JP3367932B2 - 傾斜磁場ユニットおよび磁気共鳴イメージング装置 - Google Patents
傾斜磁場ユニットおよび磁気共鳴イメージング装置Info
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Description
用いられる磁気共鳴イメージング(MRI)装置および
その遮音方法に係り、特に、傾斜磁場コイルの駆動に伴
って発生する騒音を大幅に抑制できるようにした静音型
の傾斜磁場ユニットおよび磁気共鳴イメージング装置に
関する。
は被検体内の原子核スピンの磁気共鳴現象に基づく画像
化装置であり、非侵襲で、しかも放射線被曝が無い状態
で被検体内部の画像を得ることができる。このため、臨
床の場でもその有用性が近年富に発揮されている。一般
に、MR画像を得るための磁気共鳴イメージング装置
は、撮影空間に被検体を挿入・配置するガントリと、こ
のガントリと共働させる装置本体とを備える。ガントリ
には各種の装備が施されるが、とりわけ、診断空間に静
磁場を発生させる超電導磁石などの磁石、静磁場に重畳
させる線形の傾斜磁場を発生させる傾斜磁場コイル、お
よび高周波信号を送信するとともにMR信号を受信する
RFコイルが必須になっている。撮像時には、所望のパ
ルスシーケンスにしたがってそれらの傾斜磁場コイル、
およびRFコイルが駆動される。つまり、パルスシーケ
ンスにしたがって、静磁場中に置かれた被検体にx,
y,z軸各方向の線形傾斜磁場が重畳され、被検体の原
子核スピンがラーモア周波数の高周波信号で磁気的に励
起される。この励起に伴って発生する磁気共鳴(MR)
信号が検出され、この信号に基づいて被検体の例えば2
次元断層像が再構成される。
て、近年、イメージングに要する時間を短縮したいとい
うイメージングの高速化のニーズが非常に高くなってい
る。これに応えるべく、高速EPI法など、傾斜磁場パ
ルスの高速スイッチング(高速反転)を伴うパルスシー
ケンスが開発され、実用化にも成功しているものもあ
る。傾斜磁場パルスを発生させると、その立上がりや反
転時に傾斜磁場コイルに電磁気力が作用する。この電磁
気力はコイルユニットに機械的歪みを起こさせ、これに
よりユニット全体から振動が発生する。このコイルユニ
ットの振動により、空気振動が生じ、騒音が発生すると
いう問題がある。とくに、傾斜磁場パルスを高速反転さ
せると、その振動は増大するから、高速化が進むほど発
生する騒音も増大する。この騒音は、ガントリの撮影空
間に横になっている被検体(患者)に非常な不快感や不
安感を与えることがある。このため、かかる騒音を排除
すべく、従来、いくつかの提案がなされている。たとえ
ば特開昭63−246146号、特開平6−18993
2号、特開平10−118043号(以後それぞれ第1
〜第3の従来例と称する)などに示されているように、
傾斜磁場コイルのユニット全体を真空容器内に密封し、
真空空間により振動または騒音の空気伝搬を絶つという
試みである。
よび第2の従来例における遮音方法では、空気を伝わっ
て聞こえる空気伝搬は真空状態により遮断することがで
きるが、固定のための接触による固定伝搬は遮断するこ
とができず、この固定伝搬により大きな音が発生し、騒
音対策としては不十分であった。また、第3の従来例の
ように、特に振動の大きい傾斜磁場コイルを単独に床で
支え固定伝搬を抑える方法もあるが、傾斜磁場コイルと
床までの距離が長いため、傾斜磁場コイルを床に支える
支柱の下部の位置が少しずれると、支柱上部に取り付け
られた傾斜磁場コイルの位置が大きくずれることとな
り、傾斜磁場コイルの位置調整が困難であり、据付調整
にも長時間を要し費用も嵩むという問題を有していた。
を支える手段および傾斜磁場コイルの周囲に形成された
密閉空間を形成する手段が構成上複雑であり、また部品
点数も多くなる等して、装置全体も複雑な構成となりコ
ストも高くつく。そこで、本発明は上記課題を解決し、
簡単な構成で、空気伝搬だけでなく、固定伝搬を遮断し
た静音型の傾斜磁場ユニットおよび磁気共鳴イメージン
グ装置を提供することを目的する。
め、請求項1に記載の発明は、撮影空間に静磁場を生成
するための静磁場発生手段と、前記撮影空間に傾斜磁場
を生成するための傾斜磁場発生手段と、前記撮影空間を
確保するための隔壁と、前記静磁場発生手段と前記隔壁
と共に前記傾斜磁場発生手段の周囲に真空空間を形成す
るための密閉手段と、前記静磁場発生手段と前記傾斜磁
場発生手段の間に介在して振動の伝搬を抑制するための
第1の防振部材と、前記真空空間の真空状態を保持する
密閉機能を有し、前記静磁場発生手段と前記密閉手段の
間および前記密閉手段と前記隔壁の間の少なくともどち
らか一方に介在して振動の伝搬を抑制するための第2の
防振部材と、を具備することを特徴とする。
段の周囲を真空状態にし、傾斜磁場発生手段と静磁場発
生手段の間に設けられた第1の防振部材、および静磁場
発生手段と密閉手段の間および密閉手段と隔壁の間の少
なくともどちらか一方に介在して振動の伝搬を抑制する
ための第2の防振部材により、空気伝搬だけでなく、固
定伝搬を遮断することができる。また、請求項10に記
載の発明は、撮影空間に傾斜磁場を生成するための傾斜
磁場発生手段と、前記撮影空間を確保するための隔壁
と、前記撮影空間に静磁場を生成するための静磁場発生
手段と前記隔壁と共に前記傾斜磁場発生手段の周囲に真
空空間を形成するための密閉手段と、前記静磁場発生手
段と前記傾斜磁場発生手段の間に介在して振動の伝搬を
抑制するための第1の防振部材と、前記真空空間の真空
状態を保持する密閉機能を有し、前記静磁場発生手段と
前記密閉手段の間および前記密閉手段と前記隔壁の間の
少なくともどちらか一方に介在して振動の伝搬を抑制す
るための第2の防振部材と、を具備することを特徴とす
る。
段の周囲を真空状態にし、傾斜磁場発生手段と静磁場発
生手段の間に設けられた第1の防振部材、および、真空
空間の真空状態を保持する密閉機能を有し、静磁場発生
手段と密閉手段の間および密閉手段と隔壁の間の少なく
ともどちらか一方に介在して振動の伝搬を抑制するため
の第2の防振部材により、空気伝搬だけでなく、固定伝
搬を遮断することができる。
形態について、図面を参照して詳細に説明する。図1
(a)は、第1の実施の形態における磁気共鳴イメージ
ング装置を、被検体の挿入方向から見た一部切欠正面図
である。図1(b)は、上図が図1(a)におけるA−
O断面図、下図がO−B断面図である。
者を挿入・配置する撮影空間Sを有したガントリ19
と、このガントリ19の撮影空間Sに被検体8を載せて
挿入される天板9と、ガントリ19および天板9を有す
る図示しない寝台部の動作を制御するとともにMR送受
信信号を制御、処理する図示しない制御・処理部とを備
える。ガントリ19はその内側中央部に患者を挿入・配
置するための略円筒状の撮影空間Sを貫通して形成した
構造になっている。この略円筒状の撮影空間Sに対し
て、その軸方向をZ方向とし、このZ方向に直交する方
向をX、Y方向とする。なお、X、Y、Z方向は図1
(a)に示されている。ガントリ19は、撮影空間Sに
静磁場を生成する静磁場磁石を内部に備えた真空容器1
を備える。真空容器1に設けられた静磁場コイルは、例
えば超電導磁石で構成され、全体形状は所定径の略円筒
状に形成され、同様に真空容器1も円筒形に形成されて
いる。真空容器1は超伝導磁石に必要な極低温度、例え
ば略4Kを維持するために、通常略10−3Torr以下の
高真空に保たれている。
の脚体27…27を備え、この脚体27…27により設
置面としての床F上に支持されている。また、床Fはた
とえばコンクリート性の剛性の高い材料で形成されてい
る。真空容器1の内周側には、真空容器1の内径よりも
小さい外径を有する円筒形の傾斜磁場コイル2と、傾斜
磁場コイル2の内径よりも小さい外径を有する円筒形の
内筒4が設けられている。
ル、yコイルおよびzコイルを有し、それらをボビン上
に積層・含浸して形成したもので、全体として略円筒状
に形成されている。傾斜磁場コイル2は、支持ブラケッ
ト5、防振ゴム6および磁石インターフェース7からな
る接続部分を介して、真空容器1に取り付けられてい
る。なお詳しい説明は後述する。内筒4は、防振ゴム1
1、真空蓋3、Oリング10、磁石インターフェース
7、ボルト20、ワッシャー21からなる接続部分を介
して、真空容器1に取り付けられており、真空容器1の
内周側と内筒4および真空蓋3とにより傾斜磁場コイル
2の周囲を真空に保つようになっている。なお、詳しい
説明は後述する。
7が取り付けられており、その先に真空ポンプ18が設
けられている。つぎに、上述の傾斜磁場コイル2と真空
容器1の接続について詳しく説明する。傾斜磁場コイル
2は、Z方向の両端に略円弧状の支持ブラケット5が、
ボルト等の接続具で接続されている。支持ブラケット5
は、Z方向から見た場合、傾斜磁場コイル2の一部に沿
うような形である略円弧状であり、また、X方向から見
た断面は略L字型となっている。なお、略L字型の一辺
は、傾斜磁場コイル2の内周と外周の間の厚さと略同じ
長さであり、この部分に傾斜磁場コイル2と接続するた
めのボルト用の穴が設けられている。
くるように配置され、その外周側には、防振ゴム6が2
つ取り付けられている。Z方向の両側にある支持ブラケ
ット5にそれぞれ取り付けられた計4つの防振ゴム6
は、略円筒状の真空容器1のZ方向の両側に溶接などに
より接合された真空容器1と略同径の略環状の磁石イン
ターフェース7に取り付けられている。磁石インターフ
ェース7の形状は図1にこだわる必要がなく、上下非対
称でもよい。
ゴム6は天板9よりも下部の空間に設けられている。こ
れにより、天板9より上部の密閉空間は下部の密閉空間
に比べ体積を小さくすることができ、図1に示されると
おり、真空蓋3の上部を撮影空間S側に切り込ませて作
成することができ、被検体8が上部を向いた状態でガン
トリ19内に挿入される際、圧迫感を和らげることがで
きる。なお、さらに、防振ゴム6は傾斜磁場コイル2の
重量を下部から支える役目も有している。したがって、
傾斜磁場コイル2と真空容器1の接続は、傾斜磁場コイ
ル2に支持ブラケット5を設け、支持ブラケット5に防
振ゴム6を取り付け、防振ゴム6に磁石インターフェー
ス7を取り付け、磁石インターフェース7に真空容器1
が接合されている。なお、ここで接続の順序が特に限定
されるわけではない。
について、真空容器1と真空蓋3の接続、および真空蓋
3と内筒4の接続に分けて、詳しく説明する。図2は、
図1(b)における真空容器1に設けられた磁石インタ
ーフェース7と真空蓋3の接続部の拡大図である。真空
容器1と真空蓋3の接続は、真空容器1に設けられた前
記磁石インターフェース7に真空蓋3からボルト20と
ワッシャー21で締め付けて固定する構造である。
差による隙間を、Z方向の両側から密閉するためのもの
で、外径は真空容器1の径と略同じ程度、内径は内筒4
の径と略同じ程度の略環状の形状である。また、真空蓋
3の磁石インターフェース7側には、真空蓋3の周回に
沿うように略環状の溝が設けられており、前記略環状の
溝にOリング10が設けられている。Oリング10は、
真空蓋3と磁石インターフェース7の密閉性を高めるた
めに用いられている。また、真空蓋3の周回上には、ボ
ルト20を締め付けるための穴が設けられている。
説明する。図3は真空蓋3と内筒4の接続部の拡大図で
ある。真空蓋3と内筒4の間には、防振ゴム11が設け
られている。防振ゴム11は、内径が真空蓋3の内径お
よび内筒4の内径と略同じ程度の略環状の形状で、X方
向から見た断面は略L字型である。真空蓋3および内筒
4は、防振ゴム11をY方向から挟み且つZ方向からも
挟むことができる構造となっている。防振ゴム11をZ
方向から挟むことにより、図1(b)および図3中の矢
印A7で示される外気圧と真空圧の圧力差により生じる
力により、真空蓋3および内筒4を密閉、接続すること
ができる。
により、Y方向からの力、例えば内筒4または被検体8
の重量などの力から、内筒4を保持することができる。
なお、L字型の各部分の長さは、内筒4に多少の力たと
えば内筒4の重量または被検体の体重程度が加わっても
変形しにくく、内筒4と真空蓋3が外れないような長さ
にしておく。
筒4側のそれぞれ対向する位置には、凸部11aが設け
られている。なお、図3では、使用前の形状を示すため
点線で円弧状に凸部11aを描いているが、実施に使用
される際には、真空蓋3と円筒4の間につぶれた形状で
挿入される。凸部11aは、防振ゴム11の周回に沿う
ような略環状の形状であり、真空蓋3と内筒4を密閉す
ることができ、真空度を高めるために使用されている。
また、防振ゴム11が円筒4と接する面のうち凸部11
a以外の面には、X方向から見た断面が防振ゴム11の
L字型に沿うようなクランク型をしており、Z方向から
見た断面が、撮影空間Sを周回するような略環状である
剛性の高いフランジ11bが設けられている。フランジ
11bは内筒4が外力により動いた際の防振ゴム11の
変形を防止するために設けられており、必要に応じて使
用・不使用を選択すればよい。
説明する。まず、真空ポンプ18を作動させて、傾斜磁
場コイル2を囲む内筒4と真空容器1真空蓋3の間の密
閉空間の排気を行い、密閉空間内に所定値の真空状態を
つくる。真空状態の前記密閉空間は振動(すなわち騒音)
の空気伝搬を遮断するために設けられており、その真空
度は上述の真空容器1内の真空度に比べて低くてもよ
い。例えば、数Torr程度でも良い。なお、以下に1気圧
の空気と比較した空気伝搬の遮音効果の式を示す。 I=20×log10(P/760)[dB]
たとえば、密閉空間の真空度を略0.7Torrとすると、1
気圧の空気による遮音に比べ約60dBの遮音効果を得るこ
とができる。また、真空容器1内に設けられた静磁場コ
イルに流れる電流により撮影空間Sに静磁場が生成され
ており、天板9上に横になった被検体8が撮影空間S内
に挿入される。このとき天板9は、内筒4に設けられた
図示しない天板レールによりガイド・支持されても良い
し、内筒4には、直接被検体8の体重がかからないよう
なその他の支持構造であってもよい。
置決めなどの必要な準備がなされた後、診断が開始され
る。つまり、制御・処理部から所望のパルスシーケンス
に応じて制御指令がガントリの各要素に出されて、被検
体8からのMR信号が受信される。このMR信号に基づ
いて画像データが再構成される。このパルスシーケンス
に基づく駆動状態において、傾斜磁場コイル2には急峻
に立ち上がりまた立ち下がるパルス電流が供給される。
とくに、パルスシーケンスが高速撮影用のシーケンスで
ある場合、かかるパルス電流の極性が高速に反転され
る。傾斜磁場コイル2は強い静磁場中に置かれているか
ら、これに高速で変化するパルス電流が流れる度に電磁
気力が発生し、この電磁気力により振動が発生する。電
磁気力の大きさはxコイル、yコイル、zコイルの位置
などに応じて複雑に異なるから、傾斜磁場コイル2は通
常複雑なモードで振動する。
形態の場合傾斜磁場コイル2は真空空間に置かれている
ので、その周りの空気が振動するということがない。つ
まり、図1(b)中の矢印A1で示すような振動の空気
伝搬が確実に排除、抑制され、外部に伝わる振動が著し
く軽減される。
は、支持ブラケット5を介して固体伝搬し、外部に漏れ
ようとする。しかしながら、この固体伝搬に対しても上
述したように種々の振動吸収を行っているので、漏れ出
る振動は非常に小さくなる。まず、傾斜磁場コイル2を
下端から支持しているZ軸方向両端の支持ブラケット5
に設けられた防振ゴム6により振動が吸収されるため、
真空容器1に設けられた磁石インターフェース7への振
動の伝達が抑制される。防振ゴム6で取り切れなかった
振動のみが磁石インターフェース7に伝搬する。
は、図2中の矢印A2に示されるように、磁石インター
フェース7にボルト20で取り付けられた真空蓋3に導
かれる。真空蓋3に導かれた振動は、つぎに図3中の矢
印A3に示されるように内筒4に伝搬しようとするが、
真空蓋3と内筒4の間には防振ゴム11が設けられてい
るため、振動の固定伝搬が抑制され、真空蓋3から内筒
4に伝わる振動が著しく軽減される。また、防振ゴム1
1は、上述のように、外気圧と真空圧の圧力差によって
真空空間は密閉され、また、真空蓋3と内筒4でY方向
に挟まれる構造により、ボルト等の接続具を使用しなく
ても、内筒4を保持することができる。
具を介して固定振動が伝搬されるが、本実施の形態で
は、真空蓋3と内筒4の接続には防振ゴム以外の接続具
を用いていないため、固定伝搬を著しく減少させること
ができる。本実施の形態では、(1)とくに振動の大き
い傾斜磁場コイル2から発生する振動(すなわち騒音)
の空気伝搬を真空空間の生成により大幅に遮断し、
(2)かかる振動を傾斜磁場コイル2に設けられた支持
ブラケット5と磁石インターフェース7の間に備えられ
た防振ゴム6で極力除去し、(3)残った振動も真空蓋
3と内筒4の間に備えられた防振ゴム11で確実に除去
する。
ちろん、特に、被検体8の近くにある内筒4の振動によ
る騒音を抑えることができ、高速パルスシーケンスを使
う場合であっても、傾斜磁場コイル2の振動に起因した
振動および騒音を格段に低減させることができ、特に、
内筒4の内側にいる被検体8に与える不安感や不快感を
良好に解消することができる。また、傾斜磁場コイル2
を支えるブラケット5、防振ゴム6は天板9の下部にの
み存在し、真空蓋3の上部が撮影空間S側に切り込んだ
形となって外部に広い空間を作っているため、被検体に
開放感を与えている。
1の変形例について、図面を参照して説明する。なお、
第1の実施の形態と同一構成のものは同一番号を付して
詳しい説明は省略する。本変形例は、磁石インターフェ
ース7と真空蓋3の接続部分の変形例であり、拡大図と
して、図4に示されている。
に、磁石インターフェース7と真空蓋3が接している構
造であるが、本実施の形態では、磁石インターフェース
7と真空蓋3の間に密閉用防振ゴム12を設ける。密閉
用防振ゴム12は磁石インターフェース7と真空蓋3の
間を密閉する役割を果たしている。密閉用防振ゴム12
は外気圧と真空圧の圧力差によって磁石インターフェー
ス7と真空蓋3の間に強く挟まれ固定される。またさら
に、密閉用防振ゴム12には、凸部12aが設けられて
いる。凸部12aは、防振ゴムの真空蓋3側および磁石
インターフェース7側のそれぞれ対向する位置に設けら
れている。凸部12aは、密閉用防振ゴム12の周回に
沿うような略環状の形状であり、真空蓋3と磁石インタ
ーフェース7を密閉することができ、真空度を高めるた
めに使用されている。密閉用防振ゴム12は撮影空間S
を周回するような略環状のものである。
の矢印A4に示されるように、振動は、磁石インターフ
ェース7から真空蓋3に伝搬しようとするが、密閉用防
振ゴム12により、振動の固定伝搬が抑制される。ま
た、ワッシャー21と真空蓋3の間にワッシャー型の防
振ゴム14を設けても良い。防振ゴム14を設けた場
合、図中の矢印A5に示されるように、振動は、磁石イ
ンターフェース7からボルト20、ワッシャー21を介
して真空蓋3に伝搬しようとするが、防振ゴム14によ
り、振動の固定伝搬が抑制される。
果は大きくなるが、必要に応じて使用・不使用を決定す
れば良い。本変形例では、真空蓋3と磁石インターフェ
ース7間に密閉用防振ゴム12を用いることにより、第
1の実施の形態の効果に加え、Oリングを用いずに、真
空蓋3と磁石インターフェース7を密閉することができ
ると同時に、磁石インターフェース7から真空蓋3への
固定振動を抑制することができ、振動による騒音をさら
に抑えることができる。次に、本発明に係る第1の実施
の形態の第2の変形例について、図面を参照して説明す
る。なお、第1の実施の形態および第1の変形例と同一
構成のものは同一番号を付して詳しい説明は省略する。
空蓋3の接続部分の変形例であり、拡大図として、図5
に示されている。本変形例では、第1の変形例における
磁石インターフェース7のボルト20が取り付けられた
部分よりもさらに外周側に、ボルト22とワッシャー2
3により、X方向から見た断面は略L字型であるブラケ
ット15を設ける。ブラケット15は、Z方向から見た
場合、真空蓋3の下側にあり真空蓋3の重量を支えてい
る。ブラケット15と真空蓋3の間には支持用防振ゴム
16が設けられている。真空蓋3の重量は、真空蓋3の
下部に設けられた支持用防振ゴム16を介して、ブラケ
ット15により充分支えることができる。ブラケット1
5および支持用防振ゴム16は真空蓋3の周囲全体に配
置する必要はなく、例えば図1の傾斜磁場コイル2の重
量を支えるために用いた防振ゴム6のように、真空蓋3
の下部の2ヶ所(Z方向に2ヶ所で合計4ヶ所)に設け
られていればよい。
振動はブラケット15から真空蓋3に伝搬しようとする
が、支持用防振ゴム16により振動の伝搬が抑制され
る。支持用防振ゴム16とブラケット15の間には図示
していない支持用防振ゴム16の高さ調整機能があり、
装置を組み立てるときには真空蓋3を支持用防振ゴム1
6に載せ、高さ調整機能により真空蓋3が中心に位置す
るように調整し、ボルト20で軽く締め付けてから真空
に引くことにより、密閉用防振ゴム12が真空蓋3と磁
石インターフェース7により両側からしっかりと押しつ
けられ密閉される。
傾斜磁場コイル2の重量を支えるため比較的剛性の大き
なゴムを必要とするが、部分的な支持により接触面積を
小さくして振動の伝搬を効果的に軽減することができ、
真空蓋3の全周に配置され接触面積の大きな密閉用防振
ゴム12は、単位面積当たりに加わる力が支持用防振ゴ
ム16ほど大きくないので、比較的剛性の小さな柔らか
いゴムを用い振動の伝搬を効果的に抑制できる。本変形
例では、第1の実施の形態および第1の変形例の効果に
加え、真空蓋3に重い重量が加わった場合でも、真空蓋
3を確実に支持した状態で、第1の実施の形態および第
1の変形例と同様、振動を抑制することができる。
3の変形例について、図面を参照して説明する。なお、
第1の実施の形態と同一構成のものは同一番号を付して
詳しい説明は省略する。本変形例は、真空蓋3と内筒4
の接続部分の変形例であり、拡大図として、図6に示さ
れている。第1の実施の形態では、密閉機能および支持
機能の両機能をもつ防振ゴム11を用いていたのに対
し、内筒4の重量を支えるための支持用防振ゴム25と
密閉するための密閉用防振ゴム24とが別に用いられ
る。支持用防振ゴム25は内筒4の周囲全体に配置する
必要はなく、たとえば図1の傾斜磁場コイル2の重量を
支えるために用いた防振ゴム6のように、内筒4の下部
の2ヶ所(Z方向に2ヶ所で合計4ヶ所)に設けられてい
ればよい。
影空間Sを周回するように設けられ、大気圧と真空圧の
圧力差によって真空蓋3と内筒4に強く挟まれ固定され
る。さらに、真空蓋3と内筒4の密閉を確実にして真空
度を高めるために、密閉用防振ゴム24の真空蓋3側お
よび内筒4側のそれぞれ対向する位置には凸部24aを
設けてもよい。本変形例では、第1の実施の形態の効果
に加え、接触面積の小さな支持用防振ゴム25には比較
的剛性の高いゴムを使用し、円環状の接触面積の大きな
密閉用防振ゴム24には比較的剛性の小さなゴムを用い
ることにより、剛性の高いフランジを設けなくても、防
振ゴム11の変形を防止することができ、また、支持用
防振ゴム25および密閉用防振ゴム24の剛性を調整す
ることにより、振動の伝搬に対し効果的な抑制が可能で
ある。
4の変形例について、図面を参照して説明する。なお、
第1の実施の形態と同一構成のものは同一番号を付して
詳しい説明は省略する。本変形例は、傾斜磁場コイル2
と真空容器1との接続部分の変形例であり、拡大図とし
て、図7に示されている。なお、図7では、磁石インタ
ーフェース7と真空蓋3の接続部分は、上述の第2の変
形例が記載されている。
Z方向の両端に各1個または2個あるいはそれ以上の複
数の防振ゴム26が配置され、防振ゴム26は傾斜磁場
コイル2の重量で押しつけられて真空容器1に接続され
ている。真空容器1の防振ゴム26が接触する部分およ
びその周囲は、傾斜磁場コイルの重量を支えかつ防振ゴ
ム26を伝搬する振動を押さえるに十分な剛性を持った
構造に作られている。本変形例では、第1の実施の形態
の効果に加え、第1の実施の形態で用いられている支持
ブラケット5を用いることなく、実施することができ、
非常に単純でコストも安価になる利点がある。
は、防振機能に加え密封機能を有する防振部材にはゴム
系の材料が適しているため、防振部材として一例である
防振ゴムを用いて説明したが、振動を抑制する部材であ
ればゴム系の材料に限定されない。また、既存の磁気共
鳴イメージング装置における静磁場コイルをガントリに
残し、傾斜磁場コイル2、真空蓋3、内筒4を含む装置
を傾斜磁場ユニットとし、取り付けることも可能であ
る。この場合には、既存の磁気共鳴イメージング装置に
おける静磁場コイルを利用することができる。
例では、前記傾斜磁場発生手段の周囲に形成された真空
状態を保持するための密閉手段に、環状の真空蓋3を用
いたが、真空状態にできる構成であれば、特に形状等は
限定されない。
れば、傾斜磁場発生手段の周囲を真空状態にし、傾斜磁
場発生手段と静磁場発生手段の間に第1の防振部材を設
け、また、静磁場発生手段と密閉手段の間および密閉手
段と隔壁の間の少なくともどちらか一方に、真空空間の
真空状態を保持する密閉機能を有し、振動の伝搬を抑制
するための第2の防振部材を設けることにより、2重ま
たは3重に固定伝搬を遮断でき、簡単な構成で空気伝搬
だけでなく効果的に固定伝搬を抑制し、静音型の傾斜磁
場ユニットおよび磁気共鳴イメージング装置を提供する
ことができる。
磁気共鳴イメージング装置の一部切欠正面図である。 (b)本発明に係る第1の実施の形態における磁気共鳴
イメージング装置の断面図である。
ンターフェースと真空蓋の接続部の拡大図である。
と内筒の接続部の拡大図である。
における磁石インターフェースと真空蓋の接続部の拡大
図である。
における磁石インターフェースと真空蓋の接続部の拡大
図である。
における真空蓋と内筒の接続部の拡大図である。
における磁気共鳴イメージング装置の断面図である。
Claims (18)
- 【請求項1】 撮影空間に静磁場を生成するための静磁
場発生手段と、 前記撮影空間に傾斜磁場を生成するための傾斜磁場発生
手段と、 前記撮影空間を確保するための隔壁と、 前記静磁場発生手段と前記隔壁と共に前記傾斜磁場発生
手段の周囲に真空空間を形成するための密閉手段と、 前記静磁場発生手段と前記傾斜磁場発生手段の間に介在
して振動の伝搬を抑制するための第1の防振部材と、 前記真空空間の真空状態を保持する密閉機能を有し、前
記静磁場発生手段と前記密閉手段の間および前記密閉手
段と前記隔壁の間の少なくともどちらか一方に介在して
振動の伝搬を抑制するための第2の防振部材と、 を具備することを特徴とする磁気共鳴イメージング装
置。 - 【請求項2】 前記第1の防振部材は前記傾斜磁場発生
手段の下部空間にあり且つ前記撮影空間に挿入される被
検体の挿入方向の両端それぞれの位置に配置されたこと
を特徴とする請求項1記載の磁気共鳴イメージング装
置。 - 【請求項3】 前記密閉手段が、前記隔壁を支持するた
めの密閉支持部材を有することを特徴とする請求項1記
載の磁気共鳴イメージング装置。 - 【請求項4】 前記第2の防振部材は、それぞれ対向す
る位置に凸部を有することにより、密閉機能を備えたこ
とを特徴とする請求項1記載の磁気共鳴イメージング装
置。 - 【請求項5】 前記密閉支持部材と前記隔壁の間に配置
された前記第2の防振部材は、前記隔壁の下部に配置さ
れ前記隔壁の重量を支えるための支持用防振部材と前記
真空空間を密閉するために前記隔壁の周囲に配置された
密閉用防振部材とからなることを特徴とする請求項3記
載の磁気共鳴イメージング装置。 - 【請求項6】 前記密閉手段と前記静磁場発生手段の間
に配置された前記第2の防振部材は、前記密閉手段の下
部に配置され前記密閉手段の重量を支えるための支持用
防振部材と前記真空空間を密閉するために前記密閉手段
の周囲に配置された密閉用防振部材とからなることを特
徴とする請求項1記載の磁気共鳴イメージング装置。 - 【請求項7】 前記第2の防振部材が、外気圧と真空圧
の圧力差を用いて固着され、前記真空空間の真空状態を
保持する密閉機能を有することを特徴とする請求項1記
載の磁気共鳴イメージング装置。 - 【請求項8】 前記密閉支持部材と前記隔壁の間に介在
する第2の防振部材が、断面が略L字型部分を含む形状
であり、前記略L字型部分を前記密閉支持部材と前記隔
壁で挟むことにより、外気圧と真空圧の圧力差を用い
て、前記密閉支持部材と前記隔壁を接続保持する接続保
持機能を有することを特徴とする請求項3記載の磁気共
鳴イメージング装置。 - 【請求項9】 前記第1の防振部材あるいは前記第2の
防振部材のうち少なくとも1つの防振部材がゴム系の材
料からなることを特徴とする請求項1乃至8いずれか1
項記載の磁気共鳴イメージング装置。 - 【請求項10】 撮影空間に傾斜磁場を生成するための
傾斜磁場発生手段と、 前記撮影空間を確保するための隔壁と、 前記撮影空間に静磁場を生成するための静磁場発生手段
と前記隔壁と共に前記傾斜磁場発生手段の周囲に真空空
間を形成するための密閉手段と、 前記静磁場発生手段と前記傾斜磁場発生手段の間に介在
して振動の伝搬を抑制するための第1の防振部材と、 前記真空空間の真空状態を保持する密閉機能を有し、前
記静磁場発生手段と前記密閉手段の間および前記密閉手
段と前記隔壁の間の少なくともどちらか一方に介在して
振動の伝搬を抑制するための第2の防振部材と、 を具備することを特徴とする傾斜磁場ユニット。 - 【請求項11】 前記第1の防振部材は前記傾斜磁場発
生手段の下部空間にあり且つ前記撮影空間に挿入される
被検体の挿入方向の両端それぞれの位置に配置されたこ
とを特徴とする請求項10記載の傾斜磁場ユニット。 - 【請求項12】 前記密閉手段が、前記隔壁を支持する
ための密閉支持部材を有することを特徴とする請求項1
0記載の傾斜磁場ユニット。 - 【請求項13】 前記第2の防振部材は、それぞれ対向
する位置に凸部を有することにより、密閉機能を備えた
ことを特徴とする請求項10記載の傾斜磁場ユニット。 - 【請求項14】 前記密閉支持部材と前記隔壁の間に配
置された前記第2の防振部材は、前記隔壁の下部に配置
され前記隔壁の重量を支えるための支持用防振部材と前
記真空空間を密閉するために前記隔壁の周囲に配置され
た密閉用防振部材とからなることを特徴とする請求項1
2記載の傾斜磁場ユニット。 - 【請求項15】 前記密閉手段と前記静磁場発生手段の
間に配置された前記第2の防振部材は、前記密閉手段の
下部に配置され前記密閉手段の重量を支えるための支持
用防振部材と前記真空空間を密閉するために前記密閉手
段の周囲に配置された密閉用防振部材とからなることを
特徴とする請求項10記載の傾斜磁場ユニット。 - 【請求項16】 前記第2の防振部材が、外気圧と真空
圧の圧力差を用いて固着され、前記真空空間の真空状態
を保持する密閉機能を有することを特徴とする請求項1
0記載の傾斜磁場ユニット。 - 【請求項17】 前記密閉支持部材と前記隔壁の間に介
在する第2の防振部材が、断面が略L字型部分を含む形
状であり、前記略L字型部分を前記密閉支持部材と前記
隔壁で挟むことにより、外気圧と真空圧の圧力差を用い
て、前記密閉支持部材と前記隔壁を接続保持する接続保
持機能を有することを特徴とする請求項12記載の傾斜
磁場ユニット。 - 【請求項18】 前記第1の防振部材あるいは前記第2
の防振部材のうち少なくとも1つの防振部材がゴム系の
材料からなることを特徴とする請求項10乃至17いず
れか1項記載の傾斜磁場ユニット。
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Publication Number | Publication Date |
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