JP3329259B2 - マスター情報担体、および、磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
マスター情報担体、および、磁気記録媒体の製造方法Info
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- G11B5/86—Re-recording, i.e. transcribing information from one magnetisable record carrier on to one or more similar or dissimilar record carriers
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ディジタル情報信
号を磁気記録媒体に静的一括面記録するために用いられ
るマスター情報担体に関わる。
号を磁気記録媒体に静的一括面記録するために用いられ
るマスター情報担体に関わる。
【０００２】
【従来の技術】現在、磁気記録再生装置は、小型でかつ
大容量を実現するために、高記録密度化の傾向にある。
代表的な磁気記憶装置であるハードディスクドライブの
分野においては、すでに面記録密度2Gbit/in2を超える
装置が商品化されており、数年後には、10Gbit/in2の実
用化が議論されるほどの急激な技術進歩が認められる。
大容量を実現するために、高記録密度化の傾向にある。
代表的な磁気記憶装置であるハードディスクドライブの
分野においては、すでに面記録密度2Gbit/in2を超える
装置が商品化されており、数年後には、10Gbit/in2の実
用化が議論されるほどの急激な技術進歩が認められる。
【０００３】このような高記録密度化を可能とした技術
的背景としては、媒体性能、ヘッド・ディスクインター
フェース性能の向上やパーシャルレスポンス等の新規な
信号処理方式の出現による線記録密度の向上も大きな要
因である。しかしながら近年では、トラック密度の増加
傾向が線記録密度の増加傾向を大きく上回り、面記録密
度向上のための主たる要因となっている。これは、従来
の誘導型磁気ヘッドに比べてはるかに再生出力性能に優
れた磁気抵抗素子型ヘッドの実用化による寄与である。
現在、磁気抵抗素子型ヘッドの実用化により、わずか数
μm以下のトラック幅信号をＳ/Ｎ良く再生することが可
能となっている。一方、今後さらなるヘッド性能の向上
にともない、近い将来にはトラックピッチがサブミクロ
ン領域に達するものと予想されている。
的背景としては、媒体性能、ヘッド・ディスクインター
フェース性能の向上やパーシャルレスポンス等の新規な
信号処理方式の出現による線記録密度の向上も大きな要
因である。しかしながら近年では、トラック密度の増加
傾向が線記録密度の増加傾向を大きく上回り、面記録密
度向上のための主たる要因となっている。これは、従来
の誘導型磁気ヘッドに比べてはるかに再生出力性能に優
れた磁気抵抗素子型ヘッドの実用化による寄与である。
現在、磁気抵抗素子型ヘッドの実用化により、わずか数
μm以下のトラック幅信号をＳ/Ｎ良く再生することが可
能となっている。一方、今後さらなるヘッド性能の向上
にともない、近い将来にはトラックピッチがサブミクロ
ン領域に達するものと予想されている。
【０００４】さて、ヘッドがこのような狭トラックを正
確に走査し、信号をＳ/Ｎ良く再生するためには、ヘッ
ドのトラッキングサーボ技術が重要な役割を果たしてい
る。このようなトラッキングサーボ技術に関しては、例
えば、”山口：磁気ディスク装置の高精度サーボ技術、
日本応用磁気学会誌、Vol.20, No.3, pp.771, (199
6)”に詳細な内容が示されている。上記文献によれば、
現在のハードディスクドライブでは、ディスクの１周、
すなわち角度にして360度中において、一定の角度間隔
でトラッキング用サーボ信号やアドレス情報信号、再生
クロック信号等が記録された領域を設けている（以下、
プリフォーマットと称する）。磁気ヘッドは、一定間隔
でこれらの信号を再生することにより、ヘッドの位置を
確認、修正しながら正確にトラック上を走査することが
できるのである。
確に走査し、信号をＳ/Ｎ良く再生するためには、ヘッ
ドのトラッキングサーボ技術が重要な役割を果たしてい
る。このようなトラッキングサーボ技術に関しては、例
えば、”山口：磁気ディスク装置の高精度サーボ技術、
日本応用磁気学会誌、Vol.20, No.3, pp.771, (199
6)”に詳細な内容が示されている。上記文献によれば、
現在のハードディスクドライブでは、ディスクの１周、
すなわち角度にして360度中において、一定の角度間隔
でトラッキング用サーボ信号やアドレス情報信号、再生
クロック信号等が記録された領域を設けている（以下、
プリフォーマットと称する）。磁気ヘッドは、一定間隔
でこれらの信号を再生することにより、ヘッドの位置を
確認、修正しながら正確にトラック上を走査することが
できるのである。
【０００５】既述のトラッキング用サーボ信号やアドレ
ス情報信号、再生クロック信号等は、ヘッドが正確にト
ラック上を走査するための基準信号となるものであるの
で、その記録時には、正確な位置決め精度が要求され
る。例えば、”植松、他：メカ・サーボ、ＨＤＩ技術の
現状と展望、日本応用磁気学会第９３回研究会資料、93
-5, pp.35 (1996)”に記載された内容によれば、現在
のハードディスクドライブでは、ディスクをドライブに
組み込んだ後、専用のサーボ記録装置を用いて厳密に位
置制御された磁気ヘッドによりプリフォーマット記録が
行われている。
ス情報信号、再生クロック信号等は、ヘッドが正確にト
ラック上を走査するための基準信号となるものであるの
で、その記録時には、正確な位置決め精度が要求され
る。例えば、”植松、他：メカ・サーボ、ＨＤＩ技術の
現状と展望、日本応用磁気学会第９３回研究会資料、93
-5, pp.35 (1996)”に記載された内容によれば、現在
のハードディスクドライブでは、ディスクをドライブに
組み込んだ後、専用のサーボ記録装置を用いて厳密に位
置制御された磁気ヘッドによりプリフォーマット記録が
行われている。
【０００６】従来より、上記のような専用のサーボ記録
装置を用いた磁気ヘッドによるサーボ信号やアドレス情
報信号、再生クロック信号のプリフォーマット記録にお
いては、以下のような課題があった。
装置を用いた磁気ヘッドによるサーボ信号やアドレス情
報信号、再生クロック信号のプリフォーマット記録にお
いては、以下のような課題があった。
【０００７】まず第１に、磁気ヘッドによる記録は、基
本的にヘッドと媒体との相対移動に基づく線記録であ
る。このため、専用のサーボ記録装置を用いて磁気ヘッ
ドを厳密に位置制御しながら記録を行う上記の方法で
は、プリフォーマット記録に多くの時間を要するととも
に、専用のサーボ記録装置が相当に高価であることにも
起因して、非常にコスト高となる。
本的にヘッドと媒体との相対移動に基づく線記録であ
る。このため、専用のサーボ記録装置を用いて磁気ヘッ
ドを厳密に位置制御しながら記録を行う上記の方法で
は、プリフォーマット記録に多くの時間を要するととも
に、専用のサーボ記録装置が相当に高価であることにも
起因して、非常にコスト高となる。
【０００８】第２に、ヘッド・媒体間スペーシングや記
録ヘッドのポール形状による記録磁界の広がりのため、
プリフォーマット記録されたトラック端部の磁化遷移が
急峻性に欠けるという点がある。現在のトラッキングサ
ーボ技術は、ヘッドがトラックを外れて走査した際の再
生出力の変化量によって、ヘッドの位置検出を行うもの
である。従って、プリフォーマット記録された信号トラ
ックには、サーボ領域間に記録されたデータ情報信号を
再生する際のようにヘッドがトラック上を正確に走査し
た際のＳ/Ｎに優れるだけではなく、ヘッドがトラック
を外れて走査した際の再生出力変化量、すなわちオフト
ラック特性が急峻であることが要求される。上記の課題
はこの要求に反するものであり、今後のサブミクロント
ラック記録における正確なトラッキングサーボ技術の実
現を困難なものとしている。
録ヘッドのポール形状による記録磁界の広がりのため、
プリフォーマット記録されたトラック端部の磁化遷移が
急峻性に欠けるという点がある。現在のトラッキングサ
ーボ技術は、ヘッドがトラックを外れて走査した際の再
生出力の変化量によって、ヘッドの位置検出を行うもの
である。従って、プリフォーマット記録された信号トラ
ックには、サーボ領域間に記録されたデータ情報信号を
再生する際のようにヘッドがトラック上を正確に走査し
た際のＳ/Ｎに優れるだけではなく、ヘッドがトラック
を外れて走査した際の再生出力変化量、すなわちオフト
ラック特性が急峻であることが要求される。上記の課題
はこの要求に反するものであり、今後のサブミクロント
ラック記録における正確なトラッキングサーボ技術の実
現を困難なものとしている。
【０００９】さて、上記のような磁気ヘッドによるプリ
フォーマット記録の課題を解決する手段として、本願発
明者らは、特願平８−１９１８８９明細書において、基
体の表面に情報信号に対応する凹凸形状が形成され、こ
の凹凸形状の少なくとも凸部が強磁性材料により構成さ
れるマスター情報担体表面を、磁気記録媒体の表面に接
触させることにより、マスター情報担体表面の凹凸形状
に対応する磁化パターンを磁気記録媒体に記録すること
を主旨とするプリフォーマット技術を提案している。
フォーマット記録の課題を解決する手段として、本願発
明者らは、特願平８−１９１８８９明細書において、基
体の表面に情報信号に対応する凹凸形状が形成され、こ
の凹凸形状の少なくとも凸部が強磁性材料により構成さ
れるマスター情報担体表面を、磁気記録媒体の表面に接
触させることにより、マスター情報担体表面の凹凸形状
に対応する磁化パターンを磁気記録媒体に記録すること
を主旨とするプリフォーマット技術を提案している。
【００１０】特願平８−１９１８８９号に開示された構
成においては、一方向に磁化されたマスター情報担体表
面凸部の強磁性材料より発生する記録磁界により、磁気
記録媒体には、マスター情報担体の凹凸形状に対応した
磁化パターンが記録される。すなわち、マスター情報担
体表面に、トラッキング用サーボ信号やアドレス情報信
号、再生クロック信号等に対応する凹凸形状を形成する
ことにより、磁気記録媒体上にはこれらに対応するプリ
フォーマット記録を行うことができる。
成においては、一方向に磁化されたマスター情報担体表
面凸部の強磁性材料より発生する記録磁界により、磁気
記録媒体には、マスター情報担体の凹凸形状に対応した
磁化パターンが記録される。すなわち、マスター情報担
体表面に、トラッキング用サーボ信号やアドレス情報信
号、再生クロック信号等に対応する凹凸形状を形成する
ことにより、磁気記録媒体上にはこれらに対応するプリ
フォーマット記録を行うことができる。
【００１１】従来の磁気ヘッドによる記録が、基本的に
ヘッドと媒体との相対移動に基づく動的線記録であるの
に対し、上記構成の特徴は、マスター情報担体と媒体と
の相対移動を伴わない静的な面記録であるということで
ある。このような特徴により、特願平８−１９１８８９
号に開示された技術は、既述のプリフォーマット記録に
関わる課題に対して、下記のような極めて有効な効果を
発揮することができる。
ヘッドと媒体との相対移動に基づく動的線記録であるの
に対し、上記構成の特徴は、マスター情報担体と媒体と
の相対移動を伴わない静的な面記録であるということで
ある。このような特徴により、特願平８−１９１８８９
号に開示された技術は、既述のプリフォーマット記録に
関わる課題に対して、下記のような極めて有効な効果を
発揮することができる。
【００１２】第１に、面記録であるため、プリフォーマ
ット記録に要する時間は、従来の磁気ヘッドによる記録
方法に比べて、非常に短い。また、磁気ヘッドを厳密に
位置制御しながら記録を行うための高価なサーボ記録装
置も不要である。従って、プリフォーマット記録に関わ
る生産性を大幅に向上できるとともに、生産コストに関
しても低減することができる。
ット記録に要する時間は、従来の磁気ヘッドによる記録
方法に比べて、非常に短い。また、磁気ヘッドを厳密に
位置制御しながら記録を行うための高価なサーボ記録装
置も不要である。従って、プリフォーマット記録に関わ
る生産性を大幅に向上できるとともに、生産コストに関
しても低減することができる。
【００１３】第２に、マスター情報担体と媒体との相対
移動を伴わない静的記録であるため、マスター情報担体
表面と磁気記録媒体表面を密着させることにより、記録
時の両者間のスペーシングを最小限にすることができ
る。さらに、磁気ヘッドによる記録のように、記録ヘッ
ドのポール形状による記録磁界の広がりを生じることも
ない。このため、プリフォーマット記録されたトラック
端部の磁化遷移は、従来の磁気ヘッドによる記録に比べ
て、優れた急峻性を有し、より正確なトラッキングが可
能となる。
移動を伴わない静的記録であるため、マスター情報担体
表面と磁気記録媒体表面を密着させることにより、記録
時の両者間のスペーシングを最小限にすることができ
る。さらに、磁気ヘッドによる記録のように、記録ヘッ
ドのポール形状による記録磁界の広がりを生じることも
ない。このため、プリフォーマット記録されたトラック
端部の磁化遷移は、従来の磁気ヘッドによる記録に比べ
て、優れた急峻性を有し、より正確なトラッキングが可
能となる。
【００１４】また上記の技術では、信号記録の過程にお
いて、マスター情報担体と磁気記録媒体との間に、大面
積にわたって均一かつ良好な密着性を実現することが必
要であるが、これを実現することが出来る具体的な記録
装置の構成に関して、本願発明者らは、特願平９−０７
５７０３号に、マスター情報担体と磁気ディスクとの間
の空気を吸引するとともに周辺の大気圧による押圧を利
用して良好な密着性を実現することを趣旨とする技術を
提案している。
いて、マスター情報担体と磁気記録媒体との間に、大面
積にわたって均一かつ良好な密着性を実現することが必
要であるが、これを実現することが出来る具体的な記録
装置の構成に関して、本願発明者らは、特願平９−０７
５７０３号に、マスター情報担体と磁気ディスクとの間
の空気を吸引するとともに周辺の大気圧による押圧を利
用して良好な密着性を実現することを趣旨とする技術を
提案している。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】特願平８−１９１８８
９号明細書に開示されたマスター情報担体表面には、フ
ォトリソグラフィ技術等を用いて基体の表面に情報信号
に対応する凹凸形状が精度良く加工、形成され、この凹
凸形状の少なくとも凸部が強磁性材料により構成されて
いる。一方、記録過程において、特願平９−０７５７０
３に提案されたように、マスター情報担体と磁気ディス
クとの間の空気を吸引するとともに周辺の大気圧による
押圧を利用して良好な密着性を実現することを繰り返し
行うと、マスター情報担体各部には、局所的な応力の印
加と緩和が繰り返されることになる。とりわけ、上記の
凸部強磁性材料は、磁気ディスクと直接、密着接触を繰
り返す個所であるため、信号記録の回数とともに強磁性
材料の一部が徐々に欠落していき、凹凸形状精度を損な
ってしまう。強磁性材料の欠落が進行すると、最終的に
は、記録信号の欠落を生じることになる。
９号明細書に開示されたマスター情報担体表面には、フ
ォトリソグラフィ技術等を用いて基体の表面に情報信号
に対応する凹凸形状が精度良く加工、形成され、この凹
凸形状の少なくとも凸部が強磁性材料により構成されて
いる。一方、記録過程において、特願平９−０７５７０
３に提案されたように、マスター情報担体と磁気ディス
クとの間の空気を吸引するとともに周辺の大気圧による
押圧を利用して良好な密着性を実現することを繰り返し
行うと、マスター情報担体各部には、局所的な応力の印
加と緩和が繰り返されることになる。とりわけ、上記の
凸部強磁性材料は、磁気ディスクと直接、密着接触を繰
り返す個所であるため、信号記録の回数とともに強磁性
材料の一部が徐々に欠落していき、凹凸形状精度を損な
ってしまう。強磁性材料の欠落が進行すると、最終的に
は、記録信号の欠落を生じることになる。
【００１６】上記の課題は、記録信号の欠落を生じるま
でに一枚のマスター情報担体を用いて可能な記録回数
が、マスター情報担体の製造コストや製造タクトを考慮
して、十分に大きい場合には問題とならない。しかし、
例えば本願発明者らが現行のハードディスクにプリフォ
ーマット記録を行う場合を想定して実験、検討した結果
によれば、マスター情報担体の製造コストや製造タクト
を考慮すると、少なくとも5万ショット程度は必要と考
えられる記録回数が、特願平８−１９１８８９号に開示
されたマスター情報担体を用いては5千ショット程度以
下しか実現されていない。
でに一枚のマスター情報担体を用いて可能な記録回数
が、マスター情報担体の製造コストや製造タクトを考慮
して、十分に大きい場合には問題とならない。しかし、
例えば本願発明者らが現行のハードディスクにプリフォ
ーマット記録を行う場合を想定して実験、検討した結果
によれば、マスター情報担体の製造コストや製造タクト
を考慮すると、少なくとも5万ショット程度は必要と考
えられる記録回数が、特願平８−１９１８８９号に開示
されたマスター情報担体を用いては5千ショット程度以
下しか実現されていない。
【００１７】上記のような観点から、特願平８−１９１
８８９号に開示されたマスター情報担体においては、耐
久性を向上して、信号欠落がなく良好な記録を行うこと
が可能な記録ショット回数を増加すること、すなわちマ
スター情報担体の長寿命化を図ることが望まれている。
８８９号に開示されたマスター情報担体においては、耐
久性を向上して、信号欠落がなく良好な記録を行うこと
が可能な記録ショット回数を増加すること、すなわちマ
スター情報担体の長寿命化を図ることが望まれている。
【００１８】
【課題を解決するための手段】本発明は以上の課題に鑑
み、特願平８−１９１８８９号明細書に開示されたマス
ター情報担体よりも耐久性に優れ、長寿命なマスター情
報担体の構成を提供するものである。
み、特願平８−１９１８８９号明細書に開示されたマス
ター情報担体よりも耐久性に優れ、長寿命なマスター情
報担体の構成を提供するものである。
【００１９】以上の手段を実現するために本発明の第１
の構成においては、非磁性基体の表面にディジタル情報
信号配列に対応する形状パターンが、基体表面に堆積さ
れた強磁性薄膜の配列により設けられたマスター情報担
体であって、前記強磁性薄膜の配列において隣接する強
磁性薄膜間に、非磁性の固体が充填されていることを特
徴とする。
の構成においては、非磁性基体の表面にディジタル情報
信号配列に対応する形状パターンが、基体表面に堆積さ
れた強磁性薄膜の配列により設けられたマスター情報担
体であって、前記強磁性薄膜の配列において隣接する強
磁性薄膜間に、非磁性の固体が充填されていることを特
徴とする。
【００２０】また、本発明の第２の構成においては、非
磁性基体の表面にディジタル情報信号配列に対応する形
状パターンが、基体表面に形成された凹部の配列により
設けられたマスター情報担体であって、前記基体表面に
形成された凹部に、強磁性薄膜が充填されていることを
特徴とする。
磁性基体の表面にディジタル情報信号配列に対応する形
状パターンが、基体表面に形成された凹部の配列により
設けられたマスター情報担体であって、前記基体表面に
形成された凹部に、強磁性薄膜が充填されていることを
特徴とする。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下には、本発明の実施の形態例
について詳細に説明する。
について詳細に説明する。
【００２２】まず、本発明のマスター情報担体表面の一
構成例を図７に示す。図７は、例えばディスク状磁気記
録媒体の周方向（すなわちトラック長さ方向）において
一定角度毎に設けられるプリフォーマット領域に記録さ
れるマスター情報パターンを、ディスク媒体の径方向
（すなわちトラック幅方向）に10トラック分のみ示した
ものである。なお参考のため、マスター情報パターンが
ディスク媒体に記録された後、ディスク媒体上でデータ
領域となるトラック部分を破線により示した。実際のマ
スター情報担体表面は、マスター情報が記録される磁気
ディスク媒体の記録領域に対応して、ディスクの周方向
において一定角度毎に、かつディスク媒体の径方向には
全記録トラック分、図７のようなマスター情報パターン
が形成されて構成されている。
構成例を図７に示す。図７は、例えばディスク状磁気記
録媒体の周方向（すなわちトラック長さ方向）において
一定角度毎に設けられるプリフォーマット領域に記録さ
れるマスター情報パターンを、ディスク媒体の径方向
（すなわちトラック幅方向）に10トラック分のみ示した
ものである。なお参考のため、マスター情報パターンが
ディスク媒体に記録された後、ディスク媒体上でデータ
領域となるトラック部分を破線により示した。実際のマ
スター情報担体表面は、マスター情報が記録される磁気
ディスク媒体の記録領域に対応して、ディスクの周方向
において一定角度毎に、かつディスク媒体の径方向には
全記録トラック分、図７のようなマスター情報パターン
が形成されて構成されている。
【００２３】マスター情報パターンは、例えば図７に示
されるように、クロック信号、トラッキング用サーボ信
号、アドレス情報信号等の各々の領域がトラック長さ方
向に順次配列して構成される。本発明のマスター情報担
体においては、このマスター情報パターンは、情報パタ
ーン配列に対応する強磁性薄膜の配列により形成されて
いる。例えば図７においては、ハッチングを施した部分
が強磁性薄膜により構成される部分である。
されるように、クロック信号、トラッキング用サーボ信
号、アドレス情報信号等の各々の領域がトラック長さ方
向に順次配列して構成される。本発明のマスター情報担
体においては、このマスター情報パターンは、情報パタ
ーン配列に対応する強磁性薄膜の配列により形成されて
いる。例えば図７においては、ハッチングを施した部分
が強磁性薄膜により構成される部分である。
【００２４】図１には、図７に示した一点鎖線ＡＡ’に
おける本願発明の第１の構成を有するマスター情報担体
のビット長さ方向（トラック長さ方向）断面の構成例を
示す。比較のために、図６には、特願平８−１９１８８
９明細書に開示されたマスター情報担体の構成例を図１
に対応させて示す。
おける本願発明の第１の構成を有するマスター情報担体
のビット長さ方向（トラック長さ方向）断面の構成例を
示す。比較のために、図６には、特願平８−１９１８８
９明細書に開示されたマスター情報担体の構成例を図１
に対応させて示す。
【００２５】図６に示すマスター情報担体は、例えば、
平面状の非磁性基体３表面にまず強磁性薄膜１を堆積
し、その表面に塗布したレジスト膜を露光、現像してデ
ィジタル情報信号に対応する凹凸形状をパターニングし
た後、イオンミリング等のドライエッチング技術によっ
て強磁性薄膜１に微細な凹凸形状パターンを形成し、そ
の後に残留するレジスト膜を取り除くことによって作製
される。
平面状の非磁性基体３表面にまず強磁性薄膜１を堆積
し、その表面に塗布したレジスト膜を露光、現像してデ
ィジタル情報信号に対応する凹凸形状をパターニングし
た後、イオンミリング等のドライエッチング技術によっ
て強磁性薄膜１に微細な凹凸形状パターンを形成し、そ
の後に残留するレジスト膜を取り除くことによって作製
される。
【００２６】このように図６に示す従来構成を有するマ
スター情報担体では、特願平９−０７５７０３号に開示
された記録装置を用いて磁気記録媒体に記録を繰り返す
うち、とりわけ凸部の強磁性薄膜表面の両端部分のエッ
ジ部分に、局所的な応力の印加と緩和が繰り返されるこ
とになる。このため、信号記録の回数とともに強磁性薄
膜エッジ部分が徐々に欠落していき、凹凸形状精度を損
なってしまう。強磁性薄膜の欠落が進行すると、最終的
には、記録信号の欠落を生じることになる。
スター情報担体では、特願平９−０７５７０３号に開示
された記録装置を用いて磁気記録媒体に記録を繰り返す
うち、とりわけ凸部の強磁性薄膜表面の両端部分のエッ
ジ部分に、局所的な応力の印加と緩和が繰り返されるこ
とになる。このため、信号記録の回数とともに強磁性薄
膜エッジ部分が徐々に欠落していき、凹凸形状精度を損
なってしまう。強磁性薄膜の欠落が進行すると、最終的
には、記録信号の欠落を生じることになる。
【００２７】一方、図１に示した本願の第１の構成を有
するマスター情報担体では、強磁性薄膜１の両端のエッ
ジ部分が、非磁性の固体２によって保護されている。こ
のため、特願平９−０７５７０３号に提案されたよう
に、マスター情報担体と磁気ディスクとの間の空気を吸
引するとともに周辺の大気圧による押圧を利用して良好
な密着性を実現することを繰り返し行っても、強磁性薄
膜１の両端のエッジ部分に加わる局所的な応力が緩和さ
れ、強磁性薄膜１の欠落を防止することができる。これ
により、１枚のマスター情報担体を用いて可能な記録シ
ョット回数は従来構成に比べて著しく増加し、マスター
情報担体の長寿命化を図ることが可能となる。
するマスター情報担体では、強磁性薄膜１の両端のエッ
ジ部分が、非磁性の固体２によって保護されている。こ
のため、特願平９−０７５７０３号に提案されたよう
に、マスター情報担体と磁気ディスクとの間の空気を吸
引するとともに周辺の大気圧による押圧を利用して良好
な密着性を実現することを繰り返し行っても、強磁性薄
膜１の両端のエッジ部分に加わる局所的な応力が緩和さ
れ、強磁性薄膜１の欠落を防止することができる。これ
により、１枚のマスター情報担体を用いて可能な記録シ
ョット回数は従来構成に比べて著しく増加し、マスター
情報担体の長寿命化を図ることが可能となる。
【００２８】図１に示す本願の第１の構成を有するマス
ター情報担体は、例えば以下のようなプロセスによって
製造される。まず、平面状の非磁性基体３表面に強磁性
薄膜１を堆積し、その表面に塗布したレジスト膜を露
光、現像してディジタル情報信号に対応する凹凸形状を
パターニングした後、イオンエッチング等のドライエッ
チング技術によって強磁性薄膜１に微細な凹凸形状パタ
ーンを形成する。その後、残留するレジスト膜を取り除
く前に非磁性の固体２をスパッタリングや蒸着などの気
相堆積法、めっき法、あるいはスピンコート等の塗布技
術によって堆積せしめ、この後に残留レジスト膜とその
上に堆積した不要な非磁性固体層を、リムーバ等の薬液
処理によって除去すれば良い。また、薬液処理に際し
て、物理的な研磨処理を併用することもできる。
ター情報担体は、例えば以下のようなプロセスによって
製造される。まず、平面状の非磁性基体３表面に強磁性
薄膜１を堆積し、その表面に塗布したレジスト膜を露
光、現像してディジタル情報信号に対応する凹凸形状を
パターニングした後、イオンエッチング等のドライエッ
チング技術によって強磁性薄膜１に微細な凹凸形状パタ
ーンを形成する。その後、残留するレジスト膜を取り除
く前に非磁性の固体２をスパッタリングや蒸着などの気
相堆積法、めっき法、あるいはスピンコート等の塗布技
術によって堆積せしめ、この後に残留レジスト膜とその
上に堆積した不要な非磁性固体層を、リムーバ等の薬液
処理によって除去すれば良い。また、薬液処理に際し
て、物理的な研磨処理を併用することもできる。
【００２９】なお、本願発明において強磁性薄膜１に加
わる局所的な応力を極小化せしめて、この欠落を防止す
る効果を最大限に得るためには、強磁性薄膜１と非磁性
固体２の層厚を一致させて両層間の段差を極小化せし
め、この部分におけるマスター情報担体表面をできる限
り平滑化することが好ましい。
わる局所的な応力を極小化せしめて、この欠落を防止す
る効果を最大限に得るためには、強磁性薄膜１と非磁性
固体２の層厚を一致させて両層間の段差を極小化せし
め、この部分におけるマスター情報担体表面をできる限
り平滑化することが好ましい。
【００３０】本願の第１の構成において非磁性固体２と
して使用される材料は、強磁性薄膜１の材料と固溶しに
くい材料であることが好ましい。強磁性材料と固溶しや
すい材料では、強磁性材料１と非磁性固体２の介面にお
ける拡散により、強磁性薄膜１の磁気特性が劣化し、マ
スター情報担体の記録能力を劣化させる恐れがある。一
般に、強磁性薄膜１には、ＣｏやＦｅ、あるいはこれら
を主成分とする合金が用いられることが多いので、これ
らの金属膜と非固溶の材料として、例えばＳｉＯ2、Ａ
ｌ2Ｏ3等の酸化物薄膜や、Ｃｕ、Ａｇ、あるいはこれを
主成分とする合金よりなる金属薄膜が適している。これ
らの薄膜は、スパッタリングや蒸着などの気相堆積法を
用いて形成することができる。
して使用される材料は、強磁性薄膜１の材料と固溶しに
くい材料であることが好ましい。強磁性材料と固溶しや
すい材料では、強磁性材料１と非磁性固体２の介面にお
ける拡散により、強磁性薄膜１の磁気特性が劣化し、マ
スター情報担体の記録能力を劣化させる恐れがある。一
般に、強磁性薄膜１には、ＣｏやＦｅ、あるいはこれら
を主成分とする合金が用いられることが多いので、これ
らの金属膜と非固溶の材料として、例えばＳｉＯ2、Ａ
ｌ2Ｏ3等の酸化物薄膜や、Ｃｕ、Ａｇ、あるいはこれを
主成分とする合金よりなる金属薄膜が適している。これ
らの薄膜は、スパッタリングや蒸着などの気相堆積法を
用いて形成することができる。
【００３１】また、非磁性固体材料としては、例えばポ
リイミド等の高分子材料を用いることもできる。このよ
うな高分子材料層は、例えば、市販のポリイミド溶液を
シクロヘキサノール等の溶媒で適正濃度に希釈し、スピ
ンコータで回転塗布した後、高温でキュアすることによ
り、硬化させて形成することができる。このように非磁
性固体２として弾力性、あるいは可撓性を有する高分子
材料を用いた場合には、これが隣接する強磁性薄膜１間
において緩衝材として働くため、記録時において強磁性
薄膜表面の両端部分のエッジ部分に局所的に加わる応力
を緩和する効果がさらに大きくなる。
リイミド等の高分子材料を用いることもできる。このよ
うな高分子材料層は、例えば、市販のポリイミド溶液を
シクロヘキサノール等の溶媒で適正濃度に希釈し、スピ
ンコータで回転塗布した後、高温でキュアすることによ
り、硬化させて形成することができる。このように非磁
性固体２として弾力性、あるいは可撓性を有する高分子
材料を用いた場合には、これが隣接する強磁性薄膜１間
において緩衝材として働くため、記録時において強磁性
薄膜表面の両端部分のエッジ部分に局所的に加わる応力
を緩和する効果がさらに大きくなる。
【００３２】本願の第１の構成を有するマスター情報担
体では、図２に示すように、強磁性薄膜１と非磁性固体
２の表面に、硬質の保護膜４を形成することによってさ
らに長寿命化を促進することが可能である。一方、この
硬質保護膜４の形成により、信号記録時のマスター情報
担体と磁気記録媒体との間のスペーシングを増加して、
記録時のスペーシング損失を増加させることになるの
で、硬質保護膜４の膜厚をあまり大きくすることはでき
ない。本願発明が主として関わる磁気ディスクへのプリ
フォーマット記録では、多くの場合、信号の記録波長は
0.3μm程度以上となる。本願発明者らの検討によれば、
この記録波長に対して記録スペーシング損失の観点から
許容できる硬質保護膜厚は、20nm程度以下であり、この
範囲においてマスター情報担体の長寿命化を促進する効
果が十分に得られている。
体では、図２に示すように、強磁性薄膜１と非磁性固体
２の表面に、硬質の保護膜４を形成することによってさ
らに長寿命化を促進することが可能である。一方、この
硬質保護膜４の形成により、信号記録時のマスター情報
担体と磁気記録媒体との間のスペーシングを増加して、
記録時のスペーシング損失を増加させることになるの
で、硬質保護膜４の膜厚をあまり大きくすることはでき
ない。本願発明が主として関わる磁気ディスクへのプリ
フォーマット記録では、多くの場合、信号の記録波長は
0.3μm程度以上となる。本願発明者らの検討によれば、
この記録波長に対して記録スペーシング損失の観点から
許容できる硬質保護膜厚は、20nm程度以下であり、この
範囲においてマスター情報担体の長寿命化を促進する効
果が十分に得られている。
【００３３】硬質保護膜４に適した薄膜材料としては、
Ｃ膜、Ｂ膜、ＳｉＯ2膜、などが硬度の面から適してい
る。これらの薄膜は、スパッタリングや蒸着など、通常
の気相堆積法を用いて形成可能である。
Ｃ膜、Ｂ膜、ＳｉＯ2膜、などが硬度の面から適してい
る。これらの薄膜は、スパッタリングや蒸着など、通常
の気相堆積法を用いて形成可能である。
【００３４】一方、硬質保護膜４の特性として、ある程
度の導電性を有することにより、さらに記録時の信頼性
を向上する効果を得ることができる。マスター情報担体
表面が絶縁性の材料で覆われている場合には、表面に静
電気による塵埃付着を生じ易い場合がある。このような
塵埃は、保護膜厚と同様に記録時におけるマスター情報
担体と磁気記録媒体との間のスペーシングを増加して記
録特性を劣化するため、マスター情報担体と磁気記録媒
体の表面を密着するに先だって、適切に除去することが
必要である。
度の導電性を有することにより、さらに記録時の信頼性
を向上する効果を得ることができる。マスター情報担体
表面が絶縁性の材料で覆われている場合には、表面に静
電気による塵埃付着を生じ易い場合がある。このような
塵埃は、保護膜厚と同様に記録時におけるマスター情報
担体と磁気記録媒体との間のスペーシングを増加して記
録特性を劣化するため、マスター情報担体と磁気記録媒
体の表面を密着するに先だって、適切に除去することが
必要である。
【００３５】一方、硬質保護膜４が導電性を有する場合
には、静電気による塵埃付着を生じにくいため、塵埃の
除去作業が簡素化される上、信頼性の高い記録が実現さ
れ易い。このような観点から、保護膜としての硬度と、
塵埃付着を抑制できる程度の導電性を併せもつ硬質保護
膜４として、スパッタリング法により作製されるＣ膜が
最も適している。Ｂ膜やＳｉＯ2膜は、硬度的には十分
であるが、絶縁性が高いために塵埃付着を防止する効果
までは得られにくい。また、同じＣを主成分とする膜で
あっても、例えばプラズマＣＶＤ法を用いて作製される
Ｃ膜は、一部ダイヤモンド構造を有することによって、
スパッタカーボン膜よりもさらに硬度的に優れるもの
の、絶縁性が高くなって塵埃付着を防止する効果を得る
ことはできない。
には、静電気による塵埃付着を生じにくいため、塵埃の
除去作業が簡素化される上、信頼性の高い記録が実現さ
れ易い。このような観点から、保護膜としての硬度と、
塵埃付着を抑制できる程度の導電性を併せもつ硬質保護
膜４として、スパッタリング法により作製されるＣ膜が
最も適している。Ｂ膜やＳｉＯ2膜は、硬度的には十分
であるが、絶縁性が高いために塵埃付着を防止する効果
までは得られにくい。また、同じＣを主成分とする膜で
あっても、例えばプラズマＣＶＤ法を用いて作製される
Ｃ膜は、一部ダイヤモンド構造を有することによって、
スパッタカーボン膜よりもさらに硬度的に優れるもの
の、絶縁性が高くなって塵埃付着を防止する効果を得る
ことはできない。
【００３６】図３には、図７に示した一点鎖線ＡＡ’に
おける本願発明の第２の構成を有するマスター情報担体
のビット長さ方向（トラック長さ方向）断面の構成例を
示す。
おける本願発明の第２の構成を有するマスター情報担体
のビット長さ方向（トラック長さ方向）断面の構成例を
示す。
【００３７】図３に示した本願の第２の構成を有するマ
スター情報担体では、強磁性薄膜１の両端のエッジ部分
が、非磁性の基体３によって保護されている。このた
め、特願平９−０７５７０３号に提案されたように、マ
スター情報担体と磁気ディスクとの間の空気を吸引する
とともに周辺の大気圧による押圧を利用して良好な密着
性を実現することを繰り返し行っても、強磁性薄膜１の
両端のエッジ部分に加わる局所的な応力が緩和され、強
磁性薄膜１の欠落を防止することができる。これによ
り、既述の第１の構成と同様に、１枚のマスター情報担
体を用いて可能な記録ショット回数は従来構成に比べて
著しく増加し、マスター情報担体の長寿命化を図ること
が可能となる。
スター情報担体では、強磁性薄膜１の両端のエッジ部分
が、非磁性の基体３によって保護されている。このた
め、特願平９−０７５７０３号に提案されたように、マ
スター情報担体と磁気ディスクとの間の空気を吸引する
とともに周辺の大気圧による押圧を利用して良好な密着
性を実現することを繰り返し行っても、強磁性薄膜１の
両端のエッジ部分に加わる局所的な応力が緩和され、強
磁性薄膜１の欠落を防止することができる。これによ
り、既述の第１の構成と同様に、１枚のマスター情報担
体を用いて可能な記録ショット回数は従来構成に比べて
著しく増加し、マスター情報担体の長寿命化を図ること
が可能となる。
【００３８】図３に示す本願の第２の構成を有するマス
ター情報担体は、例えば以下のようなプロセスによって
製造される。まず、平面状の非磁性基体３表面に塗布し
たレジスト膜を露光、現像してディジタル情報信号に対
応する凹凸形状をパターニングした後、イオンエッチン
グ等のドライエッチング技術によって非磁性基体３に微
細な凹凸形状パターンを形成する。その後、残留するレ
ジスト膜を取り除く前に強磁性薄膜１をスパッタリング
や蒸着などの気相堆積法、めっき法によって堆積せし
め、この後に残留レジスト膜とその上に堆積した不要な
強磁性薄膜１を、リムーバ等の薬液処理によって除去す
れば良い。また、薬液処理に際して、物理的な研磨処理
を併用することもできる。
ター情報担体は、例えば以下のようなプロセスによって
製造される。まず、平面状の非磁性基体３表面に塗布し
たレジスト膜を露光、現像してディジタル情報信号に対
応する凹凸形状をパターニングした後、イオンエッチン
グ等のドライエッチング技術によって非磁性基体３に微
細な凹凸形状パターンを形成する。その後、残留するレ
ジスト膜を取り除く前に強磁性薄膜１をスパッタリング
や蒸着などの気相堆積法、めっき法によって堆積せし
め、この後に残留レジスト膜とその上に堆積した不要な
強磁性薄膜１を、リムーバ等の薬液処理によって除去す
れば良い。また、薬液処理に際して、物理的な研磨処理
を併用することもできる。
【００３９】本願の第１の構成を有するマスター情報担
体と同様に、本願発明において強磁性薄膜１に加わる局
所的な応力を極小化せしめて、この欠落を防止する効果
を最大限に得るためには、強磁性薄膜１の膜厚と非磁性
基体３の凹部の深さを一致させて介面における段差を極
小化せしめ、この部分におけるマスター情報担体表面を
できる限り平滑化することが好ましい。
体と同様に、本願発明において強磁性薄膜１に加わる局
所的な応力を極小化せしめて、この欠落を防止する効果
を最大限に得るためには、強磁性薄膜１の膜厚と非磁性
基体３の凹部の深さを一致させて介面における段差を極
小化せしめ、この部分におけるマスター情報担体表面を
できる限り平滑化することが好ましい。
【００４０】本願の第２の構成において非磁性基体３と
して使用される材料は、強磁性薄膜１の材料と固溶しに
くい材料であることが好ましい。強磁性材料と固溶しや
すい材料では、強磁性材料１と非磁性基体３の介面にお
ける拡散により、強磁性薄膜１の磁気特性が劣化し、マ
スター情報担体の記録能力を劣化させる恐れがある。ま
た工業的価値を考慮した場合、基体としては、市場にお
いて潤沢かつ安価に供給されているものであることが好
ましい。上記のような要求を満足する非磁性基体材料と
して、例えば、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3等の酸化物や、Ｓ
ｉ、Ｃ、などが適している。
して使用される材料は、強磁性薄膜１の材料と固溶しに
くい材料であることが好ましい。強磁性材料と固溶しや
すい材料では、強磁性材料１と非磁性基体３の介面にお
ける拡散により、強磁性薄膜１の磁気特性が劣化し、マ
スター情報担体の記録能力を劣化させる恐れがある。ま
た工業的価値を考慮した場合、基体としては、市場にお
いて潤沢かつ安価に供給されているものであることが好
ましい。上記のような要求を満足する非磁性基体材料と
して、例えば、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3等の酸化物や、Ｓ
ｉ、Ｃ、などが適している。
【００４１】また、上記した基体材料を用いる場合に
は、ドライエッチング技術を用いて非磁性基体３表面に
凹凸形状パターンを形成する際において、適切な反応性
ガスを導入して反応性イオンエッチングによる形状加工
を施すことが可能である。このような反応性イオンエッ
チングは、反応性ガスを用いない通常のイオンエッチン
グ技術に比べて、エッチングの異方性制御の容易さ、お
よびエッチング速度において格段に優れるため、高速か
つ精度の良いパターニングが行われ易いという付加的な
効果をもたらすことが可能である。例えば、非磁性基体
３材料がＳｉである場合にはＣＦ4ガス、非磁性基体３
材料がＣである場合にはＯ2ガスなどを、反応性ガスと
して用いることができる。
は、ドライエッチング技術を用いて非磁性基体３表面に
凹凸形状パターンを形成する際において、適切な反応性
ガスを導入して反応性イオンエッチングによる形状加工
を施すことが可能である。このような反応性イオンエッ
チングは、反応性ガスを用いない通常のイオンエッチン
グ技術に比べて、エッチングの異方性制御の容易さ、お
よびエッチング速度において格段に優れるため、高速か
つ精度の良いパターニングが行われ易いという付加的な
効果をもたらすことが可能である。例えば、非磁性基体
３材料がＳｉである場合にはＣＦ4ガス、非磁性基体３
材料がＣである場合にはＯ2ガスなどを、反応性ガスと
して用いることができる。
【００４２】なお、この場合、凹凸にパターニングされ
たレジスト膜をマスクとしてエッチングを施す代わり
に、例えば非磁性基体３表面に形成されたＣｒ膜上にデ
ィジタル情報信号に対応する凹凸形状をパターニング
し、このＣｒ膜をマスクとして非磁性基体３にエッチン
グを施しても良い。Ｓｉ等よりなる上記の非磁性基体３
に反応性イオンエッチングを用いて形状加工を施す場
合、Ｃｒ膜は、レジスト膜を用いた場合に比べてエッチ
ングの選択比に格段に優れる。このため、マスクとして
の役割を担う為に必要な膜厚をレジスト膜に比べて小さ
くすることができ、これによってより高精度の形状加工
が可能となる。なお、Ｃｒ膜をマスクとする場合、強磁
性薄膜１形成後のＣｒ膜およびＣｒ膜上の不要な強磁性
薄膜の除去は、リムーバ等の薬液処理のみでは困難であ
るため、ＣＭＰ（ケミカルメカニカルポリッシュ）等の
研磨処理を行うことが必要である。
たレジスト膜をマスクとしてエッチングを施す代わり
に、例えば非磁性基体３表面に形成されたＣｒ膜上にデ
ィジタル情報信号に対応する凹凸形状をパターニング
し、このＣｒ膜をマスクとして非磁性基体３にエッチン
グを施しても良い。Ｓｉ等よりなる上記の非磁性基体３
に反応性イオンエッチングを用いて形状加工を施す場
合、Ｃｒ膜は、レジスト膜を用いた場合に比べてエッチ
ングの選択比に格段に優れる。このため、マスクとして
の役割を担う為に必要な膜厚をレジスト膜に比べて小さ
くすることができ、これによってより高精度の形状加工
が可能となる。なお、Ｃｒ膜をマスクとする場合、強磁
性薄膜１形成後のＣｒ膜およびＣｒ膜上の不要な強磁性
薄膜の除去は、リムーバ等の薬液処理のみでは困難であ
るため、ＣＭＰ（ケミカルメカニカルポリッシュ）等の
研磨処理を行うことが必要である。
【００４３】図４には、図７に示した一点鎖線ＡＡ’に
おける本願発明の第２の構成を有するマスター情報担体
のトラック長さ方向断面の別の構成例を示す。
おける本願発明の第２の構成を有するマスター情報担体
のトラック長さ方向断面の別の構成例を示す。
【００４４】図４に示した構成例の特徴は、ディジタル
情報信号のビット長さ方向における強磁性薄膜１の断面
形状が、概略、表面側を上底、基体側を下底とする台形
であり、かつ上底長さが下底長さよりも大きい構成を有
することである。本願発明者らの検討結果によれば、こ
のような断面形状を有することにより、マスター情報担
体はその記録性能を格段に向上することが可能となる。
この理由は、以下のように考えられる。
情報信号のビット長さ方向における強磁性薄膜１の断面
形状が、概略、表面側を上底、基体側を下底とする台形
であり、かつ上底長さが下底長さよりも大きい構成を有
することである。本願発明者らの検討結果によれば、こ
のような断面形状を有することにより、マスター情報担
体はその記録性能を格段に向上することが可能となる。
この理由は、以下のように考えられる。
【００４５】例えば面内磁気記録媒体に信号記録を行う
場合、マスター情報担体の強磁性薄膜１は膜面内におい
てビット長さ方向（図４の横方向）に磁化され、台形断
面の傾斜部および上底、下底の両端部より漏れ磁束を発
生する。このうち、磁気記録媒体への記録磁界として寄
与するのは、上底両端近傍よりマスター情報担体表面側
に漏れる磁束である。ここで、マスター情報担体の記録
性能は、マスター情報担体の強磁性薄膜１が発生する記
録磁界の大きさ、および強磁性薄膜表面側の上底両端近
傍の磁界勾配に影響される。
場合、マスター情報担体の強磁性薄膜１は膜面内におい
てビット長さ方向（図４の横方向）に磁化され、台形断
面の傾斜部および上底、下底の両端部より漏れ磁束を発
生する。このうち、磁気記録媒体への記録磁界として寄
与するのは、上底両端近傍よりマスター情報担体表面側
に漏れる磁束である。ここで、マスター情報担体の記録
性能は、マスター情報担体の強磁性薄膜１が発生する記
録磁界の大きさ、および強磁性薄膜表面側の上底両端近
傍の磁界勾配に影響される。
【００４６】仮に強磁性薄膜１の断面形状における上底
長さが下底長さよりも小さい構成の場合には、強磁性薄
膜両端の傾斜部の面が表面側を向く。このため、この面
より発生する漏れ磁束がマスター情報担体表面にも達し
て記録磁界として作用し、強磁性薄膜表面側の上底両端
近傍のビット長さ方向の磁界勾配を低下させてしまうこ
とが問題となる。一方、図４に示した構成例において
は、台形の上底長さを下底長さよりも大きくすることに
より、強磁性薄膜両端の傾斜部の面が基体側を向く構成
としている。このような構成では、構造上、傾斜部の面
より発生する漏れ磁束はマスター情報担体表面側には達
し難い。つまり、上底両端近傍の非磁性基体材料との境
界部において常に急峻な磁界勾配を得ることができ、そ
の結果、優れた記録性能を実現することが可能である。
長さが下底長さよりも小さい構成の場合には、強磁性薄
膜両端の傾斜部の面が表面側を向く。このため、この面
より発生する漏れ磁束がマスター情報担体表面にも達し
て記録磁界として作用し、強磁性薄膜表面側の上底両端
近傍のビット長さ方向の磁界勾配を低下させてしまうこ
とが問題となる。一方、図４に示した構成例において
は、台形の上底長さを下底長さよりも大きくすることに
より、強磁性薄膜両端の傾斜部の面が基体側を向く構成
としている。このような構成では、構造上、傾斜部の面
より発生する漏れ磁束はマスター情報担体表面側には達
し難い。つまり、上底両端近傍の非磁性基体材料との境
界部において常に急峻な磁界勾配を得ることができ、そ
の結果、優れた記録性能を実現することが可能である。
【００４７】さらに、下底側よりも上底側が広い断面形
状を有する場合、ビット長さ方向（図４の横方向）にお
ける強磁性薄膜１の両端近傍では、磁束が下底側よりも
上底側に集中しやすいものと考えられる。このため、図
１から図３に示したような長方形の断面形状を有する強
磁性薄膜よりも、上底両端近傍からの漏れ磁界が大き
く、十分に大きな記録性能が得られやすい。
状を有する場合、ビット長さ方向（図４の横方向）にお
ける強磁性薄膜１の両端近傍では、磁束が下底側よりも
上底側に集中しやすいものと考えられる。このため、図
１から図３に示したような長方形の断面形状を有する強
磁性薄膜よりも、上底両端近傍からの漏れ磁界が大き
く、十分に大きな記録性能が得られやすい。
【００４８】既述した本願の第１の構成を有するマスタ
ー情報担体においては、強磁性薄膜１のパターニング
後、隣接する強磁性薄膜間に非磁性固体２を充填するこ
とが必要である。このため、強磁性薄膜の断面形状にお
いて、このようないわば倒立した台形形状を実現した場
合には、隣接する強磁性薄膜間において、隙間なく密に
非磁性固体２を充填して、十分な耐久性を得ることが困
難な場合がある。一方、上述した本願の第２の構成で
は、強磁性薄膜の断面形状において、このような倒立し
た台形形状を比較的容易に実現することができる。
ー情報担体においては、強磁性薄膜１のパターニング
後、隣接する強磁性薄膜間に非磁性固体２を充填するこ
とが必要である。このため、強磁性薄膜の断面形状にお
いて、このようないわば倒立した台形形状を実現した場
合には、隣接する強磁性薄膜間において、隙間なく密に
非磁性固体２を充填して、十分な耐久性を得ることが困
難な場合がある。一方、上述した本願の第２の構成で
は、強磁性薄膜の断面形状において、このような倒立し
た台形形状を比較的容易に実現することができる。
【００４９】図５には、図４の構成において、さらに強
磁性薄膜１と非磁性基体３の表面に、硬質の保護膜４を
形成したマスター情報担体の構成例を示す。このよう
に、本願の第２の構成を有するマスター情報担体におい
ても、第１の構成を同様に、硬質保護膜４の形成によっ
てさらなる長寿命化を促進することが可能である。
磁性薄膜１と非磁性基体３の表面に、硬質の保護膜４を
形成したマスター情報担体の構成例を示す。このよう
に、本願の第２の構成を有するマスター情報担体におい
ても、第１の構成を同様に、硬質保護膜４の形成によっ
てさらなる長寿命化を促進することが可能である。
【００５０】以上に例示した構成例を有するマスター情
報担体に対して、特願平９−０７５７０３号に開示され
た記録装置を用いて信号の記録回数に関わる耐久性の評
価を行ったところ、図６に示した従来構成を有するマス
ター情報担体では5千ショット程度以下の記録回数にお
いて信号の欠落が認められたが、図１、図３、図４に示
す本願発明のマスター情報担体では5万ショット以上、
また図２、図５に示す硬質保護膜４を有する本願発明の
マスター情報担体では10万ショット以上の記録回数を経
過しても、信号の欠落は認められなかった。すなわち、
本願発明の構成を実現することにより、マスター情報担
体の記録回数に関わる耐久性を向上して長寿命化を図る
ことが可能となることが実験的に確認された。
報担体に対して、特願平９−０７５７０３号に開示され
た記録装置を用いて信号の記録回数に関わる耐久性の評
価を行ったところ、図６に示した従来構成を有するマス
ター情報担体では5千ショット程度以下の記録回数にお
いて信号の欠落が認められたが、図１、図３、図４に示
す本願発明のマスター情報担体では5万ショット以上、
また図２、図５に示す硬質保護膜４を有する本願発明の
マスター情報担体では10万ショット以上の記録回数を経
過しても、信号の欠落は認められなかった。すなわち、
本願発明の構成を実現することにより、マスター情報担
体の記録回数に関わる耐久性を向上して長寿命化を図る
ことが可能となることが実験的に確認された。
【００５１】以上、本発明の実施の形態例について記述
したが、本発明の構成は、様々な実施形態への応用が可
能である。例えば本願明細書では、主にハードディスク
ドライブ等に搭載される磁気ディスク媒体に応用するこ
とに主眼をおいて記述を行ったが、本発明はこれに限ら
れるものではなく、フレキシブル磁気ディスク、磁気カ
ードおよび磁気テープ等の磁気記録媒体においても応用
可能であり、上記と同様に発明の効果を得ることができ
る。
したが、本発明の構成は、様々な実施形態への応用が可
能である。例えば本願明細書では、主にハードディスク
ドライブ等に搭載される磁気ディスク媒体に応用するこ
とに主眼をおいて記述を行ったが、本発明はこれに限ら
れるものではなく、フレキシブル磁気ディスク、磁気カ
ードおよび磁気テープ等の磁気記録媒体においても応用
可能であり、上記と同様に発明の効果を得ることができ
る。
【００５２】また、磁気記録媒体に記録される情報信号
に関しては、トラッキング用サーボ信号やアドレス情報
信号、再生クロック信号等のプリフォーマット信号に主
眼をおいて記述を行ったが、本発明の構成が応用可能な
情報信号も、上記に限られたものではない。例えば、本
発明の構成を用いて様々なデータ信号やオーディオ、ビ
デオ信号の記録を行うことも原理的に可能である。この
場合には、本発明のマスター情報担体とこれを用いた磁
気記録媒体への記録技術によって、ソフトディスク媒体
の大量複写生産を行うことができ、安価に提供すること
が可能である。
に関しては、トラッキング用サーボ信号やアドレス情報
信号、再生クロック信号等のプリフォーマット信号に主
眼をおいて記述を行ったが、本発明の構成が応用可能な
情報信号も、上記に限られたものではない。例えば、本
発明の構成を用いて様々なデータ信号やオーディオ、ビ
デオ信号の記録を行うことも原理的に可能である。この
場合には、本発明のマスター情報担体とこれを用いた磁
気記録媒体への記録技術によって、ソフトディスク媒体
の大量複写生産を行うことができ、安価に提供すること
が可能である。
【００５３】
【発明の効果】本発明によれば、磁気記録媒体に、トラ
ッキング用サーボ信号やアドレス情報信号、再生クロッ
ク信号等のプリフォーマット信号を静的一括面記録を行
うためのマスター情報担体において、記録回数に関わる
耐久性を向上して長寿命化を図ることが可能となる。こ
れにより、特願平８−１９１８８９号および特願平９−
０７５７０３号に開示された静的一括面記録技術の低コ
スト化および高生産性を一層促進することが可能であ
る。
ッキング用サーボ信号やアドレス情報信号、再生クロッ
ク信号等のプリフォーマット信号を静的一括面記録を行
うためのマスター情報担体において、記録回数に関わる
耐久性を向上して長寿命化を図ることが可能となる。こ
れにより、特願平８−１９１８８９号および特願平９−
０７５７０３号に開示された静的一括面記録技術の低コ
スト化および高生産性を一層促進することが可能であ
る。
【図１】本発明のマスター情報担体のビット長さ方向断
面の構成例を示す図
面の構成例を示す図
【図２】本発明のマスター情報担体のビット長さ方向断
面の構成例を示す図
面の構成例を示す図
【図３】本発明のマスター情報担体のビット長さ方向断
面の構成例を示す図
面の構成例を示す図
【図４】本発明のマスター情報担体のビット長さ方向断
面の構成例を示す図
面の構成例を示す図
【図５】本発明のマスター情報担体のビット長さ方向断
面の構成例を示す図
面の構成例を示す図
【図６】従来のマスター情報担体のビット長さ方向断面
の構成例を示す図
の構成例を示す図
【図７】本発明のマスター情報担体表面の構成例を示す
図
図
１ 強磁性薄膜 ２ 非磁性固体 ３ 非磁性基体 ４ 硬質保護膜
フロントページの続き (72)発明者 浜田 泰三 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (72)発明者 領内 博 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 審査官 中村 豊 (56)参考文献 特開 昭57−24032（ＪＰ，Ａ) 特開 昭50−60212（ＪＰ，Ａ) 特開 昭48−53704（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−40544（ＪＰ，Ａ) 国際公開81／165（ＷＯ，Ａ１) 国際公開98／3972（ＷＯ，Ａ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 5/62 - 5/86
Claims (15)
- 【請求項１】 情報信号を磁気記録媒体に記録するため
に用いられるマスター情報担体であって、 非磁性基体の表面に情報信号配列に対応する形状パター
ンが、基体表面に堆積された強磁性薄膜の配列により設
けられ、前記強磁性薄膜の配列において隣接する強磁性
薄膜間に、非磁性の固体が充填されていることを特徴と
するマスター情報担体。 - 【請求項２】 前記非磁性の固体が、前記強磁性薄膜材
料と非固容の酸化物もしくは金属、または、非固容の酸
化物もしくは金属を主成分とすることを特徴とする請求
項１記載のマスター情報担体。 - 【請求項３】 前記強磁性薄膜材料は、Ｃｏ、Ｆｅ、ま
たは、ＣｏもしくはＦｅのいずれかを主成分とする合金
であり、前記非磁性の固体は、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3等の
酸化物、または、Ｃｕ、Ａｇ、または、ＣｕもしくはＡ
ｇのいずれかを主成分とする合金であることを特徴とす
る請求項２記載のマスター情報担体。 - 【請求項４】 前記非磁性の固体が、高分子材料よりな
ることを特徴とする請求項１記載のマスター情報担体。 - 【請求項５】 前記高分子材料は、溶媒によって希釈し
たポリイミド溶液を回転塗布した後、加熱処理によって
硬化させたものであることを特徴とする請求項４記載の
マスター情報担体。 - 【請求項６】 前記強磁性薄膜および前記非磁性固体の
表面に、硬質保護膜が形成されていることを特徴とする
請求項１記載のマスター情報担体。 - 【請求項７】 前記硬質保護膜は、膜厚20nm以下である
ことを特徴とする請求項６記載のマスター情報担体。 - 【請求項８】 硬質保護膜が、スパッタ法により形成さ
れたカーボンを主成分とすることを特徴とする請求項６
記載のマスター情報担体。 - 【請求項９】 硬質保護膜が導電性を有することを特徴
とする請求項６記載のマスター情報担体。 - 【請求項１０】 情報信号を磁気記録媒体に記録するた
めに用いられるマスター情報担体であって、 非磁性基体の表面に情報信号配列に対応する形状パター
ンが、基体表面に形成された凹部の配列により設けら
れ、前記基体表面に形成された凹部に、強磁性薄膜が充
填されていることを特徴とするマスター情報担体。 - 【請求項１１】 前記強磁性薄膜材料は、Ｃｏ、Ｆｅ、
または、ＣｏもしくはＦｅのいずれかを主成分とする合
金であり、前記非磁性基体は、ＳｉＯ2、または、Ａｌ2
Ｏ3等の酸化物、または、Ｓｉ、または、Ｃのいずれか
であることを特徴とする請求項１０記載のマスター情報
担体。 - 【請求項１２】 前記情報信号のビット長さ方向におけ
る前記強磁性薄膜の断面形状が、概略、表面側を上底、
基体側を下底とする台形であり、かつ上底長さが下底長
さよりも大きいことを特徴とする請求項１０記載のマス
ター情報担体。 - 【請求項１３】 前記基体表面および前記凹部に充填さ
れた強磁性薄膜の表面に、硬質保護膜が形成されている
ことを特徴とする請求項１０記載のマスター情報担体。 - 【請求項１４】 前記硬質保護膜が、スパッタ法により
形成されたカーボンを主成分とすることを特徴とする請
求項１３記載のマスター情報担体。 - 【請求項１５】 請求項１乃至１４のいずれかに記載の
マスター情報担体を磁気記録媒体表面に密接させること
によって前記マスター情報担体表面の形状パターンに対
応する磁化パターンを前記磁気記録媒体に記録すること
を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07214698A JP3329259B2 (ja) | 1998-03-20 | 1998-03-20 | マスター情報担体、および、磁気記録媒体の製造方法 |
| CNB998042293A CN1201293C (zh) | 1998-03-20 | 1999-03-18 | 主信息载体 |
| US09/646,139 US6858328B1 (en) | 1998-03-20 | 1999-03-18 | Master information support |
| PCT/JP1999/001376 WO1999049457A1 (fr) | 1998-03-20 | 1999-03-18 | Support d'informations maitresses |
| MYPI99001028A MY124706A (en) | 1998-03-20 | 1999-03-19 | Master information support. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07214698A JP3329259B2 (ja) | 1998-03-20 | 1998-03-20 | マスター情報担体、および、磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11273070A JPH11273070A (ja) | 1999-10-08 |
| JP3329259B2 true JP3329259B2 (ja) | 2002-09-30 |
Family
ID=13480847
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07214698A Expired - Fee Related JP3329259B2 (ja) | 1998-03-20 | 1998-03-20 | マスター情報担体、および、磁気記録媒体の製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6858328B1 (ja) |
| JP (1) | JP3329259B2 (ja) |
| CN (1) | CN1201293C (ja) |
| MY (1) | MY124706A (ja) |
| WO (1) | WO1999049457A1 (ja) |
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| KR20020086291A (ko) * | 2001-05-11 | 2002-11-18 | 후지 샤신 필름 가부시기가이샤 | 자기전사용 마스터담체 |
| FR2827070B1 (fr) * | 2001-07-04 | 2004-07-09 | Commissariat Energie Atomique | Support de stockage d'informations a reseau de plots aimantes lateralement et procede de fabrication de ce support |
| US7618721B1 (en) * | 2001-11-01 | 2009-11-17 | Seagate Technology Llc | Master for printing servo patterns |
| US6816327B2 (en) * | 2001-11-28 | 2004-11-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Master information carrier for magnetic transfer and magnetic transfer method |
| JP2003187420A (ja) * | 2001-12-14 | 2003-07-04 | Fujitsu Ltd | 磁気パターン転写用のマスター体及び磁気記録媒体 |
| WO2004051631A1 (ja) * | 2002-12-03 | 2004-06-17 | Fujitsu Limited | 磁気転写用マスタ媒体およびその製造方法 |
| JP2004241023A (ja) * | 2003-02-04 | 2004-08-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気転写用マスター担体 |
| JP2004348796A (ja) * | 2003-05-20 | 2004-12-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気転写用マスター担体および磁気転写方法 |
| KR100571812B1 (ko) * | 2003-07-19 | 2006-04-17 | 삼성전자주식회사 | 패턴된 자기 기록 매체 및 그 제조방법 |
| JP2005050476A (ja) | 2003-07-31 | 2005-02-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気転写用マスター担体 |
| JP2005071536A (ja) | 2003-08-27 | 2005-03-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気転写用マスター担体 |
| US20050111123A1 (en) * | 2003-11-20 | 2005-05-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Master information carrier and method of manufacturing the same, method of recording master information signal on magnetic recording medium, method of manufacturing the magnetic recording medium, and magnetic recording and reproducing apparatus |
| JP2006012332A (ja) * | 2004-06-28 | 2006-01-12 | Tdk Corp | ドライエッチング方法、磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体 |
| US20080206602A1 (en) * | 2007-02-28 | 2008-08-28 | Katine Jordan A | Nanoimprinting of topography for patterned magnetic media |
| JP5140527B2 (ja) | 2008-09-12 | 2013-02-06 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体、磁気記録媒体の製造方法および磁気記録再生装置 |
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|---|---|---|---|---|
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