である。
する側面図（その１）である。
【図４】本発明の第２の実施例の現像方法について説明
する側面図（その２）である。
する側面図（その２）である。
【図５】従来例の現像装置の構成図である。
【図６】従来例の現像方法について説明する側面図（そ
の１）である。
の１）である。
【図７】従来例の現像方法について説明する側面図（そ
の２）である。
の２）である。
２１ カップ、 ２２ 排出口、 ２３ ウエハ載置部、 ２４ スピンモータ（第１の回転手段）、 ２５ 回転軸（第１の回転手段）、 ２６ シリンダ、 ２７ アーム（第１の移動手段）、 ２８ 回動軸（第１の移動手段）、 ２９，３０，３５ 導入口、 ３１ アーム（第２の移動手段）、 ３２ 回動軸（第２の移動手段）、 ３３ ガスノズル、 ３４ スピンモータ（第２の回転手段）、 ３６ 現像液ノズル、 ３７，３９ 吐出口、 ３８ 洗浄液ノズル、 ４０ 噴出口、 ４１ ウエハ、 ４２ レジスト膜（感光性膜）、 ４３ 現像液、 ４４ 洗浄液、 ４５ 回転軸（第２の回転手段）。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−231046（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−45244（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−74413（ＪＰ，Ａ) 実開 昭60−71139（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027
Claims (2)
- 【請求項１】 ウェハ載置部と、 現像液の吐出口を有する現像液ノズルと、 洗浄液の吐出口を有する洗浄液ノズルと、 前記洗浄液ノズル及び洗浄ノズルのうち、少なくともい
ずれか一方の吐出口と前記ウェハ載置部とが対向するよ
うに、前記現像液及び洗浄液ノズルのうち少なくともい
ずれか一方を移動させる第１の移動手段と、 前記ウェハ載置部の対向面に垂直な軸の回りに前記ウェ
ハ載置部を回転させる第１の回転手段とを少なくとも有
する現像装置であって、 ガス導入口及び噴出口を有するガスノズルと、 前記ガスノズルの噴出口と前記ウェハ載置部とが対向す
るように前記ガスノズルを移動させる第２の移動手段
と、 前記ウェハ載置部と前記ガスノズルの噴出口を対向させ
た状態で、前記ガスノズルを前記対向面に垂直な軸の回
りに回転させる第２の回転手段とを有することを特徴す
る現像装置。 - 【請求項２】 露光の終わったウェハ上の感光性膜を現
像液で被覆することにより現像する工程と、 前記ウェハを回転するとともに前記ウェハ表面に洗浄液
を吐出することにより、現像を停止するとともに、前記
現像液を飛散・流動し、かつ前記洗浄液で置換して前記
ウェハ表面に残存する現像液を洗浄する工程と、 前記ウェハ上に残存する洗浄液を除去する工程とを有す
る現像方法において、 前記洗浄液を除去する工程が、 前記ウェハの対向面に噴出口を有するガスノズルを、前
記ウェハ面に垂直な軸の回りに回転させながらガスを前
記ウェハに噴出して、前記洗浄液を飛散または流動させ
ることにより前記ウェハ上に残存する洗浄液を除去する
ことを特徴とする現像方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2665792A JP3169666B2 (ja) | 1992-02-13 | 1992-02-13 | 現像装置及び現像方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2665792A JP3169666B2 (ja) | 1992-02-13 | 1992-02-13 | 現像装置及び現像方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05226242A JPH05226242A (ja) | 1993-09-03 |
| JP3169666B2 true JP3169666B2 (ja) | 2001-05-28 |
Family
ID=12199499
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2665792A Expired - Fee Related JP3169666B2 (ja) | 1992-02-13 | 1992-02-13 | 現像装置及び現像方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3169666B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3359208B2 (ja) * | 1995-11-28 | 2002-12-24 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 現像装置 |
| JP4781834B2 (ja) | 2006-02-07 | 2011-09-28 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 現像装置および現像方法 |
| JP5084656B2 (ja) * | 2008-07-29 | 2012-11-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 現像処理方法及び現像処理装置 |
| JP5275385B2 (ja) * | 2011-02-22 | 2013-08-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 有機現像処理方法及び有機現像処理装置 |
| CN109037135B (zh) * | 2018-06-07 | 2021-11-12 | 无锡思锐电子设备科技有限公司 | 一种硅片翻转机构 |
| CN114200791B (zh) * | 2020-09-17 | 2023-12-08 | 株式会社斯库林集团 | 显影装置及显影方法 |
-
1992
- 1992-02-13 JP JP2665792A patent/JP3169666B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05226242A (ja) | 1993-09-03 |
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