JP3315756B2 - クロルエチルスルホニルベンズアルデヒド - Google Patents
クロルエチルスルホニルベンズアルデヒドInfo
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- JP3315756B2 JP3315756B2 JP11687093A JP11687093A JP3315756B2 JP 3315756 B2 JP3315756 B2 JP 3315756B2 JP 11687093 A JP11687093 A JP 11687093A JP 11687093 A JP11687093 A JP 11687093A JP 3315756 B2 JP3315756 B2 JP 3315756B2
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C317/00—Sulfones; Sulfoxides
- C07C317/24—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and doubly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
- C07C309/01—Sulfonic acids
- C07C309/28—Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、式Ｉ：
【０００２】
【化２】
【０００３】［式中、ｎは、１又は２を表し、環Ａは置
換されていてよい］で示されるクロルエチルスルホニル
ベンズアルデヒド、並びにその製造方法に関する。
換されていてよい］で示されるクロルエチルスルホニル
ベンズアルデヒド、並びにその製造方法に関する。
【０００４】
【従来の技術】米国特許第４９２２０１４号明細書か
ら、２−ヒドロキシメルカプトベンズアルデヒドの製造
は公知である。これらは、ハロゲンベンズアルデヒドを
２−メルカプトエタノールと反応させることにより得ら
れる。該物質から、タングステン化合物の存在下で過酸
化水素で酸化させることにより２−ヒドロキシエチルス
ルホニルベンズアルデヒドを製造することができる。
ら、２−ヒドロキシメルカプトベンズアルデヒドの製造
は公知である。これらは、ハロゲンベンズアルデヒドを
２−メルカプトエタノールと反応させることにより得ら
れる。該物質から、タングステン化合物の存在下で過酸
化水素で酸化させることにより２−ヒドロキシエチルス
ルホニルベンズアルデヒドを製造することができる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、反応
性染料を製造するための、有利な新規中間生成物を提供
することであった。
性染料を製造するための、有利な新規中間生成物を提供
することであった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題は、冒頭に詳細
に記載した式Ｉのクロルエチルスルホニルベンズアルデ
ヒドにより解決される。
に記載した式Ｉのクロルエチルスルホニルベンズアルデ
ヒドにより解決される。
【０００７】式Ｉ中、環Ａが置換基を有する場合には、
例えばハロゲン原子、例えばフッ素、塩素、臭素又はヨ
ウ素、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル基、例えばメチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル又はｓ−
ブチル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ基、例えばメトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソ
ブトキシ又はｓ−ブトキシ、ニトロ基、ヒドロキシスル
ホニル基又はＣ1〜Ｃ4−アルキルスルホニル基、例えば
メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホ
ニル、イソプロピルスルホニル又はブチルスルホニルが
該当する。その際、環Ａは、一般的に単〜三、有利には
単〜二及び特に単置換されている。
例えばハロゲン原子、例えばフッ素、塩素、臭素又はヨ
ウ素、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル基、例えばメチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル又はｓ−
ブチル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ基、例えばメトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソ
ブトキシ又はｓ−ブトキシ、ニトロ基、ヒドロキシスル
ホニル基又はＣ1〜Ｃ4−アルキルスルホニル基、例えば
メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホ
ニル、イソプロピルスルホニル又はブチルスルホニルが
該当する。その際、環Ａは、一般的に単〜三、有利には
単〜二及び特に単置換されている。
【０００８】式Ｉａ又はＩｂ：
【０００９】
【化３】
【００１０】［式中、環Ａはそれぞれ上記のものを表
す］のクロルエチルスルホニルベンズアルデヒドが有利
である。
す］のクロルエチルスルホニルベンズアルデヒドが有利
である。
【００１１】更に、環Ａが置換されていない、又はハロ
ゲン原子、ニトロ基又はヒドロキシスルホニル基で単置
換されている式Ｉのクロルエチルスルホニルベンズアル
デヒドが有利である。
ゲン原子、ニトロ基又はヒドロキシスルホニル基で単置
換されている式Ｉのクロルエチルスルホニルベンズアル
デヒドが有利である。
【００１２】式Ｉの新規クロルエチルスルホニルベンズ
アルデヒドは、例えば、有利には式ＩＩ：
アルデヒドは、例えば、有利には式ＩＩ：
【００１３】
【化４】
【００１４】［式中、ｎ及び環Ａはそれぞれ上記のもの
を表す］のヒドロキシエチルメルカプトベンズアルデヒ
ドを塩酸溶液中元素塩素で、１０〜８０℃、有利には３
０〜５０℃の温度で酸化させることにより得られる。
を表す］のヒドロキシエチルメルカプトベンズアルデヒ
ドを塩酸溶液中元素塩素で、１０〜８０℃、有利には３
０〜５０℃の温度で酸化させることにより得られる。
【００１５】酸化を０．３〜３６重量％、有利には１８
〜３６重量％の塩酸中で実施するのが有利である。
〜３６重量％の塩酸中で実施するのが有利である。
【００１６】ヒドロキシメルカプトベンズアルデヒドＩ
Ｉ １重量部当たり、一般的には塩酸０．５〜５重量
部、有利には１〜３重量部を使用する。
Ｉ １重量部当たり、一般的には塩酸０．５〜５重量
部、有利には１〜３重量部を使用する。
【００１７】ヒドロキシメルカプトベンズアルデヒドＩ
Ｉ １モル当たり、一般的には元素塩素２〜６モル、有
利には２．５〜４モルを使用する。
Ｉ １モル当たり、一般的には元素塩素２〜６モル、有
利には２．５〜４モルを使用する。
【００１８】該新規方法は、好ましくは塩酸中、ヒドロ
キシメルカプトベンズアルデヒドＩＩの溶液を製造し、
その中に上記温度でガス状塩素を導入して行う。
キシメルカプトベンズアルデヒドＩＩの溶液を製造し、
その中に上記温度でガス状塩素を導入して行う。
【００１９】通常２〜６時間を必要とする塩素供給終了
後、約３〜４時間の後撹拌工程を実施する。その後、生
成したクロルエチルスルホニルベンズアルデヒドを吸引
濾過し、水で洗浄し乾燥する。
後、約３〜４時間の後撹拌工程を実施する。その後、生
成したクロルエチルスルホニルベンズアルデヒドを吸引
濾過し、水で洗浄し乾燥する。
【００２０】出発物質として使用されるヒドロキシエチ
ルメルカプトベンズアルデヒドは自体公知であり、既に
述べたように、例えば米国特許第４９２２０１４号明細
書に記載されている。
ルメルカプトベンズアルデヒドは自体公知であり、既に
述べたように、例えば米国特許第４９２２０１４号明細
書に記載されている。
【００２１】新規方法を用いて、新規クロルエチルスル
ホニルベンズアルデヒドを高収率かつ高純度で得ること
ができる。
ホニルベンズアルデヒドを高収率かつ高純度で得ること
ができる。
【００２２】式Ｉの新規クロルエチルスルホニルベンズ
アルデヒドは、反応性染料を製造するための貴重な中間
生成物である。
アルデヒドは、反応性染料を製造するための貴重な中間
生成物である。
【００２３】
【実施例】次に、本発明を以下の実施例により詳細に説
明する。
明する。
【００２４】例１ ４−（２−ヒドロキシエチル）メルカプトベンズアルデ
ヒド９１．０ｇを、濃塩酸１６０ｇに溶解した。３５〜
４０℃に熱した溶液に、塩素を飽和するまで導入し（約
４時間）、次いで３５〜４０℃で４時間、薄膜クロマト
グラフィー分析により出発物質がもはや検出されなくな
るまで後撹拌した。その後、撹拌下で室温に冷却し、懸
濁した４−（２−クロルエチルスルホニル）ベンズアル
デヒドを吸引濾過し、中性になるまで水で洗浄し、次い
で減圧下で４０℃で乾燥した。
ヒド９１．０ｇを、濃塩酸１６０ｇに溶解した。３５〜
４０℃に熱した溶液に、塩素を飽和するまで導入し（約
４時間）、次いで３５〜４０℃で４時間、薄膜クロマト
グラフィー分析により出発物質がもはや検出されなくな
るまで後撹拌した。その後、撹拌下で室温に冷却し、懸
濁した４−（２−クロルエチルスルホニル）ベンズアル
デヒドを吸引濾過し、中性になるまで水で洗浄し、次い
で減圧下で４０℃で乾燥した。
【００２５】融点７０〜７２℃の４−（２−クロルエチ
ルスルホニル）ベンズアルデヒド１１０ｇが得られた
（ＨＰＬＣによる純度：９８％）。
ルスルホニル）ベンズアルデヒド１１０ｇが得られた
（ＨＰＬＣによる純度：９８％）。
【００２６】Ｃｌ（理論値）：１５．２７％ Ｃ
ｌ（測定値）：１５．６７％1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：δ＝３．８（２Ｈ），４．
０（２Ｈ），８．１（４Ｈ），１０．１（１Ｈ）ｐｐ
ｍ． 例２ 例１に類似して実施したが、但し、酸化を０．４重量％
の塩酸１６０ｇ中で実施した。４−（２−クロルエチル
スルホニル）ベンズアルデヒド１０５ｇが例１に匹敵す
る純度で得られた。
ｌ（測定値）：１５．６７％1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：δ＝３．８（２Ｈ），４．
０（２Ｈ），８．１（４Ｈ），１０．１（１Ｈ）ｐｐ
ｍ． 例２ 例１に類似して実施したが、但し、酸化を０．４重量％
の塩酸１６０ｇ中で実施した。４−（２−クロルエチル
スルホニル）ベンズアルデヒド１０５ｇが例１に匹敵す
る純度で得られた。
【００２７】例３ 例１に類似して実施したが、但し、出発物質として、相
応する量の２−クロル−４−（２−ヒドロキシエチルメ
ルカプト）−ベンズアルデヒドを使用した。２−クロル
−４−（２−クロルエチルスルホニル）ベンズアルデヒ
ドが例１に匹敵する収率及び純度で得られた。
応する量の２−クロル−４−（２−ヒドロキシエチルメ
ルカプト）−ベンズアルデヒドを使用した。２−クロル
−４−（２−クロルエチルスルホニル）ベンズアルデヒ
ドが例１に匹敵する収率及び純度で得られた。
【００２８】Ｃｌ（理論値）：２６．６％ Ｃｌ
（測定値）：２５．７３％ 融点：１１７〜１１９℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：δ＝３．９（２Ｈ），４．
１（２Ｈ），８．１（２Ｈ），８．２（２Ｈ），１０．
４（１Ｈ）ｐｐｍ． 類似した方法で、以下の表に記載した、式：
（測定値）：２５．７３％ 融点：１１７〜１１９℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：δ＝３．９（２Ｈ），４．
１（２Ｈ），８．１（２Ｈ），８．２（２Ｈ），１０．
４（１Ｈ）ｐｐｍ． 類似した方法で、以下の表に記載した、式：
【００２９】
【化５】
【００３０】のベンズアルデヒドが得られた。
【００３１】
【表１】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−78958（ＪＰ，Ａ) 国際公開92／741（ＷＯ，Ａ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07C 317/00 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】 式Ｉ： 【化１】 ［式中、ｎは、１又は２を表し、環Ａは非置換である
か、またはハロゲン、Ｃ １ 〜Ｃ ４ −アルキル、Ｃ １ 〜Ｃ
４ −アルコキシ、ニトロ、ヒドロキシスルホニルもしく
はＣ １ 〜Ｃ ４ −アルキルスルホニルの群からの１つ、２
つもしくは３つの置換基により置換されている］で示さ
れるクロルエチルスルホニルベンズアルデヒド。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4216590A DE4216590A1 (de) | 1992-05-20 | 1992-05-20 | Chlorethylsulfonylbenzaldehyde |
| DE4216590.3 | 1992-05-20 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0632772A JPH0632772A (ja) | 1994-02-08 |
| JP3315756B2 true JP3315756B2 (ja) | 2002-08-19 |
Family
ID=6459278
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11687093A Expired - Fee Related JP3315756B2 (ja) | 1992-05-20 | 1993-05-19 | クロルエチルスルホニルベンズアルデヒド |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5493057A (ja) |
| EP (1) | EP0570780B1 (ja) |
| JP (1) | JP3315756B2 (ja) |
| KR (1) | KR100267361B1 (ja) |
| DE (2) | DE4216590A1 (ja) |
| ES (1) | ES2085074T3 (ja) |
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Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| DE4230095A1 (de) * | 1992-09-09 | 1994-03-10 | Basf Ag | Reaktivfarbstoffe auf Formazanbasis sowie Hydrazone |
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1992
- 1992-05-20 DE DE4216590A patent/DE4216590A1/de not_active Withdrawn
-
1993
- 1993-04-30 TW TW082103384A patent/TW235293B/zh active
- 1993-05-07 EP EP93107419A patent/EP0570780B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-05-07 US US08/057,830 patent/US5493057A/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-05-07 ES ES93107419T patent/ES2085074T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1993-05-07 DE DE59301762T patent/DE59301762D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-05-19 KR KR1019930008557A patent/KR100267361B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1993-05-19 JP JP11687093A patent/JP3315756B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| KR930023335A (ko) | 1993-12-18 |
| US5493057A (en) | 1996-02-20 |
| EP0570780A1 (de) | 1993-11-24 |
| DE4216590A1 (de) | 1993-11-25 |
| KR100267361B1 (ko) | 2000-10-16 |
| DE59301762D1 (de) | 1996-04-11 |
| JPH0632772A (ja) | 1994-02-08 |
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| ES2085074T3 (es) | 1996-05-16 |
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