JP3408000B2 - ペリクル剥離方法 - Google Patents
ペリクル剥離方法Info
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Description
製造工程に使用されるペリクル付きガラスフォトマスク
等からペリクルを剥離させるためのペリクル剥離方法に
関するものである。 【0002】 【従来の技術】図8は従来の半導体装置の写真製版工程
を示す概略の説明図である。図において、遮光膜による
パターン(図示せず)が設けられたガラスフォトマスク
1の下方には、光学系2を挟んでウエハ3が配置されて
いる。このようなガラスフォトマスク1のパターン形成
面に異物4が付着すると、異物4の像がウエハ3上に結
像されてしまう。 【0003】このため、図9に示すように、ガラスフォ
トマスク1にペリクル5を設け、パターンを異物4から
保護している。このペリクル5は、例えばアルミニウム
製のペリクルフレーム6と、例えばニトロセルロース製
の透明なペリクル膜7とを有しており、ペリクルフレー
ム6がガラスフォトマスク1に粘着剤(図示せず)によ
り接着されている。ガラスフォトマスク1のパターン形
成面とペリクル膜7との間は所定距離離れており、ペリ
クル膜7に付着した異物4の像は、デフォーカスされて
ウエハ3上に結像されない。 【0004】しかし、ペリクル膜7の汚れがひどくなっ
てくると、ペリクル膜7の光の透過率が低下し、正常な
写真製版が行えなくなるため、ペリクル5を交換する必
要が生じてくる。また、付着した異物が大きい場合やペ
リクル膜7が破損した場合にも、ペリクル5の交換が必
要となる。 【0005】図10は従来のペリクル剥離方法の一例を
示す断面図であり、この例ではガラスフォトマスク1の
両面にペリクル5が接着されている。図に示すように、
従来、不要となったペリクル5をガラスフォトマスク1
から剥がす場合、先端部が屈曲した治具8を使用してい
た。この治具8は、梃の原理を利用してペリクル5を物
理的に剥離させるものである。 【0006】また、図11は従来のペリクル剥離方法の
他の例を示す断面図である。図において、容器9内には
有機溶剤10が入れられており、この有機溶剤10中に
ペリクル5及びガラスフォトマスク1が浸漬されてい
る。ガラスフォトマスク1は、保持装置11により保持
されている。 【0007】この方法では、ペリクル5とガラスフォト
マスク1との間に介在する粘着剤に有機溶剤10を浸透
させ、粘着剤の粘着力を低下させた後、ペリクル5をガ
ラスフォトマスク1から剥離させる。 【0008】 【発明が解決しようとする課題】上記のような従来のペ
リクル剥離方法のうち、治具8を使用する方法において
は、ガラスフォトマスク1上の治具8が接触する部分に
傷が付き、遮光膜の金属粉がパターンに付着してしまう
ことがあるという問題点があった。また、有機溶剤10
を使用する方法では、作業者が有機溶剤10の蒸気を微
量ではあるが吸入する可能性があるため、作業者の定期
的な健康診断が必要であり、さらに粘着剤が溶解した有
機溶剤10によりガラスフォトマスク1が濡れるため、
粘着剤がガラスフォトマスク1に不要に付着することが
あるなどの問題点があった。 【0009】この発明は、上記のような問題点を解決す
ることを課題としてなされたものであり、フォトマスク
を傷付けずにペリクルを容易に剥離させることができ、
かつ人体への悪影響が生じるのを防止するとともに、粘
着剤がフォトマスクに付着するのを防止することができ
るペリクル剥離方法を得ることを目的とする。 【0010】 【課題を解決するための手段】この発明に係るペリクル
剥離方法は、ペリクルのフォトマスクへの接着部を、高
温の水蒸気にさらし、接着部に設けられた粘着剤の粘着
力を低下させた後、ペリクルをフォトマスクから剥離さ
せるものである。 【0011】 【作用】この発明においては、ペリクルとフォトマスク
とを接着している粘着剤の粘着力を高温の水蒸気により
低下させ、ペリクルがフォトマスクから容易に剥がれる
ようにする。 【0012】 【実施例】以下、この発明の実施例を図について説明す
る。参考例 1. 図1は参考例1によるペリクル剥離方法を示す断面図で
あり、図8ないし図11と同一又は相当部分には同一符
号を付し、その説明を省略する。 【0013】図において、容器21内には、純水を50
℃〜100℃に加熱してなる温水22が入れられてい
る。この温水22の中には、ペリクル5が接着されたガ
ラスフォトマスク1が浸漬されている。この参考例1で
は、加熱された温水22の中にペリクル5及びガラスフ
ォトマスク1を所定時間浸漬した後、これらを引き上
げ、ペリクル5を剥離させる。 【0014】この方法によれば、粘着剤の周囲に温水2
2が浸透し、粘着剤の粘着力が低下するため、特別な治
具等により無理な力を加えることなく、手等によりペリ
クル5を容易に剥離させることができ、従ってガラスフ
ォトマスク1に傷が付くことはない。また、温水22を
使用するため人体への悪影響もなく、さらにペリクル5
を剥離させる際に、粘着剤はペリクル5に付着したまま
でガラスフォトマスク1からきれいに剥がれるため、粘
着剤によりガラスフォトマスク1が汚染されることもな
い。 【0015】なお、温水22へのガラスフォトマスク1
の出し入れやペリクル5の剥離作業は手で行ってもよい
が、温水22の温度が高い場合には、ガラスフォトマス
ク1を傷付けないような把持具等の治具を使用すればよ
い。 【0016】ここで、図2はペリクル剥離時間温度依存
性についての実験結果を示す水温と浸漬時間との関係図
である。図2において、浸漬時間は、ペリクルが人手に
より容易に剥離できるようになるまでに温水中に浸漬し
た時間を示している。この図から、水温が高い程、短時
間の浸漬で済むことがわかる。また、50℃未満では、
粘着剤の粘着力が十分に低下せず、長時間浸漬しても剥
離が難しかった。従って、水温は、50℃〜100℃の
範囲が良いことがわかる。さらには、作業効率の点から
見ると、浸漬時間は1分程度までに抑えるのが好ましい
ため、水温としては80℃前後、即ち70℃〜100℃
の範囲がより好適である。 【0017】なお、上記実験では、接着強度1207g
/inchのアクリル系粘着剤を使用したが、接着強度
に応じて図2の特性はある程度変化すると考えられる。 【0018】参考例2. 次に、参考例2について説明する。上記参考例1では、
ペリクル5及びガラスフォトマスク1を温水22に浸漬
した後、温水22外へ引き出してペリクル5を剥離させ
たが、この参考例2では、そのまま温水22中で剥離さ
せるというものである。 【0019】上記のように、ペリクル5及びガラスフォ
トマスク1を温水22中に浸漬すると、ペリクル5等に
付着した汚れが温水中に溶け出した後、ガラスフォトマ
スク1に付着する危険がある。ガラスフォトマスク1に
付着した汚れは、一度乾燥してしまうと落ちにくくなる
が、この参考例2のように温水22中で剥離作業を行
い、そのまま(濡れて温度が高いまま)次工程の洗浄工
程等に移れば、比較的容易に落とすことができる。 【0020】実施例1. 図3はこの発明の実施例1によるペリクル剥離方法を示
す断面図である。この実施例1のペリクル剥離方法は、
容器21内の温水22を沸騰させ、その水蒸気にペリク
ル5及びガラスフォトマスク1をさらすものである。こ
れにより、ペリクル5の粘着剤の粘着力が低下し、人体
への悪影響やガラスフォトマスク1の汚れ等を防止しつ
つ、ペリクル5を容易に剥離させることができるように
なる。 【0021】また、温水22に浸漬する場合は、ペリク
ル5等に付着した異物が温水22に溶け出した後、ガラ
スフォトマスク1を汚染する恐れがあるが、水蒸気によ
る方法では、ペリクル5の異物が溶け出すことはなく、
清浄な状態で剥離作業を行うことができる。 【0022】ここで、水蒸気の温度は、上記参考例1の
水温の場合とほぼ同様に50℃以上で、ペリクル5やガ
ラスフォトマスク1に悪影響を及ぼす温度以下とするの
が好ましい。さらに、水蒸気を十分に発生させるために
は、この実施例1のように水を沸騰状態とするのが好ま
しい。 【0023】実施例2. 図4はこの発明の実施例2によるペリクル剥離装置の概
略の断面図である。図において、容器21内の温水22
は、ヒータ(図示せず)等により加熱され沸騰してい
る。容器21の上部には、蓋23が設けられている。蓋
23には、ペリクル5より大きくガラスフォトマスク1
よりも小さい開口部が設けられており、この開口部内に
ペリクル5が挿入されている。 【0024】このような装置では、容器21の上部開口
部が蓋23及びガラスフォトマスク1により閉じられ、
水蒸気の吹出口以外が密閉されるため、容器21内の水
蒸気の熱が維持され、ペリクル5の粘着剤の粘着力を効
率良く低下させることができる。 【0025】実施例3. 図5はこの発明の実施例3によるペリクル剥離装置の概
略の断面図である。図において、容器21内の温水22
は、ヒータ等により加熱され沸騰している。容器21の
一内壁面には、ガラスフォトマスク1及びペリクル5の
側面部にそれぞれ当接する固定爪24,25が固定され
ている。また、上記の内壁面に対向する内壁面には、ガ
ラスフォトマスク1及びペリクルフレーム6の側面部に
それぞれ当接する可動爪26,27が、ばね28,29
を介して取り付けられている。 【0026】このような装置では、固定爪24,25及
び可動爪26,27がガラスフォトマスク1及びペリク
ルフレーム6の側面部にそれぞれ当接しているため、ペ
リクル5とガラスフォトマスク1との接着部に十分に水
蒸気を当てることができるとともに、ガラスフォトマス
ク1を傷付けずに保持することができる。 【0027】実施例4. 次に、図6はこの発明の実施例4によるペリクル剥離装
置を示す平面図、図7は図6の装置の使用状態を示す断
面図である。図において、例えばステンレス鋼からなる
容器本体31内にはヒータ32が設けられており、この
ヒータ32上にはビーカ33が置かれている。ビーカ3
3内の温水34がヒータ32により加熱されることによ
り、容器本体31内に水蒸気が発生している。 【0028】容器本体31の開口部には、蓋35が設け
られている。蓋35には、スリット状の吹出口36a及
び多数の円形の吹出口36bが設けられている。これら
の吹出口36a,36bは、容器本体31内の水蒸気を
上方へ吹き出すためのものであり、その形状や配置位置
は図6に限定されない。 【0029】容器本体31の一内壁部には、一対の固定
爪37が互いに間隔をおいて固定されている。上記の内
壁部に対向する内壁部には、一対の可動爪38が図の左
右方向へ往復動自在に設けられている。可動爪38は、
容器本体31の外周部に取り付けられた板ばね39によ
り容器本体31の内側へ付勢されている。固定爪37と
可動爪38とは互いに対向しており、板ばね39のばね
力によりペリクルフレーム6の側面部を両側から把持す
る。可動爪38には、板ばね39に逆らって可動爪38
を図の左方へ移動させるためのレバー40が取り付けら
れている。 【0030】なお、容器41は、容器本体31及び蓋3
5により構成されている。また、水蒸気発生部42は、
容器41,ヒータ32及びビーカ33により構成されて
いる。さらに、把持部43は、固定爪37,可動爪3
8,板ばね39及びレバー40により構成されている。
さらにまた、支持部44は、挟持部43及び容器本体3
1により構成されている。 【0031】上記のように構成されたペリクル剥離装置
においては、レバー40を引いて可動爪38を引っ込ま
せた状態でペリクル付きのガラスフォトマスク1を容器
31上にセットする。この後、図7に示すように、レバ
ー40を戻して可動爪38と固定爪37との間にペリク
ルフレーム6の側面部を把持させる。 【0032】一方、ヒータ32により温水34を加熱し
て、容器本体31内に水蒸気を発生させる。この水蒸気
は、吹出口36a,36bから吹き出し、ペリクル5の
ガラスフォトマスク1との接着部に接触する。これによ
り、粘着剤の粘着力が低下し、ガラスフォトマスク1を
引き離すことによりペリクル5が容易に剥離させる。こ
のとき、ペリクルフレーム6の側面部が把持されている
ので、ガラスフォトマスク1に傷が付くのが防止され
る。 【0033】上記装置によるペリクル剥離実験では、接
着強度1207g/inchのアクリル系粘着剤の場
合、水蒸気への暴露時間1分で容易に剥離可能となり、
接着強度1810g/inchのアクリル系粘着剤の場
合、水蒸気への暴露時間3分で容易に剥離可能となっ
た。 【0034】なお、フォトマスクはガラスフォトマスク
に限定されるものではなく、またレチクル,マスターマ
スクのいずれでもよい。さらに、液晶用ペリクル付きフ
ォトマスクにもこの発明は適用できる。 【0035】 【発明の効果】以上説明したように、この発明のペリク
ル剥離方法は、ペリクルのフォトマスクへの接着部を、
高温の水蒸気にさらし、接着部に設けられた粘着剤の粘
着力を低下させるようにしたので、フォトマスクを傷付
けずにペリクルを容易に剥離させることができ、かつ人
体への悪影響が生じるのを防止するとともに、粘着剤が
フォトマスクに付着するのを防止することができ、また
ペリクルに付着した異物がフォトマスクに付着するのを
防止することができるなどの効果を奏する。
ある。 【図2】 ペリクル剥離時間温度依存性についての実験
結果を示す水温と浸漬時間との関係図である。 【図3】 この発明の実施例1のペリクル剥離方法を示
す断面図である。 【図4】 この発明の実施例2のペリクル剥離装置の概
略の断面図である。 【図5】 この発明の実施例3のペリクル剥離装置の概
略の断面図である。 【図6】 この発明の実施例4のペリクル剥離装置を示
す平面図である。 【図7】 図6の装置の使用状態を示す断面図である。 【図8】 従来の半導体装置の写真製版工程を示す概略
の説明図である。 【図9】 図8のガラスフォトマスクにペリクルを付け
た場合を示す説明図である。 【図10】 従来のペリクル剥離方法の一例を示す断面
図である。 【図11】 従来のペリクル剥離方法の他の例を示す断
面図である。 【符号の説明】 1 フォトマスク、5 ペリクル。
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 ペリクルのフォトマスクへの接着部を高
温の水蒸気にさらし、上記接着部に設けられた粘着剤の
粘着力を低下させた後、上記ペリクルを上記フォトマス
クから剥離させることを特徴とするペリクル剥離方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29301794A JP3408000B2 (ja) | 1994-11-28 | 1994-11-28 | ペリクル剥離方法 |
US08/561,065 US5772842A (en) | 1994-11-28 | 1995-11-22 | Apparatus for stripping pellicle |
KR1019950044327A KR100205196B1 (ko) | 1994-11-28 | 1995-11-28 | 페리클을 박리하는 방법 및 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29301794A JP3408000B2 (ja) | 1994-11-28 | 1994-11-28 | ペリクル剥離方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08152709A JPH08152709A (ja) | 1996-06-11 |
JP3408000B2 true JP3408000B2 (ja) | 2003-05-19 |
Family
ID=17789409
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29301794A Expired - Lifetime JP3408000B2 (ja) | 1994-11-28 | 1994-11-28 | ペリクル剥離方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5772842A (ja) |
JP (1) | JP3408000B2 (ja) |
KR (1) | KR100205196B1 (ja) |
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Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPH06175356A (ja) * | 1992-12-11 | 1994-06-24 | Nikon Corp | ペリクル剥離装置 |
-
1994
- 1994-11-28 JP JP29301794A patent/JP3408000B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-11-22 US US08/561,065 patent/US5772842A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-28 KR KR1019950044327A patent/KR100205196B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100205196B1 (ko) | 1999-07-01 |
US5772842A (en) | 1998-06-30 |
KR960019478A (ko) | 1996-06-17 |
JPH08152709A (ja) | 1996-06-11 |
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Date | Code | Title | Description |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090314 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100314 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110314 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
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|
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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