JP3386693B2 - ペリクルの製造方法 - Google Patents

ペリクルの製造方法

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郁男 櫻井
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
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    • G03F1/84Inspecting

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、LSI、超LSI
などの半導体デバイスあるいは液晶表示板を製造する際
のゴミよけとして使用されるペリクルの製造方法に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】LSI 、超LSI などの半導体デバイスある
いは液晶表示板などの製造においては、半導体ウエハー
あるいは液晶用原板に光を照射してパターニングをする
が、この時用いる露光原版にゴミが付着していると、こ
のゴミが光を吸収したり、光を反射してしまうため、転
写したパターニングが変形したり、エッジががさついた
りしてしまい、寸法、品質、外観などが損なわれ、半導
体装置や液晶表示板などの性能や製造歩留りの低下をき
たすという問題があった。
【0003】このため、これらの作業は通常クリーンル
ームで行われるが、クリーンルーム内でも露光原版を常
に清浄に保つことが難しいので、露光原版の表面にゴミ
よけのための露光用の光を良く通過させるペリクルを貼
着する方法が行われている。この場合、ゴミは露光原版
の表面には直接付着せず、ペリクル膜上に付着するた
め、リソグラフィー時に焦点を露光原版のパターン上に
合わせておけば、ペリクル上のゴミは転写に無関係とな
る。ペリクルは光を良く通過させるニトロセルロース、
酢酸セルロース、フッ素樹脂などからなる透明なペリク
ル膜を、アルミニウム、ステンレスなどからなるペリク
ル枠の上部にペリクル膜の良溶媒を塗布し、風乾して接
着する方法(特開昭58-219023 号公報参照)や、アクリ
ル樹脂やエポキシ樹脂などの接着剤で接着する(米国特
許第4,861,402 号明細書、 特公昭63-27707号公報参照)
などの方法が採られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ペリクル膜は、これら
の膜材料を溶媒を用いて3 〜10% の濃度の溶液に調整し
た後、スピンコーターやナイフコーターを用いる溶液キ
ャスト法でシリコンウエハーやガラス基板の上で成膜さ
せる方法で製造されており、このペリクル膜は基板から
剥離され、ペリクル枠に上記に示した溶媒や接着剤など
で接着される。しかし、通常ペリクル膜は高い透過率を
得るために非常に薄い高分子膜でできており、剛性がな
いため、基板から剥離を行うときやフレームに接着する
ときに、膜面にしわが発生するという問題点がある。ま
た、僅かな製造工程上の条件のずれにより、製品として
出来上がったペリクル膜の張力が小さくなり、外気の振
動の影響を受けて膜面が振動するなど、使い勝手に問題
点があった。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らはこのような
問題点を解決するため鋭意検討を重ねた結果、基板表面
に形成したペリクル膜の剥離後に、該ペリクル膜を延伸
し、該膜を高い張力を持たせたままペリクルフレームに
接着すれば、上記の問題点を解決できることを見出だし
て本発明を完成させた。
【0006】本発明でのペリクル膜を延伸する方法とし
ては、基板表面に形成したペリクル膜表面に、該膜を剥
離するための支持枠を接着層を介して接着して該膜を剥
離した後、該支持枠のみを加熱・膨張させて該ペリクル
膜を延伸する方法、該支持枠を機械的に均等に外側に拡
げて該ペリクル膜を延伸する方法、または基板表面に形
成したペリクル膜表面に、該膜を剥離するための多角形
支持枠を接着剤を介して接着して該膜を剥離した後、該
支持枠を機械的に均等に前記多角形の各辺の垂直方向に
拡げて該膜を延伸する方法とすればよい。本発明ではこ
のようにしてペリクル膜を延伸し、該膜を高い張力を持
たせたままペリクルフレームに接着することを特徴とす
るものである。
【0007】
【発明の実施の形態】以下これを図に基いて詳細に説明
する。ペリクル膜の支持枠のみを加熱・膨張させてペリ
クル膜を延伸する方法としては、支持枠を外部から熱源
を用いて加熱してもよいし、支持枠自体にヒーターを取
りつけて加熱してもよい。図1は、加熱により支持枠1
のみが熱膨張してペリクル膜2が延伸される様子を模式
的に示したものであるが、この場合支持枠1は方形に限
定されるものではない。また、支持枠を均等に外側に拡
げてペリクル膜を延伸する方法としては、図2に示した
ように分割された支持枠3を機械的に均等に外側に拡げ
ることにより行えばよい。この場合の支持枠の形状は円
形に限定されるものではない。更に多角形支持枠を用い
る方法としては、図3に示したように、8個の支持枠片
6からなる8角形支持枠5を用い、これを接着層7を介
して基板表面に形成したペリクル膜2の表面に接着し、
基板表面から剥離したのちスライダー8により心棒9を
押しあげて各支持枠片6を矢印の方向に伸展することに
よって、ペリクル膜を均等に多角形の各辺の垂直方向に
延伸してもよい。この場合の支持枠片の数は8個に限定
されるものではない。
【0008】本発明において用いられる膜形成用基板と
しては、シリコン単結晶や石英ガラスなどが例示される
が、これらに特に限定されるものではない。また基板の
形は円形、方形などとすればよいが、特に限定されるも
のではない。さらに、膜を剥離するための支持枠の材質
はステンレス、アルミニウムなどの金属類、窒化珪素、
炭化珪素などのセラミックス、ポリイミド樹脂、ポリカ
ーボネート、ポリテトラフルオロエチレンなどのプラス
チック類などが例示されるが、特にこれらに限定される
ものではない。
【0009】
【実施例】つぎに本発明の実施例、比較例を示す。 [実施例1] スピンコート法により、外径250mmのシリコンウエ
ハー基板上にフッ素樹脂の膜(旭ガラス社製サイトッ
プ)を形成した後、膜を基板から剥離するためのステン
レス製支持枠をエポキシ接着剤を介して該膜に接着し
た。ついで、この膜を水中で基板から剥離した後、支持
枠のみを80℃に3分間加熱して該支持枠のみを膨張さ
せ、該膜を延伸してこれに高い張力を持たせ、そのまま
の状態で更に一辺150mmの四角形状ペリクルフレー
ムに該膜を接着して最終製品としてのペリクルを完成さ
せた。この方法により100枚のペリクルを製作したと
ころ、膜にしわができたものはなく、外気の振動の影響
を受けて膜面が振動してしまうという問題も発生しなか
った。
【0010】[実施例2] スピンコート法により、一辺が250mmの方形の石英
ガラス基板上にフッ素樹脂の膜(旭ガラス社製サイトッ
プ)を形成した後、膜を基板から剥離するための分割可
能なステンレス製支持枠をエポキシ接着剤を介して該膜
に接着した。ついで、この膜を水中で基板から剥離した
後、支持枠を機械的に各辺方向に1mmづつ外側に拡
げ、該膜を延伸してこれに高い張力を持たせ、そのまま
の状態で更に一辺150mmの四角形状ペリクルフレー
ムに該膜を接着して最終製品としてのペリクルを完成さ
せた。この方法により100枚のペリクルを製作したと
ころ、膜にしわができたものはなく、外気に振動の影響
を受けて膜面が振動してしまうという問題も発生しなか
った。
【0011】[実施例3] スピンコート法により、外径200mmのシリコンウエ
ハー基板上にフッ素樹脂(旭ガラス社製サイトップ)を
形成した後、膜を基板から剥離するために図3に示した
8個の支持枠片からなる8角形状のステンレス製の多角
形支持枠をエポキシ接着剤を介して該膜に接着した。つ
いで、この膜を水中で基板から剥離した後、各支持枠片
を図3(b)のようにスライダー8を介して心棒9を押
し上げて矢印の方向に伸展させたところ、該膜は高い張
力を持つものになったので、これをそのままの状態で更
に一辺150mmの四角形状ペリクルフレームに該膜を
接着して最終製品としてのペリクルを完成させた。この
方法により100枚のペリクルを製作したところ、膜に
しわができたものはなく、外気の振動の影響を受けて膜
面が振動してしまうという問題も発生しなかった。
【0012】[比較例] スピンコ−ト法により、一辺が250mmの方形の石英
ガラス基板上にフッ素樹脂の膜(旭ガラス社製サイトッ
プ)を形成した後、膜を基板から剥離するためのステン
レス製支持枠をエポキシ接着剤を介して該膜に接着し
た。ついで、この膜を水中で基板から剥離した後、該膜
を延伸せずにそのままの状態で、更に一辺150mmの
四角形状ペリクルフレームに該膜を接着して最終製品と
してのペリクルを完成させた。しかし、この方法により
100枚のペリクルを製作したところ、23枚のペリク
ルフレームのコーナー部にしわまたは膜の緩みが発生し
ていた。
【0013】
【発明の効果】本発明によれば、高い張力を持ったペリ
クルをしわや膜のゆるみもなく、歩留りよく生産するこ
とができるので、目的とするペリクルを低価格で、しか
も高品質のものとして得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】加熱により支持枠のみが熱膨張してペリクル膜
が延伸される方法を模式的に示した図である。
【図2】分割された支持枠が均等に外側に拡がり、ペリ
クル膜が延伸される方法を模式的に示した図である。
【図3】多角形支持枠を用いてペリクル膜を均等に外側
に拡げる方法を模式的に示した図で、(a)はその平面
図、(b)は(a)のA一A′面の断面図を示したもの
である。
【符号の説明】
1……加温可能な支持枠 2……ペリクル膜 3……分割可能な支持枠 5……多角形支持枠 6……支持枠片 7……接着層 8……スライダー 9……心棒 10……ピン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平8−220734(JP,A) 特開 平7−168345(JP,A) 特開 昭63−298245(JP,A) 実開 平3−12245(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03F 1/08 - 1/16

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 平面基板上にペリクル膜を形成し、該基
    板表面に形成したペリクル膜表面に、該ペリクル膜を剥
    離するための支持枠を接着層を介して接着して該ペリク
    ル膜を剥離した後、該支持枠のみを加熱・膨張させて該
    ペリクル膜を延伸し、該ペリクル膜を高い張力を持たせ
    たままペリクルフレームに接着することを特徴とするペ
    リクルの製造方法。
  2. 【請求項2】 平面基板上にペリクル膜を形成し、該基
    板表面に形成したペリクル膜表面に、該ペリクル膜を剥
    離するための支持枠を接着層を介して接着して該ペリク
    ル膜を剥離した後、該支持枠を機械的に均等に半径方向
    に拡げて、該ペリクル膜を高い張力を持たせたままペリ
    クルフレームに接着することを特徴とするペリクルの製
    造方法。
  3. 【請求項3】 該支持枠が多角形支持枠であり、該支持
    枠を機械的に均等に多角形の各辺の垂直方向に拡げるこ
    とで該ペリクル膜を延伸する請求項2に記載のペリクル
    の製造方法。
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JP5641602B2 (ja) * 2010-09-07 2014-12-17 旭化成イーマテリアルズ株式会社 ペリクルの製造方法
JP6018391B2 (ja) * 2012-03-21 2016-11-02 旭化成株式会社 ペリクル
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JP5746661B2 (ja) * 2012-05-08 2015-07-08 信越化学工業株式会社 ペリクルの製造方法
KR102293215B1 (ko) 2017-03-27 2021-08-24 삼성전자주식회사 펠리클의 제조 방법 및 펠리클 조립 장치
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