JP3387204B2 - Polarizing plate, method for manufacturing polarizing plate, and liquid crystal display device - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、特に液晶表示装置に好
適に用いられる偏光板およびその製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polarizing plate preferably used for a liquid crystal display device and a method for manufacturing the same.

【０００２】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置においては、その表面反射
を減らすことで、特に屋外での視認性を向上させること
が行われている。このような表面反射を減らすための方
法としては、例えば、真空蒸着法、イオンプレーティン
グ法、スパッタリング法等により偏光板の表面に無機質
コート膜からなる反射防止膜を形成する方法、あるいは
このような反射防止膜を表面に形成したアクリル樹脂フ
ィルムを偏光板に接着剤によって貼り付ける方法等があ
る。2. Description of the Related Art In a liquid crystal display device, the visibility thereof, especially outdoors, is improved by reducing the surface reflection thereof. As a method for reducing such surface reflection, for example, a method of forming an antireflection film made of an inorganic coating film on the surface of a polarizing plate by a vacuum vapor deposition method, an ion plating method, a sputtering method, or the like, There is a method of attaching an acrylic resin film having an antireflection film formed on its surface to a polarizing plate with an adhesive.

【０００３】しかし、従来の反射防止膜付き偏光板にお
いては、指紋等の汚れが付き易く、また一旦着いた汚れ
が取れにくいこと、偏光板の表面に水滴が付着し易く、
水滴が付着した状態で放置すると、短時間でしみ状の痕
跡となるいわゆるヤケが発生すること、さらには偏光板
の表面に水滴が着いたまま高温の状態で放置すると、反
射防止膜にクラックが生じたり反射防止膜が剥離するこ
と、等の問題があった。However, in a conventional polarizing plate with an antireflection film, stains such as fingerprints are liable to be attached, stains once attached are difficult to remove, and water droplets are easily attached to the surface of the polarizing plate.
If water droplets are left on the surface, so-called blemishes, which are traces of stains, will be generated in a short time.Furthermore, if the surface of the polarizing plate is left at high temperature with water droplets, the antireflection film will crack. There are problems such as the occurrence of the film and the peeling of the antireflection film.

【０００４】このような問題を回避する技術として、特
開平３−２６６８０１号公報に、反射防止膜上にフッ素
樹脂の薄膜を設ける方法が開示されている。しかし、こ
のフッ素樹脂の薄膜は、ポリテトラフルオロエチレンや
ポリビニルフルオライドなどを抵抗加熱式の真空蒸着法
によって堆積させて形成され、密着力，強度，表面硬度
等の点で不十分であって、実用化に適しないものであ
る。また、この技術を用いて膜強度が確保できる程度の
厚みの薄膜を形成した場合には、この膜が偏光板の光学
特性に影響を与え、反射率の増加，光干渉による色付
き，膜厚の不均一に起因する視認性の低下等の新たな問
題を生じる。As a technique for avoiding such a problem, Japanese Patent Laid-Open No. 3-266801 discloses a method of providing a thin film of fluororesin on the antireflection film. However, this thin film of fluororesin is formed by depositing polytetrafluoroethylene, polyvinyl fluoride, etc. by a resistance heating vacuum deposition method, and is insufficient in terms of adhesion, strength, surface hardness, etc. It is not suitable for practical use. In addition, when a thin film having a thickness that can secure the film strength is formed by using this technique, this film affects the optical characteristics of the polarizing plate and increases the reflectance, coloring due to optical interference, and film thickness A new problem such as a decrease in visibility due to the nonuniformity occurs.

【０００５】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
従来技術の課題を解決するためのものであって、その目
的とするところは、表面反射が少なく優れた視認性を確
保しながら、撥水性，汚染防止性に優れた偏光板および
その製造方法を提供することにある。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention is to solve the problems of the prior art as described above, and its purpose is to ensure excellent visibility while reducing surface reflection. It is an object of the present invention to provide a polarizing plate having excellent water repellency and anti-staining property, and a method for producing the same.

【０００６】[0006]

【課題を解決するための手段および作用】本発明の偏光
板は、偏光層およびこの偏光層の両表面に形成された支
持層を有する偏光基板と、この偏光基板を構成する一方
の支持層の表面に形成されたアンダーコート層と、この
アンダーコート層側の最も外側に位置し、含フッ素シラ
ン化合物からなる汚染防止層と、を含むことを特徴とし
ている。The polarizing plate of the present invention comprises a polarizing substrate having a polarizing layer and supporting layers formed on both surfaces of the polarizing layer, and one supporting layer constituting the polarizing substrate. It is characterized by including an undercoat layer formed on the surface and a pollution prevention layer which is located on the outermost side on the undercoat layer side and is made of a fluorine-containing silane compound.

【０００７】この偏光板においては、通常、前記アンダ
ーコート層と前記汚染防止層との間に反射防止層が形成
される。In this polarizing plate, an antireflection layer is usually formed between the undercoat layer and the pollution prevention layer.

【０００８】この偏光板においては、その最表面に含フ
ッ素シラン化合物からなる汚染防止層を形成することに
より、偏光板表面の撥水性および撥油性を向上させるこ
とができ、汚染防止性に優れた偏光板を構成することが
できる。In this polarizing plate, by forming a pollution preventing layer made of a fluorine-containing silane compound on the outermost surface thereof, it is possible to improve the water repellency and oil repellency of the surface of the polarizing plate and it is excellent in the pollution preventing property. A polarizing plate can be configured.

【０００９】汚染防止層の下位に位置する反射防止層
は、通常、例えばＳｉＯ₂ 膜等の無機質膜から構成さ
れ、その表面には極性の大きな−ＯＨ基が露出してお
り、この活性な基は汚れや水滴が付着しやすい原因とな
っている。したがって、極性の極めて小さな含フッ素シ
ラン化合物を前記反射防止層の表面に反応あるいは吸着
させることで、偏光板表面を化学的に安定した状態に改
質することができる。The antireflection layer located below the antifouling layer is usually composed of an inorganic film such as a SiO ₂ film, and a --OH group having a large polarity is exposed on the surface thereof. Is a cause of easy attachment of dirt and water droplets. Therefore, by reacting or adsorbing the fluorine-containing silane compound having extremely small polarity on the surface of the antireflection layer, the surface of the polarizing plate can be chemically modified to be stable.

【００１０】この含フッ素シラン化合物からなる汚染防
止層は、原理的には単分子層によって構成されれば十分
であり、この程度の薄膜では偏光板の光学特性や表面硬
度に問題となるような影響を与えることはない。また、
前記反射防止層と汚染防止層とは、反応性置換基を介し
て化学的に結合しているため、両者の密着力は強固であ
り、汚染防止層が剥がれるようなことはない。また、含
フッ素シラン化合物は耐薬品性、耐熱性、耐擦傷性およ
び耐候性等の化学的，物理的特性において優れている。It is sufficient in principle for the pollution prevention layer made of this fluorine-containing silane compound to be composed of a monomolecular layer, and a thin film of this degree causes problems with the optical characteristics and surface hardness of the polarizing plate. It has no effect. Also,
Since the antireflection layer and the antifouling layer are chemically bonded via a reactive substituent, the adhesion between the two is strong and the antifouling layer does not peel off. Further, the fluorine-containing silane compound is excellent in chemical and physical properties such as chemical resistance, heat resistance, scratch resistance and weather resistance.

【００１１】前記汚染防止層は、純水の表面に対する接
触角が７０度以上、より好ましくは１００度以上あるこ
とが望ましい。汚染防止層がこの範囲の接触角を有する
ことにより、優れた撥水性を有し、良好な汚染防止性を
発揮することができる。The pollution prevention layer preferably has a contact angle with respect to the surface of pure water of 70 degrees or more, more preferably 100 degrees or more. When the antifouling layer has a contact angle in this range, it has excellent water repellency and can exhibit good antifouling properties.

【００１２】本発明においては、前記アンダーコート層
は、ＪＩＳ Ｚ ８７４１に基づく鏡面光沢度が１０〜
４０、好ましくは２０〜３５であり、かつＪＩＳ Ｋ
６９００に基づく曇度（ヘイズ）が５〜３０％、好まし
くは１０〜２５％であることが望ましい。In the present invention, the undercoat layer has a specular gloss of 10 to 10 according to JIS Z8741.
40, preferably 20-35, and JIS K
It is desirable that the haze based on 6900 is 5 to 30%, preferably 10 to 25%.

【００１３】この偏光板においては、前記アンダーコー
ト層の鏡面光沢度および曇度を前記範囲に特定すること
により、偏光板表面の写り込みやギラツキを低減して優
れた視認性を確保しながら、偏光板表面の汚れの拭き取
り性を高めることができる。以下、この点について詳細
に説明する。In this polarizing plate, the specular glossiness and the haze of the undercoat layer are specified in the above ranges, thereby reducing the reflection and glare on the surface of the polarizing plate and ensuring excellent visibility. It is possible to improve the ability to wipe dirt on the surface of the polarizing plate. Hereinafter, this point will be described in detail.

【００１４】本発明において、鏡面光沢度（以下「光沢
度」という）とは、ＪＩＳ Ｚ ８７４１の方法３（６
０度鏡面光沢）に基づく光沢の度合いをいう。光沢度が
１０未満では、アンダーコート層の表面の凹凸の分布が
高密度となり、偏光板の表面に付着した汚れを除去しに
くくなる。一方、光沢度が４０より大きい場合には、外
光の正反射が強いため、偏光板の表面にいわゆるギラツ
キが顕著に現れ、視認性が低下する。In the present invention, the specular glossiness (hereinafter referred to as "glossiness") refers to JIS Z 8741 method 3 (6).
The degree of gloss based on 0 degree specular gloss. When the glossiness is less than 10, the unevenness distribution on the surface of the undercoat layer becomes high, and it becomes difficult to remove stains attached to the surface of the polarizing plate. On the other hand, when the glossiness is higher than 40, regular reflection of external light is strong, so that so-called glare appears remarkably on the surface of the polarizing plate, and the visibility is deteriorated.

【００１５】本発明において、曇度とは、ＪＩＳ Ｋ
６９００−１１３によるものをいう。具体的には、透明
体に入射した光線が拡散する度合いをいい、拡散透過光
量と全透過光量との比を百分率で示したものである。本
発明において、曇度が５未満では、偏光板の表面が鏡面
状態となっていわゆる写り込みの現象が顕著になり、視
認性が低下する。一方、曇度が３０より大きいと、偏光
板の表面が曇ガラスのような状態となって解像度が低下
し、そのため視認性が低下するだけでなく、平行透過率
の低下により暗くなる。In the present invention, the haze is defined by JIS K
6900-113. Specifically, it refers to the degree to which a light ray incident on a transparent body is diffused, and shows the ratio of the diffuse transmitted light amount to the total transmitted light amount in percentage. In the present invention, when the haze is less than 5, the surface of the polarizing plate becomes a mirror surface and the phenomenon of so-called reflection becomes remarkable, and the visibility is lowered. On the other hand, when the haze is more than 30, the surface of the polarizing plate becomes like a cloudy glass and the resolution is lowered. Therefore, not only the visibility is lowered, but also the parallel transmittance is lowered to make it dark.

【００１６】また、本発明の偏光板においては、前記ア
ンダーコート層は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１に基づく中心
線平均粗さ（Ｒａ）が１００〜５００ｎｍ、より好まし
くは１５０〜３００ｎｍであることが望ましい。この中
心線平均粗さが上記範囲にあることにより、表面の写り
込みやギラツキが低減でき、しかも汚れの拭き取り性を
高めることができる。In the polarizing plate of the present invention, the undercoat layer preferably has a center line average roughness (Ra) according to JIS B 0601 of 100 to 500 nm, more preferably 150 to 300 nm. When the center line average roughness is within the above range, it is possible to reduce surface reflection and glare, and improve the stain wiping property.

【００１７】前記汚染防止層を構成するフッ素シラン化
合物は、下記式（１）で示される含フッ素シラン化合
物、この化合物単位を有するオリゴマーおよびポリマー
の少なくとも一種からなる。式（１） （Ｒ¹ ）_a （Ｒ² ）_b −Ｓｉ−（Ｘ）_c 式（１）中、Ｒ¹ はフッ素を含む有機基、Ｒ² は水素ま
たは有機基、Ｘはハロゲン基，水酸基，アミノ基，アル
コキシ基およびこれらの基の一部が置換された基から選
択される少なくとも一種の加水分解可能な反応性基、a
は１〜３の整数、b は０または１〜２の整数、c は１〜
３の整数を示す。The fluorine silane compound constituting the pollution prevention layer comprises at least one of a fluorine-containing silane compound represented by the following formula (1), an oligomer having this compound unit and a polymer. Wherein _{^{(1) (R 1) a}} (R 2) b -Si- (X) c Formula (1), the organic radical R ¹ containing fluorine, R ² is hydrogen or an organic group, X is a halogen group, a hydroxyl group , An amino group, an alkoxy group and at least one hydrolyzable reactive group selected from the groups in which some of these groups are substituted, a
Is an integer of 1 to 3, b is 0 or an integer of 1 to 2, and c is 1
Indicates an integer of 3.

【００１８】前記式（１）で示される含フッ素シラン化
合物としては、反応性基Ｘはアミノ基または置換アミノ
基であることが好ましい。In the fluorine-containing silane compound represented by the above formula (1), the reactive group X is preferably an amino group or a substituted amino group.

【００１９】このようなアミノシラン化合物としては、
１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリアミ
ノシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシ
ルジメチルアミノシラン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パーフル
オロブチル）ジアミノシラン、ビス（パーフルオロノニ
ル）ジアミノシラン、パーフルオロヘキサデシルトリア
ミノシラン、パーフルオロヘプタデシルトリアミノシラ
ン、パーフルオロオクタデシルトリアミノシランおよび
ビス（パーフルオロノニル）ブチルアミノシランなどを
挙げることができる。これらのアミノシラン化合物は一
種単独で、あるいは二種以上組み合わせて用いることが
できる。As such an aminosilane compound,
1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyltriaminosilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyldimethylaminosilane, bis (1H, 1H-perfluorobutyl) diaminosilane, bis (perfluorononyl) diaminosilane, Examples thereof include perfluorohexadecyltriaminosilane, perfluoroheptadecyltriaminosilane, perfluorooctadecyltriaminosilane and bis (perfluorononyl) butylaminosilane. These aminosilane compounds can be used alone or in combination of two or more.

【００２０】また、前記式（１）の含フッ素シラン化合
物において、Ｒ¹はフッ素を含む、炭素数１〜２０のア
ルキル基，置換アルキル基，アルコキシ基または置換ア
ルコキシ基、Ｒ²は水素または炭素数１〜４のアルキル
基，置換アルキル基，アルコキシ基または置換アルコキ
シ基、Ｘはハロゲン基，水酸基、アルコキシ基およびこ
れらの基の一部が置換された基から選択される少なくと
も一種の反応性基であることが望ましい。In the fluorine-containing silane compound of the above formula (1), R ¹ is a fluorine-containing alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted alkyl group, an alkoxy group or a substituted alkoxy group, and R ² is hydrogen or carbon. C1-4 alkyl group, a substituted alkyl group, an alkoxy group, or a substituted alkoxy
It is desirable that the Si group and X be at least one reactive group selected from a halogen group, a hydroxyl group, an alkoxy group and a group in which a part of these groups is substituted.

【００２１】このような含フッ素シラン化合物として
は、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリ
クロロシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロ
デシルトリブロモシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パ
ーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２
Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリヒドロキシシラン、
パーフルオロヘプタデシルトリメトキシシラン、パーフ
ルオロオクタデシルジメチルクロロシラン、パーフルオ
ロヘキサデシルメチルジクロロシランおよび３，３，３
−トリフルオロプロピルトリクロロシランなどをあげる
ことができる。これらの含フッ素シラン化合物は、一種
単独であるいは二種以上を組み合わせて使用することが
できる。As such a fluorine-containing silane compound, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyltrichlorosilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyltribromosilane, 1H, 1H, 2H, 2H- Perfluorodecyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2
H, 2H-perfluorodecyltrihydroxysilane,
Perfluoroheptadecyltrimethoxysilane, perfluorooctadecyldimethylchlorosilane, perfluorohexadecylmethyldichlorosilane and 3,3,3
-Trifluoropropyltrichlorosilane and the like can be mentioned. These fluorine-containing silane compounds can be used alone or in combination of two or more.

【００２２】含フッ素シラン化合物のうち、アミノシラ
ンは、他のシラン化合物に比較して、室温〜８０℃の温
度で反応するため、反応の制御や取り扱いが簡単で、か
つ反応液の管理も容易であるという利点がある。Among the fluorine-containing silane compounds, aminosilane reacts at a temperature of room temperature to 80 ° C., as compared with other silane compounds, so that the reaction is easily controlled and handled, and the reaction solution is easily managed. There is an advantage.

【００２３】前記式（１）で示される含フッ素シラン化
合物は、反応の前後において化合物相互が結合してオリ
ゴマーあるいはポリマー化することもあり得るが、冷暗
所で保存することによって、その反応を本発明の目的を
阻害しない程度に管理することができる。The fluorine-containing silane compound represented by the above formula (1) may combine with each other before and after the reaction to form an oligomer or a polymer, but the reaction can be carried out by storing it in a cool and dark place. It can be managed to such an extent that it does not hinder the purpose of.

【００２４】前記アンダーコート層には、平均粒子径
０．１〜５μｍ、より好ましくは０．５〜２μｍの硬質
粒子が、該アンダーコート層に対して例えば１〜５０重
量％の割合で分散されていることが望ましい。硬質粒子
の平均粒子径が０．１μｍ未満であると、防眩効果の点
で劣る。一方、硬質粒子の平均粒子径が５μｍを越える
と、ギラツキが発生し、視認性の点で劣る。また、硬質
粒子の割合が１重量％未満であると、防眩効果の点で劣
る。一方、硬質粒子の割合が５０重量％を超えると、解
像度および汚れ拭き取り性の点で劣る。硬質粒子の割合
は特に限定されるものではなく、前記アンダーコート層
の特性を満足できるように適宜調整される。Hard particles having an average particle diameter of 0.1 to 5 μm, more preferably 0.5 to 2 μm are dispersed in the undercoat layer at a ratio of, for example, 1 to 50% by weight with respect to the undercoat layer. Is desirable. If the average particle size of the hard particles is less than 0.1 μm, the antiglare effect is poor. On the other hand, if the average particle diameter of the hard particles exceeds 5 μm, glare occurs and the visibility is poor. When the proportion of hard particles is less than 1% by weight, the antiglare effect is poor. On the other hand, when the proportion of the hard particles exceeds 50% by weight, the resolution and the stain-wiping property are poor. The proportion of hard particles is not particularly limited, and is appropriately adjusted so that the characteristics of the undercoat layer can be satisfied.

【００２５】前記硬質粒子としては、通常の防眩処理に
用いられるれシリカが代表的であるが、その他にもチタ
ニア、アルミナ、ジルコニア等を用いることができる。Silica, which is used in ordinary antiglare treatment, is typical as the hard particles, but in addition thereto, titania, alumina, zirconia and the like can be used.

【００２６】前記アンダーコート層としては、アクリル
系樹脂、シロキサン系樹脂等の樹脂をあげることができ
る。前記アクリル系樹脂としては、特に限定されない
が、ウレタンアクリレート、エステルアクリレート、エ
ポキシアクリレート、エーテルアクリレートなどの重合
体等を例示することができる。前記シロキサン系樹脂と
しては、アルコキシシラン等を用いることができ、例え
ばメチル基、エチル基等のアルキル基、その他のγ−ク
ロロプロピル基、ビニル基、３，３，３−トリフロロプ
ロピル基、γ−グリシドキシプロピル基、γ−メタクリ
ルオキシプロピル基などの有機基を含むものを例示する
ことができる。Examples of the undercoat layer include resins such as acrylic resins and siloxane resins. The acrylic resin is not particularly limited, but examples thereof include polymers such as urethane acrylate, ester acrylate, epoxy acrylate, and ether acrylate. As the siloxane-based resin, alkoxysilane or the like can be used, and examples thereof include alkyl groups such as methyl group and ethyl group, other γ-chloropropyl group, vinyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, γ. Examples thereof include those containing an organic group such as -glycidoxypropyl group and γ-methacryloxypropyl group.

【００２７】本発明の偏光板においては、前記汚染防止
層は、屈折率ｎおよび層の厚みｄが次の関係を有するこ
とが望ましい。In the polarizing plate of the present invention, the antifouling layer preferably has a refractive index n and a layer thickness d having the following relationships.

【００２８】 ｎｄ＜０．１μｍ １．２５＜ｎ＜１．４５ 前記汚染防止層を構成する含フッ素シラン化合物層は、
通常屈折率が１．２５〜１．４５と低く、したがって表
面反射を防止する効果をも有する。この場合、汚染防止
層はＡ型の干渉色（基材の屈折率より膜の屈折率が小さ
い場合）を与え、色相はｎｄの関数となる。そして、汚
染防止層の厚みｄが大きくなるにつれ、白色から黄，
赤，紫，青，緑と干渉色が変化していく。Nd <0.1 μm 1.25 <n <1.45 The fluorine-containing silane compound layer constituting the pollution prevention layer is
Usually, it has a low refractive index of 1.25 to 1.45, and therefore has an effect of preventing surface reflection. In this case, the antifouling layer gives an A type interference color (when the refractive index of the film is smaller than the refractive index of the substrate), and the hue is a function of nd. Then, as the thickness d of the pollution prevention layer increases, white to yellow,
The interference color changes with red, purple, blue, and green.

【００２９】前記偏光基板および反射防止層の条件を考
慮してスペクトル色の三刺激値を理論式から計算する
と、ｎｄが０．１μｍ以上になると、色座標（ｘ，ｙ）
のｘ値が０．４５を超え、汚染防止層の色付きが認識さ
れるようになる。また、ｎｄが０．１μｍ以上で、かつ
汚染防止層の厚みに不均一があると、シャボン玉の着色
のように斑な模様を呈することがある。以上のことを考
慮すると、前記汚染防止層は、その厚みｄが０．１μｍ
より小さいことが望ましい。When the tristimulus value of the spectral color is calculated from the theoretical formula in consideration of the conditions of the polarizing substrate and the antireflection layer, when nd is 0.1 μm or more, the color coordinate (x, y) is obtained.
X value of 0.45 or more exceeds 0.45, the coloring of the pollution control layer becomes recognizable. Further, if nd is 0.1 μm or more and the thickness of the pollution prevention layer is not uniform, a patchy pattern such as soap bubble coloring may be exhibited. Taking the above into consideration, the pollution prevention layer has a thickness d of 0.1 μm.
It is desirable to be smaller.

【００３０】本発明の偏光板の製造方法は、偏光層およ
びこの偏光層の両表面に形成された支持層を有する偏光
基板の一方の支持層の表面にアンダーコート層を形成す
る工程と、このアンダーコート層の表面に反射防止層を
形成する工程と、この反射防止層の表面に含フッ素シラ
ン化合物からなる汚染防止層を形成する工程と、を含む
ことを特徴としている。The method for producing a polarizing plate of the present invention comprises a step of forming an undercoat layer on the surface of one supporting layer of a polarizing substrate having a polarizing layer and supporting layers formed on both surfaces of the polarizing layer, and The method is characterized by including a step of forming an antireflection layer on the surface of the undercoat layer and a step of forming a pollution prevention layer made of a fluorine-containing silane compound on the surface of the antireflection layer.

【００３１】前記アンダーコート層を形成する工程は、
樹脂溶液に平均粒子径が０．１〜５μｍの硬質粒子を分
散させた塗布液を調整し、この塗布液を前記偏光基板の
表面に塗布して硬化させ、前記硬質粒子が１〜５０重量
％の割合で含有される塗膜を形成する工程からなること
が望ましい。この工程で用いられる樹脂溶液の樹脂とし
ては、前述したアクリル系樹脂，シロキサン系樹脂等を
用いることができる。In the step of forming the undercoat layer,
A coating solution in which hard particles having an average particle diameter of 0.1 to 5 μm are dispersed in a resin solution is prepared, and the coating solution is applied to the surface of the polarizing substrate and cured, so that the hard particles are 1 to 50% by weight. It is desirable that the method comprises a step of forming a coating film containing the above-mentioned ratio. As the resin of the resin solution used in this step, the above-mentioned acrylic resin, siloxane resin or the like can be used.

【００３２】このように、アンダーコート層に硬質粒子
を分散させることにより、アンダーコート層に防眩性を
付与することができる。Thus, by dispersing the hard particles in the undercoat layer, the undercoat layer can be provided with antiglare property.

【００３３】この工程において、塗布液を前記偏光基板
の表面に塗布する方法としては、一般的に用いられてい
るディップ法、スピンナー法、スプレー法等を用いるこ
とができ、特に量産性の点でロールコート法を好ましく
用いることができる。塗膜を硬化させる際には、必要に
応じて、加熱や、紫外線あるいは電子線などの光照射に
より樹脂の架橋反応を促進させる。In this step, as a method of applying the coating liquid on the surface of the polarizing substrate, a generally used dipping method, spinner method, spray method or the like can be used, and particularly in view of mass productivity. The roll coating method can be preferably used. When the coating film is cured, the crosslinking reaction of the resin is accelerated by heating or irradiation with light such as ultraviolet rays or electron beams, if necessary.

【００３４】また、前記アンダーコート層に防眩性を付
与する他の方法としては、エッチング処理された型板に
ハードコート処理によって硬質粒子を含まないアンダー
コート層を形成し、これをキャスト重合によって偏光基
板に転写する方法、あるいは必要に応じて硬質粒子を含
む塗布液をスプレー法液滴調整によって偏光基板にアン
ダーコート層を形成する方法、微細な凹凸を有するロー
ルを硬質粒子を含まないコート層表面に圧接して回転さ
せてコート層表面に凹凸を転写させる方法を用いること
ができる。As another method of imparting antiglare property to the undercoat layer, an undercoat layer containing no hard particles is formed by a hard coat treatment on an etched template, and this is cast-polymerized. A method of transferring to a polarizing substrate, or a method of forming an undercoat layer on the polarizing substrate by spraying a coating solution containing hard particles if necessary, a method of forming an undercoat layer on the polarizing substrate, and a coating layer containing no hard particles on a roll having fine irregularities. It is possible to use a method in which the surface is pressed and rotated to transfer irregularities to the surface of the coating layer.

【００３５】前記汚染防止層は、前記式（１）で示され
る含フッ素シラン化合物を含む塗布液を前記反射防止層
の表面に塗布して硬化させ、さらに未反応の含フッ素シ
ラン化合物を溶媒洗浄によって除去することにより形成
できる。前記塗布液は、含フッ素シラン化合物を濃度
０．０１〜１０重量％で溶剤に溶解させて調整すること
ができる。このとき用いられる溶剤としては、パーフル
オロヘキサン、パーフルオロヘプタン、パーフルオロオ
クタン、パーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサ
ン、パーフルオロジメチルデカヒドロナフタレン等をあ
げることができる。In the antifouling layer, a coating solution containing the fluorine-containing silane compound represented by the above formula (1) is applied to the surface of the antireflection layer and cured, and the unreacted fluorine-containing silane compound is washed with a solvent. Can be formed by removing. The coating liquid can be prepared by dissolving a fluorine-containing silane compound in a solvent at a concentration of 0.01 to 10% by weight. Examples of the solvent used at this time include perfluorohexane, perfluoroheptane, perfluorooctane, perfluoro-1,3-dimethylcyclohexane and perfluorodimethyldecahydronaphthalene.

【００３６】前記汚染防止層は、前記式（１）で示され
る含フッ素シラン化合物を物理的気相成長法によって堆
積させることにより形成できる。この工程において、物
理的気相成長法としては、一般的に用いられる真空蒸着
法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等を用
いることができ、特に真空蒸着法を好ましく用いること
ができる。The pollution prevention layer can be formed by depositing the fluorine-containing silane compound represented by the above formula (1) by physical vapor deposition. In this step, as the physical vapor deposition method, a commonly used vacuum vapor deposition method, ion plating method, sputtering method, or the like can be used, and the vacuum vapor deposition method is particularly preferably used.

【００３７】汚染防止層を物理的気相成長法によって形
成する場合には、前記反射防止層を汚染防止層の形成手
段と同様の堆積法を採用することにより、反射防止層お
よび汚染防止層を連続的に形成することができる。When the anti-contamination layer is formed by the physical vapor deposition method, the anti-reflection layer and the anti-contamination layer can be formed by adopting the same deposition method as the means for forming the anti-reflection layer. It can be formed continuously.

【００３８】さらに、前記汚染防止層を真空蒸着法によ
って形成する場合には、前記式（１）で示される含フッ
素シラン化合物を含浸させたセラミックスを蒸発源とし
て用い、真空槽内において前記セラミックスを加熱し、
該化合物を蒸発させて堆積させることが望ましい。Further, when the anti-contamination layer is formed by a vacuum deposition method, the ceramics impregnated with the fluorine-containing silane compound represented by the above formula (1) is used as an evaporation source, and the ceramics are stored in a vacuum chamber. Heat
It is desirable to evaporate and deposit the compound.

【００３９】また、前記汚染防止層の形成に先立って、
前記反射防止層に、洗浄，脱気，薬品処理，プラズマ処
理等の前処理を施すこともできる。Prior to the formation of the pollution prevention layer,
The antireflection layer may be subjected to pretreatments such as cleaning, degassing, chemical treatment, and plasma treatment.

【００４０】前記反射防止層は、超低屈折率の単層構
造、あるいは低屈折率層と高屈折率層との組み合わせに
よる多層構造とすることにより、有効な減反射効果を得
ることができる。前記超低屈折率層を構成する物質とし
ては、ＭｇＦ₂ ，ＣａＦ₂ 、ＬｉＦ等をあげることがで
き、前記多層構造の屈折率層を構成する材料としては、
ＳｉＯ₂ ，ＺｒＯ₂ ，ＴｉＯ₂ ，Ｙ₂ Ｏ₃ 、Ｔａ
₂ Ｏ₅ 、ＣｅＯ₂ 、Ｓｂ₂ Ｏ₃、Ｂ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ、Ｃ
ｅＦ₃ 等をあげることができる。An effective antireflection effect can be obtained by forming the antireflection layer into a single layer structure having an ultralow refractive index or a multilayer structure including a combination of a low refractive index layer and a high refractive index layer. Examples of the substance forming the ultra-low refractive index layer include MgF ₂ , CaF ₂ , and LiF, and examples of the material forming the refractive index layer of the multilayer structure include
SiO ₂ , ZrO ₂ , TiO ₂ , Y ₂ O ₃ , Ta
₂ O ₅ , CeO ₂ , Sb ₂ O ₃ , B ₂ O ₃ , SiO, C
eF ₃ etc. can be mentioned.

【００４１】また、反射防止層を構成する物質として
は、前記フッ化物あるいは酸化物の代わりに、特定の樹
脂あるいは非晶質体等を用いることができる。例えば、
超低屈折率層は、アクリル系樹脂にフッ素を含む置換基
を導入した樹脂、あるいは多孔質のシリカ系非晶質体を
ゾルゲル法を用いて形成することにより得られる。ま
た、低屈折率層と高屈折率層は、シロキサン系樹脂また
はアクリル系樹脂に適当な置換基を導入したり、あるい
は分散させる酸化物粒子の種類や混合比を調整すること
で、屈折率１．４５〜１．６５の範囲において比較的容
易に形成することができる。さらに高屈折率の膜が必要
な場合には、例えばチタニア系非晶質体等をゾルゲル法
によって形成することができる。As the substance forming the antireflection layer, a specific resin or an amorphous material may be used instead of the above-mentioned fluoride or oxide. For example,
The ultra-low refractive index layer can be obtained by forming a resin in which a substituent containing fluorine is introduced into an acrylic resin or a porous silica-based amorphous material by using a sol-gel method. The low refractive index layer and the high refractive index layer have a refractive index of 1 by introducing an appropriate substituent into a siloxane-based resin or an acrylic-based resin, or by adjusting the type and mixing ratio of oxide particles to be dispersed. It can be formed relatively easily in the range of 0.45 to 1.65. When a film having a higher refractive index is required, for example, a titania-based amorphous material can be formed by the sol-gel method.

【００４２】後者の樹脂あるいは非晶質体を用いて反射
防止層を形成する場合には、塗布液の溶媒としてアルコ
ール系溶媒あるいはフッ素系溶媒等を用いることができ
る。このようなアルコール系溶媒としては２−エトキシ
エタノール、２−メトキシエタノールイソプロピルアル
コール等を、フッ素溶媒としてはパーフルオロヘプタン
等をあげることができる。When the antireflection layer is formed using the latter resin or amorphous material, an alcohol solvent or a fluorine solvent can be used as the solvent of the coating liquid. 2-ethoxyethanol, 2-methoxyethanol isopropyl alcohol, etc. can be mentioned as such an alcohol solvent, and perfluoroheptane etc. can be mentioned as a fluorine solvent.

【００４３】[0043]

【実施例】【Example】

（実施例１）図１は、本実施例に係る偏光板の構成を模
式的に示す断面図である。この偏光板１００は、偏光基
板１０上にアンダーコート層２０、反射防止層３０およ
び汚染防止層４０が順次積層された構造となっている。(Example 1) FIG. 1 is a sectional view schematically showing the structure of a polarizing plate according to this example. The polarizing plate 100 has a structure in which an undercoat layer 20, an antireflection layer 30, and a pollution prevention layer 40 are sequentially stacked on a polarizing substrate 10.

【００４４】前記偏光基板１０は、ヨウ素，染料等の二
色性を与える偏光素子がポリビニルアルコール等の偏光
基体によって固定された偏光層１２と、この偏光層１２
の両側に接着剤によって貼り合わされた第１の支持層１
４および第２の支持層１６とから構成されている。支持
層１４，１６としては、通常トリアセチルセルロース
（ＴＡＣ）等に代表されるセルロース系の膜が用いら
れ、これらの支持層１４，１６によって偏光層１２が化
学的，物理的に保護されている。前記偏光基体１０は、
通常２０〜２００μｍの厚さを有し、前記支持層１４，
１６は、通常２０〜２００μｍの厚さを有する。The polarizing substrate 10 includes a polarizing layer 12 in which a polarizing element for imparting dichroism such as iodine or dye is fixed by a polarizing substrate such as polyvinyl alcohol, and the polarizing layer 12.
First support layer 1 attached to both sides of the substrate with an adhesive
4 and the second support layer 16. As the supporting layers 14 and 16, a cellulosic film typified by triacetyl cellulose (TAC) is usually used, and the polarizing layer 12 is chemically and physically protected by the supporting layers 14 and 16. . The polarizing substrate 10 is
The support layer 14 has a thickness of usually 20 to 200 μm,
16 usually has a thickness of 20 to 200 μm.

【００４５】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは３μｍ）のア
クリル系樹脂にシリカ（ＳｉＯ₂ ）が分散され、防眩性
（アンチグレア性）が付与されている。前記シリカは、
平均粒子径が０．１〜５μｍ（サンプルでは２μｍ）で
あり、その添加量はアクリル系樹脂に対し１〜５０重量
％（サンプルでは２５重量％）である。The undercoat layer 20 has a thickness of 0.5.
Silica (SiO ₂ ) is dispersed in an acrylic resin having a thickness of up to 20 μm (3 μm in the test sample described below) to impart antiglare properties (antiglare properties). The silica is
The average particle diameter is 0.1 to 5 μm (2 μm in the sample), and the addition amount is 1 to 50% by weight (25% by weight in the sample) with respect to the acrylic resin.

【００４６】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は２６、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は２２０ｎｍ、および曇度は２０％であった。An example of the film characteristics of the undercoat layer 20 of this embodiment is that the surface hardness is 3H in pencil hardness,
Glossiness (Ga60 degree) is 26, center line average roughness (Ra)
Was 220 nm and the haze was 20%.

【００４７】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、５層構造を成
している。この膜構成は、アンダーコート層２０側か
ら、ＳｉＯ₂ 層がλ／４、ＺｒＯ₂ 層とＳｉＯ₂ 層の積
層がλ／４、ＺｒＯ₂ 層がλ／４、最上層であるＳｉＯ
₂ 層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）である。The antireflection layer 30 has a film thickness of 0.05 to 1
μm (0.3 μm in the sample), forming a five-layer structure. In this film structure, the SiO ₂ layer is λ / 4, the stack of the ZrO ₂ layer and the SiO ₂ layer is λ / 4, the ZrO ₂ layer is λ / 4, and the uppermost layer is SiO from the undercoat layer 20 side.
_{The two} layers are λ / 4 (where λ = 520 nm).

【００４８】この反射防止層３０は、可視領域における
反射率の平均値が０．５％以下である。The antireflection layer 30 has an average reflectance of 0.5% or less in the visible region.

【００４９】前記汚染防止層４０は、１Ｈ，１Ｈ，２
Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリクロロシランからな
る厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにおい
ては１００オングストローム以下）の層から構成されて
いる。この層は少なくとも単分子層ないしは数分子層で
ある。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以
上であり、優れた撥水性を示した。また、前記汚染防止
層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したが
ってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍよ
り小さいことが確認された。The pollution prevention layer 40 is composed of 1H, 1H, 2
It is composed of a layer of H, 2H-perfluorodecyltrichlorosilane having a thickness of 20 to 800 angstroms (100 angstroms or less in the sample). This layer is at least a monolayer or a few monolayers. The antifouling layer 40 had a contact angle of water of 100 degrees or more and exhibited excellent water repellency. Further, it was confirmed that the contamination prevention layer 40 had a refractive index n of 1.25 to 1.45, and therefore nd (d: thickness of the contamination prevention layer 40) was smaller than 0.1 μm.

【００５０】次に、本実施例の偏光板１００の製造方法
について述べる。Next, a method of manufacturing the polarizing plate 100 of this embodiment will be described.

【００５１】まず、偏光基板１０の表面に、シリカ粒子
が分散されたアクリル樹脂塗布液（ウレタンアクリレー
トオリゴマ−をメタクリル酸モノマーで希釈し、シリカ
粒子と光開始剤としてベンゾインエーテルを添加したも
の）をロールコート法によって塗布し、その後紫外線を
照射してアクリル樹脂を硬化させ、アンダーコート層２
０を形成した。First, an acrylic resin coating liquid in which silica particles are dispersed on the surface of the polarizing substrate 10 (a urethane acrylate oligomer diluted with a methacrylic acid monomer and silica particles and benzoin ether as a photoinitiator are added) is applied. The undercoat layer 2 is applied by a roll coating method and then irradiated with ultraviolet rays to cure the acrylic resin.
Formed 0.

【００５２】ついで、この偏光基板を真空槽内にセット
し、真空蒸着法により、基板温度５０℃で、ＳｉＯ₂ 層
をλ／４、ＺｒＯ₂ 層とＳｉＯ₂ 層との積層をλ／４、
ＺｒＯ₂ 層をλ／４、ＳｉＯ₂ 層をλ／４（λ＝５２０
ｎｍ）の膜厚で順次形成し、反射防止層３０を形成し
た。得られた偏光板をメタノールで洗浄し、十分に乾燥
させた。Next, this polarizing substrate was set in a vacuum chamber and the substrate temperature was 50 ° C. by a vacuum vapor deposition method to form a SiO ₂ layer of λ / 4 and a ZrO ₂ layer and a SiO ₂ layer of λ / 4.
The ZrO ₂ layer is λ / 4 and the SiO ₂ layer is λ / 4 (λ = 520
nm) to form the antireflection layer 30. The obtained polarizing plate was washed with methanol and dried sufficiently.

【００５３】ついで、アミン系パーフルオロ溶媒である
「フロリナートＦＣ−４０」（住友スリーエム社製）に
含フッ素シラン化合物として１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−
パーフルオロデシルトリクロロシランを５重量％溶解さ
せた溶液に上述した偏光板を２０℃において１分間浸漬
させた。ついで、１０ｃｍ／秒の速度で偏光板を引き上
げた後、相対湿度５０％、温度５０℃の雰囲気で１０分
間放置した。その後、「フロリナ−トＦＣ−４０」によ
って偏光板の洗浄を行い未反応の含フッ素シラン化合物
を除去した。Then, 1H, 1H, 2H, 2H- as a fluorine-containing silane compound was added to "Fluorinate FC-40" (manufactured by Sumitomo 3M Limited) which is an amine-based perfluoro solvent.
The polarizing plate described above was immersed in a solution in which 5% by weight of perfluorodecyltrichlorosilane was dissolved at 20 ° C. for 1 minute. Then, after pulling up the polarizing plate at a speed of 10 cm / sec, it was left for 10 minutes in an atmosphere of relative humidity 50% and temperature 50 ° C. Then, the polarizing plate was washed with "Fluorinate FC-40" to remove the unreacted fluorine-containing silane compound.

【００５４】前記含フッ素シラン化合物は、偏光基板１
０の支持層を構成するＴＡＣと反応しないため、第２の
支持層１６上に付着した未反応の含フッ素シラン化合物
をフッ素系溶剤によって除去することができる。したが
って、第２の支持層１６上に接着が困難なシラン化合物
層が残存していない。The fluorine-containing silane compound is used for the polarizing substrate 1.
Since it does not react with TAC constituting the support layer of No. 0, the unreacted fluorine-containing silane compound attached on the second support layer 16 can be removed by a fluorine-based solvent. Therefore, the silane compound layer, which is difficult to adhere, does not remain on the second support layer 16.

【００５５】また、このようにして得られた偏光板は汚
染防止層４０の形成によって外観ならびに反射防止特性
において特に変化は見られなかった。The polarizing plate thus obtained did not show any particular change in appearance and antireflection property due to the formation of the antifouling layer 40.

【００５６】次に、偏光板およびこれを用いた液晶表示
装置の特性試験の結果について述べる。Next, the result of the characteristic test of the polarizing plate and the liquid crystal display device using the polarizing plate will be described.

【００５７】（１）偏光板の特性 特性試験のサンプルとしては、本実施例の偏光板１００
のうち膜厚等の各条件が（ ）内に示されたものを用い
た。 ａ．密着性 汚染防止層４０の密着性を碁盤目試験によって判定し
た。碁盤目試験は偏光板の表面にナイフで切れ目を入れ
た１ｍｍ角の微少領域１００箇所について、粘着テープ
剥離をした後、反射顕微鏡観察ならびに純水とエタノー
ルを滴下して濡れ性を評価した。(1) Polarizing plate characteristics As a sample for the characteristic test, the polarizing plate 100 of this embodiment was used.
Among these, those for which each condition such as film thickness is shown in parentheses are used. a. Adhesion The adhesion of the pollution control layer 40 was evaluated by a cross cut test. In the cross-cut test, the adhesive tape was peeled off from 100 microscopic areas of 1 mm square, which were cut with a knife on the surface of the polarizing plate, and then the wettability was evaluated by observation with a reflection microscope and dripping pure water and ethanol.

【００５８】碁盤目試験の結果、本実施例の偏光板はま
ったく表面層の剥がれがなく、汚染防止層４０の密着が
良好であることが確認された。 ｂ．耐擦傷性 この特性は、＃００００のスチールウールを汚染防止層
４０の表面に置き、１Ｋｇ／ｃｍ² の荷重をかけてスチ
ールウールを１０往復させたときの傷の発生を目視によ
って確認した。As a result of the cross-cut test, it was confirmed that the polarizing plate of the present example had no peeling of the surface layer at all and the adhesion of the pollution prevention layer 40 was good. b. Scratch resistance This property was confirmed by visually observing the occurrence of scratches when # 0000 steel wool was placed on the surface of the pollution prevention layer 40 and the steel wool was reciprocated 10 times under a load of 1 kg / cm ² .

【００５９】その結果、本実施例の偏光板においては傷
がほとんど認められず、優れた耐擦傷性を有することが
確認された。 ｃ．耐薬品性 薬品としては、アルコール，酸，アルカリおよび洗剤を
選択した。As a result, it was confirmed that the polarizing plate of this example had almost no scratches and had excellent scratch resistance. c. Alcohol, acid, alkali and detergent were selected as chemical resistant chemicals.

【００６０】耐アルコール性に関しては、メチルアルコ
ールを偏光板表面に滴下し、３０分間放置した後の変化
を目視によって観察した。耐酸性については、５重量％
の塩酸水溶液を偏光板表面に滴下した後、３０分間放置
し、その変化を目視によって観察した。耐アルカリ性に
ついては、５重量％の水酸化ナトリウム水溶液を偏光板
表面に滴下し、３０分間放置した後目視によって観察し
た。耐洗剤性については、５重量％の中性洗剤水溶液を
滴下し、２４時間放置した後の状態を目視によって観察
した。Regarding the alcohol resistance, methyl alcohol was dropped on the surface of the polarizing plate and the change after standing for 30 minutes was visually observed. 5% by weight for acid resistance
After dropping the aqueous hydrochloric acid solution on the surface of the polarizing plate, it was left for 30 minutes and the change was visually observed. Regarding the alkali resistance, a 5% by weight aqueous solution of sodium hydroxide was dropped on the surface of the polarizing plate, allowed to stand for 30 minutes, and then visually observed. Regarding the detergent resistance, 5% by weight of a neutral detergent aqueous solution was dropped, and the state after standing for 24 hours was visually observed.

【００６１】本実施例の偏光板については、各薬品の滴
下試験において変形、変色、シミ残りなどの異常は認め
られず、耐薬品性に優れていることが確認された。 ｄ．汚染防止性 この試験においては、偏光板の表面を指で触れ、指紋の
付き易さ、ならびに付着した指紋の拭き取り性を調べ
た。With respect to the polarizing plate of this example, no abnormalities such as deformation, discoloration, and stain residue were observed in the dropping test of each chemical, and it was confirmed that the polarizing plate was excellent in chemical resistance. d. Anti-Staining Property In this test, the surface of the polarizing plate was touched with a finger to check the easiness of attaching fingerprints and the wiping-off property of the attached fingerprints.

【００６２】その結果、本実施例の偏光板においては、
指紋が付きにくく、また、付いた指紋も布等によって容
易に拭き取ることができることを確認した。さらに、偏
光板を中性洗剤や市販のメガネクリーナー等でクリーニ
ングすることにより、初期の状態に容易に回復させるこ
とができた。As a result, in the polarizing plate of this example,
It was confirmed that fingerprints are not easily attached and that the attached fingerprints can be easily wiped off with a cloth or the like. Furthermore, by cleaning the polarizing plate with a neutral detergent or a commercially available eyeglass cleaner, it was possible to easily restore the initial state.

【００６３】（２）液晶表示装置の特性 以下の特性試験において用いられたサンプルは、上記特
性試験に用いられたサンプルと同様の偏光板をＭＩＭ
（メタル−インシュレータ−メタル）素子を用いたアク
ティブマトリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて構
成されたものである。サンプルは、カラーフィルタを形
成したガラス基板と、ＭＩＭ素子を形成したガラス基板
とでＴＮ（ツイストネマチック）液晶を挟持し、カラー
フィルタ側に本実施例の偏光板を、素子基板側に通常の
偏光板を貼り付けて構成されたものである。 ａ．高温高湿試験 液晶表示パネルのサンプルを温度５０℃，相対湿度９０
％の雰囲気に１，０００時間放置し、外観および特性等
の変化を調べた。(2) Characteristics of Liquid Crystal Display Device The samples used in the following characteristic tests are MIM with the same polarizing plate as the samples used in the above characteristic tests.
It is configured by being attached to the front surface of an active matrix driven liquid crystal panel using a (metal-insulator-metal) element. In the sample, a TN (twisted nematic) liquid crystal is sandwiched between a glass substrate on which a color filter is formed and a glass substrate on which an MIM element is formed, and the polarizing plate of the present embodiment is placed on the color filter side, and the ordinary polarized light is placed on the element substrate side. It is constructed by sticking plates. a. High temperature and high humidity test Liquid crystal display panel sample at temperature 50 ° C and relative humidity 90
% Atmosphere for 1,000 hours and examined for changes in appearance and characteristics.

【００６４】この試験の結果、サンプルの偏光板におい
て、剥がれ，クラック等が発生せず、ヤケの発生も認め
られなかった。 ｂ．熱衝撃試験 −２０℃（３０分）、２５℃（５分）および６０℃（３
０分）のヒートサイクルを１０回繰り返し、外観および
特性等の変化を調べた。As a result of this test, peeling, cracking, etc. did not occur in the polarizing plate of the sample, and no burn was observed. b. Thermal shock test-20 ° C (30 minutes), 25 ° C (5 minutes) and 60 ° C (3
The heat cycle of 0 minutes) was repeated 10 times, and changes in appearance and characteristics were examined.

【００６５】この試験の結果、サンプルの液晶表示パネ
ルにおいては、電気的特性、光学的特性などの点で特に
異常は認められなかった。 ｃ．日光暴露試験 サンプルを屋外に２０，０００時間にわたって放置した
後、外観および特性等の変化について調べた。As a result of this test, in the sample liquid crystal display panel, no particular abnormality was observed in terms of electrical characteristics, optical characteristics and the like. c. After the sunlight exposure test sample was left outdoors for 20,000 hours, changes in appearance and properties were examined.

【００６６】この試験の結果、本実施例のサンプルにお
いては、電気的特性、光学的特性などの点で特に異常は
認められなかった。 ｄ．視認性 上記サンプルの液晶パネルの背面にさらにバックライト
ユニットを配し、バックライト方式の液晶表示装置を製
造した。この液晶表示装置について外部からの影像入力
をＭＩＭ素子を用いて駆動したところ、表面反射の少な
い、視認性に優れた表示を行うことができた。As a result of this test, in the sample of this example, no particular abnormality was recognized in terms of electrical characteristics, optical characteristics, and the like. d. Visibility A backlight unit was further arranged on the back surface of the liquid crystal panel of the above sample to manufacture a backlight type liquid crystal display device. When an image input from the outside of this liquid crystal display device was driven using an MIM element, a display with little surface reflection and excellent visibility could be displayed.

【００６７】（実施例２）図２は、本実施例に係る偏光
板の構成を模式的に示す断面図である。Example 2 FIG. 2 is a sectional view schematically showing the structure of the polarizing plate according to this example.

【００６８】この偏光板２００は、偏光基板１０上に接
着層５２を介して樹脂フィルム５０、アンダーコート層
２０、反射防止層３０および汚染防止層４０が順次積層
された構造となっている。本実施例が、前記実施例１と
異なるのは、アンダーコート層２０、反射防止層３０お
よび汚染防止層４０があらかじめ樹脂フィルム５０上に
形成され、この積層体が偏光基板１０に接着された点に
ある。The polarizing plate 200 has a structure in which a resin film 50, an undercoat layer 20, an antireflection layer 30, and a pollution prevention layer 40 are sequentially laminated on a polarizing substrate 10 with an adhesive layer 52 interposed therebetween. This example is different from Example 1 in that the undercoat layer 20, the antireflection layer 30, and the pollution prevention layer 40 are formed in advance on the resin film 50, and this laminate is adhered to the polarizing substrate 10. It is in.

【００６９】なお、偏光基板１０の構成は、前記実施例
１の偏光基板と同様の構成を有するため、その詳細な説
明を省略する。Since the structure of the polarization substrate 10 is the same as that of the polarization substrate of the first embodiment, detailed description thereof will be omitted.

【００７０】前記樹脂フィルム５０は、厚さ０．０３〜
１ｍｍ（後述する試験のサンプルでは０．２ｍｍ）のア
クリル樹脂から構成されている。アクリル樹脂として
は、ポリメチルメタクリレート、およびその他のアクリ
ル酸エステル共重合体などの変成品が好適に用いられ
る。The resin film 50 has a thickness of 0.03 to
It is made of 1 mm (0.2 mm in the test sample described later) acrylic resin. As the acrylic resin, modified products such as polymethylmethacrylate and other acrylic acid ester copolymers are preferably used.

【００７１】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは５μｍ）のシ
ロキサン系樹脂にシリカが分散され、防眩性が付与され
ている。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５μｍ
（サンプルでは４μｍ）である。The undercoat layer 20 has a thickness of 0.5.
Silica is dispersed in a siloxane-based resin having a particle size of up to 20 μm (5 μm in the test sample described later) to impart antiglare properties. The silica has an average particle size of 0.1 to 5 μm.
(4 μm in the sample).

【００７２】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で５Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は４８、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は９８０ｎｍ、および曇度は１５％であった。As an example of the film characteristics of the undercoat layer 20 of this embodiment, the surface hardness is 5H in pencil hardness,
Glossiness (Ga60 degree) is 48, center line average roughness (Ra)
Was 980 nm, and the haze was 15%.

【００７３】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、３層構造を成
している。この膜構成は、アンダーコート層２０側か
ら、ＳｉＯ₂ 層がλ／４、ＴｉＯ₂ 層がλ／２、最上層
であるＳｉＯ₂ 層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）で
ある。The antireflection layer 30 has a film thickness of 0.05 to 1
μm (0.3 μm in the sample), forming a three-layer structure. In this film structure, the SiO ₂ layer is λ / 4, the TiO ₂ layer is λ / 2, and the uppermost SiO ₂ layer is λ / 4 (where λ = 520 nm) from the undercoat layer 20 side.

【００７４】前記汚染防止層４０は、ビス（１Ｈ，１Ｈ
−パーフルオロブチル）ジアミノシランからなる厚さ２
０〜８００オングストローム（サンプルにおいては３０
０オングストローム）の層から構成されている。この汚
染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であり、優
れた撥水性を示した。また、前記汚染防止層４０は屈折
率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄ
（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さい
ことが確認された。The contamination prevention layer 40 is made of bis (1H, 1H
-Perfluorobutyl) diaminosilane thickness 2
0-800 angstrom (30 in the sample
0 angstrom). The antifouling layer 40 had a contact angle of water of 100 degrees or more and exhibited excellent water repellency. In addition, the anti-contamination layer 40 has a refractive index n of 1.25 to 1.45.
It was confirmed that (d: thickness of contamination prevention layer 40) was smaller than 0.1 μm.

【００７５】次に、本実施例の偏光板２００の製造方法
について述べる。Next, a method for manufacturing the polarizing plate 200 of this embodiment will be described.

【００７６】まず、前記樹脂フィルム５０の表面に、シ
リカ粒子が分散されたシロキサン樹脂塗布液（γ−グリ
シドキシプロピルメチルジエトキシシランを２−エトキ
シエタノールで希釈し、塩酸で加水分解した後、シリカ
粒子とシリコーン系界面活性剤と過塩素酸マグネシウム
を添加したもの）をディップ法によって塗布し、その後
７０℃に加熱してシロキサン樹脂を熱硬化させ、アンダ
ーコート層２０を形成した。First, a siloxane resin coating solution in which silica particles are dispersed on the surface of the resin film 50 (γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane is diluted with 2-ethoxyethanol and hydrolyzed with hydrochloric acid, Silica particles, a silicone-based surfactant and magnesium perchlorate were added) by a dip method and then heated to 70 ° C. to thermally cure the siloxane resin to form an undercoat layer 20.

【００７７】ついで、この樹脂フィルムを真空槽内にセ
ットし、真空蒸着法により、基板温度５０℃で、ＳｉＯ
₂ 層をλ／４、ＴｉＯ₂ 層をλ／２、ＳｉＯ₂ 層をλ／
４（λ＝５２０ｎｍ）の膜厚で順次形成し、反射防止層
３０を形成した。得られた偏光板をメタノールで洗浄
し、十分に乾燥させた。Then, this resin film was set in a vacuum chamber and SiO 2 was deposited at a substrate temperature of 50 ° C. by a vacuum deposition method.
₂ layers λ / 4, TiO ₂ layer λ / 2, SiO ₂ layer λ /
Then, the antireflection layer 30 was formed with a film thickness of 4 (λ = 520 nm). The obtained polarizing plate was washed with methanol and dried sufficiently.

【００７８】ついで、前記真空槽内の真空を保持したま
ま、アルゴンとビス（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロブチ
ル）ジアミノシランを９：１の割合で混合した気体を真
空度が１〜０．０００１Ｔｏｒｒ（サンプルでは０．０
１Ｔｏｒｒ）になるように真空槽内に導入し、例えば１
３．５６ＭＨｚの高周波磁場で雰囲気をプラズマ化し、
前記含フッ素シラン化合物を反射防止層３０上に堆積さ
せ、汚染防止層４０を形成した。Then, while maintaining the vacuum in the vacuum chamber, a gas obtained by mixing argon and bis (1H, 1H-perfluorobutyl) diaminosilane at a ratio of 9: 1 has a vacuum degree of 1 to 0.0001 Torr ( 0.0 in the sample
1 Torr) and introduced into the vacuum chamber, for example 1
The atmosphere is turned into plasma with a high-frequency magnetic field of 3.56 MHz,
The fluorine-containing silane compound was deposited on the antireflection layer 30 to form the pollution prevention layer 40.

【００７９】汚染防止層の形成によって偏光板の外観な
らびに反射防止特性において特に変化は見られなかっ
た。No particular change was observed in the appearance and antireflection properties of the polarizing plate due to the formation of the antifouling layer.

【００８０】以上のようにして得られた樹脂フィルムの
積層体を、アクリル系接着剤を介して偏光基板１０に貼
り付けることにより本実施例の偏光板が形成される。前
記アクリル系接着剤以外にも、エポキシ系接着剤、ウレ
タン系接着剤等も用いることができる。The resin film laminate obtained as described above is attached to the polarizing substrate 10 through an acrylic adhesive to form the polarizing plate of this embodiment. Besides the acrylic adhesive, an epoxy adhesive, a urethane adhesive or the like can be used.

【００８１】この偏光板２００について、前記実施例１
と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性と
して、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性および
ｄ．汚染防止性の各特性において、実施例１と同様に良
好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板２００を
ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子を用いたアクティブマ
トリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液晶表示パ
ネルを作成した。この液晶表示パネルについて、実施例
１と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．
日光暴露試験およびｄ．視認性の各特性試験を行ったと
ころ、視認性においてギラツキ感があったものの、他の
特性は実施例１と同様に良好な結果が得られた。This polarizing plate 200 will be described in Example 1 above.
A characteristic test was conducted in the same manner as in. As a result, as the characteristics of the polarizing plate, a. Adhesion, b. Scratch resistance, c. Chemical resistance and d. With respect to each property of anti-staining property, good results were obtained as in Example 1. Further, the polarizing plate 200 of this example was attached to the front surface of a liquid crystal panel driven by an active matrix using a TFT (thin film transistor) element to prepare a liquid crystal display panel. Regarding this liquid crystal display panel, a. High temperature and high humidity test, b. Thermal shock test, c.
Sun exposure test and d. When each characteristic test of visibility was conducted, a good feeling was obtained in the same manner as in Example 1 although there was a glare in the visibility.

【００８２】（実施例３）本実施例の偏光板は、その基
本的構造が前記実施例１と同様であるため、図１を参照
しながら説明する。(Example 3) The polarizing plate of this example has the same basic structure as that of Example 1 described above, and will be described with reference to FIG.

【００８３】この偏光板３００は、偏光基板１０上にア
ンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層
４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１０
は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるので、
その詳細な説明を省略する。This polarizing plate 300 has a structure in which an undercoat layer 20, an antireflection layer 30, and a pollution prevention layer 40 are sequentially laminated on a polarizing substrate 10. Polarizing substrate 10
Is substantially the same as the polarizing substrate of Example 1,
Detailed description thereof will be omitted.

【００８４】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルにおいては７μ
ｍ）のアクリル系樹脂にシリカが分散され、防眩性が付
与されている。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５
μｍ（サンプルでは４μｍ）である。The undercoat layer 20 has a thickness of 0.5.
~ 20 μm (7 μm in the test sample described later)
Silica is dispersed in the acrylic resin of m) to impart antiglare properties. The silica has an average particle size of 0.1 to 5
μm (4 μm in the sample).

【００８５】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は７６、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は２３０ｎｍ、および曇度は４％であった。As an example of the film characteristics of the undercoat layer 20 of this embodiment, the surface hardness is 3H in pencil hardness,
Glossiness (Ga 60 degree) is 76, center line average roughness (Ra)
Was 230 nm, and the haze was 4%.

【００８６】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．１μｍ）であり、単層構造を成
している。この膜構成は、ＭｇＦ₂ 層がλ／４（ここで
λ＝５２０ｎｍ）である。The antireflection layer 30 has a film thickness of 0.05 to 1
μm (0.1 μm in the sample), forming a single layer structure. In this film structure, the MgF ₂ layer has λ / 4 (where λ = 520 nm).

【００８７】前記汚染防止層４０は、２−（パーフルオ
ロオクチル）−エチルトリアミノシランからなる厚さ２
０〜８００オングストローム（サンプルにおいては１０
０オングストローム以下）の層から構成されている。こ
の汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であ
り、優れた撥水性を示した。また、前記汚染防止層４０
は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎ
ｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さ
いことが確認された。The antifouling layer 40 is made of 2- (perfluorooctyl) -ethyltriaminosilane and has a thickness of 2
0-800 angstrom (10 in the sample
0 angstrom or less). The antifouling layer 40 had a contact angle of water of 100 degrees or more and exhibited excellent water repellency. In addition, the pollution prevention layer 40
Has a refractive index n of 1.25 to 1.45, and therefore n
It was confirmed that d (d: thickness of the pollution prevention layer 40) was smaller than 0.1 μm.

【００８８】次に、本実施例の偏光板３００の製造方法
について述べる。Next, a method of manufacturing the polarizing plate 300 of this embodiment will be described.

【００８９】まず、偏光基板１０の表面に、実施例１と
同様のシリカ粒子が分散されたアクリル樹脂塗布液をバ
ーコート法によって塗布し、その後紫外線を照射してア
クリル樹脂を硬化させ、アンダーコート層２０を形成し
た。First, an acrylic resin coating liquid in which the silica particles are dispersed is applied to the surface of the polarizing substrate 10 by a bar coating method, and then the acrylic resin is cured by irradiating ultraviolet rays to undercoat. Layer 20 was formed.

【００９０】ついで、この偏光基板を真空槽内にセット
し、真空蒸着法により、基板温度５０℃で、ＭｇＦ₂ 層
をλ／４（λ＝５２０ｎｍ）の膜厚で形成し、反射防止
層３０を形成した。得られた偏光板をアルカリ洗浄後純
水ですすぎ、十分に乾燥させた。Then, the polarizing substrate was set in a vacuum chamber, and a MgF ₂ layer was formed with a film thickness of λ / 4 (λ = 520 nm) by a vacuum evaporation method at a substrate temperature of 50 ° C., and an antireflection layer 30 was formed. Was formed. The obtained polarizing plate was washed with alkali, rinsed with pure water, and dried sufficiently.

【００９１】ついで、「フロリナートＦＣ−４０」に含
フッ素シラン化合物として２−（パーフルオロオクチ
ル）−エチルトリアミノシランを１重量％溶解させた溶
液に上述した偏光板を２０℃において５分間浸漬させ
た。ついで、１０ｃｍ／秒の速度で偏光板を引き上げた
後、相対湿度５０％、温度５０℃の雰囲気で１０分間放
置した。その後、「フロリナートＦＣ−４０」によって
偏光板の洗浄を行い未反応の含フッ素シラン化合物を除
去し、汚染防止層４０を形成した。この汚染防止層４０
の形成によって偏光板の外観ならびに反射防止特性にお
いて、特に変化は見られなかった。Then, the above-mentioned polarizing plate was immersed in a solution prepared by dissolving 1% by weight of 2- (perfluorooctyl) -ethyltriaminosilane as a fluorine-containing silane compound in "Fluorinert FC-40" at 20 ° C. for 5 minutes. . Then, after pulling up the polarizing plate at a speed of 10 cm / sec, it was left for 10 minutes in an atmosphere of relative humidity 50% and temperature 50 ° C. After that, the polarizing plate was washed with "Fluorinert FC-40" to remove the unreacted fluorine-containing silane compound and form the pollution prevention layer 40. This pollution prevention layer 40
No particular change was observed in the appearance and the antireflection property of the polarizing plate due to the formation of.

【００９２】この偏光板３００について、前記実施例１
と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性と
して、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性および
ｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良好
な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板を単純マト
リクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液晶表示パネ
ルを作成した。この液晶表示パネルについて、実施例１
と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日
光暴露試験およびｄ．視認性の特性試験を行ったとこ
ろ、視認性においては、若干の写り込みとギラツキ感が
あったものの、他の特性は実施例１と同様に良好な結果
が得られた。なお、視認性の試験においては、前記液晶
表示パネルの背面に反射板を配設したサンプルを用い
た。Regarding this polarizing plate 300, the above-mentioned Example 1 was used.
A characteristic test was conducted in the same manner as in. As a result, as the characteristics of the polarizing plate, a. Adhesion, b. Scratch resistance, c. Chemical resistance and d. Good results were obtained in the same manner as in Example 1 in each property of anti-staining property. Further, the polarizing plate of this example was attached to the front surface of a liquid crystal panel driven by a simple matrix to prepare a liquid crystal display panel. Example 1 of this liquid crystal display panel
Similar to a. High temperature and high humidity test, b. Thermal shock test, c. Sun exposure test and d. As a result of a visibility characteristic test, in regard to the visibility, although there was some reflection and glare, other characteristics were as good as those of Example 1. In addition, in the visibility test, a sample in which a reflection plate was provided on the back surface of the liquid crystal display panel was used.

【００９３】（実施例４）本実施例に係る偏光板は、前
記実施例１の偏光板１００と基本的な構造が同一なた
め、図１を参照しながら説明する。(Example 4) The polarizing plate according to this example has the same basic structure as the polarizing plate 100 of Example 1, and therefore will be described with reference to FIG.

【００９４】この偏光板４００は、偏光基板１０上にア
ンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層
４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１０
は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるので、
その詳細な説明を省略する。This polarizing plate 400 has a structure in which an undercoat layer 20, an antireflection layer 30, and a pollution prevention layer 40 are sequentially laminated on a polarizing substrate 10. Polarizing substrate 10
Is substantially the same as the polarizing substrate of Example 1,
Detailed description thereof will be omitted.

【００９５】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは１５μｍ）の
アクリル系樹脂から構成されている。The undercoat layer 20 has a thickness of 0.5.
.About.20 .mu.m (15 .mu.m in the sample for the test described later) of acrylic resin.

【００９６】このアンダーコート層２０は、前記実施例
１と異なり、防眩性を高めるためのシリカが分散されて
いない。その代わり、後に詳述するように、その表面に
は転写法により微細な凹凸が形成されて、防眩性が付与
されている。Unlike the first embodiment, the undercoat layer 20 does not contain silica for enhancing the antiglare property. Instead, as will be described later in detail, fine irregularities are formed on the surface by a transfer method to impart antiglare properties.

【００９７】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は９０、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は１００ｎｍ、および曇度は３％であった。As an example of the film characteristics of the undercoat layer 20 of this embodiment, the surface hardness is 3H in pencil hardness,
Glossiness (Ga60 degree) is 90, center line average roughness (Ra)
Was 100 nm, and the haze was 3%.

【００９８】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、５層構造を成
している。この膜構成は、アンダーコート層２０側か
ら、ＳｉＯ₂ 層がλ／４、ＺｒＯ₂ 層とＳｉＯ₂ 層の積
層がλ／４、ＺｒＯ₂ 層がλ／４、最上層であるＳｉＯ
₂ 層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）である。The antireflection layer 30 has a film thickness of 0.05 to 1
μm (0.3 μm in the sample), forming a five-layer structure. In this film structure, the SiO ₂ layer is λ / 4, the stack of the ZrO ₂ layer and the SiO ₂ layer is λ / 4, the ZrO ₂ layer is λ / 4, and the uppermost layer is SiO from the undercoat layer 20 side.
_{The two} layers are λ / 4 (where λ = 520 nm).

【００９９】前記汚染防止層４０は、１Ｈ，１Ｈ，２
Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトキシシランか
らなる厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルに
おいては１００オングストローム以下）の層から構成さ
れている。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００
度以上であり、優れた撥水性を示した。また、前記汚染
防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、し
たがってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μ
ｍより小さいことが確認された。The pollution prevention layer 40 is formed of 1H, 1H, 2
It is composed of a layer of H, 2H-perfluorooctyltriethoxysilane having a thickness of 20 to 800 Å (100 Å or less in the sample). This pollution prevention layer 40 has a water contact angle of 100.
It was more than the degree and showed excellent water repellency. The contamination prevention layer 40 has a refractive index n of 1.25 to 1.45, and therefore nd (d: thickness of the contamination prevention layer 40) is 0.1 μm.
It was confirmed that it was smaller than m.

【０１００】次に、本実施例の偏光板４００の製造方法
について述べる。Next, a method of manufacturing the polarizing plate 400 of this embodiment will be described.

【０１０１】まず、偏光基板１０の表面に、実施例１と
同様のアクリル樹脂塗布液（シリカを含まない）をロー
ルコート法によって塗布し、乾燥後その表面に微細な凹
凸を有するロールを押し付けながら回転させることによ
り、塗膜の表面に微細な凹凸を転写した。その後、紫外
線を照射してアクリル樹脂を硬化させ、アンダーコート
層２０を形成した。First, the same acrylic resin coating solution (without silica) as in Example 1 was applied to the surface of the polarizing substrate 10 by a roll coating method, and after drying, a roll having fine irregularities was pressed against the surface. By rotating, fine irregularities were transferred to the surface of the coating film. Then, the undercoat layer 20 was formed by irradiating ultraviolet rays to cure the acrylic resin.

【０１０２】ついで、この偏光基板を真空槽内にセット
し、例えば電子ビーム加熱による真空蒸着法により、真
空槽の基板温度５０℃で、ＳｉＯ₂ 層をλ／４、ＺｒＯ
₂ 層とＳｉＯ₂ 層との積層をλ／４、ＺｒＯ₂ 層をλ／
４、ＳｉＯ₂ 層をλ／４（λ＝５２０ｎｍ）の膜厚で順
次形成し、反射防止層３０を形成した。得られた偏光板
をメタノールで洗浄し、十分に乾燥させた。Then, this polarizing substrate was set in a vacuum chamber, and the SiO ₂ layer was λ / 4, ZrO ₂ at a substrate temperature of 50 ° C. in the vacuum chamber by, for example, a vacuum evaporation method by electron beam heating.
Lamination of _two layers and SiO ₂ layer is λ / 4, ZrO ₂ layer is λ /
4, an SiO ₂ layer having a film thickness of λ / 4 (λ = 520 nm) was sequentially formed to form an antireflection layer 30. The obtained polarizing plate was washed with methanol and dried sufficiently.

【０１０３】ついで、上記の工程で得られた偏光板を１
〜０．００１Ｔｏｒｒの酸素分圧下、外部入力５０〜５
００ＷでＲＦ放電させ、発生したプラズマに曝した後ス
ピンナーにセットした。そして、フッ素系溶剤「フロリ
ナートＦＣ−７０」（住友スリーエム社製）に含フッ素
シラン化合物として１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフル
オロオクチルトリエトキシシランを３重量％溶解させた
溶液を上述した偏光板に滴下してスピンナーを約３，０
００ｒｐｍの回転速度で回転させ、溶液を塗布した。そ
の後、偏光板を相対湿度５０％、温度５０℃の雰囲気で
１０分間放置し、さらに、「フロリナ−トＦＣ−７０」
によって偏光板の洗浄を行い未反応の含フッ素シラン化
合物を除去し、汚染防止層４０を形成した。この汚染防
止層４０の形成によって、偏光板の外観ならびに反射防
止特性において、特に変化は見られなかった。Then, the polarizing plate obtained in the above step was
External input 50 to 5 under oxygen partial pressure of ~ 0.001 Torr
RF discharge was performed at 00 W, the plasma was exposed to the generated plasma, and then the spinner was set. Then, a solution prepared by dissolving 3% by weight of 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctyltriethoxysilane as a fluorine-containing silane compound in a fluorine-based solvent "Fluorinert FC-70" (manufactured by Sumitomo 3M Ltd.) is used as the above-mentioned polarizing plate. Drop it onto the spinner for approx.
The solution was applied by rotating at a rotation speed of 00 rpm. Then, the polarizing plate was left for 10 minutes in an atmosphere having a relative humidity of 50% and a temperature of 50 ° C., and further, “Fluorinate FC-70”.
The polarizing plate was washed with to remove the unreacted fluorine-containing silane compound, and the pollution prevention layer 40 was formed. No particular change was observed in the appearance and the antireflection property of the polarizing plate due to the formation of the pollution prevention layer 40.

【０１０４】この偏光板４００について、前記実施例１
と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性と
して、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性および
ｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良好
な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板４００をＭ
ＩＭ素子を用いたアクティブマトリクス駆動の液晶パネ
ル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。この液
晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高温高
湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．
視認性の特性試験を行ったところ、視認性において写り
込みがあったものの、他の特性は実施例１と同様に良好
な結果が得られた。This polarizing plate 400 will be described in Example 1 above.
A characteristic test was conducted in the same manner as in. As a result, as the characteristics of the polarizing plate, a. Adhesion, b. Scratch resistance, c. Chemical resistance and d. Good results were obtained in the same manner as in Example 1 in each property of anti-staining property. Furthermore, the polarizing plate 400 of this embodiment is
A liquid crystal display panel was prepared by pasting it on the front surface of an active matrix driven liquid crystal panel using an IM element. Regarding this liquid crystal display panel, a. High temperature and high humidity test, b. Thermal shock test, c. Sun exposure test and d.
As a result of a visibility characteristic test, good visibility was obtained for other characteristics as in Example 1, although the visibility was reflected.

【０１０５】（実施例５）本実施例および後述する実施
例６〜８においては、汚染防止層４０を蒸着法により形
成し、その際に含フッ素シラン化合物をセラミック製タ
ブレットに含浸させた点に特徴を有する。(Example 5) In this example and Examples 6 to 8 which will be described later, the contamination preventing layer 40 was formed by a vapor deposition method, and a fluorine-containing silane compound was impregnated in the ceramic tablet at that time. It has characteristics.

【０１０６】本実施例の偏光板は、その基本的構造が前
記実施例１と同様であるため、図１を参照しながら説明
する。The basic structure of the polarizing plate of this embodiment is the same as that of the first embodiment, and therefore it will be described with reference to FIG.

【０１０７】偏光板５００は、偏光基板１０上にアンダ
ーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層４０
が順次積層された構造となっている。偏光基板１０は前
記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるので、その
詳細な説明を省略する。The polarizing plate 500 includes an undercoat layer 20, an antireflection layer 30, and a pollution prevention layer 40 on the polarizing substrate 10.
Has a structure that is sequentially laminated. Since the polarization substrate 10 is substantially the same as the polarization substrate of the first embodiment, detailed description thereof will be omitted.

【０１０８】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルにおいては３μ
ｍ）のアクリル系樹脂にシリカが分散され、防眩性が付
与されている。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５
μｍ（サンプルでは１μｍ）である。The undercoat layer 20 has a thickness of 0.5.
~ 20 μm (3 μm in the test sample described later)
Silica is dispersed in the acrylic resin of m) to impart antiglare properties. The silica has an average particle size of 0.1 to 5
μm (1 μm in the sample).

【０１０９】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は３５、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は１８０ｎｍ、および曇度は１３％であった。To give an example of the film characteristics of the undercoat layer 20 of this example, the surface hardness is 3H in pencil hardness,
Glossiness (Ga60 degree) is 35, center line average roughness (Ra)
Of 180 nm and haze of 13%.

【０１１０】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、５層構造を成
している。この膜構成は、アンダーコート層２０側か
ら、ＳｉＯ₂ 層がλ／４、ＺｒＯ₂ 層とＳｉＯ₂ 層の積
層がλ／４、ＺｒＯ₂ 層がλ／４、最上層であるＳｉＯ
₂ 層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）である。The antireflection layer 30 has a film thickness of 0.05 to 1
μm (0.3 μm in the sample), forming a five-layer structure. In this film structure, the SiO ₂ layer is λ / 4, the stack of the ZrO ₂ layer and the SiO ₂ layer is λ / 4, the ZrO ₂ layer is λ / 4, and the uppermost layer is SiO from the undercoat layer 20 side.
_{The two} layers are λ / 4 (where λ = 520 nm).

【０１１１】前記汚染防止層４０は、パーフルオロヘキ
サデシルトリアミノシランからなる厚さ２０〜８００オ
ングストローム（サンプルにおいては２００オングスト
ローム）の層から構成されている。この汚染防止層４０
は、水の接触角が１００度以上であり、優れた撥水性を
示した。また、前記汚染防止層４０は屈折率ｎが１．２
５〜１．４５であり、したがってｎｄ（ｄ：汚染防止層
４０の厚さ）が０．１μｍより小さいことが確認され
た。The anti-contamination layer 40 is composed of a layer of perfluorohexadecyltriaminosilane having a thickness of 20 to 800 angstroms (200 angstroms in the sample). This pollution prevention layer 40
Had a water contact angle of 100 degrees or more and exhibited excellent water repellency. Further, the contamination prevention layer 40 has a refractive index n of 1.2.
It was confirmed that nd (d: the thickness of the pollution prevention layer 40) was smaller than 0.1 μm.

【０１１２】次に、本実施例の偏光板５００の製造方法
について述べる。Next, a method of manufacturing the polarizing plate 500 of this embodiment will be described.

【０１１３】まず、偏光基板１０の表面に、実施例１で
用いたと同様のシリカ粒子が分散されたアクリル樹脂塗
布液をロールコート法によって塗布し、その後紫外線を
照射してアクリル樹脂を硬化させ、アンダーコート層２
０を形成した。First, the same acrylic resin coating liquid as that used in Example 1 in which silica particles were dispersed was applied to the surface of the polarizing substrate 10 by a roll coating method, and then ultraviolet rays were irradiated to cure the acrylic resin, Undercoat layer 2
Formed 0.

【０１１４】ついで、この偏光基板を真空槽内にセット
し、電子ビーム加熱による真空蒸着法により、基板温度
５０℃で、前記反射防止層３０および汚染防止層４０を
形成した。Then, this polarizing substrate was set in a vacuum chamber, and the antireflection layer 30 and the pollution preventing layer 40 were formed at a substrate temperature of 50 ° C. by a vacuum evaporation method using electron beam heating.

【０１１５】以下に、蒸着装置および蒸着方法について
具体的に述べる。The vapor deposition apparatus and vapor deposition method will be specifically described below.

【０１１６】図３は、本実施例に用いた蒸着装置の一例
を模式的に示した断面図である。FIG. 3 is a sectional view schematically showing an example of the vapor deposition apparatus used in this example.

【０１１７】この蒸着装置は、排気口１を有する真空槽
２内の一端側に、円盤状のタブレット設置台４が設けら
れている。このタブレット設置台４は、軸４ａを介して
図示しない回転手段に接続されており、所定の回転速度
で間欠的に回転駆動される。このタブレット設置台４上
には蒸着すべき材料（蒸着源）からなるタブレットある
いは蒸着源を含むタブレットが該設置台４の周に沿って
配置されている。In this vapor deposition apparatus, a disk-shaped tablet mounting table 4 is provided at one end of a vacuum chamber 2 having an exhaust port 1. The tablet mounting table 4 is connected to a rotating means (not shown) via a shaft 4a, and is rotationally driven intermittently at a predetermined rotation speed. A tablet made of a material to be vapor-deposited (vapor deposition source) or a tablet including the vapor deposition source is arranged on the tablet mounting table 4 along the circumference of the table 4.

【０１１８】本実施例においては、反射防止層３０を構
成するための二酸化ケイ素のタブレット６、酸化ジルコ
ニウムのタブレット７、および汚染防止層４０を形成す
るための含フッ素シラン化合物を含むタブレット８が載
置されている。In this embodiment, a silicon dioxide tablet 6 for forming the antireflection layer 30, a zirconium oxide tablet 7 and a tablet 8 containing a fluorine-containing silane compound for forming the pollution control layer 40 are mounted. It is placed.

【０１１９】汚染防止層４０を形成するためのタブレッ
ト８は、例えば次のようにして形成される。すなわち、
ＳｉＯ₂ ７０重量％およびＡｌ₂ Ｏ₃ ３０重量％を混合
し、これを焼結して多孔質のタブレットを形成する。こ
のタブレットを密閉容器に入れてロータリーポンプによ
って１０^-3Ｔｏｒｒの状態まで排気する。なお、このと
き、タブレットは１００℃に加熱されている。次いで、
タブレットを冷却した後、前記密閉容器にパーフルオロ
ヘキサデシルトリアミノシランを導入して密閉容器を大
気圧に戻し、タブレットにこの含フッ素シラン化合物を
含浸させる。The tablet 8 for forming the pollution prevention layer 40 is formed as follows, for example. That is,
70% by weight of SiO ₂ and 30% by weight of Al ₂ O ₃ are mixed and this is sintered to form porous tablets. The tablet is put in a closed container and evacuated to a state of 10 ⁻³ Torr by a rotary pump. At this time, the tablet is heated to 100 ° C. Then
After cooling the tablet, perfluorohexadecyltriaminosilane is introduced into the closed container to return the closed container to atmospheric pressure, and the tablet is impregnated with the fluorine-containing silane compound.

【０１２０】タブレット設置台４の上方には、少なくと
も前記タブレット６〜８の前方を覆う状態で、遮蔽部材
５が設置されている。そして、この遮蔽部材５の一部に
は開閉制御されるシャッタ部５ａが設けられている。こ
のシャッタ部５ａの開放時間を制御することによって堆
積層の膜厚を規定することができる。また、前記タブレ
ット設置台４の近傍には、単一のタブレット（ソース）
に電子ビームを照射するための電子ビーム銃３が設置さ
れている。A shielding member 5 is installed above the tablet installation table 4 so as to cover at least the front of the tablets 6 to 8. A shutter portion 5a whose opening / closing is controlled is provided in a part of the shielding member 5. The film thickness of the deposited layer can be regulated by controlling the opening time of the shutter portion 5a. In addition, a single tablet (source) is provided near the tablet installation table 4.
An electron beam gun 3 for irradiating an electron beam is installed on the.

【０１２１】一方、真空槽２内の他方側には、アンダー
コート層２０が積層された偏光基板１０が配置される。
このとき、アンダーコート層２０が蒸着源であるタブレ
ット側に向くように配置される。On the other hand, on the other side in the vacuum chamber 2, the polarizing substrate 10 on which the undercoat layer 20 is laminated is arranged.
At this time, the undercoat layer 20 is arranged so as to face the tablet side which is the vapor deposition source.

【０１２２】この蒸着装置においては、まず、図示しな
い排気手段を用いて排気口１より真空槽２内の空気を吸
引して、圧力１０^-5Ｔｏｒｒ以下まで排気した状態で、
前記タブレット６および７に交互に電子ビームを照射
し、反射防止層３０を形成する。この反射防止層３０の
膜構成は、アンダーコート層２０側からＳｉＯ₂ 層がλ
／４で、ＺｒＯ₂ 層とＳｉＯ₂ 層の積層がλ／４、Ｚｒ
Ｏ₂ 層がλ／４、最上層のＳｉＯ₂ 層がλ／４の膜厚で
堆積される。In this vapor deposition apparatus, first, the air in the vacuum chamber 2 is sucked through the exhaust port 1 using an exhaust means (not shown), and is exhausted to a pressure of 10 ⁻⁵ Torr or less,
The tablets 6 and 7 are alternately irradiated with an electron beam to form an antireflection layer 30. The film structure of the antireflection layer 30 is such that the SiO ₂ layer is λ from the undercoat layer 20 side.
/ 4, the lamination of ZrO ₂ layer and SiO ₂ layer is λ / 4, Zr
The O ₂ layer is deposited with a thickness of λ / 4, and the uppermost SiO ₂ layer is deposited with a thickness of λ / 4.

【０１２３】次いで、真空状態を保持したまま、タブレ
ット８に電子ビームを照射してタブレットを構成するセ
ラミックスが蒸発しない程度に加熱し、含フッ素シラン
化合物だけを所定時間（２０秒間程度）蒸発させ、汚染
防止層４０を形成した。Next, while the vacuum state is maintained, the tablet 8 is irradiated with an electron beam to heat it so that the ceramics forming the tablet does not evaporate, and only the fluorine-containing silane compound evaporates for a predetermined time (about 20 seconds), The pollution prevention layer 40 was formed.

【０１２４】このようにして形成された偏光板５００
は、反射防止層３０および汚染防止層４０を形成するこ
とによって、偏光板の外観，反射防止特性に特に変化は
見られなかった。The polarizing plate 500 formed in this way
In the case of the above, by forming the antireflection layer 30 and the antifouling layer 40, no particular change was observed in the appearance and antireflection characteristics of the polarizing plate.

【０１２５】この製造方法によれば、反射防止層３０お
よび汚染防止層４０を同一真空槽内で連続的に形成する
ことができる。According to this manufacturing method, the antireflection layer 30 and the pollution prevention layer 40 can be continuously formed in the same vacuum chamber.

【０１２６】この偏光板５００について、前記実施例１
と同様に特性試験を行なった。その結果、偏光板の特性
として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およ
びｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良
好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板をＭＩＭ
素子を用いたアクティブマトリクス駆動の液晶パネル前
面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。この液晶表
示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高温高湿試
験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．視認
性の特性試験を行ったところ、実施例１と同様に良好な
結果が得られた。This polarizing plate 500 will be described in Example 1 above.
A characteristic test was conducted in the same manner as in. As a result, as the characteristics of the polarizing plate, a. Adhesion, b. Scratch resistance, c. Chemical resistance and d. Good results were obtained in the same manner as in Example 1 in each property of anti-staining property. Further, the polarizing plate of this embodiment is MIM
A liquid crystal display panel was prepared by pasting it on the front surface of an active matrix driven liquid crystal panel using the device. Regarding this liquid crystal display panel, a. High temperature and high humidity test, b. Thermal shock test, c. Sun exposure test and d. As a result of a visibility characteristic test, good results were obtained as in Example 1.

【０１２７】（実施例６）本実施例の偏光板は、その基
本的な構造が前記実施例２と同様であるため、図２を参
照しながら説明する。(Embodiment 6) The polarizing plate of this embodiment has the same basic structure as that of Embodiment 2 and will be described with reference to FIG.

【０１２８】この偏光板６００は、偏光基板１０上に接
着層５２を介して樹脂フィルム５０、アンダーコート層
２０、反射防止層３０および汚染防止層４０が順次積層
された構造となっている。なお、偏光基板１０の構成
は、前記実施例１の偏光基板と同様の構成を有するた
め、その詳細な説明を省略する。This polarizing plate 600 has a structure in which a resin film 50, an undercoat layer 20, an antireflection layer 30, and a pollution prevention layer 40 are sequentially laminated on a polarizing substrate 10 with an adhesive layer 52 interposed therebetween. Since the structure of the polarization substrate 10 is the same as that of the polarization substrate of the first embodiment, detailed description thereof will be omitted.

【０１２９】前記樹脂フィルム５０は、厚さ０．０３〜
１ｍｍ（後述する試験のサンプルでは０．２ｍｍ）のア
クリル樹脂から構成されている。The resin film 50 has a thickness of 0.03 to
It is made of 1 mm (0.2 mm in the test sample described later) acrylic resin.

【０１３０】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは５μｍ）のア
クリル系樹脂層からなる。このアンダーコート層２０
は、防眩性を高めるためのシリカが分散されていない。
その代わり、後述するエアスプレー法によって防眩性が
付与される。The undercoat layer 20 has a thickness of 0.5.
˜20 μm (5 μm in the test sample described later) of an acrylic resin layer. This undercoat layer 20
Does not contain silica for enhancing the antiglare property.
Instead, the anti-glare property is imparted by the air spray method described later.

【０１３１】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で５Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は４８、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は１００ｎｍ、および曇度は１０％であった。As an example of the film characteristics of the undercoat layer 20 of this example, the surface hardness is 5H in pencil hardness,
Glossiness (Ga60 degree) is 48, center line average roughness (Ra)
Was 100 nm and the haze was 10%.

【０１３２】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、３層構造を成
している。この膜構成は、アンダーコート層２０側か
ら、ＳｉＯ₂ 層がλ／４、ＴｉＯ₂ 層がλ／２、最上層
であるＳｉＯ₂ 層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）で
ある。The antireflection layer 30 has a thickness of 0.05 to 1
μm (0.3 μm in the sample), forming a three-layer structure. In this film structure, the SiO ₂ layer is λ / 4, the TiO ₂ layer is λ / 2, and the uppermost SiO ₂ layer is λ / 4 (where λ = 520 nm) from the undercoat layer 20 side.

【０１３３】前記汚染防止層４０は、３，３，３−トリ
フルオロプロピルトリクロロシランからなる厚さ２０〜
８００オングストローム（サンプルにおいては１００オ
ングストローム以下）の層から構成されている。この汚
染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であり、優
れた撥水性を示した。また、前記汚染防止層４０は屈折
率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄ
（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さい
ことが確認された。The contamination prevention layer 40 is made of 3,3,3-trifluoropropyltrichlorosilane and has a thickness of 20 to 20.
It consists of 800 angstroms (100 angstroms or less in the sample). The antifouling layer 40 had a contact angle of water of 100 degrees or more and exhibited excellent water repellency. In addition, the anti-contamination layer 40 has a refractive index n of 1.25 to 1.45.
It was confirmed that (d: thickness of contamination prevention layer 40) was smaller than 0.1 μm.

【０１３４】次に、本実施例の偏光板６００の製造方法
について述べる。Next, a method of manufacturing the polarizing plate 600 of this embodiment will be described.

【０１３５】まず、前記樹脂フィルム５０の表面に、エ
アスプレー法を用いてアクリル樹脂塗布液を、液滴の平
均粒子径が５〜１００μｍになるように吐出量と空気使
用量を調整し、さらに樹脂フィルムの移動速度を適度に
調整しながら塗布し、アンダーコート層２０を形成し
た。First, an acrylic resin coating liquid is applied to the surface of the resin film 50 by an air spray method, and the discharge amount and the air use amount are adjusted so that the average particle diameter of the liquid droplets becomes 5 to 100 μm. An undercoat layer 20 was formed by applying the resin film while appropriately adjusting the moving speed.

【０１３６】ついで、この樹脂フィルムを真空槽内にセ
ットし、例えば電子ビーム加熱による真空蒸着法によ
り、基板温度５０℃で、ＳｉＯ₂ 層をλ／４、ＴｉＯ₂
層をλ／２、ＳｉＯ₂ 層をλ／４（λ＝５２０ｎｍ）の
膜厚で順次形成し、反射防止層３０を形成した。Then, this resin film was set in a vacuum chamber, and the SiO ₂ layer was formed into λ / 4 and TiO ₂ at a substrate temperature of 50 ° C. by, for example, a vacuum evaporation method by electron beam heating.
The antireflection layer 30 was formed by sequentially forming a layer having a thickness of λ / 2 and a SiO ₂ layer having a thickness of λ / 4 (λ = 520 nm).

【０１３７】次いで、この樹脂フィルムを真空槽内にセ
ットし、例えば抵抗加熱による真空蒸着法により汚染防
止層４０を形成した。真空蒸着装置にセットされるタブ
レットは、実施例５と同様にして調整され、例えば多孔
質アルミナのタブレットに３，３，３−トリフルオロプ
ロピルトリクロロシランが含有されたものである。Next, this resin film was set in a vacuum chamber, and the pollution prevention layer 40 was formed by, for example, a vacuum deposition method using resistance heating. The tablet set in the vacuum vapor deposition apparatus is prepared in the same manner as in Example 5, and is, for example, a porous alumina tablet containing 3,3,3-trifluoropropyltrichlorosilane.

【０１３８】真空蒸着を行う際には、真空槽内を１０^-6
Ｔｏｒｒまで排気し、被蒸着基板を酸素プラズマに曝し
た後に、前記タブレットを電気抵抗で約２００℃に加熱
し、含フッ素シラン化合物（３，３，３−トリフルオロ
プロピルトリクロロシラン）を含むタブレットを３０秒
間蒸発させ、汚染防止層４０を形成した。汚染防止層４
０の形成によって偏光板の外観ならびに反射防止特性に
おいて特に変化は見られなかった。When performing vacuum deposition, the inside of the vacuum chamber is set to 10 ^-6.
After evacuation to Torr and exposing the vapor deposition substrate to oxygen plasma, the tablet is heated to about 200 ° C. by electric resistance to obtain a tablet containing a fluorine-containing silane compound (3,3,3-trifluoropropyltrichlorosilane). It was evaporated for 30 seconds to form the antifouling layer 40. Pollution prevention layer 4
With the formation of 0, no particular change was observed in the appearance and antireflection property of the polarizing plate.

【０１３９】以上のようにして得られた樹脂フィルムの
積層体を、実施例２と同様にアクリル系接着剤を介して
偏光基板１０に貼り付けることにより本実施例の偏光板
が形成される。The resin film laminate thus obtained is attached to the polarizing substrate 10 via an acrylic adhesive in the same manner as in Example 2 to form the polarizing plate of this example.

【０１４０】この偏光板６００について、前記実施例１
と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性と
して、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性および
ｄ．汚染防止性の各特性において、汚れの拭き取り性が
若干悪かったものの、実施例１と同様に良好な結果が得
られた。さらに、本施例の偏光板６００をＴＦＴ素子を
用いたアクティブマトリクス駆動の液晶パネル前面に貼
り付けて液晶表示パネルを作成した。この液晶表示パネ
ルについて、実施例１と同様に、ａ．高温高湿試験，
ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．視認性の
各特性試験を行ったところ、若干のギラツキ感はあった
ものの、他の特性は実施例１と同様に良好な結果が得ら
れた。Regarding this polarizing plate 600, the example 1 was used.
A characteristic test was conducted in the same manner as in. As a result, as the characteristics of the polarizing plate, a. Adhesion, b. Scratch resistance, c. Chemical resistance and d. With respect to each property of anti-staining property, although the wiping-off property for dirt was slightly poor, good results were obtained as in Example 1. Further, the polarizing plate 600 of this example was attached to the front surface of an active matrix driven liquid crystal panel using a TFT element to prepare a liquid crystal display panel. Regarding this liquid crystal display panel, a. High temperature and high humidity test,
b. Thermal shock test, c. Sun exposure test and d. When each characteristic test of visibility was performed, a slight glare was observed, but as for the other characteristics, good results were obtained as in Example 1.

【０１４１】（実施例７）本実施例の偏光板は、その基
本的構造が前記実施例１と同様であるため、図１を参照
しながら説明する。(Example 7) The polarizing plate of this example has the same basic structure as that of Example 1 described above, and therefore, description will be given with reference to FIG.

【０１４２】この偏光板７００は、偏光基板１０上にア
ンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層
４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１０
は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるので、
その詳細な説明を省略する。This polarizing plate 700 has a structure in which an undercoat layer 20, an antireflection layer 30, and a pollution prevention layer 40 are sequentially laminated on a polarizing substrate 10. Polarizing substrate 10
Is substantially the same as the polarizing substrate of Example 1,
Detailed description thereof will be omitted.

【０１４３】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルにおいては３μ
ｍ）のアクリル系樹脂にシリカが分散され、防眩性が付
与されている。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５
μｍ（サンプルでは２μｍ）である。The undercoat layer 20 has a thickness of 0.5.
~ 20 μm (3 μm in the test sample described later)
Silica is dispersed in the acrylic resin of m) to impart antiglare properties. The silica has an average particle size of 0.1 to 5
μm (2 μm in the sample).

【０１４４】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は２６、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は２２０ｎｍ、および曇度は２０％であった。To give an example of the film characteristics of the undercoat layer 20 of this example, the surface hardness is 3H in pencil hardness,
Glossiness (Ga60 degree) is 26, center line average roughness (Ra)
Was 220 nm and the haze was 20%.

【０１４５】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．１μｍ）であり、単層構造を成
している。この膜構成は、ＭｇＦ₂ 層がλ／４（ここで
λ＝５２０ｎｍ）である。The antireflection layer 30 has a film thickness of 0.05 to 1
μm (0.1 μm in the sample), forming a single layer structure. In this film structure, the MgF ₂ layer has λ / 4 (where λ = 520 nm).

【０１４６】前記汚染防止層４０は、ビス（パーフルオ
ロノニル）ブチルアミノシランからなる厚さ２０〜８０
０オングストローム（サンプルにおいては４００オング
ストローム）の層から構成されている。この汚染防止層
４０は、水の接触角が１００度以上であり、優れた撥水
性を示した。また、前記汚染防止層４０は屈折率ｎが
１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄ（ｄ：汚染
防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さいことが確認
された。The antifouling layer 40 is made of bis (perfluorononyl) butylaminosilane and has a thickness of 20 to 80.
It consists of a layer of 0 Å (400 Å in the sample). The antifouling layer 40 had a contact angle of water of 100 degrees or more and exhibited excellent water repellency. Further, it was confirmed that the contamination prevention layer 40 had a refractive index n of 1.25 to 1.45, and therefore nd (d: thickness of the contamination prevention layer 40) was smaller than 0.1 μm.

【０１４７】次に、本実施例の偏光板７００の製造方法
について述べる。Next, a method of manufacturing the polarizing plate 700 of this embodiment will be described.

【０１４８】まず、偏光基板１０の表面に、実施例１で
用いたと同様のシリカ粒子が分散されたアクリル樹脂塗
布液をロールコート法によって塗布し、その後紫外線を
照射してアクリル樹脂を硬化させ、アンダーコート層２
０を形成した。First, the same acrylic resin coating liquid in which silica particles as those used in Example 1 were dispersed was applied onto the surface of the polarizing substrate 10 by a roll coating method, and then the acrylic resin was cured by irradiating with ultraviolet rays. Undercoat layer 2
Formed 0.

【０１４９】ついで、この偏光基板を真空槽内にセット
し、例えば電子ビーム加熱による真空蒸着法により、基
板温度５０℃で、ＭｇＦ₂ 層をλ／４（λ＝５２０ｎ
ｍ）の膜厚で形成し、反射防止層３０を形成した。Then, this polarizing substrate was set in a vacuum chamber, and the MgF ₂ layer was formed into a λ / 4 (λ = 520n) layer at a substrate temperature of 50 ° C. by, for example, a vacuum deposition method using electron beam heating.
m) to form the antireflection layer 30.

【０１５０】一方、実施例５と同様な方法で、多孔質窒
化ケイ素のタブレットにビス（パーフルオロノニル）ブ
チルアミノシランを含浸させた。このタブレットをラン
プ加熱が可能な真空槽内にセットし、さらに、真空槽内
を１０^-6Ｔｏｒｒまで排気した。次いで、偏光基板を酸
素プラズマに曝した後、ランプの輻射熱で前記タブレッ
トを約３０秒間加熱させ、汚染防止層４０を形成した。On the other hand, a porous silicon nitride tablet was impregnated with bis (perfluorononyl) butylaminosilane in the same manner as in Example 5. The tablet was set in a vacuum chamber capable of heating a lamp, and the inside of the vacuum chamber was evacuated to 10 ^-6 Torr. Next, after exposing the polarizing substrate to oxygen plasma, the tablets were heated by the radiant heat of the lamp for about 30 seconds to form the pollution prevention layer 40.

【０１５１】この偏光板７００について、前記実施例１
と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性と
して、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性および
ｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良好
な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板を単純マト
リクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液晶表示パネ
ルを作成した。この液晶表示パネルについて、実施例１
と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日
光暴露試験およびｄ．視認性の特性試験を行ったとこ
ろ、実施例１と同様に良好な結果が得られた。なお、視
認性の試験においては、前記液晶表示パネルの背面に反
射板を配設したサンプルを用いた。Regarding this polarizing plate 700, the above-mentioned Example 1 was used.
A characteristic test was conducted in the same manner as in. As a result, as the characteristics of the polarizing plate, a. Adhesion, b. Scratch resistance, c. Chemical resistance and d. Good results were obtained in the same manner as in Example 1 in each property of anti-staining property. Further, the polarizing plate of this example was attached to the front surface of a liquid crystal panel driven by a simple matrix to prepare a liquid crystal display panel. Example 1 of this liquid crystal display panel
Similar to a. High temperature and high humidity test, b. Thermal shock test, c. Sun exposure test and d. As a result of a visibility characteristic test, good results were obtained as in Example 1. In addition, in the visibility test, a sample in which a reflection plate was provided on the back surface of the liquid crystal display panel was used.

【０１５２】（実施例８）本実施例に係る偏光板は、前
記実施例１の偏光板１００と基本的な構造が同一なた
め、図１を参照しながら説明する。(Example 8) The polarizing plate according to this example has the same basic structure as the polarizing plate 100 of Example 1, so that the description will be given with reference to FIG.

【０１５３】この偏光板８００は、偏光基板１０上にア
ンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層
４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１０
は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるので、
その詳細な説明を省略する。The polarizing plate 800 has a structure in which the undercoat layer 20, the antireflection layer 30, and the pollution prevention layer 40 are sequentially laminated on the polarizing substrate 10. Polarizing substrate 10
Is substantially the same as the polarizing substrate of Example 1,
Detailed description thereof will be omitted.

【０１５４】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは４μｍ）のア
クリル系樹脂から構成されている。The undercoat layer 20 has a thickness of 0.5.
.About.20 .mu.m (4 .mu.m in the test sample described later) is made of acrylic resin.

【０１５５】このアンダーコート層２０は、前記実施例
１と異なり、防眩性を高めるためのシリカが分散されて
いない。その代わり、その表面には転写法により微細な
凹凸が形成されて、防眩性が付与されている。Unlike the first embodiment, the undercoat layer 20 does not contain silica for enhancing the antiglare property. Instead, fine irregularities are formed on the surface by a transfer method to impart antiglare properties.

【０１５６】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は９０、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は１００ｎｍ、および曇度は３％であった。An example of the film characteristics of the undercoat layer 20 of this example is that the surface hardness is 3H in pencil hardness,
Glossiness (Ga60 degree) is 90, center line average roughness (Ra)
Was 100 nm, and the haze was 3%.

【０１５７】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、５層構造を成
している。この膜構成は、アンダーコート層２０側か
ら、ＳｉＯ₂ 層がλ／４、ＺｒＯ₂ 層とＳｉＯ₂ 層の積
層がλ／４、ＺｒＯ₂ 層がλ／４、最上層であるＳｉＯ
₂ 層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）である。The antireflection layer 30 has a thickness of 0.05 to 1
μm (0.3 μm in the sample), forming a five-layer structure. In this film structure, the SiO ₂ layer is λ / 4, the stack of the ZrO ₂ layer and the SiO ₂ layer is λ / 4, the ZrO ₂ layer is λ / 4, and the uppermost layer is SiO from the undercoat layer 20 side.
_{The two} layers are λ / 4 (where λ = 520 nm).

【０１５８】前記汚染防止層４０は、１Ｈ，１Ｈ，２
Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリブロモシランから
なる厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにお
いては３００オングストローム）の層から構成されてい
る。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以上
であり、優れた撥水性を示した。また、前記汚染防止層
４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがっ
てｎｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより
小さいことが確認された。The pollution prevention layer 40 is composed of 1H, 1H, 2
It is composed of a layer of H, 2H-perfluorooctyltribromosilane having a thickness of 20 to 800 Å (300 Å in the sample). The antifouling layer 40 had a contact angle of water of 100 degrees or more and exhibited excellent water repellency. Further, it was confirmed that the contamination prevention layer 40 had a refractive index n of 1.25 to 1.45, and therefore nd (d: thickness of the contamination prevention layer 40) was smaller than 0.1 μm.

【０１５９】次に、本実施例の偏光板８００の製造方法
について述べる。Next, a method of manufacturing the polarizing plate 800 of this embodiment will be described.

【０１６０】まず、偏光基板１０の表面に、実施例４で
用いたと同様のアクリル樹脂塗布液を用い、実施例４と
同様の転写法によってアンダーコート層２０の表面に微
細な凹凸を形成した。First, fine unevenness was formed on the surface of the undercoat layer 20 on the surface of the polarizing substrate 10 by using the same acrylic resin coating liquid as that used in Example 4 and by the same transfer method as in Example 4.

【０１６１】次いで、実施例５と同様の蒸着装置を用い
て反射防止層３０および汚染防止層４０を連続的に形成
した。また、含フッ素シラン化合物は、実施例５と同様
に多孔質アルミナのタブレットに１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２
Ｈ，−パーフルオロオクチルトリブロモシランを含浸さ
せたものを用いた。真空蒸着においては、まず、アンダ
ーコート層２０が積層された偏光基板１０を真空槽内に
セットし、基板温度５０℃で、ＳｉＯ₂ 層をλ／４、Ｚ
ｒＯ₂ 層とＳｉＯ₂ 層との積層をλ／４、ＺｒＯ₂ 層を
λ／４、ＳｉＯ₂ 層をλ／４（λ＝５２０ｎｍ）の膜厚
で順次形成し、反射防止層３０を形成した。Next, the antireflection layer 30 and the pollution prevention layer 40 were continuously formed by using the same vapor deposition apparatus as in Example 5. Further, the fluorine-containing silane compound was added to the porous alumina tablet in the same manner as in Example 5 by adding 1H, 1H, 2H, 2
The one impregnated with H, -perfluorooctyltribromosilane was used. In vacuum deposition, first, the polarizing substrate 10 on which the undercoat layer 20 is laminated is set in a vacuum chamber, and the SiO ₂ layer is λ / 4, Z at a substrate temperature of 50 ° C.
The lamination of the rO ₂ layer and the SiO ₂ layer was sequentially formed in a thickness of λ / 4, the ZrO ₂ layer was formed in a thickness of λ / 4, and the SiO ₂ layer was formed in a thickness of λ / 4 (λ = 520 nm) to form the antireflection layer 30. .

【０１６２】次いで、真空状態を保持したまま、含フッ
素シラン化合物を含有させたタブレットを電子ビームで
照射して含フッ素シラン化合物のみを所定時間（例えば
２０秒間）蒸発させ、汚染防止層４０を形成した。この
汚染防止層４０の形成によって、偏光板の外観ならびに
反射防止特性において、特に変化は見られなかった。Next, while keeping the vacuum state, the tablet containing the fluorine-containing silane compound is irradiated with an electron beam to evaporate only the fluorine-containing silane compound for a predetermined time (for example, 20 seconds) to form the pollution prevention layer 40. did. No particular change was observed in the appearance and the antireflection property of the polarizing plate due to the formation of the pollution prevention layer 40.

【０１６３】この偏光板８００について、前記実施例１
と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性と
して、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性および
ｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良好
な結果が得られた。さらに、本実施例の偏光板８００を
ＭＩＭ素子を用いたアクティブマトリクス駆動の液晶パ
ネル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。この
液晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高温
高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験および
ｄ．視認性の特性試験を行ったところ、視認性において
写り込みがあったものの、他の特性は実施例１と同様に
良好な結果が得られた。Regarding this polarizing plate 800, Example 1 described above
A characteristic test was conducted in the same manner as in. As a result, as the characteristics of the polarizing plate, a. Adhesion, b. Scratch resistance, c. Chemical resistance and d. Good results were obtained in the same manner as in Example 1 in each property of anti-staining property. Furthermore, the polarizing plate 800 of this example was attached to the front surface of a liquid crystal panel driven by an active matrix using MIM elements to form a liquid crystal display panel. Regarding this liquid crystal display panel, a. High temperature and high humidity test, b. Thermal shock test, c. Sun exposure test and d. As a result of a visibility characteristic test, good visibility was obtained for other characteristics as in Example 1, although the visibility was reflected.

【０１６４】（実施例９）本実施例と後述する実施例１
０〜１２においては、前記実施例３と同様に、含フッ素
シラン化合物としてアミン系化合物を用い、かつ汚染防
止層４０をディップ法によって形成している点に特徴を
有している。本実施例の偏光板は、その基本的構造が前
記実施例１と同様であるため、図１を参照しながら説明
する。(Embodiment 9) This embodiment and Embodiment 1 described later
Similar to Example 3, Nos. 0 to 12 are characterized in that an amine compound was used as the fluorine-containing silane compound and the pollution prevention layer 40 was formed by the dip method. Since the basic structure of the polarizing plate of this embodiment is the same as that of the first embodiment, it will be described with reference to FIG.

【０１６５】この偏光板９００は、偏光基板１０上にア
ンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層
４０が順次積層された構造となっている。なお、前記偏
光基板１０の構成は、前記実施例１の偏光基板と同様の
構成を有するため、その詳細な説明を省略する。This polarizing plate 900 has a structure in which the undercoat layer 20, the antireflection layer 30, and the pollution prevention layer 40 are sequentially laminated on the polarizing substrate 10. Since the structure of the polarizing substrate 10 is the same as that of the polarizing substrate of the first embodiment, detailed description thereof will be omitted.

【０１６６】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルにおいては３μ
ｍ）のアクリル系樹脂にシリカが分散され、防眩性が付
与されている。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５
μｍ（サンプルでは２μｍ）である。The undercoat layer 20 has a thickness of 0.5.
~ 20 μm (3 μm in the test sample described later)
Silica is dispersed in the acrylic resin of m) to impart antiglare properties. The silica has an average particle size of 0.1 to 5
μm (2 μm in the sample).

【０１６７】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は１８、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は３１０ｎｍ、および曇度は３２％であった。As an example of the film characteristics of the undercoat layer 20 of this example, the surface hardness is 3H in pencil hardness,
Glossiness (Ga60 degree) is 18, center line average roughness (Ra)
Was 310 nm and the haze was 32%.

【０１６８】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、５層構造を成
している。この膜構成は、アンダーコート層２０側か
ら、ＳｉＯ₂ 層がλ／４、ＺｒＯ₂ 層とＳｉＯ₂ 層の積
層がλ／４、ＺｒＯ₂ 層がλ／４、最上層であるＳｉＯ
₂ 層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）である。The antireflection layer 30 has a film thickness of 0.05 to 1
μm (0.3 μm in the sample), forming a five-layer structure. In this film structure, the SiO ₂ layer is λ / 4, the stack of the ZrO ₂ layer and the SiO ₂ layer is λ / 4, the ZrO ₂ layer is λ / 4, and the uppermost layer is SiO from the undercoat layer 20 side.
_{The two} layers are λ / 4 (where λ = 520 nm).

【０１６９】前記汚染防止層４０は、１Ｈ，１Ｈ，２
Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリアミノシランからな
る厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにおい
ては１００オングストローム以下）の層から構成されて
いる。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以
上であり、優れた撥水性を示した。また、撥油性も有し
ていた。前記汚染防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜
１．４５であり、したがってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０
の厚さ）が０．１μｍより小さいことが確認された。The pollution prevention layer 40 is formed of 1H, 1H, 2
It is composed of a layer of H, 2H-perfluorodecyltriaminosilane having a thickness of 20 to 800 angstroms (100 angstroms or less in the sample). The antifouling layer 40 had a contact angle of water of 100 degrees or more and exhibited excellent water repellency. It also had oil repellency. The contamination prevention layer 40 has a refractive index n of 1.25 to
1.45, and therefore nd (d: contamination prevention layer 40
Was confirmed to be less than 0.1 μm.

【０１７０】次に、本実施例の偏光板９００の製造方法
について述べる。Next, a method of manufacturing the polarizing plate 900 of this embodiment will be described.

【０１７１】まず、偏光基板１０の表面に、実施例１で
用いたと同様のシリカ粒子が分散されたアクリル樹脂塗
布液をロールコート法によって塗布し、その後紫外線を
照射してアクリル樹脂を硬化させ、アンダーコート層２
０を形成した。First, an acrylic resin coating liquid in which the same silica particles as those used in Example 1 are dispersed is applied to the surface of the polarizing substrate 10 by a roll coating method, and then the acrylic resin is cured by irradiating ultraviolet rays, Undercoat layer 2
Formed 0.

【０１７２】ついで、この偏光基板を真空槽内にセット
し、例えば電子ビーム加熱による真空蒸着法により、基
板温度５０℃で、ＳｉＯ₂ 層をλ／４、ＺｒＯ₂ 層とＳ
ｉＯ₂ 層との積層をλ／４、ＺｒＯ₂ 層をλ／４、Ｓｉ
Ｏ₂ 層をλ／４（λ＝５２０ｎｍ）の膜厚で順次形成
し、反射防止層３０を形成した。得られた偏光板をメタ
ノールで洗浄し、十分に乾燥させた。Then, this polarizing substrate is set in a vacuum chamber, and the SiO ₂ layer is λ / 4, the ZrO ₂ layer and the S are formed at a substrate temperature of 50 ° C. by, for example, a vacuum evaporation method by electron beam heating.
Lamination with iO ₂ layer is λ / 4, ZrO ₂ layer is λ / 4, Si
An O ₂ layer was sequentially formed with a film thickness of λ / 4 (λ = 520 nm) to form an antireflection layer 30. The obtained polarizing plate was washed with methanol and dried sufficiently.

【０１７３】ついで、１，１，２−トリクロロ−１，
２，２−トリフルオロエタンに含フッ素シラン化合物と
して１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリ
アミノシランを１重量％溶解させた溶液に上述した偏光
板を２０℃において１分間浸漬させた。ついで、１０ｃ
ｍ／秒の速度で偏光板を引き上げた後、相対湿度５０
％、温度６０℃の雰囲気で１０分間放置した。この状態
では、偏光板の両面に１０μｍ程度のかなり厚い塗布層
が形成され、塗布面は若干不均一であり、かつ外観上は
白濁していた。Then, 1,1,2-trichloro-1,
The above-mentioned polarizing plate was immersed in a solution in which 1% by weight of 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyltriaminosilane as a fluorine-containing silane compound was dissolved in 2,2-trifluoroethane at 20 ° C for 1 minute. Then 10c
After pulling up the polarizing plate at a speed of m / sec, the relative humidity is 50
%, A temperature of 60 ° C. was left for 10 minutes. In this state, a fairly thick coating layer of about 10 μm was formed on both surfaces of the polarizing plate, the coating surface was slightly uneven, and the appearance was cloudy.

【０１７４】その後、１，１，２−トリクロロ−１，
２，２−トリフルオロエタンに偏光板を１分間浸漬する
ことによって偏光板の洗浄を行い、未反応の含フッ素シ
ラン化合物を除去し、汚染防止層４０を形成した。Thereafter, 1,1,2-trichloro-1,
The polarizing plate was washed by immersing the polarizing plate in 2,2-trifluoroethane for 1 minute to remove the unreacted fluorine-containing silane compound and form the pollution prevention layer 40.

【０１７５】前記含フッ素シラン化合物は、偏光基板１
０の支持層を構成するＴＡＣと反応しないため、第２の
支持層１６上に付着した未反応の含フッ素シラン化合物
をフッ素系溶剤によって除去することができる。したが
って、第２の支持層１６上に接着が困難なシラン化合物
層が残存していない。また、このようにして得られた偏
光板は、汚染防止層の形成によって外観ならびに反射防
止特性において特に変化は見られなかった。The fluorine-containing silane compound is used in the polarizing substrate 1.
Since it does not react with TAC constituting the support layer of No. 0, the unreacted fluorine-containing silane compound attached on the second support layer 16 can be removed by a fluorine-based solvent. Therefore, the silane compound layer, which is difficult to adhere, does not remain on the second support layer 16. In addition, the polarizing plate thus obtained did not show any particular change in appearance and antireflection property due to the formation of the antifouling layer.

【０１７６】この偏光板９００について、前記実施例１
と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性と
して、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性および
ｄ．汚染防止性の各特性において、汚れの拭き取り性が
悪かったものの、実施例１と同様に良好な結果が得られ
た。なお、付着した汚れはクリーナーを用いれば除去す
ることができた。さらに、本施例の偏光板９００をＭＩ
Ｍ素子を用いたアクティブマトリクス駆動の液晶パネル
前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。この液晶
表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高温高湿
試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．視
認性の特性試験を行ったところ、実施例１と同様に良好
な結果が得られた。About this polarizing plate 900,
A characteristic test was conducted in the same manner as in. As a result, as the characteristics of the polarizing plate, a. Adhesion, b. Scratch resistance, c. Chemical resistance and d. With respect to each property of anti-staining property, although the stain-wipeability was poor, good results were obtained as in Example 1. The attached dirt could be removed by using a cleaner. Furthermore, the polarizing plate 900 of this embodiment is set to MI.
A liquid crystal display panel was prepared by pasting it on the front surface of an active matrix driven liquid crystal panel using M elements. Regarding this liquid crystal display panel, a. High temperature and high humidity test, b. Thermal shock test, c. Sun exposure test and d. As a result of a visibility characteristic test, good results were obtained as in Example 1.

【０１７７】（実施例１０）本実施例の偏光板は、その
基本的構造が前記実施例１と同様であるため、図１を参
照しながら説明する。(Embodiment 10) The polarizing plate of this embodiment has the same basic structure as that of Embodiment 1 described above, and will be described with reference to FIG.

【０１７８】この偏光板１０００は、偏光基板１０上に
アンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止
層４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１
０は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるの
で、その詳細な説明を省略する。The polarizing plate 1000 has a structure in which an undercoat layer 20, an antireflection layer 30, and a pollution prevention layer 40 are sequentially laminated on a polarizing substrate 10. Polarizing substrate 1
Since 0 is substantially the same as the polarizing substrate of the first embodiment, detailed description thereof will be omitted.

【０１７９】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは３μｍ）のア
クリル系樹脂から形成されている。このアンダーコート
層２０には、防眩性を高めるためのシリカが分散されて
いない。The undercoat layer 20 has a thickness of 0.5.
It is formed from an acrylic resin of about 20 μm (3 μm in the sample for the test described later). In this undercoat layer 20, silica for enhancing the antiglare property is not dispersed.

【０１８０】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は９０、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は５０ｎｍ、および曇度は０．５％であった。As an example of the film characteristics of the undercoat layer 20 of the present embodiment, the surface hardness is 3H in pencil hardness,
Glossiness (Ga60 degree) is 90, center line average roughness (Ra)
Of 50 nm and haze of 0.5%.

【０１８１】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．１μｍ）であり、単層構造を成
している。この膜構成は、ＭｇＦ₂ 層がλ／４（ここで
λ＝５２０ｎｍ）である。The antireflection layer 30 has a thickness of 0.05 to 1
μm (0.1 μm in the sample), forming a single layer structure. In this film structure, the MgF ₂ layer has λ / 4 (where λ = 520 nm).

【０１８２】前記汚染防止層４０は、ビス−（１Ｈ，１
Ｈ−パーフルオロノニル）−ブチル−アミノシランから
なる厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにお
いては１００オングストローム以下）の層から構成され
ている。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度
以上であり、優れた撥水性を示した。また、撥油性も有
していた。前記汚染防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜
１．４５であり、したがってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０
の厚さ）が０．１μｍより小さいことが確認された。The contamination preventing layer 40 is formed of bis- (1H, 1
It is composed of a layer of H-perfluorononyl) -butyl-aminosilane having a thickness of 20 to 800 angstroms (100 angstroms or less in the sample). The antifouling layer 40 had a contact angle of water of 100 degrees or more and exhibited excellent water repellency. It also had oil repellency. The contamination prevention layer 40 has a refractive index n of 1.25 to
1.45, and therefore nd (d: contamination prevention layer 40
Was confirmed to be less than 0.1 μm.

【０１８３】次に、本実施例の偏光板１０００の製造方
法について述べる。Next, a method of manufacturing the polarizing plate 1000 of this embodiment will be described.

【０１８４】まず、偏光基板１０の表面に、実施例４で
用いたと同様なシリカ粒子が分散されていないアクリル
樹脂塗布液をロールコート法によって塗布し、その後紫
外線を照射してアクリル樹脂を硬化させ、アンダーコー
ト層２０を形成した。First, the same acrylic resin coating solution as that used in Example 4 in which silica particles are not dispersed is applied to the surface of the polarizing substrate 10 by a roll coating method, and then ultraviolet rays are irradiated to cure the acrylic resin. The undercoat layer 20 was formed.

【０１８５】ついで、この偏光基板を真空槽内にセット
し、例えば電子ビーム加熱による真空蒸着法により、基
板温度５０℃で、ＭｇＦ₂ 層をλ／４（λ＝５２０ｎ
ｍ）の膜厚で形成し、反射防止層３０を形成した。得ら
れた偏光板をアルカリ洗浄後純水ですすぎ、十分に乾燥
させた。Then, the polarizing substrate was set in a vacuum chamber, and the MgF ₂ layer was formed into a λ / 4 (λ = 520n) layer at a substrate temperature of 50 ° C. by, for example, a vacuum deposition method using electron beam heating.
m) to form the antireflection layer 30. The obtained polarizing plate was washed with alkali, rinsed with pure water, and dried sufficiently.

【０１８６】ついで、「フロリナートＦＣ−４０」に含
フッ素シラン化合物としてビス−（１Ｈ，１Ｈ−パーフ
ルオロノニル）−ブチルアミノシランを５重量％溶解さ
せた溶液に上述した偏光板を２０℃において５分間浸漬
させた。ついで、１０ｃｍ／秒の速度で偏光板を引き上
げた後、相対湿度５０％、温度５０℃の雰囲気で１時間
放置した。この状態では、偏光板の両面に１０μｍ程度
のかなり厚い塗布層が形成され、塗布面は若干不均一で
あり、かつ外観上は白濁していた。Then, the above polarizing plate was immersed in a solution of Fluorinate FC-40 containing 5% by weight of bis- (1H, 1H-perfluorononyl) -butylaminosilane as a fluorine-containing silane compound at 20 ° C. for 5 minutes. It was immersed. Then, after pulling up the polarizing plate at a speed of 10 cm / sec, it was left for 1 hour in an atmosphere of relative humidity 50% and temperature 50 ° C. In this state, a fairly thick coating layer of about 10 μm was formed on both surfaces of the polarizing plate, the coating surface was slightly uneven, and the appearance was cloudy.

【０１８７】その後、「フロリナートＦＣ−４０」に偏
光板を１分間浸漬することによって偏光板の洗浄を行
い、未反応の含フッ素シラン化合物を除去し、汚染防止
層４０を形成した。Then, the polarizing plate was washed by immersing the polarizing plate in "Fluorinert FC-40" for 1 minute to remove the unreacted fluorine-containing silane compound and form the pollution prevention layer 40.

【０１８８】前記含フッ素シラン化合物は、偏光板１０
の支持層を構成するＴＡＣと反応しないため、第２の支
持層１６上に付着した未反応の含フッ素シラン化合物を
フッ素系溶剤によって除去することができる。したがっ
て、第２の支持層１６上に接着が困難なシラン化合物層
が残存していない。この汚染防止層４０の形成によって
偏光板の外観ならびに反射防止特性において、特に変化
は見られなかった。The fluorine-containing silane compound is used in the polarizing plate 10.
Since it does not react with the TAC constituting the support layer, the unreacted fluorine-containing silane compound attached on the second support layer 16 can be removed by a fluorine-based solvent. Therefore, the silane compound layer, which is difficult to adhere, does not remain on the second support layer 16. No particular change was observed in the appearance and the antireflection property of the polarizing plate due to the formation of the stain prevention layer 40.

【０１８９】この偏光板１０００について、前記実施例
１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性
として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およ
びｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良
好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板１０００
を単純マトリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液
晶表示パネルを作成した。この液晶表示パネルについ
て、実施例１と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃
試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．視認性の特性試験を
行ったところ、視認性の点では写り込みが顕著であるも
のの、他の特性は実施例１と同様に良好な結果が得られ
た。なお、視認性の試験においては、前記液晶表示パネ
ルの背面に反射板を配設したサンプルを用いた。A characteristic test was conducted on this polarizing plate 1000 in the same manner as in Example 1. As a result, as the characteristics of the polarizing plate, a. Adhesion, b. Scratch resistance, c. Chemical resistance and d. Good results were obtained in the same manner as in Example 1 in each property of anti-staining property. Furthermore, the polarizing plate 1000 of this embodiment
Was attached to the front surface of a liquid crystal panel driven by a simple matrix to create a liquid crystal display panel. Regarding this liquid crystal display panel, a. High temperature and high humidity test, b. Thermal shock test, c. Sun exposure test and d. When a visibility characteristic test was conducted, a good result was obtained in the same manner as in Example 1 with respect to other characteristics, although the reflection was remarkable in terms of visibility. In addition, in the visibility test, a sample in which a reflection plate was provided on the back surface of the liquid crystal display panel was used.

【０１９０】（実施例１１）本実施例の偏光板は、その
基本的構造が前記第１実施例と同様であるため、図１を
参照しながら説明する。(Embodiment 11) The polarizing plate of this embodiment has the same basic structure as that of the first embodiment, and therefore will be described with reference to FIG.

【０１９１】この偏光板１１００は、偏光基板１０上に
アンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止
層４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１
０は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるの
で、その詳細な説明を省略する。This polarizing plate 1100 has a structure in which an undercoat layer 20, an antireflection layer 30, and a pollution prevention layer 40 are sequentially laminated on a polarizing substrate 10. Polarizing substrate 1
Since 0 is substantially the same as the polarizing substrate of the first embodiment, detailed description thereof will be omitted.

【０１９２】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは５μｍ）のア
クリル系樹脂から構成されている。The undercoat layer 20 has a thickness of 0.5.
.About.20 .mu.m (5 .mu.m in the sample of the test described later) of acrylic resin.

【０１９３】このアンダーコート層２０は、前記実施例
１と異なり、防眩性を高めるためのシリカが分散されて
いない。その代わり、その表面には転写法により微細な
凹凸が形成されて、防眩性が付与されている。Unlike the first embodiment, the undercoat layer 20 does not contain silica for enhancing the antiglare property. Instead, fine irregularities are formed on the surface by a transfer method to impart antiglare properties.

【０１９４】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は３７、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は１０００ｎｍ、および曇度は３５％であった。To give an example of the film characteristics of the undercoat layer 20 of this example, the surface hardness is 3H in pencil hardness,
Glossiness (Ga60 degree) is 37, center line average roughness (Ra)
Of 1000 nm and haze of 35%.

【０１９５】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、３層構造を成
している。この膜構成は、アンダーコート層２０側か
ら、ＳｉＯ₂ 層がλ／４、ＴｉＯ₂ 層がλ／２、最上層
であるＳｉＯ₂ 層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）で
ある。The antireflection layer 30 has a film thickness of 0.05 to 1
μm (0.3 μm in the sample), forming a three-layer structure. In this film structure, the SiO ₂ layer is λ / 4, the TiO ₂ layer is λ / 2, and the uppermost SiO ₂ layer is λ / 4 (where λ = 520 nm) from the undercoat layer 20 side.

【０１９６】前記汚染防止層４０は、ビス（ＩＨ，ＩＨ
−パーフルオロブチル）ジアミノシランからなる厚さ２
０〜８００オングストローム（サンプルにおいては１０
０オングストローム以下）の層から構成されている。こ
の汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であ
り、優れた撥水性を示した。また、前記汚染防止層４０
は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎ
ｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さ
いことが確認された。The pollution prevention layer 40 is formed of bis (IH, IH
-Perfluorobutyl) diaminosilane thickness 2
0-800 angstrom (10 in the sample
0 angstrom or less). The antifouling layer 40 had a contact angle of water of 100 degrees or more and exhibited excellent water repellency. In addition, the pollution prevention layer 40
Has a refractive index n of 1.25 to 1.45, and therefore n
It was confirmed that d (d: thickness of the pollution prevention layer 40) was smaller than 0.1 μm.

【０１９７】次に、本実施例の偏光板１１００の製造方
法について述べる。Next, a method of manufacturing the polarizing plate 1100 of this embodiment will be described.

【０１９８】まず、偏光基板１０の表面に、実施例４で
用いたと同様のアクリル樹脂塗布液をロ−ルコート法に
よって塗布し、次いで、実施例４で述べたと同様の転写
法によって、乾燥させた塗膜の表面に微細な凹凸を形成
した。その後紫外線を照射してアクリル樹脂を硬化さ
せ、アンダーコート層２０を形成した。First, the same acrylic resin coating liquid as that used in Example 4 was applied to the surface of the polarizing substrate 10 by the roll coating method, and then dried by the same transfer method as that described in Example 4. Fine irregularities were formed on the surface of the coating film. Then, the acrylic resin was cured by irradiating ultraviolet rays to form the undercoat layer 20.

【０１９９】ついで、この偏光基板を真空槽内にセット
し、例えば電子ビーム加熱による真空蒸着法により、真
空槽の基板温度５０℃で、ＳｉＯ₂ 層をλ／２、ＴｉＯ
₂ 層をλ／２、ＳｉＯ₂ 層をλ／４（λ＝５２０ｎｍ）
の膜厚で順次形成し、反射防止層３０を形成した。得ら
れた偏光板をメタノールで洗浄し、十分に乾燥させた。Then, the polarizing substrate was set in a vacuum chamber, and the SiO ₂ layer was λ / 2, TiO 2 was formed at a substrate temperature of 50 ° C. in the vacuum chamber by, for example, a vacuum deposition method using electron beam heating.
₂ layers λ / 2, SiO ₂ layer λ / 4 (λ = 520nm)
Then, the antireflection layer 30 was formed. The obtained polarizing plate was washed with methanol and dried sufficiently.

【０２００】ついで、上記の工程で得られた偏光板を
「フロリナートＦＣ−４０」に含フッ素シラン化合物と
してビス（ＩＨ，ＩＨ−パーフルオロブチル）ジアミノ
シランを３重量％溶解させた溶液に、２０℃において２
分間浸漬させた。その後、５ｃｍ／秒の速度で偏光板を
引き上げた後、常温の大気中で一日間放置した。さら
に、「フロリナ−トＦＣ−４０」に得られた偏光板を１
分間浸漬し、さらに「フロリナートＦＣ−４０」の蒸気
浴において引上げ洗浄を行うことによって偏光板の洗浄
を行い未反応の含フッ素シラン化合物を除去し、汚染防
止層４０を形成した。Then, the polarizing plate obtained in the above step was added to "Fluorinate FC-40" in a solution in which 3% by weight of bis (IH, IH-perfluorobutyl) diaminosilane was dissolved as a fluorine-containing silane compound. 2 at ℃
Let it soak for a minute. Then, after pulling up the polarizing plate at a speed of 5 cm / sec, it was left for one day in the atmosphere at room temperature. Furthermore, the polarizing plate obtained in "Fluorinate FC-40"
The polarizing plate was washed by immersing the substrate for a minute and then pulling it up in a steam bath of "Fluorinert FC-40" to remove the unreacted fluorine-containing silane compound and form the pollution prevention layer 40.

【０２０１】前記含フッ素シラン化合物は、偏光基板１
０の支持層を構成するＴＡＣと反応しないため、第２の
支持層１６上に付着した未反応の含フッ素シラン化合物
をフッ素系溶剤によって除去することができる。したが
って、第２の支持層１６上に接着が困難なシラン化合物
層が残存していない。この汚染防止層の形成によって、
偏光板の外観ならびに反射防止特性において、特に変化
は見られなかった。The fluorine-containing silane compound is used in the polarizing substrate 1.
Since it does not react with TAC constituting the support layer of No. 0, the unreacted fluorine-containing silane compound attached on the second support layer 16 can be removed by a fluorine-based solvent. Therefore, the silane compound layer, which is difficult to adhere, does not remain on the second support layer 16. By forming this pollution prevention layer,
No particular change was observed in the appearance and antireflection property of the polarizing plate.

【０２０２】この偏光板１１００について、前記実施例
１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性
として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およ
びｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良
好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板１１００
をＴＦＴ素子を用いたアクティブマトリクス駆動の液晶
パネル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。こ
の液晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高
温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験および
ｄ．視認性の特性試験を行ったところ、視認性にいて解
像度が若干低下したものの、他の特性は実施例１と同様
に良好な結果が得られた。A characteristic test was conducted on this polarizing plate 1100 in the same manner as in Example 1. As a result, as the characteristics of the polarizing plate, a. Adhesion, b. Scratch resistance, c. Chemical resistance and d. Good results were obtained in the same manner as in Example 1 in each property of anti-staining property. Furthermore, the polarizing plate 1100 of this example
Was attached to the front surface of an active matrix driven liquid crystal panel using a TFT element to prepare a liquid crystal display panel. Regarding this liquid crystal display panel, a. High temperature and high humidity test, b. Thermal shock test, c. Sun exposure test and d. When a visibility characteristic test was conducted, the resolution was slightly lowered in terms of visibility, but other characteristics were as good as in Example 1.

【０２０３】（実施例１２）この偏光板１２００は、偏
光基板１０上にアンダーコート層２０、反射防止層３０
および汚染防止層４０が順次積層された構造となってい
る。なお、前記偏光基板１０の構成は、前記実施例１の
偏光基板と同様の構成を有するため、その詳細な説明を
省略する。(Example 12) This polarizing plate 1200 comprises an undercoat layer 20 and an antireflection layer 30 on a polarizing substrate 10.
The pollution prevention layer 40 and the pollution prevention layer 40 are sequentially stacked. Since the structure of the polarizing substrate 10 is the same as that of the polarizing substrate of the first embodiment, detailed description thereof will be omitted.

【０２０４】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは１μｍ）のシ
ロキサン系樹脂にシリカが分散され、防眩性が付与され
ている。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５μｍ
（サンプルでは０．３μｍ）である。The undercoat layer 20 has a thickness of 0.5.
Silica is dispersed in a siloxane-based resin having a particle size of up to 20 μm (1 μm in the test sample described later) to impart antiglare properties. The silica has an average particle size of 0.1 to 5 μm.
(0.3 μm in the sample).

【０２０５】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で５Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は３５、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は８０ｎｍ、および曇度は７％であった。As an example of the film characteristics of the undercoat layer 20 of this example, the surface hardness is 5H in pencil hardness,
Glossiness (Ga60 degree) is 35, center line average roughness (Ra)
Of 80 nm and haze of 7%.

【０２０６】前記反射防止層３０は、膜厚０．０８〜１
μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、５層構造を成
している。この膜構成は、アンダーコート層２０側か
ら、ＳｉＯ₂ 層がλ／４、ＺｒＯ₂ 層とＳｉＯ₂ 層の積
層がλ／４、ＺｒＯ₂ 層がλ／４、最上層であるＳｉＯ
₂ 層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）である。The antireflection layer 30 has a film thickness of 0.08 to 1
μm (0.3 μm in the sample), forming a five-layer structure. In this film structure, the SiO ₂ layer is λ / 4, the stack of the ZrO ₂ layer and the SiO ₂ layer is λ / 4, the ZrO ₂ layer is λ / 4, and the uppermost layer is SiO from the undercoat layer 20 side.
_{The two} layers are λ / 4 (where λ = 520 nm).

【０２０７】前記汚染防止層４０は、２−（パーフルオ
ロノニル）−エチルブチルージアミノシランからなる厚
さ２０〜８００オングストローム（サンプルにおいては
１００オングストローム以下）の層から構成されてい
る。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以上
であり、優れた撥水性を示した。また、撥油性も有して
いた。前記汚染防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．
４５であり、したがってｎｄが０．１μｍより小さいこ
とが確認された。The antifouling layer 40 is composed of a layer of 2- (perfluorononyl) -ethylbutyl-diaminosilane having a thickness of 20 to 800 Å (100 Å or less in the sample). The antifouling layer 40 had a contact angle of water of 100 degrees or more and exhibited excellent water repellency. It also had oil repellency. The contamination prevention layer 40 has a refractive index n of 1.25 to 1.
45, thus confirming that nd is smaller than 0.1 μm.

【０２０８】次に、本実施例の偏光板１２００の製造方
法について述べる。Next, a method for manufacturing the polarizing plate 1200 of this embodiment will be described.

【０２０９】まず、偏光基板１０の表面に、実施例２で
用いたと同様のシリカ粒子が分散されたシロキサン系樹
脂塗布液をロールコート法によって塗布し、その後８０
℃に加熱してシロキサン系樹脂を硬化させ、アンダーコ
ート層２０を形成した。First, the surface of the polarizing substrate 10 was coated with a siloxane resin coating solution in which silica particles similar to those used in Example 2 were dispersed, by a roll coating method, and then 80
The undercoat layer 20 was formed by heating to ℃ to cure the siloxane resin.

【０２１０】ついで、この偏光基板を真空槽内にセット
し、例えば電子ビーム加熱による真空蒸着法により、基
板温度５０℃で、ＳｉＯ₂ 層をλ／４、ＺｒＯ₂ 層とＳ
ｉＯ₂ 層との積層をλ／４、ＺｒＯ₂ 層をλ／４、Ｓｉ
Ｏ₂ 層をλ／４（λ＝５２０ｎｍ）の膜厚で順次形成
し、反射防止層３０を形成した。得られた偏光板をメタ
ノールで洗浄し、十分に乾燥させた。Then, this polarizing substrate was set in a vacuum chamber, and the SiO ₂ layer was λ / 4, the ZrO ₂ layer and the S were formed at a substrate temperature of 50 ° C. by, for example, a vacuum evaporation method by electron beam heating.
Lamination with iO ₂ layer is λ / 4, ZrO ₂ layer is λ / 4, Si
An O ₂ layer was sequentially formed with a film thickness of λ / 4 (λ = 520 nm) to form an antireflection layer 30. The obtained polarizing plate was washed with methanol and dried sufficiently.

【０２１１】ついで、「フロリナートＦＣ−４０」に含
フッ素シラン化合物として２−（パーフルオロノニル）
−エチルブチルージアミノシランを１０重量％溶解させ
た溶液に上述した偏光板を２０℃において５分間浸漬さ
せた。ついで、３ｃｍ／秒の速度で偏光板を引き上げた
後、相対湿度５０％、温度４０℃の雰囲気で１時間放置
した。この状態では、偏光板の両面に１μｍ程度のかな
り厚い塗布層が形成され、塗布面は若干不均一であり、
かつ外観上は白濁していた。Then, 2- (perfluorononyl) was used as a fluorine-containing silane compound in "Fluorinate FC-40".
The above polarizing plate was immersed in a solution in which 10% by weight of ethylbutyl-diaminosilane was dissolved at 20 ° C. for 5 minutes. Then, after pulling up the polarizing plate at a speed of 3 cm / sec, it was left for 1 hour in an atmosphere of relative humidity 50% and temperature 40 ° C. In this state, a fairly thick coating layer of about 1 μm is formed on both sides of the polarizing plate, and the coating surface is slightly uneven.
Moreover, it was cloudy in appearance.

【０２１２】その後、「フロリナートＦＣ−４０」に偏
光板を１分間浸漬することによって偏光板の洗浄を行い
未反応の含フッ素シラン化合物を除去した。Thereafter, the polarizing plate was washed by immersing the polarizing plate in "Fluorinert FC-40" for 1 minute to remove the unreacted fluorine-containing silane compound.

【０２１３】前記含フッ素シラン化合物は、偏光基板１
０の支持層を構成するＴＡＣと反応しないため、第２の
支持層１６上に付着した未反応の含フッ素シラン化合物
をフッ素系溶剤によって除去することができる。したが
って、第２の支持層１６上に接着が困難なシラン化合物
層が残存していない。また、このようにして得られた偏
光板は、汚染防止層の形成によって外観ならびに反射防
止特性において特に変化は見られなかった。The fluorine-containing silane compound is used for the polarizing substrate 1
Since it does not react with TAC constituting the support layer of No. 0, the unreacted fluorine-containing silane compound attached on the second support layer 16 can be removed by a fluorine-based solvent. Therefore, the silane compound layer, which is difficult to adhere, does not remain on the second support layer 16. In addition, the polarizing plate thus obtained did not show any particular change in appearance and antireflection property due to the formation of the antifouling layer.

【０２１４】この偏光板１２００について、前記実施例
１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性
として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およ
びｄ．汚染防止性の各特性において、汚れの拭き取り性
が悪かったものの、その他の特性は実施例１と同様に良
好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板１２００
をＭＩＭ素子を用いたアクティブマトリクス駆動の液晶
パネル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。こ
の液晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高
温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験および
ｄ．視認性の特性試験を行ったところ、実施例１と同様
に良好な結果が得られた。A characteristic test was conducted on this polarizing plate 1200 in the same manner as in Example 1. As a result, as the characteristics of the polarizing plate, a. Adhesion, b. Scratch resistance, c. Chemical resistance and d. In each property of anti-staining property, the stain-wipeability was poor, but other properties were as good as in Example 1. Furthermore, the polarizing plate 1200 of this embodiment
Was attached to the front surface of a liquid crystal panel driven by an active matrix using MIM elements to prepare a liquid crystal display panel. Regarding this liquid crystal display panel, a. High temperature and high humidity test, b. Thermal shock test, c. Sun exposure test and d. As a result of a visibility characteristic test, good results were obtained as in Example 1.

【０２１５】（実施例１３）本実施例および後述する実
施例１４〜１６においては、反射防止層３０が前記実施
例のように蒸着法ではなく、ディップコーティングなど
の塗布法によって形成されている点に特徴を有してい
る。(Example 13) In this example and Examples 14 to 16 which will be described later, the antireflection layer 30 is formed by a coating method such as dip coating instead of the vapor deposition method as in the above example. It has features.

【０２１６】本実施例の偏光板は、その基本的構造が前
記実施例１と同様であるため、図１を参照しながら説明
する。The basic structure of the polarizing plate of this embodiment is the same as that of the first embodiment, and therefore it will be described with reference to FIG.

【０２１７】この偏光板１３００は、偏光基板１０上に
アンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止
層４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１
０は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるの
で、その詳細な説明を省略する。前記アンダーコート層
２０は、厚さ０．５〜２０μｍ（後述する試験のサンプ
ルでは３μｍ）のアクリル系樹脂にシリカが分散され、
防眩性が付与されている。前記シリカは、平均粒子径が
０．１〜５μｍ（サンプルでは１．２μｍ）である。This polarizing plate 1300 has a structure in which an undercoat layer 20, an antireflection layer 30, and a pollution prevention layer 40 are sequentially laminated on a polarizing substrate 10. Polarizing substrate 1
Since 0 is substantially the same as the polarizing substrate of the first embodiment, detailed description thereof will be omitted. In the undercoat layer 20, silica is dispersed in an acrylic resin having a thickness of 0.5 to 20 μm (3 μm in a test sample described later),
Antiglare property is imparted. The silica has an average particle size of 0.1 to 5 μm ( 1.2 μm in the sample).

【０２１８】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は２５、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は２５０ｎｍ、および曇度は１５％であった。As an example of the film characteristics of the undercoat layer 20 of this embodiment, the surface hardness is 3H in pencil hardness,
Glossiness (Ga60 degree) is 25, center line average roughness (Ra)
Of 250 nm and haze of 15%.

【０２１９】前記反射防止層３０は、約８５０オングス
トロームのシロキサン系樹脂からなる高屈折率層と、膜
厚約９５０オングストロームのアクリル系樹脂からなる
低屈折率層から形成されている。前記高屈折率層は、シ
ロキサン系樹脂に平均粒子径が約５０オングストローム
のチタニア粒子と平均粒子径が約８０オングストローム
のシリカ粒子が分散されている。The antireflection layer 30 is composed of a high refractive index layer made of a siloxane resin having a thickness of about 850 Å and a low refractive index layer made of an acrylic resin having a thickness of about 950 Å. In the high refractive index layer, titania particles having an average particle size of about 50 Å and silica particles having an average particle size of about 80 Å are dispersed in a siloxane resin.

【０２２０】前記高屈折率層は、その屈折率がこの実施
例では、１．６４であった。また、前記低屈折率層は、
その屈折率がこの実施例では１．４２であった。この反
射防止層３０は、空気中の反射率が５５０ｎｍで０．５
％であり、高い反射防止効果が確認された。The refractive index of the high refractive index layer was 1.64 in this example. Further, the low refractive index layer,
Its refractive index was 1.42 in this example. This antireflection layer 30 has a reflectance in air of 0.5 at 550 nm.
%, And a high antireflection effect was confirmed.

【０２２１】前記汚染防止層４０は、２−（パーフルオ
ロオクチル）−エチルトリアミノシランからなる厚さ２
０〜８００オングストローム（サンプルにおいては２０
０オングストローム）の層から構成されている。この汚
染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であり、優
れた撥水性を示し、さらに一般の有機溶剤に濡れず、優
れた撥油性も示した。また、前記汚染防止層４０は屈折
率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄ
（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さい
ことが確認された。The anti-contamination layer 40 is made of 2- (perfluorooctyl) -ethyltriaminosilane and has a thickness of 2
0-800 angstrom (20 in the sample
0 angstrom). The antifouling layer 40 had a contact angle of water of 100 degrees or more, showed excellent water repellency, did not get wet with a general organic solvent, and exhibited excellent oil repellency. In addition, the anti-contamination layer 40 has a refractive index n of 1.25 to 1.45.
It was confirmed that (d: thickness of contamination prevention layer 40) was smaller than 0.1 μm.

【０２２２】次に、本実施例の偏光板１３００の製造方
法について述べる。Next, a method of manufacturing the polarizing plate 1300 of this embodiment will be described.

【０２２３】まず、偏光基板１０の表面に、シリカ粒子
が分散されたアクリル樹脂塗布液をロールコート法によ
って塗布し、その後紫外線を照射してアクリル樹脂を硬
化させ、アンダーコート層２０を形成した。First, an acrylic resin coating liquid in which silica particles were dispersed was applied to the surface of the polarizing substrate 10 by a roll coating method, and then the acrylic resin was cured by irradiating ultraviolet rays to form an undercoat layer 20.

【０２２４】ついで、メチルセロソロブに５０重量％の
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを溶解し
触媒量（塗布液の０．０１重量％程度）の塩酸を加え、
室温で撹拌して溶液を調整した。この溶液にさらに前記
チタニア粒子とシリカ粒子とを混合し、さらに過塩素酸
マグネシウムを触媒量（塗布液に対して０．０５重量％
程度）添加し、十分に撹拌し、塗布液を調整した。この
塗布液は均質なゾルであり、長期間にわたって良好な保
存安定性を有し、沈澱等が生じなかった。この塗布液に
偏光板を浸漬し、ディップコーティングにより塗膜を形
成し、さらに４０〜１００℃（サンプルでは６０℃）に
加熱して高屈折率層を形成した。Then, 50% by weight of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane was dissolved in methyl cellosolove, and a catalytic amount (about 0.01% by weight of the coating solution) of hydrochloric acid was added.
The solution was prepared by stirring at room temperature. The titania particles and silica particles were further mixed with this solution, and magnesium perchlorate was added in a catalytic amount (0.05% by weight based on the coating liquid).
Approximately) and stirred sufficiently to prepare a coating solution. This coating liquid was a homogeneous sol, had good storage stability for a long period of time, and did not cause precipitation or the like. A polarizing plate was dipped in this coating liquid to form a coating film by dip coating, and further heated to 40 to 100 ° C. (60 ° C. in the sample) to form a high refractive index layer.

【０２２５】次いで、５重量％のパーフルオロアルキル
アクリレートのオリゴマーをフッ素系溶媒（トリフルオ
ロメチルベンゼン）に溶解させ、塗布液を調整した。こ
の塗布液を用いてディップコーティングにより偏光板上
に塗布層を形成し、３０〜１００℃（サンプルでは５０
℃）で５〜１８０分間（サンプルでは３０分間）加熱し
た後、紫外線を例えば１ジュールの強さで照射し、アク
リル系樹脂の低屈折率層を形成した。Next, 5% by weight of an oligomer of perfluoroalkyl acrylate was dissolved in a fluorine-based solvent (trifluoromethylbenzene) to prepare a coating solution. A coating layer is formed on the polarizing plate by dip coating using this coating solution, and the temperature is 30 to 100 ° C.
After heating at (° C.) for 5 to 180 minutes (30 minutes for the sample), ultraviolet rays were irradiated at an intensity of 1 joule, for example, to form a low refractive index layer of an acrylic resin.

【０２２６】このようにして形成された２層構造の反射
防止層３０は、非常に緻密かつ均質で、クラック等が発
生していないことが確認された。また、この実施例にお
いては、塗布層の膜厚を５０オングストローム程度の範
囲で十分に制御できることがわかった。It was confirmed that the antireflection layer 30 having the two-layer structure thus formed was very dense and homogeneous and had no cracks or the like. Further, in this example, it was found that the film thickness of the coating layer could be sufficiently controlled within the range of about 50 Å.

【０２２７】次いで、実施例５と同様にして、多孔質ア
ルミナのタブレットに２−（パーフルオロオクチル）−
エチルトリアミノシランを含浸させた。このタブレット
を蒸発源として真空蒸着により汚染防止層４０を形成し
た。真空蒸着においては、例えば真空槽内を１０^-6Ｔｏ
ｒｒまで排気し、前記偏光板を酸素プラズマに曝した
後、タブレットを電気抵抗で加熱し、前記フッ素シラン
化合物のみを所定時間（サンプルでは３０秒間）蒸発さ
せ、反射防止層３０上に含フッ素シラン化合物層を堆積
させた。この汚染防止層４０の形成によって偏光板の外
観ならびに反射防止特性において、特に変化は見られな
かった。Then, in the same manner as in Example 5, 2- (perfluorooctyl) -was added to the porous alumina tablets.
Impregnated with ethyltriaminosilane. The contamination prevention layer 40 was formed by vacuum vapor deposition using the tablets as an evaporation source. In vacuum deposition, for example, the inside of the vacuum chamber is 10 ⁻⁶ To
After exhausting to rr and exposing the polarizing plate to oxygen plasma, the tablet is heated by electric resistance to evaporate only the fluorine silane compound for a predetermined time (30 seconds in the sample), and the fluorine-containing silane on the antireflection layer 30. A compound layer was deposited. No particular change was observed in the appearance and the antireflection property of the polarizing plate due to the formation of the stain prevention layer 40.

【０２２８】この偏光板１３００について、前記実施例
１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性
として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およ
びｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良
好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板１３００
をＭＩＭ素子によるアクティブマトリクス駆動の液晶パ
ネル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。この
液晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高温
高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験および
ｄ．視認性の特性試験を行ったところ、実施例１と同様
に良好な結果が得られた。A characteristic test was conducted on this polarizing plate 1300 in the same manner as in Example 1. As a result, as the characteristics of the polarizing plate, a. Adhesion, b. Scratch resistance, c. Chemical resistance and d. Good results were obtained in the same manner as in Example 1 in each property of anti-staining property. Furthermore, the polarizing plate 1300 of this embodiment
Was attached to the front surface of a liquid crystal panel driven by an MIM element to form a liquid crystal display panel. Regarding this liquid crystal display panel, a. High temperature and high humidity test, b. Thermal shock test, c. Sun exposure test and d. As a result of a visibility characteristic test, good results were obtained as in Example 1.

【０２２９】（実施例１４）本実施例の偏光板は、前記
実施例２の偏光板２００と基本的な構造が同様であるた
め、図２を参照しながら説明する。Example 14 Since the polarizing plate of this example has the same basic structure as the polarizing plate 200 of Example 2, it will be described with reference to FIG.

【０２３０】この偏光板１４００は、偏光基板１０上に
接着層５２を介して樹脂フィルム５０、アンダーコート
層２０、反射防止層３０および汚染防止層４０が順次積
層された構造となっている。なお、偏光基板１０の構成
は、前記実施例１の偏光基板と同様の構成を有するた
め、その詳細な説明を省略する。The polarizing plate 1400 has a structure in which a resin film 50, an undercoat layer 20, an antireflection layer 30 and a pollution prevention layer 40 are sequentially laminated on a polarizing substrate 10 with an adhesive layer 52 interposed therebetween. Since the structure of the polarization substrate 10 is the same as that of the polarization substrate of the first embodiment, detailed description thereof will be omitted.

【０２３１】前記樹脂フィルム５０は、厚さ０．０３〜
１ｍｍ（後述する試験のサンプルでは０．２ｍｍ）のア
クリル樹脂から構成されている。The resin film 50 has a thickness of 0.03 to
It is made of 1 mm (0.2 mm in the test sample described later) acrylic resin.

【０２３２】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは５μｍ）のシ
ロキサン系樹脂にシリカが分散され、防眩性が付与され
ている。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５μｍ
（サンプルでは４μｍ）である。The undercoat layer 20 has a thickness of 0.5.
Silica is dispersed in a siloxane-based resin having a particle size of up to 20 μm (5 μm in the test sample described later) to impart antiglare properties. The silica has an average particle size of 0.1 to 5 μm.
(4 μm in the sample).

【０２３３】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で５Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は４８、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は９８０ｎｍ、および曇度は１５％であった。To give an example of the film characteristics of the undercoat layer 20 of this example, the surface hardness is 5H in pencil hardness,
Glossiness (Ga60 degree) is 48, center line average roughness (Ra)
Was 980 nm, and the haze was 15%.

【０２３４】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．１μｍ）であり、多孔質のシリ
カ系非晶質体の超低屈折率層からなる。この反射防止層
３０は、その屈折率が１．２５〜１．４５（サンプルで
は１．３２）である。また、反射防止層３０の空気中の
反射率は可視波長領域全体にわたって０．５％程度であ
り、高い反射防止効果があることが確認された。The antireflection layer 30 has a film thickness of 0.05 to 1
μm (0.1 μm in the sample) and is composed of a porous ultra-low refractive index layer of silica-based amorphous material. The antireflection layer 30 has a refractive index of 1.25 to 1.45 (1.32 in the sample). In addition, the reflectance of the antireflection layer 30 in air was about 0.5% over the entire visible wavelength range, and it was confirmed that the antireflection layer 30 has a high antireflection effect.

【０２３５】前記汚染防止層４０は、１Ｈ，１Ｈ，２
Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリクロロシランからな
る厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにおい
ては１００オングストローム以下）の層から構成されて
いる。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以
上であり、優れた撥水性を示した。また、前記汚染防止
層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したが
ってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍよ
り小さいことが確認された。The pollution prevention layer 40 is formed of 1H, 1H, 2
It is composed of a layer of H, 2H-perfluorodecyltrichlorosilane having a thickness of 20 to 800 angstroms (100 angstroms or less in the sample). The antifouling layer 40 had a contact angle of water of 100 degrees or more and exhibited excellent water repellency. Further, it was confirmed that the contamination prevention layer 40 had a refractive index n of 1.25 to 1.45, and therefore nd (d: thickness of the contamination prevention layer 40) was smaller than 0.1 μm.

【０２３６】次に、本実施例の偏光板１４００の製造方
法について述べる。Next, a method of manufacturing the polarizing plate 1400 of this embodiment will be described.

【０２３７】まず、前記樹脂フィルム５０の表面に、実
施例６で用いたと同様のシリカ粒子が分散されたシロキ
サン系樹脂塗布液をディップ法によって塗布し、その後
７０℃に加熱してシロキサン系樹脂を熱硬化させ、アン
ダーコート層２０を形成した。First, the surface of the resin film 50 is coated with a siloxane resin coating solution in which the same silica particles as those used in Example 6 are dispersed by a dipping method, and then heated to 70 ° C. to form the siloxane resin. The undercoat layer 20 was formed by thermosetting.

【０２３８】次いで、エチルセロソロブとエタノールと
の混合溶媒（両者の組成比１：１）にテトラエトキシシ
ランを溶解し、さらに純水および触媒量の塩酸を加え、
室温で撹拌して加水分解を行った。この溶液に、平均粒
子径５０〜１０００オングストローム（サンプルでは２
００オングストローム）のシリカ微粒子の分散液を混合
し、十分に撹拌して塗布液を調整した。この塗布液は均
質なゾルであり、長期間にわたって良好な保存安定性を
有し、沈澱などが見られなかった。Next, tetraethoxysilane was dissolved in a mixed solvent of ethyl cellosolve and ethanol (the composition ratio of both was 1: 1), and pure water and a catalytic amount of hydrochloric acid were further added.
Hydrolysis was performed by stirring at room temperature. This solution has an average particle size of 50 to 1000 angstroms (2 in the sample).
A dispersion liquid of silica fine particles (00 angstrom) was mixed and sufficiently stirred to prepare a coating liquid. This coating solution was a homogeneous sol, had good storage stability for a long period of time, and no precipitation was observed.

【０２３９】この塗布液を前記アンダーコート層２０の
表面にロールコーティングによって塗布し、さらに５０
〜１００℃（サンプルでは８０℃）に加熱した後、紫外
線を例えば１０ジュールの強度で照射して、反射防止層
３０を形成した。この反射防止層３０は、非常に緻密か
つ均質で、クラック等が発生していないことが確認され
た。また、この実施例においては、塗布層の膜厚を１０
０オングストローム程度の範囲で十分に制御できること
がわかった。This coating solution is applied on the surface of the undercoat layer 20 by roll coating, and then 50
After heating to ˜100 ° C. (80 ° C. for the sample), ultraviolet rays were irradiated at an intensity of, for example, 10 joules to form the antireflection layer 30. It was confirmed that the antireflection layer 30 was very dense and homogeneous, and no cracks and the like were generated. Further, in this embodiment, the thickness of the coating layer is 10
It was found that the control can be sufficiently performed in the range of about 0 angstrom.

【０２４０】ついで、「フロリナートＦＣ−４０」に含
フッ素シラン化合物として１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パ
ーフルオロデシルトリクロロシランを５重量％溶解させ
た溶液に上述した偏光板を２０℃において１分間浸漬さ
せた。ついで、１０ｃｍ／秒の速度で偏光板を引き上げ
た後、相対湿度５０％、温度５０℃の雰囲気で１０分間
放置した。その後、「フロリナ−トＦＣ−４０」によっ
て偏光板の洗浄を行い、未反応の含フッ素シラン化合物
を除去した。Then, the above-mentioned polarizing plate was immersed in a solution prepared by dissolving 5% by weight of 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyltrichlorosilane as a fluorine-containing silane compound in "Fluorinert FC-40" at 20 ° C for 1 minute. Let Then, after pulling up the polarizing plate at a speed of 10 cm / sec, it was left for 10 minutes in an atmosphere of relative humidity 50% and temperature 50 ° C. Thereafter, the polarizing plate was washed with "Fluorinate FC-40" to remove the unreacted fluorine-containing silane compound.

【０２４１】汚染防止層４０の形成によって偏光板の外
観ならびに反射防止特性において特に変化は見られなか
った。The appearance of the polarizing plate and the antireflection property were not particularly changed by the formation of the pollution prevention layer 40.

【０２４２】以上のようにして得られた樹脂フィルムの
積層体を、実施例２と同様のアクリル系接着剤を介して
偏光基板１０に貼り付けることにより本実施例の偏光板
が形成される。The laminate of the resin films obtained as described above is attached to the polarizing substrate 10 through the same acrylic adhesive as in Example 2 to form the polarizing plate of this example.

【０２４３】この偏光板１４００について、前記実施例
１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性
として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およ
びｄ．汚染防止性の各特性において、実施例１と同様に
良好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板１４０
０をＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子を用いたアクティ
ブマトリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液晶表
示パネルを作成した。この液晶表示パネルについて、実
施例１と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，
ｃ．日光暴露試験およびｄ．視認性の各特性試験を行っ
たところ、視認性においてギラツキ感があったものの、
実施例１と同様に良好な結果が得られた。A characteristic test was conducted on this polarizing plate 1400 in the same manner as in Example 1. As a result, as the characteristics of the polarizing plate, a. Adhesion, b. Scratch resistance, c. Chemical resistance and d. With respect to each property of anti-staining property, good results were obtained as in Example 1. Furthermore, the polarizing plate 140 of this embodiment
0 was attached to the front surface of a liquid crystal panel driven by an active matrix using a TFT (thin film transistor) element to prepare a liquid crystal display panel. Regarding this liquid crystal display panel, a. High temperature and high humidity test, b. Thermal shock test,
c. Sun exposure test and d. When each characteristic test of visibility was conducted, although there was a glaring feeling in visibility,
Good results were obtained as in Example 1.

【０２４４】（実施例１５）本実施例の偏光板は、その
基本的構造が前記実施例１と同様であるため、図１を参
照しながら説明する。(Example 15) The polarizing plate of this example has the same basic structure as that of Example 1, so that the description will be made with reference to FIG.

【０２４５】この偏光板１５００は、偏光基板１０上に
アンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止
層４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１
０は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるの
で、その詳細な説明を省略する。The polarizing plate 1500 has a structure in which the undercoat layer 20, the antireflection layer 30, and the pollution prevention layer 40 are sequentially laminated on the polarizing substrate 10. Polarizing substrate 1
Since 0 is substantially the same as the polarizing substrate of the first embodiment, detailed description thereof will be omitted.

【０２４６】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは３μｍ）のア
クリル系樹脂にシリカが分散され、防眩性が付与されて
いる。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５μｍ（サ
ンプルでは１μｍ）であり、その添加量はアクリル系樹
脂に対し１〜５０重量％（サンプルでは２０重量％）で
ある。The undercoat layer 20 has a thickness of 0.5.
Silica is dispersed in an acrylic resin having a thickness of up to 20 μm (3 μm in the test sample described later) to provide antiglare properties. The silica has an average particle diameter of 0.1 to 5 μm (1 μm in the sample), and the addition amount thereof is 1 to 50% by weight (20% by weight in the sample) with respect to the acrylic resin.

【０２４７】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は３５、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は１８０ｎｍ、および曇度は１３％であった。To give an example of the film characteristics of the undercoat layer 20 of this example, the surface hardness is 3H in pencil hardness,
Glossiness (Ga60 degree) is 35, center line average roughness (Ra)
Of 180 nm and haze of 13%.

【０２４８】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．０９５μｍ）であり、アクリル
系樹脂の超低屈折率層から構成されている。この反射防
止層３０は、その屈折率が１．２５〜１．４５（サンプ
ルでは１．３８）である。前記アクリル系樹脂として
は、アクリル酸エステルのエステル残基にフルオロアル
キル基を導入したモノマーの重合体、またはフルオロ基
を有する２種以上のモノマーの重合体等を好適に用いる
ことができる。The antireflection layer 30 has a film thickness of 0.05 to 1
μm (0.095 μm in the sample), and is composed of an ultra low refractive index layer of acrylic resin. The antireflection layer 30 has a refractive index of 1.25 to 1.45 (1.38 in the sample). As the acrylic resin, a polymer of a monomer in which a fluoroalkyl group is introduced into an ester residue of an acrylic ester, a polymer of two or more kinds of monomers having a fluoro group, or the like can be preferably used.

【０２４９】前記汚染防止層４０は、ビス（１Ｈ，１Ｈ
−パーフルオロブチル）ジアミノシランからなる厚さ２
０〜８００オングストローム（サンプルにおいては２０
０オングストローム）の層から構成されている。この汚
染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であり、優
れた撥水性を示した。また、前記汚染防止層４０は屈折
率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄ
（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さい
ことが確認された。The contamination prevention layer 40 is made of bis (1H, 1H
-Perfluorobutyl) diaminosilane thickness 2
0-800 angstrom (20 in the sample
0 angstrom). The antifouling layer 40 had a contact angle of water of 100 degrees or more and exhibited excellent water repellency. In addition, the anti-contamination layer 40 has a refractive index n of 1.25 to 1.45.
It was confirmed that (d: thickness of contamination prevention layer 40) was smaller than 0.1 μm.

【０２５０】次に、本実施例の偏光板１５００の製造方
法の一例について述べる。Next, an example of a method of manufacturing the polarizing plate 1500 of this embodiment will be described.

【０２５１】まず、偏光基板１０の表面に、実施例１と
同様なシリカ粒子が分散されたアクリル樹脂塗布液をロ
ールコート法によって塗布し、その後紫外線を照射して
アクリル樹脂を硬化させ、アンダーコート層２０を形成
した。First, on the surface of the polarizing substrate 10, an acrylic resin coating liquid in which silica particles similar to those in Example 1 were dispersed was applied by a roll coating method, and then the acrylic resin was cured by irradiating ultraviolet rays to undercoat. Layer 20 was formed.

【０２５２】次いで、フッ素系溶媒（ビス（トリフルオ
ロメチル）ベンゼン）にフルオロアルキルアクリレート
を３重量％の濃度で溶解させ、塗布液を調整した。この
塗布液をディップコーティングにより前記偏光板の表面
に塗布し、３０〜１００℃（サンプルでは５０℃）で５
〜１８０分間（サンプルでは３０分間）加熱した後、電
子線を例えば１００ＫＶの加速電圧で照射し、アクリル
系樹脂からなる反射防止層３０を形成した。この反射防
止層３０は、非常に緻密かつ均質で、クラック等が発生
していないことが確認された。また、この方法により膜
厚は５０オングストローム程度の範囲で十分に制御でき
ることが確認された。Next, a fluoroalkyl acrylate was dissolved in a fluorine-based solvent (bis (trifluoromethyl) benzene) at a concentration of 3% by weight to prepare a coating solution. This coating solution is applied to the surface of the polarizing plate by dip coating, and the temperature is 30 to 100 ° C. (50 ° C. for the sample).
After heating for 180 minutes (30 minutes for the sample), the electron beam was irradiated at an accelerating voltage of 100 KV, for example, to form the antireflection layer 30 made of an acrylic resin. It was confirmed that the antireflection layer 30 was very dense and homogeneous, and no cracks and the like were generated. Further, it was confirmed that the film thickness can be sufficiently controlled in the range of about 50 Å by this method.

【０２５３】ついで、アルゴンとビス（１Ｈ，１Ｈ−パ
ーフルオロブチル）ジアミノシランを９：１の割合で混
合した気体を真空度が１〜０．０００１Ｔｏｒｒ（サン
プルでは０．０１Ｔｏｒｒ）になるように真空槽内に導
入し、例えば１３．５６ＭＨｚの高周波磁場で雰囲気を
プラズマ化し、前記含フッ素シラン化合物を反射防止層
３０上に堆積させ、汚染防止層４０を形成した。この汚
染防止層４０の形成によって偏光板の外観ならびに反射
防止特性において、特に変化は見られなかった。Then, a gas prepared by mixing argon and bis (1H, 1H-perfluorobutyl) diaminosilane at a ratio of 9: 1 was evacuated to a vacuum degree of 1 to 0.0001 Torr (0.01 Torr in the sample). The pollution prevention layer 40 was formed by introducing the silane compound into the tank and plasmatizing the atmosphere in a high frequency magnetic field of 13.56 MHz to deposit the fluorine-containing silane compound on the antireflection layer 30. No particular change was observed in the appearance and the antireflection property of the polarizing plate due to the formation of the stain prevention layer 40.

【０２５４】この偏光板１５００について、前記実施例
１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性
として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およ
びｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良
好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板１５００
を単純マトリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液
晶表示パネルを作成した。この液晶表示パネルについ
て、実施例１と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃
試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．視認性の特性試験を
行ったところ、実施例１と同様に良好な結果が得られ
た。なお、視認性の試験においては、前記液晶表示パネ
ルの背面に反射板を配設したサンプルを用いた。With respect to this polarizing plate 1500, a characteristic test was conducted in the same manner as in Example 1. As a result, as the characteristics of the polarizing plate, a. Adhesion, b. Scratch resistance, c. Chemical resistance and d. Good results were obtained in the same manner as in Example 1 in each property of anti-staining property. Furthermore, the polarizing plate 1500 of this embodiment
Was attached to the front surface of a liquid crystal panel driven by a simple matrix to create a liquid crystal display panel. Regarding this liquid crystal display panel, a. High temperature and high humidity test, b. Thermal shock test, c. Sun exposure test and d. As a result of a visibility characteristic test, good results were obtained as in Example 1. In addition, in the visibility test, a sample in which a reflection plate was provided on the back surface of the liquid crystal display panel was used.

【０２５５】（実施例１６）本実施例に係る偏光板は、
前記実施例１の偏光板１００と基本的な構造が同一なた
め、図１を参照しながら説明する。Example 16 A polarizing plate according to this example is
Since the basic structure is the same as that of the polarizing plate 100 of Example 1, it will be described with reference to FIG.

【０２５６】この偏光板１６００は、偏光基板１０上に
アンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止
層４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１
０は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるの
で、その詳細な説明を省略する。This polarizing plate 1600 has a structure in which the undercoat layer 20, the antireflection layer 30, and the pollution prevention layer 40 are sequentially laminated on the polarizing substrate 10. Polarizing substrate 1
Since 0 is substantially the same as the polarizing substrate of the first embodiment, detailed description thereof will be omitted.

【０２５７】前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５
〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは１０μｍ）の
アクリル系樹脂から構成されている。The undercoat layer 20 has a thickness of 0.5.
.About.20 .mu.m (10 .mu.m in the test sample described later) is made of acrylic resin.

【０２５８】このアンダーコート層２０は、前記実施例
１と異なり、防眩性を高めるためのシリカが分散されて
いない。その代わり、その表面には転写法により微細な
凹凸が形成されて、防眩性が付与されている。Unlike the first embodiment, the undercoat layer 20 does not contain silica for enhancing the antiglare property. Instead, fine irregularities are formed on the surface by a transfer method to impart antiglare properties.

【０２５９】本実施例のアンダーコート層２０の膜特性
の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、
光沢度（Ｇａ６０度）は９０、中心線平均粗さ（Ｒａ）
は１００ｎｍ、および曇度は３％であった。As an example of the film characteristics of the undercoat layer 20 of this example, the surface hardness is 3H in pencil hardness,
Glossiness (Ga60 degree) is 90, center line average roughness (Ra)
Was 100 nm, and the haze was 3%.

【０２６０】前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１
μｍ（サンプルでは０．２１μｍ）であり、チタニア系
非晶質体の高屈折率層とシロキサン系樹脂の低屈折率層
とから構成されている。前記高屈折率層は、屈折率が
１．５〜２．０（サンプルでは１．７５）であり、前記
低屈折率層はその屈折率が１．３〜１．５（サンプルで
は１．４８）である。また、前記高屈折率層には、平均
粒子径が５０〜１０００オングストローム（サンプルで
は５０オングストローム）のチタニア粒子が分散されて
いる。前記低屈折率層には、平均粒子径５０〜１０００
オングストローム（サンプルでは８０オングストロー
ム）のシリカ粒子が分散されている。The antireflection layer 30 has a film thickness of 0.05 to 1
μm (0.21 μm in the sample), and is composed of a high refractive index layer of a titania-based amorphous material and a low refractive index layer of a siloxane-based resin. The high refractive index layer has a refractive index of 1.5 to 2.0 (1.75 in the sample), and the low refractive index layer has a refractive index of 1.3 to 1.5 (1.48 in the sample). ). Further, in the high refractive index layer, titania particles having an average particle diameter of 50 to 1000 angstroms (50 angstroms in the sample) are dispersed. The low refractive index layer has an average particle size of 50 to 1000.
Silica particles of angstrom (80 angstrom in the sample) are dispersed.

【０２６１】この反射防止層３０は、非常に緻密かつ均
質で、クラック等が発生していないことが確認された。
また、反射防止層３０の空気中における反射率は、５５
０ｎｍで０．５％であり、高い反射防止効果が確認され
た。It was confirmed that the antireflection layer 30 was very dense and homogeneous, and that cracks and the like did not occur.
The reflectance of the antireflection layer 30 in air is 55.
It was 0.5% at 0 nm, and a high antireflection effect was confirmed.

【０２６２】前記汚染防止層４０は、１Ｈ，１Ｈ，２
Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトキシシランか
らなる厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルに
おいては１００オングストローム以下）の層から構成さ
れている。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００
度以上であり、優れた撥水性を示した。また、前記汚染
防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、し
たがってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μ
ｍより小さいことが確認された。The pollution prevention layer 40 is formed of 1H, 1H, 2
It is composed of a layer of H, 2H-perfluorooctyltriethoxysilane having a thickness of 20 to 800 Å (100 Å or less in the sample). This pollution prevention layer 40 has a water contact angle of 100.
It was more than the degree and showed excellent water repellency. The contamination prevention layer 40 has a refractive index n of 1.25 to 1.45, and therefore nd (d: thickness of the contamination prevention layer 40) is 0.1 μm.
It was confirmed that it was smaller than m.

【０２６３】次に、本実施例の偏光板１６００の製造方
法について述べる。Next, a method of manufacturing the polarizing plate 1600 of this embodiment will be described.

【０２６４】まず、偏光基板１０の表面に、実施例４で
用いたと同様のアクリル樹脂塗布液を用い、実施例４と
同様な転写法によってアンダーコート層２０の表面に微
細な凹凸を形成した。First, the same acrylic resin coating solution as that used in Example 4 was used to form fine irregularities on the surface of the undercoat layer 20 on the surface of the polarizing substrate 10 by the same transfer method as in Example 4.

【０２６５】ついで、エチルセロソロブとエタノールと
の混合溶媒（セロソロブ：エタノール＝４：１）にテト
ラブトキシチタンを濃度２０重量％で溶解し、触媒量
（塗布液に対し０．３重量％程度）の酢酸を加え、室温
で撹拌した。この溶液に前記チタニア粒子を分散させ、
十分に撹拌して塗布液を調整した。この塗布液は均質な
ゾルであり、長期間良好な保存安定性が得られ、沈澱は
見られなかった。この塗布液をスピンコーティングによ
り偏光板上に塗布し、５０〜１００℃（サンプルでは６
０℃）に加熱してチタニア系非晶質体の高屈折率層を形
成した。Then, tetrabutoxytitanium was dissolved in a mixed solvent of ethyl cellosolve and ethanol (cellosolve: ethanol = 4: 1) at a concentration of 20% by weight, and a catalytic amount (about 0.3% by weight with respect to the coating solution) of acetic acid was dissolved. Was added and stirred at room temperature. Dispersing the titania particles in this solution,
The coating liquid was prepared by sufficiently stirring. This coating solution was a homogeneous sol, good storage stability was obtained for a long period of time, and no precipitation was observed. This coating solution is applied onto a polarizing plate by spin coating, and the temperature is 50 to 100 ° C (6 in the sample.
It was heated to 0 ° C.) to form a high refractive index layer of a titania-based amorphous body.

【０２６６】次いで、メチルセロソロブにγ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシランを濃度２０重量％で溶
解し、触媒量（塗布液に対し０．０１重量％程度）の塩
酸を加え、室温で撹拌した。この溶液に前記シリカ粒子
を分散させて混合し、さらに、過塩素酸マグネシウムを
触媒量（塗布液に対し０．０５重量％程度）添加し、十
分に撹拌して塗布液を調整した。この塗布液は均質なゾ
ルであり、長期間にわたって良好な保存安定性を有し、
沈澱も見られなかった。この塗布液をディップコーティ
ングにより偏光板に塗布し、５０〜１００℃（サンプル
では６０℃）で加熱して、シロキサン系樹脂の低屈折率
層を形成した。このようにして２層構造の反射防止層３
０が形成された。Then, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane was dissolved in methyl cellosome at a concentration of 20% by weight, a catalytic amount (about 0.01% by weight based on the coating solution) of hydrochloric acid was added, and the mixture was stirred at room temperature. The silica particles were dispersed and mixed in this solution, and a catalytic amount of magnesium perchlorate (about 0.05% by weight with respect to the coating solution) was further added, followed by sufficient stirring to prepare the coating solution. This coating solution is a homogeneous sol, has good storage stability for a long period of time,
No precipitation was observed. This coating liquid was applied to a polarizing plate by dip coating and heated at 50 to 100 ° C. (60 ° C. in the sample) to form a low refractive index layer of siloxane resin. In this way, the antireflection layer 3 having a two-layer structure is formed.
0 was formed.

【０２６７】ついで、上記の工程で得られた偏光板を酸
素プラズマに曝した後スピンナーにセットした。そし
て、「フロリナートＦＣ−７０」に含フッ素シラン化合
物として１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチ
ルトリエトキシシランを３重量％溶解させた溶液を上述
した偏光板に滴下してスピンナーを約３，０００ｒｐｍ
の回転速度で回転させ、溶液を塗布した。その後、偏光
板を相対湿度５０％、温度５０℃の雰囲気で１時間放置
し、さらに、「フロリナ−トＦＣ−７０」によって偏光
板の洗浄を行い、未反応の含フッ素シラン化合物を除去
し、汚染防止層４０を形成した。この汚染防止層４０の
形成によって、偏光板の外観ならびに反射防止特性にお
いて、特に変化は見られなかった。Next, the polarizing plate obtained in the above step was exposed to oxygen plasma and then set on a spinner. Then, a solution prepared by dissolving 3% by weight of 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctyltriethoxysilane as a fluorine-containing silane compound in "Fluorinert FC-70" was dropped on the above-mentioned polarizing plate to spinner about 3. 000 rpm
The solution was applied by rotating at a rotation speed of. Then, the polarizing plate was left for 1 hour in an atmosphere having a relative humidity of 50% and a temperature of 50 ° C., and the polarizing plate was washed with “Fluorinate FC-70” to remove the unreacted fluorine-containing silane compound. The pollution prevention layer 40 was formed. No particular change was observed in the appearance and the antireflection property of the polarizing plate due to the formation of the pollution prevention layer 40.

【０２６８】この偏光板１６００について、前記実施例
１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性
として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およ
びｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良
好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板１６００
をＭＩＭ素子を用いたアクティブマトリクス駆動の液晶
パネル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。こ
の液晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高
温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験および
ｄ．視認性の特性試験を行ったところ、実施例１と同様
に良好な結果が得られた。A characteristic test was conducted on this polarizing plate 1600 in the same manner as in Example 1 above. As a result, as the characteristics of the polarizing plate, a. Adhesion, b. Scratch resistance, c. Chemical resistance and d. Good results were obtained in the same manner as in Example 1 in each property of anti-staining property. Furthermore, the polarizing plate 1600 of this example
Was attached to the front surface of a liquid crystal panel driven by an active matrix using MIM elements to prepare a liquid crystal display panel. Regarding this liquid crystal display panel, a. High temperature and high humidity test, b. Thermal shock test, c. Sun exposure test and d. As a result of a visibility characteristic test, good results were obtained as in Example 1.

【０２６９】[0269]

【発明の効果】本発明によれば、特定のシラン化合物か
らなる汚染防止層を有することにより、優れた視認性を
確保しながら、撥水性，汚染防止性に優れた偏光板、お
よびこの偏光板を効率よく製造することができる製造方
法を提供することができる。According to the present invention, a polarizing plate excellent in water repellency and anti-staining property while having excellent visibility by having the anti-staining layer made of a specific silane compound, and this polarizing plate. It is possible to provide a manufacturing method capable of efficiently manufacturing.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】本発明の実施例１（実施例３，４，５，７〜１
３，１５，１６）の偏光板を模式的に示す断面図であ
る。FIG. 1 is a first embodiment of the present invention (Examples 3, 4, 5, 7-1).
It is a sectional view showing the polarizing plate of 3, 15, 16) typically.

【図２】本発明の実施例２（実施例６，１４）の偏光板
を模式的に示す断面図である。FIG. 2 is a sectional view schematically showing a polarizing plate of Example 2 (Examples 6 and 14) of the present invention.

【図３】本発明の偏光板を形成するのに用いられる真空
蒸着装置の一例を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic view showing an example of a vacuum vapor deposition device used to form a polarizing plate of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１０ 偏光基板 １２ 偏光層 １４ 第１の支持層 １６ 第２の支持層 ２０ アンダーコート層 ３０ 反射防止層 ４０ 汚染防止層 ５０ 樹脂フィルム ５２ 接着層 １００〜１６００ 偏光板 10 Polarizing substrate 12 Polarizing layer 14 First support layer 16 Second support layer 20 Undercoat layer 30 Antireflection layer 40 Anti-pollution layer 50 resin film 52 Adhesive layer 100-1600 Polarizing plate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 特願平5−121707 (32)優先日 平成５年５月24日(1993．5．24) (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (31)優先権主張番号 特願平5−140945 (32)優先日 平成５年６月11日(1993．6．11) (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (56)参考文献 特開 平４−100002（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−340902（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−1527（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−280790（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−178903（ＪＰ，Ａ) 実開 平２−102502（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G02B 5/30 G02B 1/11 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. 5-121707 (32) Priority date May 24, 1993 (May 24, 1993) (33) Country of priority claim Japan (JP) (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. 5-140945 (32) Priority date June 11, 1993 (June 11, 1993) (33) Priority claim country Japan (JP) (56) References 4-100002 (JP, A) JP 4-340902 (JP, A) JP 64-1527 (JP, A) JP 63-280790 (JP, A) JP 62-178903 (JP , A) Actual Kaihei 2-102502 (JP, U) (58) Fields surveyed (Int.Cl. ⁷ , DB name) G02B 5/30 G02B 1/11

Claims (23)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項１】 偏光層およびこの偏光層の両表面に形成
された支持層を有する偏光基板と、 この偏光基板を構成する一方の支持層の表面に形成され
たアンダーコート層と、 このアンダーコート層側の最も外側に位置し、含フッ素
シラン化合物を用いて形成された汚染防止層と、を含
み、前記アンダーコート層は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１に基づ
く中心線平均粗さが１００〜５００ｎｍであり、 前記含フッ素シラン化合物は、下記式（１）で示される
含フッ素シラン化合物、この化合物単位を有するオリゴ
マーおよびポリマーの少なくとも一種からなることを特
徴とする偏光板。 式（１） （Ｒ ¹ ） _a （Ｒ ² ） _b −Ｓｉ−（Ｘ） _c 式（１）中、 Ｒ ¹ はフッ素を含む有機基、 Ｒ ² は水素または有機基、 Ｘはハロゲン基，水酸基，アミノ基，アルコキシ基およ
びこれらの基の一部が置換された基から選択される少な
くとも一種の加水分解可能な反応性基、 ａは１〜３の整数、 ｂは０または１〜２の整数、 ｃは１〜３の整数を示す。 1. A polarizing substrate having a polarizing layer and supporting layers formed on both surfaces of the polarizing layer, an undercoat layer formed on the surface of one supporting layer constituting the polarizing substrate, and the undercoat. And a stain-proof layer formed by using a fluorine-containing silane compound, the undercoat layer being based on JIS B 0601.
The center line average roughness is 100 to 500 nm, and the fluorine-containing silane compound is represented by the following formula (1).
Fluorine-containing silane compound, oligo having this compound unit
Polymer and / or polymer
Polarizing plate to collect. Wherein _{^{(1) (R 1) a}} (R 2) b -Si- (X) c Formula (1), the organic radical R ¹ containing fluorine, R ² is hydrogen or an organic group, X is a halogen group, a hydroxyl group , Amino groups, alkoxy groups and
And a small number of groups selected from the groups in which some of these groups are substituted.
At least one hydrolyzable reactive group, a is an integer of 1 to 3, b is 0 or an integer of 1 to 2, and c is an integer of 1 to 3. 【請求項２】 偏光層およびこの偏光層の両表面に形成
された支持層を有する偏光基板と、 この偏光基板を構成する一方の支持層の表面に形成され
たアンダーコート層と、 このアンダーコート層側の最も外側に位置し、含フッ素
シラン化合物を用いて形成された汚染防止層と、を含
み、 前記含フッ素シラン化合物は、下記式（１）で示される
含フッ素シラン化合物 、この化合物単位を有するオリゴ
マーおよびポリマーの少なくとも一種からなることを特
徴とする偏光板。 式（１） （Ｒ ¹ ） _a （Ｒ ² ） _b −Ｓｉ−（Ｘ） _c 式（１）中、 Ｒ ¹ はフッ素を含む有機基、 Ｒ ² は水素または有機基、 Ｘはアミノ基およびこの基の一部が置換された基から選
択される少なくとも一種の加水分解可能な反応性基、 ａは１〜３の整数、 ｂは０または１〜２の整数、 ｃは１〜３の整数を示す。 2. A polarizing layer and both surfaces of the polarizing layer.
A polarizer substrate having a support layer which is formed on the surface of one of the supporting layer forming the polarizer substrate
The undercoat layer and the outermost layer on the undercoat layer side
A pollution prevention layer formed by using a silane compound.
The fluorine-containing silane compound is represented by the following formula (1).
Fluorine-containing silane compound , oligo having this compound unit
Polymer and / or polymer
Polarizing plate to collect. Wherein _{^{(1) (R 1) a}} (R 2) b -Si- (X) c Formula (1), the organic radical R ¹ containing fluorine, R ² is hydrogen or an organic group, X is an amino group and the Select from groups in which some of the groups have been replaced
At least one hydrolyzable reactive group selected, a is an integer of 1 to 3, b is an integer of 0 or 1 to 2, and c is an integer of 1 to 3. 【請求項３】 請求項１または２において、 前記アンダーコート層は、ＪＩＳ Ｚ ８７４１に基づ
く鏡面光沢度が１０〜４０であり、かつＪＩＳ Ｋ ６
９００に基づく曇度が５〜３０％であることを特徴とす
る偏光板。3. The undercoat layer according to claim 1 , wherein the undercoat layer has a specular gloss of 10 to 40 according to JIS Z 8741, and JIS K 6
A polarizing plate having a haze of 900 based on 900 of 5 to 30%. 【請求項４】 請求項１〜３のいずれかにおいて、 前記アンダーコート層と前記汚染防止層との間に反射防
止層が形成されたことを特徴とする偏光板。In any one of claims 4] claims 1-3, polarizing plate, characterized in that the anti-reflection layer between the undercoat layer and the antifouling layer is formed. 【請求項５】 請求項１〜４のいずれかにおいて、 前記偏光板は、さらに、前記支持層と前記アンダーコー
ト層との間に樹脂フィルムを有することを特徴とする偏
光板。5. The claim 1-4, wherein the polarizing plate, further, a polarizing plate characterized by having a resin film between the support layer and the undercoat layer. 【請求項６】 請求項１〜５のいずれかにおいて、 前記アンダーコート層には、平均粒子径が０．５〜５μ
ｍの硬質粒子が分散されていることを特徴とする偏光
板。6. The undercoat layer according to claim 1, having an average particle size of 0.5 to 5 μm.
A polarizing plate having hard particles of m dispersed therein. 【請求項７】 請求項６において、 前記アンダーコート層に分散される硬質粒子は、シリ
カ、チタニア、アルミナおよびジルコニアから選択され
る少なくとも一種であることを特徴とする偏光板。7. The polarizing plate according to claim 6, wherein the hard particles dispersed in the undercoat layer are at least one selected from silica, titania, alumina and zirconia. 【請求項８】 請求項１〜７のいずれかにおいて、 前記アンダーコート層は、アクリル系樹脂およびシロキ
サン系樹脂から選択される少なくとも一種であることを
特徴とする偏光板。8. The polarizing plate according to claim 1, wherein the undercoat layer is at least one selected from acrylic resins and siloxane resins. 【請求項９】 請求項２において、前記式（１）で示される 前記含フッ素シラン化合物は、
１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリアミ
ノシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシ
ルジメチルアミノシラン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パーフル
オロブチル）ジアミノシラン、ビス（パーフルオロノニ
ル）ジアミノシラン、パーフルオロヘキサデシルトリア
ミノシラン、パーフルオロヘプタデシルトリアミノシラ
ン、パーフルオロオクタデシルトリアミノシランおよび
ビス（パーフルオロノニル）ブチルアミノシランから選
択される少なくとも一種であることを特徴とする偏光
板。9. The fluorine-containing silane compound represented by the formula (1) according to claim 2 ,
1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyltriaminosilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyldimethylaminosilane, bis (1H, 1H-perfluorobutyl) diaminosilane, bis (perfluorononyl) diaminosilane, A polarizing plate comprising at least one selected from perfluorohexadecyltriaminosilane, perfluoroheptadecyltriaminosilane, perfluorooctadecyltriaminosilane and bis (perfluorononyl) butylaminosilane. 【請求項１０】 請求項１において、 前記式（１）中、 Ｒ¹はフッ素を含む、炭素数１〜２０のアルキル基，置
換アルキル基，アルコキシ基および置換アルコキシ基か
ら選択される少なくとも一種、 Ｒ²は水素または炭素数１〜４のアルキル基，置換アル
キル基，アルコキシ基および置換アルコキシ基から選択
される少なくとも一種、 Ｘはハロゲン基，水酸基，アルコキシ基およびこれらの
基の一部が置換された基から選択される少なくとも一種
の反応性基であることを特徴とする偏光板。10. The formula (1) according to claim 1 , wherein R ¹ is at least one selected from an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted alkyl group, an alkoxy group and a substituted alkoxy group, which contains fluorine, R ² is at least one selected from hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a substituted alkyl group, an alkoxy group and a substituted alkoxy group, X is a halogen group, a hydroxyl group, an alkoxy group or a part of these groups is substituted. A polarizing plate characterized by being at least one reactive group selected from the groups described above. 【請求項１１】 請求項１０において、前記式（１）で示される 前記含フッ素シラン化合物とし
ては、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルト
リクロロシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオ
ロデシルトリブロモシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−
パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，
２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリヒドロキシシラ
ン、パーフルオロヘプタデシルトリメトキシシラン、パ
ーフルオロオクタデシルジメチルクロロシラン、パーフ
ルオロヘキサデシルメチルジクロロシランおよび３，
３，３−トリフルオロプロピルトリクロロシランから選
択される少なくとも一種であることを特徴とする偏光
板。11. The fluorine-containing silane compound represented by the formula (1) as defined in claim 10 , is 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyltrichlorosilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluoro. Decyltribromosilane, 1H, 1H, 2H, 2H-
Perfluorodecyltriethoxysilane, 1H, 1H,
2H, 2H-perfluorodecyltrihydroxysilane, perfluoroheptadecyltrimethoxysilane, perfluorooctadecyldimethylchlorosilane, perfluorohexadecylmethyldichlorosilane and 3,
A polarizing plate comprising at least one selected from 3,3-trifluoropropyltrichlorosilane. 【請求項１２】 請求項１〜１１のいずれかにおいて、 前記汚染防止層は、屈折率ｎおよび層の厚みｄが次の関
係を有することを特徴とする偏光板。 ｎｄ＜０．１μｍ １．２５＜ｎ＜１．４５In any of 12. The method of claim 1 to 11, wherein the contamination prevention layer, the thickness d of the refractive index n and the layer is characterized by having the following relationships polarizer. nd <0.1 μm 1.25 <n <1.45 【請求項１３】 偏光層およびこの偏光層の両表面に形
成された支持層を有する偏光基板の一方の支持層の表面
に、ＪＩＳ Ｂ ０６０１に基づく中心線平均粗さが１
００〜５００ｎｍであるアンダーコート層を形成する工
程と、 このアンダーコート層の表面に反射防止層を形成する工
程と、 この反射防止層の表面に含フッ素シラン化合物を用いて
汚染防止層を形成する工程と、を含み、 前記汚染防止層は、下記式（１）で示される含フッ素シ
ラン化合物を含む塗布液を前記反射防止層の表面に塗布
して硬化させ、さらに未反応の含フッ素シラン化合物を
溶媒洗浄によって除去することにより形成されることを
特徴とする偏光板の製造方法。 式（１） （Ｒ ¹ ） _a （Ｒ ² ） _b −Ｓｉ−（Ｘ） _c 式（１）中、 Ｒ ¹ はフッ素を含む有機基、 Ｒ ² は水素または有機基、 Ｘはハロゲン基，水酸基，アミノ基，アルコキシ基およ
びこれらの基の一部が置換された基から選択される少な
くとも一種の加水分解可能な反応性基、 ａは１〜３の整数、 ｂは０または１〜２の整数、 ｃは１〜３の整数を示す。 13. The center line average roughness according to JIS B 0601 is 1 on the surface of one supporting layer of a polarizing substrate having a polarizing layer and supporting layers formed on both surfaces of the polarizing layer.
A step of forming an undercoat layer having a thickness of from 0 to 500 nm, a step of forming an antireflection layer on the surface of the undercoat layer, and a contamination prevention using a fluorine-containing silane compound on the surface of the antireflection layer. And a step of forming a layer , wherein the pollution prevention layer comprises a fluorine-containing sheath represented by the following formula (1).
A coating liquid containing a run compound is applied to the surface of the antireflection layer.
To cure, and further to remove unreacted fluorine-containing silane compound
Formed by removing by solvent washing
A method for manufacturing a polarizing plate having the characteristics. Wherein _{^{(1) (R 1) a}} (R 2) b -Si- (X) c Formula (1), the organic radical R ¹ containing fluorine, R ² is hydrogen or an organic group, X is a halogen group, a hydroxyl group , Amino groups, alkoxy groups and
And a small number of groups selected from the groups in which some of these groups are substituted.
At least one hydrolyzable reactive group, a is an integer of 1 to 3, b is 0 or an integer of 1 to 2, and c is an integer of 1 to 3. 【請求項１４】 偏光層およびこの偏光層の両表面に形
成された支持層を有する偏光基板の一方の支持層の表面
にアンダーコート層を形成する工程と、 このアンダーコート層の表面に反射防止層を形成する工
程と、 この反射防止層の表面に含フッ素シラン化合物を用いて
汚染防止層を形成する工程と、を含み、 前記汚染防止層は、下記式（１）で示される含フッ素シ
ラン化合物を含む塗布液を前記反射防止層の表面に塗布
して硬化させ、さらに未反応の含フッ素シラン化合物を
溶媒洗浄によって除去することにより形成されることを
特徴とする偏光板の製造方法。 式（１） （Ｒ ¹ ） _a （Ｒ ² ） _b −Ｓｉ−（Ｘ） _c 式（１）中、 Ｒ ¹ はフッ素を含む有機基、 Ｒ ² は水素または有機基、 Ｘはアミノ基およびこの基の一部が置換された基から選
択される少なくとも一種の加水分解可能な反応性基、 ａは１〜３の整数、 ｂは０または１〜２の整数、 ｃは１〜３の整数を示す。 14. A polarizing layer and a surface on both sides of the polarizing layer.
Surface of one support layer of polarizing substrate having formed support layer
On the undercoat layer and the process of forming an antireflection layer on the surface of this undercoat layer.
And degree, using a fluorine-containing silane compound on the surface of the antireflective layer
And a step of forming a pollution prevention layer, wherein the pollution prevention layer is a fluorine-containing film represented by the following formula (1).
A coating liquid containing a run compound is applied to the surface of the antireflection layer.
To cure, and further to remove unreacted fluorine-containing silane compound
Formed by removing by solvent washing
A method for manufacturing a polarizing plate having the characteristics. Wherein _{^{(1) (R 1) a}} (R 2) b -Si- (X) c Formula (1), the organic radical R ¹ containing fluorine, R ² is hydrogen or an organic group, X is an amino group and the Select from groups in which some of the groups have been replaced
At least one hydrolyzable reactive group selected, a is an integer of 1 to 3, b is an integer of 0 or 1 to 2, and c is an integer of 1 to 3. 【請求項１５】 偏光層およびこの偏光層の両表面に形
成された支持層を有する偏光基板の一方の支持層の表面
にアンダーコート層を形成する工程と、 このアンダーコート層の表面に反射防止層を形成する工
程と、 この反射防止層の表面に含フッ素シラン化合物を用いて
汚染防止層を形成する工程と、を含み、 前記アンダーコート層を形成する工程は、樹脂溶液を含
む塗布液を前記偏光基板の表面に塗布して乾燥させ、こ
の塗膜の表面に微細な凹凸を形成した後に前記塗膜を硬
化させる工程からなることを特徴とする偏光板の製造方
法。15. A polarizing layer and a shape on both surfaces of the polarizing layer.
Surface of one support layer of polarizing substrate having formed support layer
On the undercoat layer and the process of forming an antireflection layer on the surface of this undercoat layer.
And degree, using a fluorine-containing silane compound on the surface of the antireflective layer
And a step of forming the undercoat layer , wherein the step of forming the undercoat layer comprises applying a coating solution containing a resin solution onto the surface of the polarizing substrate and drying the coating solution to form fine irregularities on the surface of the coating film. A method for producing a polarizing plate, comprising the step of curing the coating film after forming the film. 【請求項１６】 請求項１３または１４において、 前記アンダーコート層を形成する工程は、樹脂溶液に平
均粒子径が０．５〜５μｍの硬質粒子を分散させた塗布
液を調整し、この塗布液を前記偏光基板の表面に塗布し
て硬化させ、前記硬質粒子が１〜５０重量％の割合で含
有される塗膜を形成する工程からなることを特徴とする
偏光板の製造方法。16. The coating solution according to claim 13 or 14 , wherein in the step of forming the undercoat layer, a coating solution prepared by dispersing hard particles having an average particle size of 0.5 to 5 μm in a resin solution is prepared. Is applied to the surface of the polarizing substrate and cured to form a coating film containing the hard particles in a proportion of 1 to 50% by weight. 【請求項１７】 請求項１５において、 前記汚染防止層は、下記式（１）で示される含フッ素シ
ラン化合物を含む塗布液を前記反射防止層の表面に塗布
して硬化させ、さらに未反応の含フッ素シラン化合物を
溶媒洗浄によって除去することにより形成されることを
特徴とする偏光板の製造方法。 式（１） （Ｒ¹）_a（Ｒ²）_b−Ｓｉ−（Ｘ）_c 式（１）中、 Ｒ¹はフッ素を含む有機基、 Ｒ²は水素または有機基、 Ｘはハロゲン基，水酸基，アミノ基，アルコキシ基およ
びこれらの基の一部が置換された基から選択される少な
くとも一種の加水分解可能な反応性基、 ａは１〜３の整数、 ｂは０または１〜２の整数、 ｃは１〜３の整数を示す。17. The anti-staining layer according to claim 15 , wherein a coating liquid containing a fluorine-containing silane compound represented by the following formula (1) is applied to the surface of the anti-reflection layer to cure the coating liquid, and further unreacted. A method for producing a polarizing plate, which is formed by removing a fluorine-containing silane compound by washing with a solvent. Wherein _{^{(1) (R 1) a}} (R 2) b -Si- (X) c Formula (1), the organic radical R ¹ containing fluorine, R ² is hydrogen or an organic group, X is a halogen group, a hydroxyl group , An amino group, an alkoxy group, and at least one hydrolyzable reactive group selected from groups in which some of these groups are substituted, a is an integer of 1 to 3, b is an integer of 0 or 1 to 2. , C represents an integer of 1 to 3. 【請求項１８】 偏光層およびこの偏光層の両表面に形
成された支持層を有する偏光基板の一方の支持層の表面
に、ＪＩＳ Ｂ ０６０１に基づく中心線平均粗さが１
００〜５００ｎｍであるアンダーコート層を形成する工
程と、 このアンダーコート層の表面に反射防止層を形成する工
程と、 この反射防止層の表面に含フッ素シラン化合物を用いて
汚染防止層を形成する工程と、を含み、 前記汚染防止層は、下記式（１）で示される含フッ素シ
ラン化合物を物理的気相成長法によって堆積させること
により形成されることを特徴とする偏光板の製造方法。式（１） （Ｒ ¹ ） _a （Ｒ ² ） _b −Ｓｉ−（Ｘ） _c 式（１）中、 Ｒ ¹ はフッ素を含む有機基、 Ｒ ² は水素または有機基、 Ｘはハロゲン基，水酸基，アミノ基，アルコキシ基およ
びこれらの基の一部が置換された基から選択される少な
くとも一種の加水分解可能な反応性基、 ａは１〜３の整数、 ｂは０または１〜２の整数、 ｃは１〜３の整数を示す。 18. A polarizing layer and a shape on both surfaces of the polarizing layer.
Surface of one support layer of polarizing substrate having formed support layer
In addition, the center line average roughness based on JIS B 0601 is 1
Process for forming an undercoat layer having a thickness of 00 to 500 nm
The process of forming an antireflection layer on the surface of this undercoat layer
A degree, forming an antifouling layer using a fluorine-containing silane compound on the surface of the antireflective layer comprises said contamination prevention layer, physical fluorinated silane compound represented by the following formula (1) A method of manufacturing a polarizing plate, which is formed by depositing by a vapor phase growth method. Wherein _{^{(1) (R 1) a}} (R 2) b -Si- (X) c Formula (1), the organic radical R ¹ containing fluorine, R ² is hydrogen or an organic group, X is a halogen group, a hydroxyl group , Amino groups, alkoxy groups and
And a small number of groups selected from the groups in which some of these groups are substituted.
At least one hydrolyzable reactive group, a is an integer of 1 to 3, b is 0 or an integer of 1 to 2, and c is an integer of 1 to 3. 【請求項１９】 請求項１８において、 前記汚染防止層は、前記式（１）で示される含フッ素シ
ラン化合物を含浸させたセラミックスを蒸発源として用
い、真空槽内において前記セラミックスを加熱し、該化
合物を蒸発させて堆積させることによって形成されるこ
とを特徴とする偏光板の製造方法。19. The contamination preventing layer according to claim 18 , wherein ceramics impregnated with the fluorine-containing silane compound represented by the formula (1) is used as an evaporation source, and the ceramics are heated in a vacuum chamber, A method for producing a polarizing plate, which is formed by evaporating and depositing a compound. 【請求項２０】 請求項１３〜１９のいずれかにおい
て、 前記反射防止層は、物理的気相成長法によって形成され
ることを特徴とする偏光板の製造方法。20. The method for manufacturing a polarizing plate according to claim 13 , wherein the antireflection layer is formed by a physical vapor deposition method. 【請求項２１】 請求項１３〜１９のいずれかにおい
て、 前記反射防止層は、シロキサン系樹脂，アクリル系樹脂
および酸化物系非晶質体の少なくとも一種を含む塗膜を
形成後、これを硬化させることによって形成されること
を特徴とする偏光板の製造方法。21. The antireflection layer according to claim 13 , wherein the antireflection layer forms a coating film containing at least one of a siloxane-based resin, an acrylic-based resin, and an oxide-based amorphous material, and then cures the coating. A method of manufacturing a polarizing plate, which is characterized by being formed by: 【請求項２２】 請求項２１において、 前記反射防止層には、平均粒子径が０．０５〜０．１μ
ｍの硬質粒子が分散されていることを特徴とする偏光板
の製造方法。22. The antireflection layer according to claim 21 , having an average particle diameter of 0.05 to 0.1 μm.
A method for producing a polarizing plate, characterized in that m hard particles are dispersed. 【請求項２３】 請求項１〜１２のいずれかに記載の偏
光板を含む液晶表示装置。23. A liquid crystal display device comprising a polarizing plate according to any one of claims 1 to 12.