JP3400038B2 - ピリミジン誘導体の製造方法 - Google Patents
ピリミジン誘導体の製造方法Info
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Description
メチルグルタリルコエンザイムA(HMG−CoA)還
元酵素阻害剤およびその中間体の製造方法に関する。
酵素で触媒される、3−ヒドロキシ−3−メチルグルタ
リルCoAからメバロン酸への変換を経て生合成され
る。コレステロールが過剰に生合成されると、高コレス
テロール血症や高リポタンパク血症などの症状を引き起
こす。高コレステロール血症は、心臓血管疾患であるア
テローム性動脈硬化症をしばしば引き起こす。従って、
HMG−CoA還元酵素の阻害剤は、高コレステロール
血症、高リポタンパク血症、さらにはアテローム性動脈
硬化症の治療剤として使用し得る。
物またはそれを部分的に改変して得られたメビノリン
(米国特許第4,231,938号)、プラバスタチン
(特開昭59−48418)およびシンバスタチン(米
国特許第4,444,784号)があり、第1世代のH
MG−CoA還元酵素阻害剤として知られている。
ala et al, 8th Int'l Symp. on Atherosclerosis, Abs
tract Papers, p.445, Rome(1988))、BMY2208
9(英国特許第2,202,846号)などの合成HM
G−CoA還元酵素阻害剤が開発され、第2世代の治療
剤として期待されている。本発明者らは、第2世代の治
療剤の一つとして、HMG−CoA還元酵素阻害活性を
有するピリミジン誘導体およびそのWittig反応を利用し
た製造方法を開発した(特開平5−178841)。
8841号では、アルデヒド化合物とホスホラン誘導体
とを、通常、10〜15時間、加熱下で反応させなけれ
ばならない。更に、副生物として水に不溶なホスフィン
オキシドが生成するので、目的物であるピリミジン誘導
体の分離精製が困難である。
酵素阻害剤の製造法を改良して、上述の問題点を解決す
るものであり、その目的とするところは、反応条件が穏
和で反応副生物の除去が比較的容易な、短時間に高収率
でピリミジン誘導体のHMG−CoA還元酵素阻害剤を
製造する方法を提供することにある。
されるピリミジン誘導体の製造方法であって、
い低級アルキル基、置換基を有していてもよいシクロア
ルキル基、置換基を有していてもよいアリール基または
置換基を有していてもよいアミノ基であり、R2および
R3はそれぞれ独立して、水素、置換基を有していても
よい低級アルキル基、置換基を有していてもよいシクロ
アルキル基または置換基を有していてもよいフェニル基
であり、R4は水素またはカルボキシ保護基であり、R5
は水素またはヒドロキシ保護基であり、Xは、窒素また
はR6C、ここでR6は、置換基を有していてもよい低級
アルキル基、またはR1と共に縮合ベンゼン環を形成し
てもよい;式(II)で示されるアルデヒド化合物:
(I)で定義したのと同意義である;および、式(II
I)で示されるケトホスホネート体:
したのと同意義であり、R7およびR8は、それぞれ独立
して低級アルコキシ基である;とを有機溶媒中塩基存在
下で反応する工程を包含する。
直鎖状または分枝状の炭素原子数1〜6のアルキル基を
意味し、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル
基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、se
c−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソ
ペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、n−
ヘキシル基およびイソヘキシル基などが挙げられる。シ
クロアルキル基とは、一般に炭素原子数3以上の脂環式
基を意味し、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル
基、シクロペンチル基などが挙げられる。これらの低級
アルキル基およびシクロアルキル基は、ハロゲン、アミ
ノ基およびシアノ基からなる群から選択される1〜3個
の同一または相異なる置換基で置換されていてもよい。
ここでハロゲンとは、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素
を意味する。
2の芳香族基を意味し、例えばフェニル基、トリル基、
キシリル基、ビフェニル基、ナフチル基等が挙げられ
る。これらのアリール基は、低級アルキル基、ハロゲ
ン、アミノ基およびシアノ基からなる群から選択される
1〜3個の同一もしくは相異なる置換基で置換されてい
てもよい。上記アリール基としては、ハロゲンで1〜3
個置換されているフェニル基が好適である。
基存在下で反応する工程で上記式(III)で示される
化合物の末端カルボキシル基の反応を防ぐ目的で使用さ
れる、脱離容易な基であり、メチル基、エチル基、t−
ブチル基などのアルキル基、ベンジル基、置換ベンジル
基、ベンズヒドリル基などのアラルキル基、フェニル基
などのアリール基などを使用し得る。好適には低級アル
キル基を使用し得る。ヒドロキシ保護基とは、上記有機
溶媒中塩基存在下で反応する工程で上記式(III)で
示される化合物のヒドロキシル基の反応を防ぐ目的で使
用される、脱離容易な基であり、トリメチルシリル基、
t−ブチルジメチルシリル基、イソプロピルジメチル
基、メトキシメチル基などの置換シリル基を使用し得
る。好適にはトリ低級アルキルシリル基を使用し得る。
合物、および式(III)で示されるケトホスホネート
体を反応する工程は、通常、式(II)で示されるアル
デヒド化合物を有機溶媒に溶解又は懸濁し、得られた液
に、式(III)で示されるケトホスホネート体および
塩基を添加し、撹拌することにより行う。前記式(II
I)で示される化合物は、前記式(II)で示される化
合物1モルに対して1〜2モルの比で添加される。前記
有機溶媒としては、トルエン、テトラヒドロフラン、ジ
メチルフラン、ジメチルスルホキシド、酢酸エチル、ア
セトニトリル、塩化メチレンなどが使用され得る。好適
な溶媒の例は、アセトニトリルまたは塩化メチレンであ
る。上記塩基としては、カリウムt−ブトキシド、炭酸
カリウム、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−
エン(以下DBUと記す)、ナトリウムメトキシド、リ
チウムヘキサメチルジシラザン(以下LiHMDSと記
す)、塩化リチウム、これらの混合物などが使用され得
る。これら塩基は、式(II)で示されるアルデヒド化
合物1モルに対して1〜5モル比で使用される。これら
の塩基は、上記有機溶媒の1/20〜1/4の容量の溶
液または懸濁液として添加される。この反応工程は、1
〜30時間、好ましくは、1〜10時間、0℃〜60
℃、好ましくは室温付近で実施され得、上記式(I)で
示される化合物が得られる。
て、有機溶媒中でハロゲン化水素を用いて脱保護反応を
行い、ヒドロキシ保護基およびカルボキシ保護基を脱離
させる。その結果、式(IV)で示される化合物を得る
ことができる。
(I)で示されるのと同意義であり、R9は水素、低級
アルキルまたは非毒性の薬学的に許容し得る塩を形成す
る陽イオンである。ここでハロゲン化水素としては、種
々のハロゲン化水素を用い得るが、フッ化水素および塩
酸が好適である。有機溶媒としては、前記の工程と同様
の溶媒を使用し得るが、アセトニトリルが好適である。
この反応は、0℃〜60℃、好適には、室温付近で、
0.5時間〜10時間、より、好適には1〜2時間行わ
れ得る。
とにより、式(V)で示されるジヒドロキシ体が得られ
る。
を無水条件下、アルコール−有機溶媒の混液中で、ジエ
チルメトキシボランおよびNaBH4と反応させて実施され
得る。この反応は、−100℃〜20℃、好ましくは、
−85℃〜−70℃の冷却下で、10分〜5時間、好ま
しくは30分〜2時間行われる。アルコールとしてはメ
タノール、エタノール、プロパノールおよびブタノール
等が用いられ、有機溶媒としては、前記の工程と同様の
ものが用いられ得る。反応後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー等公知の方法により精製して式(V)で示
される化合物を得ることができる。
による特開平5−178841に開示されるように、H
MG−CoA還元酵素阻害活性を有する。
に比べ反応性の高い、式(II)で示されるケトホスホ
ネート体を用いるので、反応が速く加熱する必要がな
い。また反応により生じる副生物が水溶性のリン酸エス
テル誘導体であるので、反応混合液から簡単に除去でき
る。
(1.05 g, 3.0 mmol)を CH2Cl2 (6 ml)に懸濁させ、そこ
へβ-ケトホスホネート誘導体(2) (1.50 g, 3.0×1.3 m
mol)を加えた。これに室温攪拌下でDBU(538 μl, 3.0×
1.2 mmol)を5分間を要して加え、さらに室温下で3 時間
攪拌した。反応液を酢酸エチル中に移し、得られた酢酸
エチル層を水洗(3回)した。反応完了時の反応液は暗褐
色の溶液であつたが、分取した酢酸エチル溶液は水洗に
より橙褐色となり、水洗前には TLC上で存在が認められ
た黄色のスポット及び原点付近のスポットが水洗により
大部分除去された。この酢酸エチル溶液を無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。残分をローバーカ
ラム(B)を用いてトルエン〜トルエン/酢酸エチル(10
/1)にてクロマトを行った。まず、ホルミル体 (1a)(130
mg,12%)が溶出した。続いて目的物(3a)(1.38 g, 油状,
y. 75%) を得た。
MR (200M, CDCl3) δ:0.01 (3H, s),0.06 (3H, s), 0.
82 (9H, s), 1.30 (6H, d, J=7 Hz), 2.49 (2H, d, J=
2, 6),2.75 (2H, dd, J=2, 6), 3.36 (1H, 7tet, J=7),
3.53 (3H, s), 3.60 (3H, s), 3.67 (3H, s), 4.60 (1
H, m), 6.16 (1H, d, J=16), 7.13 (2H, t, J=9), 7.62
(1H, d, J=16), 7.62 (2H, m)。
3.0 mmol)を CH3CN (6 ml) に懸濁させ、β-ケトホスホ
ネート(2)(1.50 g, 3.0×1.3 mmol)およびDBU (538 μ
l, 3.0×1.2 mmol)を加え、室温下 3 時間マグネチック
スターラーで激しく攪拌した。実施例1と同様に処理し
てホルミル体 (1a)(126 mg, 12%)を回収し、目的物 (3
a)(1.14 g,62%)を得た。 (実施例3)ホルミル体 (1a) (1.05 g, 3.0 mmol)を C
H3CN (6 ml) に懸濁させ、β-ケトホスホネート(2)(1.5
0 g, 3.0×1.3 mmol)、更にカリウムt−ブトキシド(43
8 mg,3.0×1.3mmol) を加え、室温下 4 時間マグネチッ
クスターラーで激しく攪拌した。実施例1と同様に処理
してホルミル体 (1a) (70 mg, 7%)を回収し、目的物 (3
a)(1.30 g, 71%) を得た。
3.0 mmol)をCH3CN (6 ml) に懸濁させ、β-ケトホスホ
ネート(2)(1.50 g, 3.0×1.3 mmol)、更に、粉末K2CO
3(アルドリッチ社製)(2.1 g,3×5 mmol)を加え、室温下
2日間マグネチックスターラーで激しく撹拌した。実施
例1と同様に処理してホルミル体 (1a)(156 mg, 16%)
回収し、目的物(3a)(1.28 g, 70%) を得た。 (実施例5)ホルミル体 (1a) (1.05 g, 3.0 mmol)およ
びβ-ケトホスホネート(2)(1.50 g,3.0×1.3 mmol)をジ
メチルスルホキシド(6 ml) に溶解させ、粉末K2CO3 (2.
1 g, 3×5 mmol)を加え、室温下で 20 時間マグネチッ
クスターラーで激しく撹拌した。実施例1と同様に処理
してホルミル体 (1a)(50 mg, 5%) 回収し、目的物 (3a)
(1.48 g, 80%) を得た。
0 mg, 1.0 mmol)、β-ケトホスホネート(2)(574 mg, 1.
5 mmol)およびカリウムt−ブトキシド (146 mg, 1.3 m
mol)を 1 ml のアセトニトリル中に入れ、室温下で 30
分間攪拌した。反応液を酢酸エチル中に移し、水洗し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去した。
残分をシリカゲルを用いたクロマトグラフィーにかけ、
トルエン〜トルエン/酢酸エチル(10 : 1)濃度勾配に
より溶出するものをヘキサンから結晶化させ、目的物(3
b)(371 mg, mp 50 - 53゜C, y. 74 %) を得た。
R (200m, CDCl3) δ:0.01 (3H, s),0.06 (3H, s), 0.8
2 (9H, s), 2.50 (2H, dd, J=2, 6), 2.23 (3H, s), 2.
76 (3H, s), 2.77 (2H, dd, J=2, 6), 3.67 (3H, s),
4.61 (1H, m), 6.32 (1H, d, J=17), 7.13 (2H, t, J=
9), 7.54 (1H, d, J=17), 7.58 (2H, m)。
1 mg, 0.5 mmol)、β-ケトホスホネート(2)(287 mg, 0.
75 mmol)およびカリウムt−ブトキシド ( 73 mg, 0.65
mmol)を 0.5 ml のアセトニトリル中に入れ、室温下で
1 時間攪拌した。その後、実施例6と同様に処理し、
トルエン〜トルエン/酢酸エチル(10 : 1)濃度勾配に
より溶出するものをヘキサンから結晶化させ、目的物(3
c)(197 mg, mp 91 - 92゜C, y. 74 %)を得た。 [α]D -3.2゜ (23゜C, c=2.02, CHCl3中) NMR (200m, CDC
l3) δ:0.03 (3H, s),0.07 (3H,,s), 0.83 (9H, s),
2.52 (2H, dd, J=2, 6), 2.75 (3H, s), 2.81 (2H, dd,
J=2, 6), 3.67 (3H, s), 4.63 (1H, m), 6.40 (1H, d,
J=16), 7.17 (2H, t, J=9), 7.49 (3H, m), 7.63 (1H,
d, J=16), 7.70 (2H, m), 8.54 (2H, m)。
g, 0.14 mmol)、β-ケトホスホネート(2)(105 mg, 0.28
mmol)およびカリウムt−ブトキシド (24 mg, 0.21 mm
ol) を0.5 ml のアセトニトリル中に入れ、室温下で 2.
0 時間攪拌した。実施例6と同様に処理し、トルエン〜
トルエン/酢酸エチル(10 : 1)濃度勾配により溶出す
るものをヘキサンから結晶化させ、目的物(3d)(52 mg,
mp 62-64゜C, y. 65 %)を得た。クロマトグラフィーの別
の画分から、ホルミル体 (10 mg, 23 %)を回収した。
MR (200m, CDCl3) δ:-0.02 (3H, s), 0.04 (3H, s),
1.00 (9H, s), 1.26 (3H, d, J=7), 1.33 (3H, d, J=
7), 2.42 (2H, dd, J=3, 6), 2.60 (2H, dd, J=2, 5),
3.21 (3H, s), 3.33 (1H, m), 3.66 (3H, s), 4.06 (2
H, s), 4.52 (1H, m), 5.90 (1H, d, J=17), 7.13 (4H,
m), 7.34 (1H, d, J=17)。
mg, 0.5 mmol)、β-ケトホスホネート(2)(287 mg, 0.75
mmol)およびカリウムt−ブトキシド (73 mg, 0.65 mm
ol)を 0.5 ml のアセトニトリル中に入れ、室温下で 2
時間攪拌した。実施例6と同様に処理し、トルエン〜ト
ルエン/酢酸エチル(10 : 1)濃度勾配により溶出する
ものをヘキサンから結晶化させ、目的物 (3e)(223 mg,
油状、y. 80 %) を得た。
MR (200m, CDCl3) δ:-0.02 (3H, s), 0.03 (3H, s),
1.00 (9H, s), 1.05 (2H, m), 1.38 (2H, m), 2.33 (1
H, m),2.44 (2H, dd, J=4, 6), 2.70 (2H, dd, J=3,
6), 3.67 (3H, s), 4.56 (1H, m), 6.35 (1H, d, J=1
7), 7.64 (1H, d, J=17), 7.20〜8.00 (8H, m)。
る有機溶媒の種類、塩基の種類および反応時間を変化さ
せた点を除いて、実施例1に示した方法と同じ方法(但
し、ホルミル誘導体(1a)を1mmol、およびβ−ケトホス
ホネート誘導体(2)を1.3mmol使用した)で、ピリジン誘
導体(3a)を得た。表1にそれぞれの反応条件において得
られたピリジン誘導体(3a)に示す化合物の収率を示す。
表1に示すように、室温においても短時間に高い収率で
ピリジン誘導体(3a)が得られた。
ル生合成の中心的酵素であるHMG−CoA還元酵素阻
害剤を安全に高収率で製造できる。
Claims (13)
- 【請求項1】 式(I)で示されるピリミジン誘導体の
製造方法であって、 【化1】 ここで、R1は、置換基を有していてもよい低級アルキ
ル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置
換基を有していてもよいアリール基または置換基を有し
ていてもよいアミノ基であり、R2およびR3はそれぞれ
独立して、水素、置換基を有していてもよい低級アルキ
ル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基また
は置換基を有していてもよいフェニル基であり、R4は
水素またはカルボキシ保護基であり、R5は水素または
ヒドロキシ保護基であり、Xは、窒素またはR6C、こ
こでR6は、置換基を有していてもよい低級アルキル基
である;式(II)で示されるアルデヒド化合物: 【化2】 ここで、R1、R2、R3、およびXは、式(I)で定義
したのと同意義である;および、式(III)で示され
るケトホスホネート体: 【化3】 ここで、R4およびR5は、式(I)で定義したのと同意
義であり、R7およびR8は、それぞれ独立して低級アル
コキシ基である;とを有機溶媒中塩基存在下で反応する
工程を包含する、方法。 - 【請求項2】 前記反応工程が室温で行われる、請求項
1に記載の方法。 - 【請求項3】 前記有機溶媒が、トルエン、テトラヒド
ロフラン、ジメチルスルホキシド、エトキシ酢酸、アセ
トニトリル、塩化メチレンでなる群から選択される、請
求項1に記載の方法。 - 【請求項4】 前記塩基が、カリウムt−ブトキシド、
炭酸カリウム、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]
ウンデカ−7−エン、ナトリウムメトキシド、リチウム
ヘキサメチルジシラザン、および塩化リチウムでなる群
から選択される少なくとも一種である、請求項1または
3に記載の方法。 - 【請求項5】 R4がカルボキシ保護基、およびR5がヒ
ドロキシ保護基である、請求項1に記載の方法。 - 【請求項6】 前記カルボキシ保護基が低級アルキル基
であり、そして前記ヒドロキシ保護基がトリ低級アルキ
ルシリル基である、請求項5に記載の方法。 - 【請求項7】 R2が置換基を有していてもよいフェニ
ル基である、請求項1に記載の方法。 - 【請求項8】 R3が低級アルキル基またはシクロアル
キル基である、請求項7に記載の方法。 - 【請求項9】 R1が置換基を有していてもよいアミノ
基、およびXが窒素である、請求項8に記載の方法。 - 【請求項10】 R1がN−メチル−N−メチルスルホ
ニルアミノ基、R2がハロゲン化フェニル基、およびR3
がイソプロピル基である、請求項9に記載の方法。 - 【請求項11】 前記ケトホスホネート体(II)が、
3−(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)−6−
ジメトキシホスフィニル−5−オキソヘキサン酸メチル
である、請求項1に記載の方法。 - 【請求項12】 R4がカルボキシ保護基であり、かつ
R5がヒドロキシ保護基であって、該ヒドロキシ保護基
および該カルボキシ保護基を脱離させる工程をさらに包
含する、請求項1に記載の方法。 - 【請求項13】 式(V)で示される化合物: 【化4】 ここで、R 1 は、置換基を有していてもよい低級アルキ
ル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置
換基を有していてもよいアリール基または置換基を有し
ていてもよいアミノ基であり、R 2 およびR 3 はそれぞれ
独立して、水素、置換基を有していてもよい低級アルキ
ル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基また
は置換基を有していてもよいフェニル基であり、Xは、
窒素またはR 6 C、ここでR 6 は、置換基を有していても
よい低級アルキル基であり、R 9 は、R 9 は水素、低級ア
ルキルまたは非毒性の薬学的に許容し得る塩を形成する
陽イオンである;の製造方法であって、該方法は、以
下: (a)式(II)で示されるアルデヒド化合物: 【化5】 ここで、R 1 、R 2 、R 3 、およびXは、式(V)で示さ
れるのと同意義であり;および、式(III)で示され
るケトホスホネート体: 【化6】 ここで、R 4 は水素またはカルボキシ保護基であり、R 5
は水素またはヒドロキシ保護基であり、R 7 およびR
8 は、それぞれ独立して低級アルコキシ基である;とを
有機溶媒中塩基存在下で反応させて、式(I)で示され
るピリミジン誘導体: 【化7】 ここで、R 1 、R 2 、R 3 、およびXは、式(V)で示さ
れるのと同意義であり、R 4 およびR 5 は、式(III)
で示されるのと同意義である;を得る工程、 (b)工程(a)で得られた該化合物(I)を、所望に
より脱保護反応に付して、式(IV)で示される化合
物: 【化8】 ここで、R 1 、R 2 、R 3 、X、およびR 9 は、式(V)で
示されるのと同意義である;を得る工程、および (c)該化合物(IV)を還元して、該式(V)で示さ
れる化合物を得る工程、 を包含する方法。
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---|---|---|---|
JP26136593A JP3400038B2 (ja) | 1993-10-19 | 1993-10-19 | ピリミジン誘導体の製造方法 |
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