JP3309933B2 - Polystyrene film - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はシンジオタクチックポリ
スチレン系フィルム、らに詳しく言えば、ハンドリング
性および厚み均一性に優れ、且つ絶縁破壊電圧に優れた
ポリスチレン系フィルムに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a syndiotactic polystyrene film, and more particularly, to a polystyrene film having excellent handleability and thickness uniformity and excellent dielectric breakdown voltage.

【０００２】[0002]

【従来の技術】シンジオタクチックポリスチレン系重合
体を主成分とする樹脂組成物を二軸延伸、熱固定した二
軸延伸フィルムは耐熱性、電気特性などに優れ、フィル
ムコンデンサの誘電体に展開されている（特開平2-1438
51、特開平3-124750、特開平5-200858）。2. Description of the Related Art A biaxially stretched film obtained by biaxially stretching and heat setting a resin composition containing a syndiotactic polystyrene-based polymer as a main component has excellent heat resistance, electrical characteristics, etc., and is developed as a dielectric for a film capacitor. (Japanese Patent Laid-Open No. 2-1438)
51, JP-A-3-124750, JP-A-5-200858).

【０００３】[0003]

【発明が解決しようとする問題点】しかし、これら従来
のシンジオタクチックポリスチレン系フィルムにおいて
は絶縁破壊電圧が不良またはフィルムの厚みむら増大に
基づく絶縁破壊電圧のばらつきやコンデンサとしたあと
の容量のばらつきを発生することが分かった。絶縁破壊
電圧が不良となった場合、フィルムを厚くする必要が生
じ、その結果コンデンサの体積が大きくなるという問題
があった。また、容量や絶縁破壊電圧のばらつきが大き
い場合、コンデンサの信頼性が得られないという問題が
あることが分かった。また、コンデンサーの小型化、静
電容量の増大の観点から、現在、誘電体の薄手化が強く
求められている。しかし、シンジオタクチックポリスチ
レン系フィルムにおいては、単に薄手化したのでは、フ
ィルムの製造時及び加工時のハンドリング特性が不良と
なる。本発明は、ハンドリング性および厚み均一性に優
れ、且つ絶縁破壊電圧に優れたポリスチレン系フィルム
を提供することを目的としている。However, in these conventional syndiotactic polystyrene films, the breakdown voltage is poor or the breakdown voltage is increased due to an increase in the film thickness unevenness, and the capacitance after the capacitor is used. Was found to occur. When the dielectric breakdown voltage becomes defective, it is necessary to make the film thicker, which results in a problem that the volume of the capacitor becomes large. In addition, it has been found that there is a problem that the reliability of the capacitor cannot be obtained when the variation in the capacitance and the breakdown voltage is large. At the same time, from the viewpoint of miniaturization of capacitors and increase in capacitance, thinner dielectrics are currently strongly required. However, in the case of a syndiotactic polystyrene-based film, if the film is simply made thin, the handling characteristics during the production and processing of the film become poor. An object of the present invention is to provide a polystyrene-based film which is excellent in handling properties and thickness uniformity and excellent in dielectric breakdown voltage.

【０００４】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明のポリスチレン系
フィルムはシンジオタクチック構造を有するスチレン系
重合体からなり平均屈折率が1.582 以上1.590 以下であ
ることを特徴とするハンドリング性および厚み均一性に
優れ、且つ絶縁破壊電圧に優れたポリスチレン系フィル
ムを提供するものである。The polystyrene film of the present invention comprises a styrene polymer having a syndiotactic structure and has an average refractive index of 1.582 or more and 1.590 or less. An object of the present invention is to provide a polystyrene-based film which is excellent and has excellent dielectric breakdown voltage.

【０００５】本発明に用いられる立体規則性がシンジオ
タクチック構造であるポリスチレン系重合体は、側鎖で
あるフェニル基又は置換フェニル基が核磁気共鳴法によ
り定量されるタクティシティがダイアッド（構成単位が
２個）で85％以上、ペンタッド（構成単位が５個）で50
％以上のシンジオタクチック構造であることが望まし
い。The polystyrene polymer having a syndiotactic stereoregularity used in the present invention has a tacticity of diad (constituent unit) in which the phenyl group or substituted phenyl group as a side chain is determined by nuclear magnetic resonance. 85% or more for 2) and 50 for pentad (5 constituent units)
% Or more of the syndiotactic structure.

【０００６】該ポリスチレン系重合体としては、ポリス
チレン、ポリ（p-、m-又はo-メチルスチレン）、ポリ
（2,4-、2,5-、3,4-又は3,5-ジメチルスチレン）、ポリ
（p-ターシャリーブチルスチレン）などのポリ（アルキ
ルスチレン）、ポリ（p-、m-又はo-クロロスチレン）、
ポリ（p-、m-又はo-ブロモスチレン）、ポリ（p-、m-又
はo-フルオロスチレン）、ポリ（o-メチル-p- フルオロ
スチレン）などのポリ（ハロゲン化スチレン）、ポリ
（p-、m-又はo-クロロメチルスチレン）などのポリ（ハ
ロゲン置換アルキルスチレン）、ポリ（p-、m-又はo-メ
トキシスチレン）、ポリ（p-、m-又はo-エトキシスチレ
ン）などのポリ（アルコキシスチレン）、ポリ（p-、m-
又はo-カルボキシメチルスチレン）などのポリ（カルボ
キシアルキルスチレン）ポリ（p-ビニルベンジルプロピ
ルエーテル）などのポリ（アルキルエーテルスチレ
ン）、ポリ（p-トリメチルシリルスチレン）などのポリ
（アルキルシリルスチレン）、さらにはポリ（ビニルベ
ンジルジメトキシホスファイド）などが挙げられる。The polystyrene-based polymer includes polystyrene, poly (p-, m- or o-methylstyrene), poly (2,4-, 2,5-, 3,4- or 3,5-dimethylstyrene). ), Poly (alkylstyrene) such as poly (p-tert-butylstyrene), poly (p-, m- or o-chlorostyrene),
Poly (halogenated styrene) such as poly (p-, m- or o-bromostyrene), poly (p-, m- or o-fluorostyrene), poly (o-methyl-p-fluorostyrene), poly ( Poly (halogen-substituted alkylstyrene) such as p-, m- or o-chloromethylstyrene, poly (p-, m- or o-methoxystyrene), poly (p-, m- or o-ethoxystyrene) Poly (alkoxystyrene), poly (p-, m-
Or o-carboxymethylstyrene) such as poly (carboxyalkylstyrene), poly (alkyletherstyrene) such as poly (p-vinylbenzylpropylether), poly (alkylsilylstyrene) such as poly (p-trimethylsilylstyrene), and more. Include poly (vinylbenzyldimethoxyphosphide) and the like.

【０００７】本発明においては、前記ポリスチレン系重
合体のなかで、特にポリスチレンが好適である。また、
本発明で用いるシンジオタクチック構造を有するポリス
チレン系重合体は、必ずしも単一化合物である必要はな
く、シンジオタクティシティが前記範囲内であればアタ
クチック構造やアイソタクチック構造のポリスチレン系
重合体との混合物や、共重合体及びそれらの混合物でも
よい。また本発明に用いるポリスチレン系重合体は、重
量平均分子量が10,000以上、更に好ましくは50,000以上
である。重量平均分子量が10,000未満のものでは、強伸
度特性や耐熱性に優れたフィルムを得ることができな
い。重量平均分子量の上限については、特に限定される
ものではないが、1,500,000 以上では延伸張力の増加に
伴う破断の発生などが生じるため余り好ましくない。In the present invention, among the polystyrene polymers, polystyrene is particularly preferred. Also,
The polystyrene-based polymer having a syndiotactic structure used in the present invention is not necessarily a single compound, and a polystyrene-based polymer having an atactic or isotactic structure as long as the syndiotacticity is within the above range. Or copolymers and mixtures thereof. The polystyrene-based polymer used in the present invention has a weight average molecular weight of 10,000 or more, more preferably 50,000 or more. When the weight average molecular weight is less than 10,000, a film having excellent elongation characteristics and heat resistance cannot be obtained. The upper limit of the weight-average molecular weight is not particularly limited. However, when the weight-average molecular weight is 1,500,000 or more, breakage occurs due to an increase in stretching tension, which is not preferable.

【０００８】本発明に用いられるシンジオタクチックポ
リスチレン系重合体には必要に応じて、公知の酸化防止
剤、帯電防止剤、滑り性を付与するための微粒子等を適
量配合したものを用いることができる。配合量はシンジ
オタクチックポリスチレン系重合体100 重量％に対して
10重量％以下が望ましい。10重量％を越えると延伸時に
破断を起こしやすくなり、生産安定性不良となるので好
ましくない。The syndiotactic polystyrene-based polymer used in the present invention may be, if necessary, a compound in which known antioxidants, antistatic agents, fine particles for imparting lubricity and the like are blended in appropriate amounts. it can. The amount is based on 100% by weight of syndiotactic polystyrene polymer.
10% by weight or less is desirable. If the content exceeds 10% by weight, breakage is likely to occur during stretching, resulting in poor production stability.

【０００９】微粒子としては、例えばシリカ、二酸化チ
タン、タルク、カオリナイト、ゼオライト等の金属酸化
物、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、硫酸バリウム
などの金属の塩またはシリコーン樹脂、架橋ポリスチレ
ン等の有機重合体からなる粒子等の添加が例示される。
そして、これら微粒子は、いずれか一種を単独で用いて
もよく、また２種以上を併用してもよいが、使用する微
粒子の平均粒子系は0.01μｍ以上2.0 μｍ以下、特に0.
05μｍ以上1.5 μｍ以下が好ましく、粒子径のばらつき
度（標準偏差と平均粒子径との比率）が25％以下が好ま
しい。添加量はシンジオタクチックポリスチレン系重合
体100重量％に対し0.005 重量％以上2.0重量％以下含有
することが好ましく、特に0.1重量％以上1.0 重量％以
下が好ましい。The fine particles include, for example, metal oxides such as silica, titanium dioxide, talc, kaolinite, and zeolite; salts of metals such as calcium carbonate, calcium phosphate and barium sulfate; and organic resins such as silicone resins and cross-linked polystyrene. The addition of particles and the like is exemplified.
These fine particles may be used alone or in a combination of two or more, but the average particle system of the fine particles used is 0.01 μm or more and 2.0 μm or less, particularly 0.1 μm or less.
It is preferably from 05 μm to 1.5 μm, and the degree of dispersion of the particle diameter (the ratio between the standard deviation and the average particle diameter) is preferably 25% or less. The amount of addition is preferably from 0.005 to 2.0% by weight, more preferably from 0.1 to 1.0% by weight, based on 100% by weight of the syndiotactic polystyrene-based polymer.

【００１０】そして、前記の平均屈折率は、フィルムの
製膜条件調整される。得られたフィルムの平均屈折率が
所定の範囲に入るならば製造条件は特に限定されない
が、例えば、縦延伸及び横延伸を順に行なう逐次二軸延
伸方法のほか、横・縦・縦延伸法、縦・横・縦延伸法、
縦・縦・横延伸法などの延伸方法を採用することがで
き、要求される強度や寸法安定性などの諸特性に応じて
選択される。本願発明では実施例に屈折率を達成するた
めの手段として特徴的な多段延伸法が例示される。ま
た、熱固定処理、縦弛緩処理、横弛緩処理などを施すこ
とができる。また、蒸着層の接着特性等を向上するため
に、インラインコートやオフラインコートにより接着層
を設けたり、コロナ処理や火炎プラズマ処理等を行うこ
とができる。The average refractive index is adjusted by adjusting the film forming conditions. The production conditions are not particularly limited as long as the average refractive index of the obtained film falls within a predetermined range.For example, in addition to a sequential biaxial stretching method in which longitudinal stretching and transverse stretching are sequentially performed, a horizontal / longitudinal / longitudinal stretching method, Vertical / horizontal / vertical stretching method,
A stretching method such as a longitudinal / longitudinal / lateral stretching method can be employed, and is selected according to various properties such as required strength and dimensional stability. In the present invention, a characteristic multi-stage stretching method is exemplified in the examples as a means for achieving a refractive index. Further, a heat setting treatment, a vertical relaxation treatment, a horizontal relaxation treatment and the like can be performed. In addition, in order to improve the adhesive properties of the deposited layer, an adhesive layer can be provided by in-line coating or off-line coating, or corona treatment, flame plasma treatment, or the like can be performed.

【００１１】本発明のポリスチレン系フィルムの平均屈
折率は1.582以上、更に好ましくは1.584 以上である。
平均屈折率が1.582 未満では絶縁破壊電圧が不良とな
り、さらにハンドリング性が不良となる。また、平均屈
折率の上限は1.590 以下、更に好ましくは1.589 以下で
ある。平均屈折率が1.590 より大きくなると厚みむらが
大きくなるため、フィルムの破壊電圧の絶対値の変動が
大きくなり且つ容量変化が増大するため、コンデンサと
しての信頼性が低くなる。The average refractive index of the polystyrene film of the present invention is 1.582 or more, more preferably 1.584 or more.
If the average refractive index is less than 1.582, the breakdown voltage will be poor, and the handling will be poor. The upper limit of the average refractive index is 1.590 or less, more preferably 1.589 or less. If the average refractive index is more than 1.590, the thickness unevenness becomes large, the variation in the absolute value of the breakdown voltage of the film becomes large, and the capacitance change increases, so that the reliability as a capacitor is lowered.

【００１２】[0012]

【実施例】以下に実施例にて本発明を具体的に説明する
が、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではな
い。なお、フィルムの評価方法を以下に示す。EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to only these examples. In addition, the evaluation method of a film is shown below.

【００１３】（１）平均屈折率 アタゴ光学社製アッベ屈折計4Tを用い、フィルムの屈折
率を長手方向、幅方向および厚み方向について測定し、
それら３方向の屈折率を平均し、平均屈折率を求めた。(1) Average refractive index The refractive index of the film was measured in the longitudinal direction, width direction and thickness direction using an Abbe refractometer 4T manufactured by Atago Optical Co., Ltd.
The refractive indices in these three directions were averaged to obtain an average refractive index.

【００１４】（２）絶縁破壊電圧 JIS C-2318に準じて行なった。10KV直流耐電圧試験機を
用い、23℃,50%RHの雰囲気下に於て、100V/sec の昇圧
速度で、フィルムが破壊し短絡したときの電圧を読み取
った。(2) Dielectric Breakdown Voltage This was performed according to JIS C-2318. Using a 10 KV DC withstanding voltage tester, the voltage at the time when the film was broken and short-circuited was read at an increasing speed of 100 V / sec in an atmosphere of 23 ° C. and 50% RH.

【００１５】（３）厚みむら ミクロン計測器社製連続厚さ測定器によりフィルムの幅
方向の中央部を長手方向に沿って測定し、次式により算
出した。 厚みむら＝（最大厚さー最小厚さ）／平均厚さ×100 ％ １級：厚みむら１０％以上 ２級：厚みむら８〜１０％ ３級：厚みむら６〜８％ ４級：厚みむら４〜６％ ５級：厚みむら４％以下(3) Thickness Unevenness The center of the film in the width direction was measured along the longitudinal direction using a continuous thickness measuring instrument manufactured by Micron Keisoku Co., Ltd., and calculated by the following equation. Thickness unevenness = (maximum thickness-minimum thickness) / average thickness x 100% First grade: Thickness unevenness of 10% or more Second grade: Thickness unevenness 8-10% Third grade: Thickness irregularity 6-8% Fourth grade: Thickness irregularity 4-6% Class 5: Uneven thickness 4% or less

【００１６】（４）フィルムのハンドリング特性 広幅のスリットロールを高速でスリットし、小幅のロー
ルに巻直すに際しロール端部の巻ずれ、しわ、バルブ等
を生じないで問題のないロールが得られるかどうかを４
段階評価し、次のランク付けで評価した。 １級；問題のないスリットロールを得ることは極めて困
難 ２級；低速で問題のないスリットロールが得られる ３級；中速で問題のないスリットロールが得られる ４級；高速で問題のないスリットロールが得られる(4) Film Handling Characteristics When slitting a wide slit roll at a high speed and rewinding the roll into a small width roll, is it possible to obtain a roll that does not cause any problem such as unwinding of the roll end, wrinkles, and bulbs? Please 4
It was evaluated on a scale and evaluated according to the following ranking. 1st grade: It is extremely difficult to obtain a slit roll with no problem 2nd grade: A slit roll with no problem can be obtained at low speed 3rd grade: A slit roll with no problem can be obtained at medium speed 4th grade: A slit with high speed and no problem Get the roll

【００１７】（５）平均粒子径 微粒子を（株）日立製作所製S-５１０型走査型電子顕微
鏡で観察し、写真撮影したものを拡大して複写し、微粒
子の外形をトレースし任意に200 個の粒子を黒く塗りつ
ぶした。この像をニコレ（株）製ルーゼックス500 型画
像解析装置を用いて、それぞれの粒子の水平方向のフェ
レ径を測定し、その平均値を平均粒子径とした。また、
粒子径のばらつき度は下記の式により算出した。 ばらつき度＝（粒子径の標準偏差／平均粒子径）× 100
（％）(5) Average particle size The fine particles are observed with a scanning electron microscope, model S-510, manufactured by Hitachi, Ltd., and a photograph is enlarged and copied, and the outer shape of the fine particles is traced and arbitrarily set to 200 particles. Particles were painted black. This image was measured for the horizontal Feret diameter of each particle using a Luzex 500 image analyzer manufactured by Nicole Co., Ltd., and the average value was defined as the average particle diameter. Also,
The degree of dispersion of the particle diameter was calculated by the following equation. Variation = (standard deviation of particle size / average particle size) x 100
(%)

【００１８】実施例１ 滑剤として、平均粒子径0.5 μｍ、ばらつき度20%、面
積形状係数80% のシリカをシンジオタクチックポリスチ
レン（重量平均分子量250,000)100 重量％に対して0.5
重量％添加したポリマーチップと、滑剤の添加されてい
ないポリマーチップを重量比で１対９の割合で混合した
後、乾燥し、290 ℃で溶融し、800 μｍのリップギャッ
プのT ダイから押し出し、50℃の冷却ロールに静電印荷
法により密着・冷却固化し、60μｍの無定形シートを得
た。該無定形シートをまず金属ロールにより95℃に予熱
し、表面温度143 ℃のセラッミクロールを用い縦方向に
３倍延伸した後冷却し、更に120 ℃の金属ロールを用い
縦方向に1.2 倍延伸した。次いで、テンターでフィルム
を120 ℃に予熱し、横方向に延伸温度120 ℃で２倍延伸
し、更に150 ℃で1.6 倍延伸した後、255 ℃で12秒熱固
定処理した。その後、225 ℃で3%横弛緩処理した。得ら
れたフィルムの厚みは5.3 μｍであり、走行性、ハンド
リング性が良好であった。得られたフィルムの物性を表
１に示す。Example 1 As a lubricant, silica having an average particle diameter of 0.5 μm, a degree of dispersion of 20%, and an area shape factor of 80% was added in an amount of 0.5 to 100% by weight of syndiotactic polystyrene (weight average molecular weight: 250,000).
The polymer chip added with weight% and the polymer chip without added lubricant were mixed at a weight ratio of 1: 9, dried, melted at 290 ° C., and extruded from a T-die having a lip gap of 800 μm, It was closely adhered to a cooling roll at 50 ° C. by an electrostatic loading method and solidified by cooling to obtain a 60 μm amorphous sheet. The amorphous sheet was first preheated to 95 ° C. by a metal roll, stretched three times in the machine direction by using cellulamide having a surface temperature of 143 ° C., cooled, and further stretched 1.2 times in the machine direction by a metal roll at 120 ° C. . Next, the film was preheated to 120 ° C. with a tenter, stretched twice in the transverse direction at a stretching temperature of 120 ° C., further stretched 1.6 times at 150 ° C., and then heat-set at 255 ° C. for 12 seconds. Then, it was subjected to a 3% transverse relaxation treatment at 225 ° C. The thickness of the obtained film was 5.3 μm, and the running property and the handling property were good. Table 1 shows the physical properties of the obtained film.

【００１９】実施例２ 縦延伸を143 ℃のセラミックロールにおいて2.4 倍延伸
した後一度冷却し、更に120 ℃の金属ロールで1.5 倍延
伸した以外は実施例1と同様に行った。得られたフィル
ムの厚みは5.3 μｍであった。得られたフィルムの物性
を表１に示す。Example 2 The procedure of Example 1 was repeated except that the film was stretched 2.4 times in a ceramic roll at 143 ° C., cooled once, and then stretched 1.5 times using a metal roll at 120 ° C. The thickness of the obtained film was 5.3 μm. Table 1 shows the physical properties of the obtained film.

【００２０】比較例１ 縦延伸143 ℃のセラミックロールにおいて2.4 倍延伸し
た後冷却せず、更に120 ℃の金属ロールで1.5 倍延伸し
た以外は実施例１と同様に行った。得られたフィルムの
厚みは5.3 μｍであった。得られたフィルムの物性を表
１に示す。Comparative Example 1 The procedure of Example 1 was repeated, except that the film was stretched 2.4 times in a longitudinally stretched 143 ° C. ceramic roll, not cooled, and further stretched 1.5 times in a 120 ° C. metal roll. The thickness of the obtained film was 5.3 μm. Table 1 shows the physical properties of the obtained film.

【００２１】比較例２ をシンジオタクチックポリスチレン（重量平均分子量25
0,000)100 重量％に対して0.5 重量％添加したポリマー
チップと、滑剤の添加されていないポリマーチップを重
量比で１対９の割合で混合した後、乾燥し、290 ℃で溶
融し、800 μｍのリップギャップのT ダイから押し出
し、50℃の冷却ロールに静電印荷法により密着・冷却固
化し、48μｍの無定形シートを得た。無定形シートをま
ず金属ロールにより95℃に予熱し、表面温度143 ℃のセ
ラッミクロールを用い縦方向に３倍延伸した。次いで、
テンターでフィルムを120 ℃に予熱し、横方向に延伸温
度120 ℃で２倍延伸し、更に150 ℃で1.5 倍延伸した
後、255 ℃で12秒熱固定処理した。その後、225 ℃で3%
横弛緩処理した。得られたフィルムの厚みは5.3 μｍで
あった。得られたフィルムの物性を表１に示す。表よ
り、実施例１、２で得られたフィルムはハンドリング性
および厚み均一性に優れ、且つ絶縁破壊電圧に優れたも
のであることが分かる。Comparative Example 2 was prepared using syndiotactic polystyrene (weight average molecular weight 25
(0,000) A polymer chip added by 0.5% by weight to 100% by weight and a polymer chip not added with a lubricant were mixed at a weight ratio of 1: 9, dried, melted at 290 ° C., and melted at 800 μm. The lip gap was extruded from a T-die, and was adhered to a cooling roll at 50 ° C. by electrostatic charging and solidified by cooling to obtain a 48 μm amorphous sheet. The amorphous sheet was first preheated to 95 ° C. by a metal roll, and stretched three times in the machine direction using cellulamide having a surface temperature of 143 ° C. Then
The film was preheated to 120 ° C. by a tenter, stretched twice in the transverse direction at a stretching temperature of 120 ° C., further stretched 1.5 times at 150 ° C., and then heat-set at 255 ° C. for 12 seconds. Then 3% at 225 ° C
Lateral relaxation treatment was performed. The thickness of the obtained film was 5.3 μm. Table 1 shows the physical properties of the obtained film. From the table, it can be seen that the films obtained in Examples 1 and 2 are excellent in handling properties and thickness uniformity and excellent in dielectric breakdown voltage.

【００２２】[0022]

【発明の効果】以上、記載のとおり、本発明は前記特許
請求の範囲に記載のとおりの構成を採用することによ
り、ハンドリング性および厚み均一性に優れ、且つ絶縁
破壊電圧に優れたポリスチレン系延伸フィルムが提供さ
れ、従って、本発明の工業的価値は大である。As described above, according to the present invention, by adopting the constitution as described in the claims, a polystyrene-based stretched material having excellent handling properties and thickness uniformity and excellent dielectric breakdown voltage. A film is provided, and thus the industrial value of the present invention is great.

【００２３】[0023]

【表１】 [Table 1]

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平７−24911（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−200858（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−124750（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−143851（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C08J 5/00 - 5/24 B29C 55/00 - 55/30 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-7-24911 (JP, A) JP-A-5-200858 (JP, A) JP-A-3-124750 (JP, A) JP-A-2- 143851 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. ⁷ , DB name) C08J 5/00-5/24 B29C 55/00-55/30

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項１】 シンジオタクチック構造を有するスチレ
ン系重合体からなり平均屈折率が1.582 以上1.590 以下
であることを特徴とするポリスチレン系フィルム。1. A polystyrene film comprising a styrene polymer having a syndiotactic structure and having an average refractive index of 1.582 or more and 1.590 or less.