JP3341978B2 - 洗浄システム - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は，例えば半導体ウェ
ハやＬＣＤ基板などといった被処理体を洗浄するための
洗浄システムに関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体デバイスの製造工程においては，
半導体ウェハ（以下，「ウェハ」という）表面のパーテ
ィクル，有機汚染物等のコンタミネーションを除去する
ために洗浄システムが使用されている。その中でもウェ
ハを処理槽内にて洗浄液に浸漬して洗浄するウエット型
の洗浄システムは，ウェハに付着したパーティクルを効
果的に除去できるといった長所がある。

【０００３】このウエット型の洗浄システムは，ウェハ
を収納したカセットが載置されるインタフェイス部と，
ウェハの洗浄及び乾燥を行う洗浄処理部と，これらイン
タフェイス部と洗浄処理部の間でカセットの搬入および
搬出を行う移載装置を備えている。インタフェイス部に
は搬入出口が形成されており，ＡＧＶ（無人搬送車）に
よって搬送されるカセットがこの搬入出口を介して，洗
浄システム内に対して供給及び搬出されるようになって
いる。洗浄処理部には，カセットからウェハを取り出す
操作を行うローダと，ウェハを洗浄する種々の洗浄槽及
びウェハを乾燥する乾燥槽と，ウェハをカセットに収納
する操作を行うアンローダなどが設けられている。そし
て，ロボット等によってインタフェイス部にカセットが
載置されると，該カセットを移載装置によって洗浄処理
部に搬入する。次いで，洗浄処理部のローダにおいてこ
のカセットからウェハを取り出す。そして，例えばカセ
ット２個分に収納されていた５０枚のウェハをまとめて
各洗浄槽に搬送しながら種々の液体を用いてバッチ式に
洗浄する。更に乾燥槽においては，例えばＩＰＡ（イソ
プロピルアルコール）を用いてウェハ表面の水分をＩＰ
Ａの揮発と同時に除去するようになっている。

【０００４】以上のように構成される洗浄システムは，
清浄度の高いクリーンルーム内に設置されているのが一
般的である。このクリーンルームの内部は，人体や機械
装置の摩擦摺動部などから発生する塵埃，ガスや薬剤な
どの不純物の発生などを極力抑制した清浄な雰囲気に保
たれている。一方，ウェット型の洗浄システムの洗浄部
ではウェハの洗浄や乾燥に種々の薬液が使用されるた
め，洗浄システムの内部は，薬液の蒸気や乾燥槽で使用
されているＩＰＡなどの蒸気が残っている可能性があ
る。もしも，インタフェイス部の搬入出口からこれらの
蒸気が洗浄システムの外部に漏れ出ると，クリーンルー
ム内を汚染することとなってしまう。

【０００５】そこで，洗浄システムの内部を負圧雰囲気
にし，クリーンルーム内の圧力を洗浄システム内の雰囲
気よりも例えば＋0.38mmHg程度ほど高く設定することに
よって，洗浄システム内部の雰囲気が，インタフェイス
部の搬入出口から外部に漏れ出るのを防いでいる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし，このようにク
リーンルーム内と洗浄システム内に差圧を形成すると，
インタフェイス部の搬入出口を介してクリーンルーム内
から洗浄システム内部に流れ込む気流が形成される。そ
して，この気流に伴ってパーティクルが洗浄システム内
部に入り込んだりシステム内の気流が乱れる事により，
せっかく洗浄したウェハにパーティクルやミストが再付
着するといった問題を生じる。また，ＩＰＡ蒸気を使用
してウェハを乾燥させている乾燥槽に気流が入り込む
と，ウェハ表面にＩＰＡ蒸気を良好に供給できなくな
り，ウェハ表面にウォーターマークが残るなどといった
悪影響が生じてしまう。

【０００７】一方，このような気流の発生を抑制するた
めに，インタフェイス部と洗浄処理部の間に邪魔板を設
ける試みもなされている。しかし，そのような邪魔板を
設けると，ウェハをインタフェイス部と洗浄処理部の間
で搬送する際に邪魔板を迂回しなければならなくなり，
搬送経路を直線的にできなくなる。そのため，ウェハの
搬送に時間がかかるようになり，タクトタイムが長くな
り，スループットが低下するといった問題を生ずる。

【０００８】従って本発明の目的は，スループットを低
下させずにクーリンルーム内から洗浄システム内に気流
が流入することを防ぐことができる洗浄システムを提供
することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に，本発明にあっては，被処理体の供給及び搬出を行う
インタフェイス部と被処理体の洗浄を行う洗浄処理部を
備えた洗浄システムにおいて，前記洗浄処理部は，待機
部，アンローダ，乾燥槽，洗浄槽及びローダを備え，前
記洗浄処理部の最も手前側に，前記待機部が配置され，
前記インタフェイス部への被処理体の供給及び搬出を行
う搬入出口に開閉自在な第１のシャッタを設け，前記イ
ンタフェイス部と前記待機部との間に開閉自在な第２の
シャッタを設けたことを特徴とする。

【００１０】この洗浄システムによれば，第１のシャッ
タと第２のシャッタを被処理体の搬送時にのみ開放さ
せ，被処理体を搬送しないときはこれらシャッタを閉じ
ておくことによって，クーリンルーム内から洗浄システ
ム内に気流が流入することを防ぐことができるようにな
る。即ち，前記第１のシャッタを開いたときは前記第２
のシャッタを閉じ，前記第２のシャッタを開いたときは
前記第１のシャッタを閉じておくことによって，クーリ
ンルーム内の雰囲気と洗浄システム内の雰囲気が直接的
に連通しなくなり，気流の発生を防止できるようにな
る。なお，前記第１のシャッタの駆動部を，インタフェ
イス部への被処理体の供給及び搬出を行う搬入出口の下
方に配置すると共に，前記第２のシャッタの駆動部を，
インタフェイス部と待機部との間での被処理体の供給及
び搬出を行う搬送通路の下方に配置することが好まし
い。また，前記第１のシャッタが下降したときに，イン
タフェイス部への被処理体の供給及び搬出を行う搬入出
口が開いた状態となり，前記第２のシャッタが下降した
ときに，インタフェイス部と待機部との間での被処理体
の供給及び搬出を行う搬送通路が開いた状態となるよう
に構成することが好ましい。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下，本発明の好ましい実施の形
態を，被処理体の一例としてのウェハＷを洗浄するため
の洗浄システム１に基づいて説明する。図１は，クリー
ンルーム内に設置された洗浄システム１の斜視図であ
る。この洗浄システム１は，クリーンルーム内を走行す
る図示しないＡＧＶ（無人搬送車）等によってカセット
Ｃが載置されるインタフェイス部２と，ウェハの洗浄及
び乾燥を行う洗浄処理部３と，これらインタフェイス部
２と洗浄処理部３との間でカセットＣの搬入および搬出
を行う移載装置４を備えている。カセットＣには，洗浄
システム１において洗浄される被処理体としてのウェハ
Ｗが複数枚収納されている。

【００１２】また，インタフェイス部２の側面には搬入
出口５が形成されており，図示しないＡＧＶによって搬
送されるカセットＣがこの搬入出口５を介して洗浄シス
テム１へ搬入され，また，この搬入出口５を介して洗浄
システム１から搬出されるようになっている。洗浄シス
テム１へ搬入されるカセットＣには，これから洗浄処理
部３にて洗浄されるウェハＷが収納されている。また，
洗浄システム１から搬入されるカセットＣには，既に洗
浄処理部３にて洗浄されたウェハＷが収納されている。

【００１３】図２に示すようにインタフェイス部２の上
面には，４本のレール８，９，１０，１１が設けられて
いる。これらレール８，９，１０，１１上においてカセ
ットＣは左右に移動させられるように構成されている。
図示の形態においては，後方に位置する２本のレール
８，９上には，洗浄システム１によって洗浄が終了した
ウェハＷを収納しているカセットＣが載置されるように
なっている。これらレール８，９上においては，後に詳
しく説明する移載装置４のアーム１３によって洗浄処理
部３から搬送されてきたカセットＣが，レール８，９上
の図中右側位置に載置されるようになっている。こうし
てレール８，９上の右側位置に載置されたカセットＣ
は，その後レール８，９上を移動させられて，レール
８，９上の左側位置まで搬送されるようになっている。
また，図示の形態においては，前方に位置する２本のレ
ール１０，１１上には，これから洗浄システム１で洗浄
するウェハＷを収納したカセットＣが載置されるように
なっている。これらレール１０，１１上においては，Ａ
ＧＶ等によって搬送されてきたカセットＣが，レール１
０，１１上の図中左側位置に載置されるようになってい
る。こうしてレール１０，１１上の左側位置に載置され
たカセットＣは，その後レール１０，１１上を移動させ
られて，レール１０，１１上の右側位置まで搬送される
ようになっている。図２において，レール８，９上のカ
セットＣは，レール８，９上において左側位置に移動さ
せられた状態を示している。また，レール１０，１１上
のカセットＣは，レール１０，１１上において右側位置
まで搬送された状態を示している。

【００１４】移載装置４の上面には，図２に示すよう
に，前後に伸びるガイドレール１２が配置されており，
このガイドレール１２に沿って走行するアーム本体１４
の上面に，昇降自在かつ回転自在なアーム１３が装着さ
れている。このアーム１３の稼働によって，レール１
０，１１上からカセットをすくい上げ，そのカセットを
次に説明する洗浄処理部３の待機部１５に搬入すると共
に，待機部１５上からカセットＣをすくい上げ，そのカ
セットＣをレール８，９上に載置することにより，イン
タフェイス部２と洗浄処理部３との間でカセットＣの搬
入出を行う構成になっている。

【００１５】洗浄処理部３の最も手前側には，先に説明
した移載装置４のアーム１３によるカセットＣの授受が
行われる待機部１５が配置されている。洗浄処理部３に
おいて，この待機部１５の後方にアンローダ１６が配置
され，このアンローダ１６の後方にウェハＷの洗浄およ
び乾燥等を行う種々の洗浄槽１７と乾燥槽１８が直列に
配置され，最も後方にローダ１９が配置されている。前
述のように，インタフェイス部２のレール１０，１１上
からアーム１３によって洗浄処理部３の待機部１５にカ
セットＣが搬入された場合には，図示しないリフタによ
ってカセットＣは洗浄処理部３の上方に持ち上げられた
後，ライナによって洗浄処理部の最も後方まで搬送さ
れ，更に，図示しないリフタで下降されることにより，
洗浄前のウェハＷを収納したカセットＣがローダ１９ま
で搬送されるようになっている。そして，ローダ１９に
おいてカセットＣからウェハＷが取り出されて，ウェハ
Ｗを各洗浄処理部３に対してバッチ式に順次搬送して洗
浄および乾燥を行い，こうして洗浄等の処理を終了した
ウェハＷがアンローダ１６に供給されるようになってい
る。一方，ローダ１９においてウェハＷが取り出されて
空となったカセットＣは，再びリフタによって洗浄処理
部３の上方に持ち上げられた後，ライナによって洗浄処
理部３の最も前方まで搬送され，更に，図示しないリフ
タで下降されることにより，空となったカセットＣは待
機部１５まで搬送されるようになっている。こうして待
機部１５まで搬送されたカセットＣは，その後，アンロ
ーダ１６に供給されるようになっている。そして，アン
ローダ１６にて，空のカセットＣに洗浄済みのウェハＷ
が再び収納されるようになっている。こうして洗浄済み
のウェハＷを収納したカセットＣは，待機部１５まで搬
送された後，先に説明した如く，アーム１３の稼働によ
ってインタフェイス部２のレール８，９上に載置される
ようになっている。

【００１６】以上のような洗浄システム１において，図
１に示されるように，インタフェイス部２の搬入出口５
を開閉するための第１のシャッタ２０と，インタフェイ
ス部２と洗浄処理部３の間を開閉するための第２のシャ
ッタ２２が設けられている。図１においては，第１のシ
ャッタ２０が下降し，第２のシャッタ２２が上昇した状
態を示している。

【００１７】図３に示すように，インタフェイス部２の
搬入出口５の下方には，第１のシャッタ２０を昇降駆動
させる第１の駆動部２１が配置されている。この第１の
駆動部２１は例えばシリンダやモータなどで構成され。
モータの場合にはその駆動軸にエンコーダーが直結され
ており，パルス信号によりモータの回転量が制御され
る。そして，第１の駆動部２０として例えばパルス信号
で駆動するステッピングモータを使用し，その回転量を
制御することによって，第１のシャッタ２０を上昇させ
て搬入出口５を閉じた状態と，第１のシャッタ２０を下
降させて搬入出口５を開いた状態とに切り替えられるよ
うに構成されている。なお図示はしないが，第１のシャ
ッタ２０の昇降を認識できるように，例えばフォトセン
サや近接センサなどのセンサを設け，該センサで搬入出
口５の開閉を検出するように構成している。図３におい
て実線で示した第１のシャッタ２０は，第１の駆動部２
１の稼働で下降させられた状態を示している。このよう
に第１のシャッタ２０が下降した場合には，搬入出口５
は開放状態となり，図示しないＡＧＶ等によって搬送さ
れるカセットＣをインタフェイス部２に対して搬入出で
きる状態となる。一方，第１の駆動部２１の稼働によっ
て第１のシャッタ２０が上昇させられた場合は，第１の
シャッタ２０は図３中の一点鎖線２０’で示される位置
に移動し，これにより，搬入出口５は塞がれた状態とな
る。このように第１のシャッタ２０によって搬入出口５
が塞がれた場合は，クリーンルーム内の空気が洗浄シス
テム１のインタフェイス部２内に流入しない状態とな
る。

【００１８】次に，図４に示すように，洗浄システム１
のインタフェイス部２と洗浄処理部３の間は仕切板２５
で仕切られており，この仕切板２５には，インタフェイ
ス部２と洗浄処理部３の間でのカセットＣの搬入及び搬
出を行うための搬送通路２４が開口している。そして，
前述の第２のシャッタ２２は，この搬送通路２４の下方
に配置された第２の駆動部２３によって支持されてい
る。第２の駆動部２３も同様に例えばモータやシリンダ
などで構成されており，この第２の駆動部２３の稼働に
よって第２のシャッタ２２は昇降移動されるようになっ
ている。なお，先に説明した第１の駆動部２１と同様
に，この第２のシャッタ２２の昇降を制御することによ
り，第２のシャッタ２２を上昇させて搬送通路２４を閉
じた状態と，第２のシャッタ２２を下降させて搬送通路
２４を開いた状態とに切り替えられるように構成されて
いる。また同様に，この第２のシャッタ２２による開閉
を例えばフォトセンサや近接センサなどで検出するよう
に構成している。図４において実線で示した第２のシャ
ッタ２２は，第２の駆動部２３の稼働で下降させられた
状態を示している。このように第２のシャッタ２２が下
降した場合には，搬送通路２４は開放状態となり，先に
説明した移載装置４のアーム１３に支持されたカセット
Ｃを搬送通路２４を介してインタフェイス部２と洗浄処
理部３との間で供給及び搬出できる状態となる。一方，
第２の駆動部２３の稼働によって第２のシャッタ２２が
上昇させられた場合は，第２のシャッタ２２は図３中の
一点鎖線２２’で示される位置に移動し，これにより，
搬送通路２４は塞がれた状態となる。このように第２の
シャッタ２２によって搬送通路２４が塞がれた場合は，
インタフェイス部２と洗浄処理部３との間で空気が流通
しない状態となる。

【００１９】そして，これら第１のシャッタ２０と第２
のシャッタ２２は，第１のシャッタ２０が開いたときは
第２のシャッタ２２が閉じ，第２のシャッタ２２が開い
たときは第１のシャッタ２０が閉じるように構成されて
いる。すなわち，先に説明した第１の駆動部２１と第２
の駆動部２３は，第１の駆動部２１が第１のシャッタ２
０を上昇させるように稼働したときは，第２の駆動部２
３は第２のシャッタ２２を下降させるように稼働し，第
２の駆動部２３が第２のシャッタ２２を上昇させるよう
に稼働したときは，第１の駆動部２１は第１のシャッタ
２０を下降させるように稼働する制御がなされている。

【００２０】さて，以上に説明した洗浄システム１にお
いてウェハＷが洗浄される工程を順を追って説明すると
次のようになる。

【００２１】まず，まだ洗浄されていないウェハＷを収
納したカセットＣが，図示しないＡＧＶによって洗浄シ
ステム１のインタフェイス部２の前まで搬送される。こ
の段階では，まだ第１のシャッタ２０と第２のシャッタ
２２の両方が上昇し，インタフェイス部２側面の搬入出
口５及びインタフェイス部２と洗浄処理部３の間の搬送
通路２４はいずれも閉じられた状態になっている。そし
て，ＡＧＶがインタフェイス部２の前まで走行してきて
所定の位置に停止すると，例えば図示しないコントロー
ル手段にて洗浄システム１に信号が送信され，第２のシ
ャッタ２２が閉じられてるのを確認後，第１の駆動部２
１の稼働によって第１のシャッタ２０が下降させられ
て，搬入出口５が開いた状態となる。その後，ＡＧＶに
よって搬送されてきたカセットＣが搬入出口５を介して
インタフェイス部２へ搬入され，図示の例では２つのカ
セットＣがレール１０，１１の左側位置にそれぞれ載置
される。こうして，インタフェイス部２へのカセットＣ
の搬入が終了すると，第１の駆動部２１の稼働によって
第１のシャッタ２０が上昇させられ，搬入出口５は閉じ
られる。

【００２２】次に，レール１０，１１上にてカセットＣ
は右側位置まで移動させられる。また，第１のシャッタ
２０が閉じられている事を確認後，第２の駆動部２３の
稼働によって第２のシャッタ２２が下降し，搬送通路２
４が開口した状態となっている。そして，移載装置４の
アーム１３の稼働によってレール１０，１１上に載置さ
れていたカセットＣが一つずつすくい上げられ，洗浄処
理部３の待機部１５内に順次搬入される。こうして，２
つのカセットＣが待機部１５内に搬入された後，第２の
駆動部２３の稼働によって第２のシャッタ２２が上昇
し，搬送通路２４は再び閉じられた状態となる。その
後，洗浄処理部３にて２つのカセットＣは図示しないリ
フタによって上方に持ち上げられた後，ライナによって
洗浄処理部３の最も後方まで搬送され，更に，図示しな
いリフタで下降されることにより，洗浄前のウェハＷを
収納したカセットＣはローダ１９まで搬送される。そし
て，ローダ１９において２つのカセットＣからウェハＷ
が取り出されて，ウェハＷを各洗浄処理部３に対してバ
ッチ式に順次搬送して洗浄および乾燥を行い，こうして
洗浄等の処理を終了したウェハＷがアンローダ１６に供
給される。

【００２３】一方，ローダ１９においてウェハＷが取り
出されて空となったカセットＣは，再びリフタによって
洗浄処理部３の上方に持ち上げられた後，ライナによっ
て洗浄処理部３の最も前方まで搬送され，更に，図示し
ないリフタで下降されることにより，空となったカセッ
トＣは待機部１５まで搬送される。こうして待機部１５
まで搬送されたカセットＣは，その後，アンローダ１６
に供給される。そして，先に説明した洗浄処理が終了し
たウェハＷが，アンローダ１６にてカセットＣに再び収
納される。そして，このようにして洗浄処理を終了した
ウェハＷを収納したカセットＣは，アンローダ１６から
待機部１５まで搬送される。

【００２４】次に，第２の駆動部２３の稼働によって第
２のシャッタ２２が下降し，搬送通路２４が開口した状
態となる。そして，移載装置４のアーム１３の稼働によ
って待機部１５に載置されていたカセットＣが一つずつ
すくい上げられ，インタフェイス部２のレール８，９上
の右側位置まで順次搬送される。こうして，２つのカセ
ットＣがレール８，９上に搬送された後，第２の駆動部
２３の稼働によって第２のシャッタ２２が上昇し，搬送
通路２４は再び閉じられた状態となる。

【００２５】次に，レール８，９上にてカセットＣは左
側位置まで移動させられる。そして，第１の駆動部２１
の稼働によって第１のシャッタ２０が下降させられて，
搬入出口５が開いた状態となる。こうして，洗浄処理を
終了したウェハＷを収納し，レール８，９上の左側位置
に載置されたカセットＣは，その後，図示しないＡＧＶ
によって取り出され，適宜次の工程に搬送されていく。

【００２６】以上に説明した実施の形態の洗浄システム
１にあっては，インタフェイス部２の搬入出口５と，イ
ンタフェイス部２と洗浄処理部３の間の搬送通路２４の
何れか一方が常に閉じられた状態となっているので，カ
セットＣを洗浄処理部３内に搬入する際や洗浄処理部３
内から搬出する際に，クリーンルーム内の空気が洗浄処
理部３内に直接的に入り込むことがない。従って，クリ
ーンルーム内に浮遊するパーティクルなどが洗浄システ
ム１の洗浄処理部３内に進入する心配が無く，ウェハＷ
の洗浄が清浄な環境下でできるようになる。また，洗浄
処理部３内に不要な気流が発生しないので，例えば乾燥
槽１８におけるＩＰＡ乾燥時にウェハＷ表面にウォータ
ーマークが残るといった悪影響が生じなくなり，ウェハ
Ｗの洗浄処理の信頼性を向上させることが可能となる。
更に，従来の技術の如く邪魔板等を設置していた場合に
比べて，カセットＣの搬送経路を直線的にできるため，
カセットＣを運ぶ時間が短縮できるようになる。その結
果，システム全体の稼働効率を向上させることが可能と
なる。

【００２７】なお，以上の実施の形態では，一例として
ウェハＷを洗浄する洗浄システム１について主たる説明
を行ったが，本発明は，ＬＣＤ基板の如き他の被処理体
を扱う洗浄システムなどに適応させることも可能であ
る。

【００２８】

【発明の効果】本発明によれば，開閉自在な第１のシャ
ッタ及び第２のシャッタを設けることにより，被処理体
を洗浄処理する際に，外部環境からシステム内部に空気
が入り込むことによる悪影響を排除でき，且つ洗浄処理
時間の短縮化がはかれるため，システム全体の信頼性と
稼働効率を向上することができる。従って，本発明によ
れば被処理体の洗浄処理を円滑に行うことができ，例え
ば，半導体デバイスの製造における生産効率を向上させ
ることが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】洗浄システムの斜視図である。

【図２】インタフェイス部の平面図である。

【図３】第１のシャッタの説明図である。

【図４】第２のシャッタの説明図である。

【符号の説明】

Ｃ カセット Ｗ ウェハ ５ 搬入出口 ２０ 第１のシャッタ ２１ 第１の駆動部 ２２ 第２のシャッタ ２３ 第２の駆動部 ２４ 搬送通路 ２５ 仕切板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/304 B08B 3/04

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理体の供給及び搬出を行うインタフ
   ェイス部と被処理体の洗浄を行う洗浄処理部を備えた洗
   浄システムにおいて，前記洗浄処理部は，待機部，アンローダ，乾燥槽，洗浄
   槽及びローダを備え， 前記洗浄処理部の最も手前側に，前記待機部が配置さ
   れ， 前記インタフェイス部への被処理体の供給及び搬出を行
   う搬入出口に開閉自在な第１のシャッタを設け， 前記インタフェイス部と前記待機部との間に開閉自在な
   第２のシャッタを設けたことを特徴とする洗浄システ
   ム。
2. 【請求項２】 前記洗浄処理部において，前記待機部の
   後方にアンローダが配置され，アンローダの後方に洗浄
   槽と乾燥槽が直列に配置され，最も後方にローダが配置
   されていることを特徴とする請求項１に記載の洗浄シス
   テム。
3. 【請求項３】 被処理体を収納したカセットを前記イン
   タフェイス部と前記待機部との間で搬入出させる移載装
   置を，前記インタフェイス部に備えることを特徴とする
   請求項１又は２に記載の洗浄システム。
4. 【請求項４】 前記第１のシャッタを開いたときは前記
   第２のシャッタを閉じ，前記第２のシャッタを開いたと
   きは前記第１のシャッタを閉じる構成としたことを特徴
   とする請求項１，２又は３に記載の洗浄システム。
5. 【請求項５】 被処理体を収納したカセットがＡＧＶに
   よってインタフェイス部の前まで搬送される段階では，
   第１のシャッタ及び第２のシャッタはいずれも閉じられ
   た状態になっていることを特徴とする請求項１，２，３
   又は４の何れかに記載の洗浄システム。
6. 【請求項６】 ＡＧＶがインタフェイス部の前まで走行
   してきて所定の位置に停止すると，第２のシャッタが閉
   じられてるのを確認後，第１のシャッタが開いた状態と
   なることを特徴とする請求項１，２，３，４又は５の何
   れかに記載の洗浄システム。
7. 【請求項７】 インタフェイス部への被処理体を収納し
   たカセットの搬入が終了すると，第１のシャッタが閉じ
   られ，第１のシャッタが閉じられている事を確認後，第
   ２のシャッタが開くことを特徴とする請求項１，２，
   ３，４，５又は６の何れかに記載の洗浄システム。
8. 【請求項８】 被処理体を収納したカセットがインタフ
   ェイス部から待機部に搬入された後，第２のシャッタが
   閉じられ，その後，洗浄処理部にて洗浄処理が行われる
   ことを特徴とする請求項１，２，３，４，５，６又は７
   の何れかに記載の洗浄システム。
9. 【請求項９】 被処理体を収納したカセットが待機部か
   らインタフェイス部に搬送された後，第２のシャッタが
   閉じられ，第１のシャッタが開き，カセットがインタフ
   ェイス部から取り出されることを特徴とする請求項１，
   ２，３，４，５，６，７又は８の何れかに記載の洗浄シ
   ステム。
10. 【請求項１０】 インタフェイス部から待機部に搬入さ
    れたカセットを，ローダまで搬送し，ローダにおいてカ
    セットから被処理体が取り出され，ローダにおいて被処
    理体が取り出されて空となったカセットを，待機部まで
    搬送することを特徴とする請求項１，２，３，４，５，
    ６，７，８又は９に記載の洗浄システム。
11. 【請求項１１】 前記待機部まで搬送された空のカセッ
    トをアンローダに供給し，アンローダにてカセットに被
    処理体を再び収納することを特徴とする請求項１０に記
    載の洗浄システム。