JP3293219B2 - ダイナミック型ramおよびそのデータ処理システム - Google Patents

ダイナミック型ramおよびそのデータ処理システム

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JP3293219B2
JP3293219B2 JP03012493A JP3012493A JP3293219B2 JP 3293219 B2 JP3293219 B2 JP 3293219B2 JP 03012493 A JP03012493 A JP 03012493A JP 3012493 A JP3012493 A JP 3012493A JP 3293219 B2 JP3293219 B2 JP 3293219B2
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capacitor
dram
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は差動アンプに関するもの
であり、特に大容量のダイナミック型RAMを主記憶メ
モリとして使うデータ処理システムに応用することによ
って有効な技術である。
【0002】
【従来の技術】一般に、トランジスタの形成プロセスに
おいて、それぞれのトランジスタによってそのトランジ
スタの有するしきい値電圧Vthにばらつきが生じる。こ
のため、メモリとして使用されるあるいはマイコン等の
ように内蔵されているダイナミック型RAM(以下DR
AMと記す)に一般に使用されているトランジスタにお
いて、センスアンプ,メインアンプ等の差動アンプを構
成するMOSトランジスタのスイッチングスピードにば
らつきが生じるため誤動作が生じやすくなる。図2
(a)にこの差動アンプの一例として従来のCMOSセ
ンスアンプの回路図および図2(b)にこのセンスアン
プの動作波形図を示す。ここで、図2(a)においてN
MOSトランジスタQ2のしきい値電圧Vthを基準とし
て、NMOSトランジスタQ1のしきい値電圧Vthが低
い場合を例としてこの問題点について図2(b)の動作
波形図に基づいて説明する。今、ビット線BL側にメモ
リセルから信号量が出たとする。このCMOSセンスア
ンプの動作は入力端子PPにHighレベルの電圧が印
加され、入力端子PNにLowレベルの電圧が印加され
ることにより、ビット線BLに信号が増幅される。この
とき、しきい値電圧Vthにばらつきがなければ、上記N
MOSトランジスタQ2が上記NMOSトランジスタQ
1よりも先にONし、通常のCMOSセンスアンプによ
る信号の増幅動作が行なわれる。しかし、このCMOS
センスアンプにおいては上記NMOSトランジスタQ1
のしきい値電圧Vthが低いため、上記NMOSトランジ
スタQ1のスイッチングスピードが速くなってしまう。
そして、上記NMOSトランジスタQ1の方がNMOS
トランジスタQ2よりも先にONしてしまうことにな
る。このため、図2(b)に示すように上記ビット線B
Lの電位が先にLowレベルになってしまい、ビット線
BLBがHighレベルとなり、入力あるいは出力デー
タが反転してしまうため、しきい値電圧にばらつきのあ
るMOSトランジスタを使用したセンスアンプあるいは
メインアンプを含むDRAM等のメモリにおいて誤動作
が生じる。
【0003】このような問題点を解決するため、現在M
OSトランジスタのしきい値電圧Vthのばらつきをコン
トロールするための回路を組み込んだ差動アンプが提案
されている。図3(a)に一例としてしきい値電圧にば
らつきのあるMOSトランジスタによって構成されるC
MOSセンスアンプをDRAMに適用した場合の回路図
および図3(b)にこの回路の動作波形図を示す。この
CMOSセンスアンプは従来のCMOSセンスアンプに
おけるN型センスアンプNSAを構成するNMOSトラ
ンジスタQ1,Q2のそれぞれのソースにキャパシタC
1,C2およびスイッチMOSトランジスタQ5,Q6
が設けられる。そして、上記スイッチMOSトランジス
タQ5,Q6のゲートおよびトランスファMOSトラン
ジスタQ4のゲートがスイッチングSW信号にて制御さ
れる。そして、上記キャパシタC1,C2のカップリン
グ動作がカップリングCOM信号により制御されてい
る。つぎに、この回路の動作について図3(b)に従っ
て以下に説明する。まず、プリチャージPCB信号がL
owレベルとされることによって、NMOSトランジス
タQ7,Q8,Q9がOFFされ、プリチャージ動作が
終了されるとともに、しきい値電圧Vth分の電圧の補償
動作が終了する。その後、上記COM信号がLowレベ
ルとされることによって、カップリング動作が終了し、
その後、SW信号がHighレベルとされることによっ
てスイッチMOSトランジスタQ5,Q6,Q4がON
し、N型センスアンプNSAによりデータが増幅され
る。そして、センスアンプ制御PPB信号がLowレベ
ルとされることによって、PMOSトランジスタQ10
がONされるとともに、P型センスアンプPSAが起動
され、上記N型センスアンプNSA及びP型センスアン
プPSAにより構成されるCMOSセンスアンプ内で増
幅した信号をビット線BLおよびBLBに伝送してい
た。このようにして、DRAMにおいて上記NMOSト
ランジスタQ1,Q2のソース側のノードにあらかじめ
th差分の電位を付与し、カップリングによるプリセン
スを行うことで差動アンプとしての正常動作が補償され
る。
【0004】ここで、図4(a)にしきい値電圧Vth
ばらつきによるノイズ量とカップリング容量との関係を
示す。このグラフは横軸にカップリング容量/ビット線
容量をパラメータとし、縦軸にしきい値電圧Vthのばら
つきによるノイズ量(mV)をパラメータとして示して
ある。図に示すようにカップリング容量/ビット線容量
が小さいとノイズが大きくなるため、カップリング容量
/ビット容量はある程度大きくしなければならない。し
かし、図3(a)に記載したCMOSセンスアンプにお
いてはカップリング容量をビット線容量に対して十分大
きくすることについて検討されてない。さらに、同様に
して図3(a)におけるスイッチMOSトランジスタQ
5,Q6においてもしきい値電圧Vthのばらつきによる
誤動作が懸念される。ここで、図4(b)にしきい値電
圧Vthのばらつきによるノイズ量とカップリング容量の
ばらつきについての関係を示す。このグラフは横軸にカ
ップリング容量ばらつき(%)をパラメータとし、縦軸
にしきい値電圧Vthのばらつきによるノイズ量(mV)
をパラメータとして示し、図3(a)で示したカップリ
ング容量/ビット線容量を変化させてそれぞれの場合に
ついて示してある。図に示すように、一定のカップリン
グ容量ばらつきにおいて、カップリング容量/ビット線
容量が大きいほど、しきい値電圧Vthのばらつきによる
ノイズ量が低減できる。また、図4(b)において示さ
れるようにカップリング容量がビット線に対して大きい
ほど、カップリング容量がばらついた場合でも、しきい
値電圧Vthの補償動作によりしきい値電圧Vthがばらつ
いたことによるノイズ量を低減できる。しかし、従来方
式においては、カップリング容量獲得のための手段が検
討されていないため、ビット線容量に対するカップリン
グ容量の比が小さくなる。例えば、カップリング容量を
MOSトランジスタで形成した場合、容量値は電極間の
電圧に依存するため、ノイズ量低減に制限があり、信号
量が少ない場合、誤動作を回避することは困難である。
さらにカップリング動作時の電圧の振幅が大きいとNM
OSトランジスタQ1のソース側のノードがマイナス電
位となるため、マイノリティーキャリアが発生するとい
う問題点がある。このように、従来のしきい値電圧Vth
を補償するタイプのセンスアンプは従来のビット数が少
ないDRAM以外では、実用という面では適用すること
ができなかった。さらに、従来のセンスアンプはカップ
リング容量値をビット線容量に対して大きくしなければ
ならず、メインアンプでも同様に検討されておらず、シ
ェアードMOSトランジスタあるいはスイッチMOSト
ランジスタが設けられていない。この場合、センスアン
プ外のビット線容量と上記センスアンプ内のビット線容
量の両方に対して十分大きなカップリング容量が必要と
され、チップ面積が増大する。
【0005】一方、近年半導体メモリ特にDRAMの大
容量化によるチップ面積の増大が問題となっており、こ
のことによってコストが上がってしまうという問題点が
ある。図5に、一例として従来のDRAMの長辺方向2
56ビットごとのレイアウト図を示す。メモリアレイの
中央にセンスアンプがレイアウトされているためにビッ
ト数が増加することによって、上記センスアンプ数も増
加するため、センスアンプのチップ面積に対する占有率
が増加し、チップ面積が非常に大きくなる。このよう
に、従来のレイアウトにおいては半導体メモリが大容量
になることによって半導体メモリ及びこの半導体メモリ
を含むマイコンのチップ面積が増大すると共に、コスト
が上昇し、メモリボードとしても大型化,コストの上昇
が問題となり、大容量を必要とするデータ処理システム
として使用する場合にも主記憶メモリのコストの上昇は
問題となる。このため、1つのセンスアンプと接続する
ビット数を増加させた場合でもチップ面積の低下及びコ
ストの低下について、現在本願発明者により検討が進め
られている。図6に一例として、通常の16MDRAM
と、1つのセンスアンプに対するビット線を増加させた
時の16MDRAMとの信号量についての比較を示す。
16MDRAMは、1つのセンスアンプと接続されるビ
ット数が256ビットとされているが、このビット数を
4倍とした場合について示す。この場合、1つのセンス
アンプに対して接続されるビット数が1024となり、
メモリセルから出力される信号量は約1/4に減少す
る。ここで、このときの信号量を87mVとして以下説
明を続ける。このDRAMを正常動作をさせるためには
しきい値電圧Vthのばらつきに対するノイズ量を8mV
まで低減しなければならない。ところが、従来方式にお
いてはビット線容量に対するカップリング容量の獲得方
法を検討していなかったため、センスアンプを構成する
トランジスタにおけるしきい値電圧Vthのばらつきによ
るノイズであった44mVをビット数を4倍とした場合
のノイズ目標である8mVまで低減することができない
という問題点がある。このため、1つのセンスアンプと
接続されるビット数が4倍になると、図4(a)のグラ
フにおいて示したように、カップリング容量/ビット線
容量が約1/4になってしまうため、このカップリング
容量を約4倍にする必要がある。このことによって、カ
ップリング容量のための面積が増大する。このため、ビ
ット線容量を減らすための工夫が必要となるが、図3の
DRAMにおいては、CMOSセンスアンプとビット線
部を切離すための回路が設けられていないので、ビット
線容量が大きくなってしまう。さらに、キャパシタC
1,C2においてトランジスタ容量を使用すると、容量
の電圧依存性が大きいため、カップリング容量/ビット
線容量が小さくなり、ノイズが低減できず、総信号量の
うちしきい値電圧Vthのノイズの割合が半分以上を占
め、カップリング,リーク電流によるノイズを考慮する
とDRAMとして動作しなくなる。このような2点から
1つのセンスアンプに対するビット数の多いDRAMに
おいては、このセンスアンプは使用できず、また、この
ことにより従来のMOSトランジスタのしきい値電圧を
コントロールするタイプの差動アンプではデータの反転
という問題点は解決できない。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】DRAMの差動アンプ
において、カップリング容量を向上させることによっ
て、MOSトランジスタのしきい値電圧のばらつきを補
償し、低コストかつ大容量のデータ処理システムにおけ
る主記憶メモリに適用できるDRAMおよびそのデータ
処理システムを提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】MOSトランジスタ対を
有する差動アンプと、情報蓄積用の第1キャパシタを有
するメモリセルを含むメモリアレイとを有するダイナミ
ック型RAMにおいて、上記差動アンプにおけるMOS
トランジスタ対のソース側にそれぞれ第2キャパシタお
よび第2MOSトランジスタを設けるとともに、上記第
2キャパシタをメモリセルの第1キャパシタと同一の構
造とし、上記対向して設けられた第2キャパシタの対向
電極を接続して、該対向電極に印加する電圧を制御する
ことにより容量カップリングを行なわせる。
【0008】
【作用】ビット線容量に対するカップリング容量あるい
はメインアンプの入出力線に対するカップリング容量を
大きくできるとともにカップリングによる対向電極ノー
ドからのマイノリティーキャリア流出を防止でき、セン
スアンプおよびあるいはメインアンプの感度を向上する
とともに誤動作を防止することができる。このため、1
つの上記センスアンプに接続するビット線の数を増加さ
せることが可能となり、上記センスアンプの数を減少さ
せることができ、DRAMのチップ面積の低減ができる
とともにデータ処理システムの小型化ならびにコスト低
減が図れる。
【0009】
【実施例】
(実施例1)図1に本発明のセンスアンプとその制御回
路を含むDRAMの一部の回路図および図7にその動作
波形を示す。この実施例はNMOSトランジスタのしき
い値電圧のばらつきを補償するものとして説明する。ま
ず、図1の回路図の構成について以下に説明する。複数
のビット線BL,BLBと複数のワード線WLが構成さ
れ、上記ビット線BLとワード線WLの交点には、ワー
ド線WL1,WL2と接続されたメモリセル1,メモリ
セル2に示すように複数のメモリセルが構成されてい
る。これらのメモリセルはDRAMであるため、上記メ
モリセル1,2は、それぞれNMOSトランジスタQ1
0とキャパシタC3,NMOSトランジスタQ19とキ
ャパシタC4によって構成されている。また、このDR
AMが2層配線構造にて形成されている場合、Yセレク
ト線YS及びコモンデータ線CD,CDBがワード線W
L2の右側にレイアウトされる。このため、反転情報の
メモリセルへの書き込みが遅くなるのでこれを防止する
ために、センスアンプとしてはPMOSトランジスタQ
1,Q2によってP型センスアンプPSA1およびPM
OSトランジスタQ3,Q4によってP型センスアンプ
PSA2が構成される。また、NMOSトランジスタQ
5,Q6によってN型センスアンプNSAが構成され、
上記P型センスアンプPSA1と上記N型センスアンプ
NSAの間に、NMOSトランジスタQ9,Q12,Q
13によってプリチャージ回路PCが構成される。そし
て、上記P型センスアンプPSA1,2、N型センスア
ンプNSAを共用するために、NMOSトランジスタQ
14,Q15およびNMOSトランジスタQ16,Q1
7をシェアードMOSトランジスタとして使用すること
によって左右のメモリアレイが選択できるようにされ
る。ここで、NMOSトランジスタQ6のしきい値電圧
thを基準として、NMOSトランジスタQ5のしきい
値電圧Vthが低いとするため、このしきい値電圧Vth
分の電圧をNMOSトランジスタQ5に補償するための
回路が構成される。このセンスアンプは、上記NMOS
トランジスタQ5のソース側のノードにあらかじめVth
差分の電位を付与し、キャパシタC1,C2を用いたカ
ップリングによるプリアンプを行うことで正常動作が保
証されるものである。
【0010】このDRAMのデータ書き込み動作以後の
データ読み出し動作について、図7の動作波形図に従っ
て以下に説明する。データ書き込み動作以後のビット線
BLはHighレベル,ビット線BLBはLowレベル
に増幅された状態とされるが、ここでワード線WL1が
Lowレベルとされる。このことによって、メモリセル
1におけるNMOSトランジスタQ10がOFFされ、
キャパシタC3に電荷を保持している状態とされる。そ
の後、PPB信号がHighレベルにされることによ
り、PMOSトランジスタQ24がOFFされ、COM
信号がLowレベルとされることによってNMOSトラ
ンジスタQ26がOFFされる。さらに、PN信号がL
owレベルとされ、NMOSトランジスタQ27がOF
FされることによってCMOSセンスアンプによるビッ
ト線対BL,BLBの増幅動作を終了させる。その後、
PCB信号がHighレベルとされ、NMOSトランジ
スタQ11,Q18がONするとともに、NMOSトラ
ンジスタQ9,Q12,Q13がONし、プリチャージ
回路PCが動作することで上記ビット線対BL,BLB
電位が1/2Vccとされる。さらに、CSS信号がHi
ghレベルとされることによってNMOSトランジスタ
Q22,Q23がONされる。このことによって、P型
センスアンプPSA1のQ1,2およびQ3,4のコモ
ンソース線とNSAのQ7,Q8のコモンソース線がシ
ョートされる。このときNMOSトランジスタQ6,Q
8,Q28およびQ5,Q7,Q28を流れる電流によ
りノードa,bは1/2Vccより低い電位に保持され
る。その後、SW信号がLowレベルにされるととも
に、PNL信号がLowレベルとされることによって、
しきい値電圧Vth差を補償するための制御回路CNTR
L1が動作をする。この動作は、まず、SW信号がLo
wレベルにされることによって、NMOSトランジスタ
Q7,Q8がOFFされ、PNLがLoWレベルとされ
ることによって、NMOSトランジスタQ28がOFF
される。このとき、NMOSトランジスタQ5,Q6を
通してノードa,bを充電する電流が流れ、ノードaは
1/2Vccより上記NMOSトランジスタQ5のVth
だけ低い電位になるまで、またノードbは1/2Vcc
り上記NMOSトランジスタQ6のVth分だけ低い電位
になるまで電流が流れることによって上記ノードa,b
間の電位差がしきい値電圧Vth差分だけ生じる。次の読
み出し動作に先立って、シェアード信号SHRがLow
レベルとされ、選択されないビット線(この場合は右側
のメモリアレイ)を切り離しておき、上記CSS信号が
Lowレベルとされることによって、上記N型センスア
ンプNSA信号とPSA1,PSA2のコモンソースシ
ョートを終了させる。その後、PCB信号をLowレベ
ルにすることによって、しきい値電圧Vth分の電圧の補
償動作が終了する。その後、ワード線WL1がHigh
レベルとされることによって、メモリセル1が選択状態
となって、蓄積データとしての信号が上記NMOSトラ
ンジスタQ10およびキャパシタC3より構成されるメ
モリセル1から取り出される。その後、シェアード信号
SHLがLowレベルとされることによって、シェアー
ドMOSトランジスタQ14,15がOFFされ、左側
のビット線対BL,BLBが切り離される。その後、上
記COM信号がHighにされることにより、NMOS
トランジスタQ26がONされ、プリセンス動作が行わ
れる。このとき、メモリセルと同一の構造の固定容量を
カップリング容量に用いて、カップリング容量の対向電
極をHVC2(1/2Vcc)から0Vへ変化させること
により、ビット線BL0,BL0Bの電位差を大きくす
ることができる。ここで、上記カップリング容量の対向
電極は0Vに限定されず電源電圧よりも小さい電位に固
定することによっても同様の目的を達成できる。さら
に、上記PN信号,PNL信号がHighレベルとされ
ることにより、NMOSトランジスタQ27,Q28が
ONされる。その後、上記SW信号がHighレベルと
されることによりNMOSトランジスタQ7,8がON
され,PPB信号がLowレベルとされることにより、
PMOSトランジスタQ24がONされ、センスアンプ
コモンソースの電位をNMOSトランジスタ側はLow
レベルにPMOSトランジスタ側ははHighレベルに
してビット線対BL0,BL0Bの電位差をラッチす
る。さらに、その後、上記シェアード信号SHR,SH
LがHighレベルとされることにより、センスアンプ
内で増幅した信号をビット線BLに伝送する。そして、
YS信号がHighレベルとされることにより、NMO
SトランジスタQ20,Q21がONされ、コモンデー
タ線CD,CDBに信号が伝えられる。
【0011】図8に本発明を応用したセンスアンプとそ
の制御回路を含むDRAMの一部の回路図および図9に
その動作波形を示す。この実施例はPMOSトランジス
タのしきい値電圧のばらつきを補償するものとして説明
する。まず、図8の回路図の構成について以下に説明す
る。複数のビット線BL,BLBと複数のワード線WL
が構成され、上記ビット線BLとワード線WLの交点に
は、ワード線WL1,WL2と接続されたメモリセル
1,メモリセル2に示すように複数のメモリセルが構成
されている。これらのメモリセルはDRAMであるた
め、上記メモリセル1,2は、それぞれNMOSトラン
ジスタQ10とキャパシタC3,NMOSトランジスタ
Q19とキャパシタC4によって構成されている。ま
た、このDRAMが2層配線構造にて形成されている場
合、Yセレクト線YS及びコモンデータ線CD,CDB
がワード線WL2の右側にレイアウトされる。このた
め、反転情報のメモリセルへの書き込みが遅くなるので
これを防止するために、センスアンプとしてはNMOS
トランジスタQ1,Q2によってN型センスアンプNS
A1およびNMOSトランジスタQ3,Q4によってN
型センスアンプNSA2が構成される。また、PMOS
トランジスタQ5,Q6によってP型センスアンプPS
Aが構成され、上記P型センスアンプPSAと上記N型
センスアンプNSA1の間に、NMOSトランジスタQ
9,Q12,Q13によってプリチャージ回路PCが構
成される。そして、上記P型センスアンプPSA、N型
センスアンプNSA1,2を共用するために、NMOS
トランジスタQ14,Q15およびNMOSトランジス
タQ16,Q17をシェアードMOSトランジスタとし
て使用することによって左右のメモリアレイが選択でき
るようにされる。ここで、PMOSトランジスタQ6の
しきい値電圧Vthを基準として、PMOSトランジスタ
Q5のしきい値電圧Vthが低いとするため、このしきい
値電圧Vth差分の電圧をPMOSトランジスタQ5に補
償するための回路が構成される。このセンスアンプは、
上記PMOSトランジスタQ5のソース側のノードにあ
らかじめVth差分の電位を付与し、カップリングによる
プリアンプを行うことで正常動作が保証されるものであ
る。
【0012】このDRAMのデータ書き込み動作以後の
データ読み出し動作について、図9の動作波形図に従っ
て以下に説明する。データ書き込み動作以後のビット線
BLはHighレベル,ビット線BLBはLowレベル
に増幅された状態とされるが、ここでワード線WL1が
Lowレベルとされる。このことによって、メモリセル
1におけるNMOSトランジスタQ10がOFFされ、
キャパシタC3に電荷を保持している状態とされる。そ
の後、PN信号がLowレベルにされることにより、N
MOSトランジスタQ24がOFFされ、COM信号が
HighレベルとされることによってPMOSトランジ
スタQ26がOFFされる。さらに、PP信号がHig
hレベルとされ、PMOSトランジスタQ27がOFF
されることによってCMOSセンスアンプによるビット
線対BL,BLBの増幅動作を終了させる。その後、P
CB信号がHighレベルとされ、NMOSトランジス
タQ11,Q18がONするとともに、NMOSトラン
ジスタQ9,Q12,Q13がONし、プリチャージ回
路PCが動作することで上記ビット線対BL,BLB電
位が1/2Vccとされる。さらに、CSS信号がHig
hレベルとされることによってNMOSトランジスタQ
22,Q23がONされる。このことによって、N型セ
ンスアンプNSA1のQ1,2およびNSA2のQ3,
4のコモンソース線とPSAのQ7,Q8のコモンソー
ス線がショートされる。このとき、PMOSトランジス
タQ28,Q7,Q5およびQ28,Q8,Q6に流れ
る電流によりノードa,bは1/2Vccより高い電位に
保持される。その後、SW信号がHighレベルにされ
るとともに、PPLB信号がHighレベルとされるこ
とによって、しきい値電圧Vthを補償するための制御回
路CNTRL1が動作する。この動作は、まず、SW信
号がHighレベルにされることによって、PMOSト
ランジスタQ7,Q8がOFFされ、PPLBがHig
hレベルとされることによって、PMOSトランジスタ
Q28がOFFされる。このとき、PMOSトランジス
タQ5,Q6を通してノードa,bを放電する電流が、
ノードaは1/2VccよりPMOSトランジスタQ5の
Vth分だけ高い電位になるまで、またノードbは1/
2VccよりPMOSトランジスタQ6のVth分だけ高
い電位になるまで流れることによって上記ノードa,b
間の電位差がしきい値電圧Vth差分だけ生じる。次の読
み出し動作に先立って、シェアード信号SHRがLow
レベルとされ、選択されないビット線(この場合は右側
のメモリアレイ)を切り離しておき、上記CSS信号が
Lowレベルとされることによって、上記N型センスア
ンプNSA1,2とPSAのコモンソースショートを終
了させる。同時に、PCB信号をLowレベルにするこ
とによって、しきい値電圧Vth分の電圧の補償動作が終
了する。その後、ワード線WL1がHighレベルとさ
れることによって、メモリセル1が選択状態となって、
蓄積データとしての信号が上記NMOSトランジスタQ
10およびキャパシタC3より構成されるメモリセル1
から取り出される。その後、シェアード信号SHLがL
owレベルとされることによって、シェアードMOSト
ランジスタQ14,15がOFFされ、左側のビット線
対BL,BLBが切り離される。その後、上記COM信
号がLowにされることにより、PMOSトランジスタ
Q26がONされ、プリセンス動作が行われる。このと
き、メモリセルと同一の構造の固定容量をカップリング
容量に用いて、カップリング容量の対向電極をHVC2
(1/2Vcc)からVccへ変化させることにより、ビッ
ト線BL0,BL0Bの電位差を大きくすることができ
る。ここで、上記カップリング容量の対向電極はVcc
限定されず、電源電圧よりも小さい電位に固定すること
によっても同様の目的を達成できる。さらに、上記PP
B信号,PPLB信号がLowレベルとされることによ
り、PMOSトランジスタQ27,Q28がONされ
る。その後、上記SW信号がLowレベルとされること
によりPMOSトランジスタQ7,8がONされ,PN
信号がHighレベルとされることにより、NMOSト
ランジスタQ24がONされ、センスアンプコモンソー
スの電位をPMOSトランジスタ側はHighレベルに
NMOSトランジスタ側はLowレベルにしてビット線
対BL0,BL0Bの電位差をラッチする。さらに、そ
の後、上記シェアード信号SHR,SHLがONされる
ことにより、センスアンプ内で増幅した信号をビット線
BLに伝送する。そして、YS信号がHighレベルと
されることにより、NMOSトランジスタQ20,Q2
1がONされ、コモンデータ線CD,CDBに信号が伝
えられる。
【0013】図10(a)にカップリング容量として用
いるキャパシタC1,C2の断面構造の要部概略図を示
す。このキャパシタは、メモリアレイにおけるメモリセ
ルのキャパシタと同様にFIN−STC(フィン−スタ
ックドトレンチキャパシタ)構造により形成されてい
る。図10(b)に本発明のDRAMにFIN−STC
を使用した場合のレイアウト図を示す。この場合、メモ
リセルと同様の構造のキャパシタを使用しているため、
トランジスタ容量に比べ、小面積でカップリング容量を
獲得できる。このことにより、チップ面積の増加を防止
できるとともにプロセス上工程が増加しないために有利
である。図10(c)に本発明のDRAMのカップリン
グ容量としてMOS容量を使用した場合と、メモリセル
と同一構造の固定容量を使用した場合を比較した表を示
す。MOS容量を使用した場合、チップ面積が大巾に増
加するだけでなく、上述したように容量の電圧依存性も
増加し、カップリング容量/ビット線容量に対するノイ
ズ量も不安定であり、このことにより、しきい値電圧V
thの補償動作の制御も困難となる。これに対し、メモリ
セルと同一構造の固定容量を使用した場合は、上記した
ようにチップ面積の増加が防止でき、容量の電圧依存性
も小さいとともに、カップリング容量/ビット線容量に
対するノイズ量も安定し、しきい値電圧Vthの補償動作
の制御も容易となる。このように、本発明ではカップリ
ング容量としてメモリセルと同様の構造を用いるととも
に、シェアードMOSトランジスタを設けてセンスアン
プとビット線を切離し、前述したようにしきい値電圧制
御回路におけるカップリング動作を1/2Vccから0V
に変化させることにより、しきい値電圧Vthの補償を行
なう。また、後述するメインアンプにおける差動アンプ
についても同様にしてカップリング容量を形成する。
【0014】図11に本発明のDRAMのレイアウトの
要部概略図を示す。本発明のDRAMは、1つのセンス
アンプと接続できるビット数が増加でき、かつセンスア
ンプのしきい値電圧のばらつきを補償し、センスアンプ
の正常動作を維持できるため、チップ面積が大巾に低減
でき、大容量かつ小型なDRAMが実現できる。
【0015】次に、この差動アンプをDRAMのメイン
アンプに適用したときの場合について、図12に回路図
を、図13にその動作波形図を示す。この実施例は一例
として、NMOSトランジスタのしきい値電圧のばらつ
きを補償するものとして説明する。まず、図11の回路
図の構成について以下に説明する。本実施例ではメイン
アンプとしてはPMOSトランジスタQ1,Q2によっ
てP型メインアンプPMA1およびPMOSトランジス
タQ3,Q4によってP型メインアンプPMA2が構成
される。また、NMOSトランジスタQ5,Q6によっ
てN型メインアンプNMAが構成され、上記P型メイン
アンプPMA1と上記N型メインアンプNMAの間に、
NMOSトランジスタQ9,Q12,Q13によってプ
リチャージ回路PCが構成される。そして、NMOSト
ランジスタQ16,Q17をスイッチMOSトランジス
タとして使用することによって、コモンデータ線CD,
CDBとメインアンプ入出力線MAT,MABとの接続
が制御できるようになる。ここで、NMOSトランジス
タQ6のしきい値電圧Vthを基準として、NMOSトラ
ンジスタQ5のしきい値電圧Vthが低いとするため、こ
のしきい値電圧Vth差分の電圧をNMOSトランジスタ
Q5に補償するための回路が構成される。このメインア
ンプは、上記NMOSトランジスタQ5のソース側のノ
ードにあらかじめVth差分の電位を付与し、キャパシタ
C1,C2を用いたカップリングによるプリアンプを行
うことで正常動作が保証されるものである。
【0016】このDRAMのデータ書き込み動作以後の
データ読み出し動作について、図13の動作波形図に従
って以下に説明する。データ書き込み動作以後のメイン
アンプ入出力線MATはHighレベル,メインアンプ
入出力線MABはLowレベルに増幅された状態とされ
るが、ここでYセレクト線YSがLowレベルとされ
る。その後、MPPB信号がHighレベルにされるこ
とにより、PMOSトランジスタQ24がOFFされ、
MCOM信号がLowレベルとされることによってNM
OSトランジスタQ26がOFFされる。さらに、MP
N信号がLowレベルとされ、NMOSトランジスタQ
27がOFFされることによってメインアンプによるメ
インアンプ入出力線対MAT,MABの増幅動作を終了
させる。その後、MPCB信号がHighレベルとさ
れ、NMOSトランジスタQ11,Q18がONすると
ともに、NMOSトランジスタQ9,Q12,Q13が
ONし、プリチャージ回路PCが動作することで上記メ
インアンプ入出力線対MAT,MAB電位が1/2Vcc
とされる。さらに、MCSS信号がHighレベルとさ
れることによってNMOSトランジスタQ22,Q23
がONされる。このことによって、P型メインアンプP
MA1のQ1,2およびQ3,4のコモンソース線とN
MAのQ7,Q8のコモンソース線がショートされる。
このとき、NMOSトランジスタQ6,Q8,Q28お
よびQ5,Q7,Q28に流れる電流によりノードa,
bは1/2Vccより低い電位に保持される。その後、M
SW信号がLowレベルにされるとともに、MPNL信
号がLowレベルとされることによって、しきい値電圧
th差を補償するための制御回路CNTRL1が動作を
する。この動作は、まず、MSW信号がLowレベルに
されることによって、NMOSトランジスタQ7,Q8
がOFFされ、MPNLがLoWレベルとされることに
よって、NMOSトランジスタQ28がOFFされる。
このとき、上記NMOSトランジスタQ5,Q6を通し
てノードa,bを充電する電流が流れ、ノードaは1/
2Vccより上記NMOSトランジスタQ5のVth分だ
け低い電位になるまで、またノードbは1/2Vccより
上記NMOSトランジスQ6のVth分だけ低い電位に
なるまで電流が流れることによって上記ノードa,b間
の電位差がしきい値電圧Vth差分だけ生じる。次の読み
出し動作に先立って、入出力IOC信号がLowレベル
とされ、選択されないメインアンプ入出力線MAT,M
ABとコモンデータ線CD,CDBを切り離しておき、
上記MCSS信号がLowレベルとされることによっ
て、上記N型メインアンプNMA信号とPMA1,PM
A2のコモンソースショートを終了させる。同時に、M
PCB信号をLowレベルにすることによって、しきい
値電圧Vth分の電圧の補償動作が終了する。その後、Y
セレクト線YSがHighレベルとされることによっ
て、コモンデータ線CD,CDBが活性化されデータが
取り出される。その後、入出力信号IOCがLowレベ
ルとされることによって、スイッチMOSトランジスタ
Q16,17がOFFされ、左側のメインアンプ入出力
線対MAT,MABとコモンデータ線CD,CDBとが
切り離される。その後、上記MCOM信号がHighに
されることにより、NMOSトランジスタQ26がON
され、プリセンス動作が行われる。このとき、メモリセ
ルと同一の構造の固定容量をカップリング容量に用い
て、カップリング容量の対向電極をHVC2(1/2V
cc)から0Vへ変化させることにより、メインアンプ入
出力線MAT,MABの電位差を大きくすることができ
る。ここで、上記カップリング容量の対向電極は0Vに
限定されず電源電圧よりも小さい電位とされることによ
っても同様の目的を達成できる。さらに、上記MPN信
号,MPNL信号がHighレベルとされることによ
り、NMOSトランジスタQ27,Q28がHighレ
ベルとされる。その後、上記MSW信号がONされるこ
とによりNMOSトランジスタQ7,8がONされ,M
PPB信号がLowレベルとされることにより、PMO
SトランジスタQ24がONされ、センスアンプコモン
ソースの電位をNMOSトランジスタ側はLowレベル
にPMOSトランジスタ側はHighレベルにしてメイ
ンアンプ入出力線対MAT,MABの電位差をラッチす
る。さらに、その後、上記入出力信号MAT,MABが
ONされることにより、メインアンプ内で増幅した信号
をメインアンプ入出力線MATに伝送する。そして、Y
セレクトYS信号がHighレベルとされることによ
り、NMOSトランジスタQ20,Q21がONされ、
コモンデータ線CD,CDBに信号が伝えられる。本実
施例では、NMOSトランジスタのしきい値電圧を補償
する場合について記載したが、PMOSトランジスタの
しきい値電圧を補償する場合も同様にすることができ
る。また、センスアンプとメインアンプにおいて同時に
しきい値電圧を補償する回路を設けることも可能であ
り、さらにDRAMとしての信頼性を保持することがで
きる。ここで、3層配線を用いる場合は、図1,図8,
図12においてプリチャージ用MOSトランジスタQ1
1,Q18が不要となり、Yセレクト線およびスイッチ
MOSトランジスタQ20,Q21,コモンデータ線C
D,CDBが、NMOSトランジスタQ1,Q2の横に
配置できるため、反転情報の書き込みへのスピードへの
影響をおよぼさないため、図1,図12ではPMOSト
ランジスタによって構成されるP型センスアンプPSA
2が省略でき、図8ではNMOSトランジスタによって
構成されるN型センスアンプが省略できる。
【0017】図14に本発明の差動アンプを適用したD
RAMの機能ブロック図を示す。まず、このDRAMの
データ書き込み・読み出し動作について説明する。ま
ず、メモリセルへのデータ書き込み動作は入出力回路I
/Oに外部からデータが入力され、その後ライト・イネ
ーブル信号WEBがLowになることによってスイッチ
SWTがOFFし、メインアンプMAとの接続が遮断さ
れる。一方、中央処理装置CPUから発生されたクロッ
ク信号としてのロウ・アドレス・ストローブ信号RAS
B,カラム・アドレス・ストローブ信号CASBおよび
外部より指定されたアドレス信号がアドレスバッファA
DBに入力される。そして、YデコーダYDCRを介し
てビット線BLを選択し、さらにトランスファMOSト
ランジスタのゲート電極に電圧を印加することによって
上記トランスファMOSトランジスタをONさせデータ
を転送し、センスアンプSAによって入力データを増幅
する。一方、アドレスバッファADBに入力されたアド
レス信号は上記したクロック信号と同期してプリデコー
ドされ、XデコーダXDCRを介してワード線WLを選
択し、ワードドライバWLDRIVEによって信号が増
幅され、指定したアドレスのメモリセルに外部より入力
されたデータを書き込んでいる。また、メモリセルから
のデータの読み出し動作について以下に説明する。上記
中央処理装置CPUから発生されたクロック信号RAS
B,CASBおよび外部より指定されたアドレス信号が
アドレスバッファADBに入力される。一方、ライト・
イネーブル信号WEBがHighレベルとなり、スイッ
チSWTがONすることによって、上記トランスファM
OSトランジスタとメインアンプMAとが接続される。
そして、YデコーダYDCRを介してビット線BLを選
択するとともにトランスファMOSトランジスタをON
させ、出力バッファOBをONさせる。また、一方上記
アドレスバッファADBに入力されたアドレス信号はプ
リデコードされ、Xデコーダに入力されることによって
ワード線WLを選択するとともにワードドライバWLd
riveによってその信号は増幅される。このことによ
って、外部から指定されたアドレスにおけるメモリセル
から蓄積データが読み出され、そのデータはビット線B
Lから上記トランスファMOSトランジスタを介して読
み出される。そして、上記スイッチSWTがONされて
いるために、メインアンプMAにて上記データが増幅さ
れ、上記出力バッファOBから入出力回路I/Oからデ
ータが読み出される。このようにして、からデータの読
み出しおよび本発明のDRAMへのデータの書き込みが
行われる。このDRAMにおけるセンスアンプSAとメ
インアンプMAにそれぞれしきい値を補償するための回
路を設けた差動アンプを用いるか否かは任意に設定する
ことができる。そして、本発明の差動アンプをセンスア
ンプとして適用した場合は、DRAMはビット数が多
く、大容量であってもデータの反転等の誤動作が起こり
にくく、また、センスアンプSAの占有面積が減少でき
るため、チップ面積が著しく減少できるとともにレイア
ウト効率が向上できる。また、本発明の差動アンプをメ
インアンプとして適用した場合は、誤動作を防止でき、
信頼性が大幅に向上する。
【0018】(実施例2)図15に本発明のDRAMを
用いたメモリボードの機能ブロック図を示す。このシス
テムは、DRAM IC ARRAY及び中央処理装置
CPUと上記DRAMと、中央処理装置CPUとをイン
ターフェースするためのインターフェース回路I/Fに
より構成されている。このDRAM IC ARRAY
は実装された状態の本発明のDRAMにより構成されて
いる。まず、このDRAMシステムと中央処理装置CP
Uとの間の入出力信号について説明する。中央処理装置
CPUにより形成されるアドレス信号A0〜Akは本発
明のDRAMのアドレスを選択する。そして、リフレッ
シュ指示信号REFGRNTは本発明のDRAMのメモ
リ情報をリフレッシュさせる制御信号である。ライトイ
ネーブル信号WEBは、本発明のDRAMにおけるデー
タの読み出し及び書込み制御信号である。また、メモリ
起動信号MSは本発明のDRAMのメモリ動作を開始さ
せる制御信号である。そして、データバスにおける入出
力データD1〜DBは中央処理装置CPUとDRAM間
で伝送される。さらに、リフレッシュ要求信号REFR
EQは本発明のDRAMのメモリ情報のリフレッシュを
要求する制御信号である。上記インターフェース回路I
/Fにおいて、ロウアドレスレシーバーRARは上記中
央処理装置CPUから送出されるアドレス信号A0〜A
kのうち、アドレス信号A0〜Aiを受信し、本発明の
DRAMの動作にあったタイミングのアドレス信号に変
換する。そして、カラムアドレスレシーバーCARは上
記アドレス信号A0〜Akのうち、アドレス信号Ai+
1〜AJを受信する。そして、本発明のDRAMの動作
にあったタイミングのアドレス信号に変換する。また、
上記アドレスレシーバーADRは上記アドレス信号のう
ちA0〜Akのうちアドレス信号Aj+1〜Akを受信
する。そしてさらに、本発明のDRAMの動作にあった
タイミングのアドレス信号に変換する。デコーダDCR
によって本発明のDRAMのチップを選択するためのチ
ップ選択制御信号(以下CS1〜CSmと記す)を送出
させる。RASコントロール回路RAS−CNTRL
は、本発明のDRAM動作にあったタイミングのチップ
選択信号及びロウアドレス取り込み用信号を送出させ
る。アドレスマルチプレクサADMPXは上記アドレス
信号A0〜AiならびにAi+1〜Ajを時系列的に多
重化して本発明のDRAMに送出する。データバスドラ
イバDBDは上記中央処理装置CPUと本発明のDRA
Mとの間のデータの入出力が上記WEB信号により切り
換えられる。コントロール回路CNTRLは上記アドレ
スマルチプレクサADMPX,RASコントロール回路
RAS−CNTRL,データバスドライバDBD,本発
明のDRAM等を制御する信号を送出する。 次にこの
DRAMシステム内におけるアドレス信号の働きを説明
する。上記中央処理装置CPUから送出されるアドレス
信号A0〜AkはこのDRAMシステム内でアドレス信
号A0〜Ajとアドレス信号Aj+1〜Akの2つの機
能に分離される。すなわち、アドレス信号A0〜Ajは
本発明のDRAMの各チップ内のメモリマトリクスのロ
ウ系とカラム系のアドレス信号として使用される。つま
り、アドレス信号A0〜Aiは本発明のDRAMのIC
チップアレイのロウ選択に、Ai+1〜AjをICチッ
プアレイのカラム選択に割り当てるように設計されてい
る。
【0019】次にこのDRAMシステム内における回路
動作を説明する。まず、アドレス信号A0〜Ai、Ai
+1〜AjはそれぞれロウアドレスレシーバーRAR,
カラムアドレスレシーバーCARを介してアドレスマル
チプレクサADMPXに印加される。そして、上記アド
レスマルチプレクサADMPXにおいて、RASbB信
号があるレベルになるとロウアドレス信号A0〜Aiが
送出され、本発明のDRAMにおけるアドレス端子に印
加される。このとき、カラムアドレス信号Ai+1〜A
jは上記アドレスマルチプレクサADMPXから送出さ
れないようになっている。次にRASbB信号が上記と
逆レベルになるとカラムアドレス信号Ai+1〜Ajが
上記アドレスマルチプレクサADMPXから送出され、
上記アドレス端子に印加される。このとき、ロウアドレ
ス信号A0〜Aiは上記アドレスマルチプレクサADM
PXから送出されないようになっている。このようにし
て上記アドレス信号A0〜AiおよびAi+1〜Ajは
RASbB信号のレベルにより時系列的に本発明のDR
AMのアドレス端子に印加される。また、チップ選択信
号Aj+1〜AkはデコーダDCRを通して主として本
発明のDRAM内のチップを選択する。そして、チップ
選択信号CS1〜CSmに変換され、チップ選択用信号
及びロウアドレス取り込み用信号として使われる。
【0020】次に、本発明のDRAMの各行におけるチ
ップ内のアドレスの設定動作を説明する。まず、ロウア
ドレス信号A0〜Aiが本発明のDRAMのすべてのI
Cチップのアドレス端子に印加される。その後、RAS
1B〜RASmB信号のうち、1つの信号例えばRAS
1B信号があるレベルになると最上段のB個のICが選
択されると仮定する。このとき、上記IC(IC11,
IC12,・・・,IC1B)チップ内のメモリマトリ
クスアレイのロウアドレスに上記ロウアドレス信号A0
〜AiがRAS1B信号よりも前に上記ICに印加され
る。この理由はRAS1B信号が上記ロウアドレス信号
A0〜Aiよりも前に印加されると、ロウアドレス信号
以外の信号を取り込む可能性があるからである。次にカ
ラムアドレス信号Ai+1〜Ajが本発明のDRAMの
すべてのICチップのアドレス端子に印加される。その
後、RAS1B信号から遅延したCASB信号があるレ
ベルになると上記最上段のnM,B個のICチップ内の
メモリマトリクスアレイのカラムアドレスに上記カラム
アドレス信号Ai+1〜Ajが取り込まれる。ここで、
上記カラムアドレス信号Ai+1〜AjがCASB信号
よりも前に上記ICに印加される理由は上記理由と同様
である。また、CASB信号の働きは、ロウアドレス信
号A0〜Aiあるいはカラムアドレス信号Ai+1〜A
jのどちらの信号を送っているかを区分することにあ
る。以上の動作により、本発明におけるDRAMの最上
段nM,B個のチップ内アドレスが設定される。また、
本発明のDRAMの最上段を除くICはRAS2B〜R
ASmB信号がRAS1Bのレベルと逆レベルのため選
択されないようになっている。
【0021】次に上記設定されたアドレスにおけるデー
タの書込み動作及び読み出し動作を説明する。データの
書込み動作及び読み出し動作は上記WEB信号のハイレ
ベルまたはロウレベルによって決定されるように設計さ
れている。データの書込み動作は、上記WEB信号があ
るレベルのときに上記設定されたアドレスに中央処理装
置CPUからのデータDI1〜DIBが印加されること
によって行なわれる。読み出し動作は上記WEB信号が
上記と逆レベルのときに書込みを完了している上記それ
ぞれのアドレスのデータDo1〜DoBがBビットで出
力されることによって行なわれる。コントロール回路C
NTRLは上記中央処理装置CPUからの命令信号すな
わちREFGRNT信号,WEB信号,MS信号を受
け、CASB信号,RASaB信号,RASbB信号,
WEB信号をそれぞれ送出する。これらの送出されるコ
ントロール信号の働きを説明する。CASB信号は、ロ
ウアドレス信号A0〜Aiあるいはカラムアドレス信号
Ai+1〜Ajのどちらが本発明のDRAM内の各チッ
プに送出されているかを区分するための信号及びICチ
ップのカラムアドレス信号を取り込むための信号であ
る。RASaB信号は、CS1〜CSm信号をタイミン
グを合わせて本発明のDRAM内のICチップアレイに
供給するための信号である。WEB信号は本発明のDR
AM内のICチップ内のメモリセルからのデータの読み
出し及びメモリセルへのデータの書込みを決定するため
の信号である。RASbB信号はアドレスマルチプレク
サADMPXからロウアドレス信号A0〜Ai及びカラ
ムアドレス信号Ai+1〜Ajを時系列多重化信号に変
換するための切り換えタイミング信号である。そして、
さらにRASB(RASB1〜RASBm)信号の1つ
が選択されたとき、上記アドレスマルチプレクサADM
PXからはロウアドレス信号A0〜Aiが出力されてい
るように、ロウアドレス信号A0〜Aiとカラムアドレ
ス信号Ai+1〜Ajの切り換え時期をRASaB信号
から遅延させた信号にしている。
【0022】次に上記WEB信号とデータバスドライバ
DBDの関係を説明する。コントロール回路CNTRL
から送出されたWEB信号は本発明のDRAM及びデー
タバスドライバDBDに印加される。例えば、上記WE
B信号が高レベルのとき、読み出しモードとなり、本発
明のDRAMのデータが出力され、データバスドライバ
DBDを介して中央処理装置CPUへ送出される。この
とき、入力データはWEB信号によりDBDから本発明
のDRAMに取り込まないように制御されている。ま
た、上記WEB信号が低レベルのとき、書込みモードと
なり、本発明のDRAMのデータ入力端子に中央処理装
置CPUから入力データが上記データバスドライバDB
Dを介して印加され、設定されたアドレスにデータが書
き込まれる。このとき本発明のDRAMのデータ出力は
上記WEB信号により上記データバスドライバDBDか
ら出力されないように制御されている。このように、本
発明のDRAMにより、DRAM IC ARRAYを
構成することにより、小型,低コスト,大容量かつデー
タの信頼性のあるメモリボードが実現できる。
【0023】(実施例3)図16に本発明のDRAMを
用いたICカードの要部概略図を示す。プラスチック基
板上に本発明のDRAM及びマイクロコントローラが搭
載されている。上記マイクロコントローラは本発明のD
RAM用制御回路であって、本発明のDRAMの動作を
制御する。また、本発明のDRAM及びマイクロコント
ローラの内部配線と上記プラスチック基板上の配線とは
互いに接続されている。さらに上記コネクタと上記プラ
スチック基板上の配線とが電気的に接続されており、上
記コネクタと外部のシステムにおけるインタフェース回
路とを接続する。このことによって、各種システムの情
報としてICカードを使用することが出来る。また、本
実施例では本発明のDRAM用制御回路としてのマイク
ロコントローラをICカードに内蔵した場合の例を示し
たが、上記マイクロコントローラをICカード内に設け
ず、独立に形成しても良い。このICカードを従来のフ
ロッピーディスクのようにワークステーション以下の小
型及び携帯用のコンピュータシステムにおける交換可能
な補助記憶媒体として利用すれば、ディスクを回転させ
る必要が無く、システム全体の小型化,軽量化および薄
型化が図れるとともに、消費電力を低減でき、さらに大
容量の情報を高速に読み書きできるので、システム全体
としての処理能力が向上する。
【0024】(実施例4)図17に本発明のDRAMを
用いたコンピュータシステムの要部概略図を示す。この
コンピュータシステムは、情報機器としての中央処理装
置CPU,上記情報処理システム内に構築したI/Oバ
ス,BUS Unit,主記憶メモリや拡張メモリなど
高速メモリをアクセスするメモリ制御ユニットMemo
ry Controll Unit、主記憶メモリとし
てのDRAM,基本制御プログラムが格納されたRO
M、先端にキーボードが接続されたキーボードコントロ
ーラKBDC等によって構成される。さらに、表示アダ
プタとしてのDisplayadapterがI/Oバ
スに接続され、上記Display adapterの
先端にはディスプレイが接続されている。そして、上記
I/OバスにはパラレルポートParallel Po
rtI/F,マウス等のシリアルポートSerial
Port I/F、フロッピーディスクドライブFD
D、上記I/OバスよりのHDDI/Fに変換するバッ
ファコントローラHDD bufferが接続される。
また、上記メモリ制御ユニットMemory Cont
rol Unitからのバスと接続されて拡張RAM及
び主記憶メモリとしてのDRAMが接続されている。こ
こで、このコンピュータシステムの動作について説明す
る。電源が投入されて、動作を開始するとまず上記中央
処理装置CPUは、上記ROMを上記I/Oバスを通し
てアクセスし、初期診断、初期設定を行なう。そして、
補助記憶装置からシステムプログラムを主記憶メモリと
してのDRAMにロードする。また、上記中央処理装置
CPUは、上記I/Oバスを通してHDDコントローラ
にHDDをアクセスするものとして動作する。そして、
システムプログラムのロードが終了すると、ユーザーの
処理要求に従い、処理を進めていく。なお、ユーザーは
上記I/Oバス上のキーボードコントローラKBDCや
表示アダプタDisplay adapterにより処
理の入出力を行ないながら作業を進める。そして、必要
に応じてパラレルポートParallel Port
I/F、シリアルポートSerial Port I/
Fに接続された入出力装置を活用する。また、本体上の
主記憶メモリとしてのDRAMでは主記憶容量が不足す
る場合は、拡張RAMにより主記憶を補う。ユーザーが
ファイルを読み書きしたい場合には、ユーザーは上記H
DDが補助記憶装置であるものとして補助記憶装置への
アクセスを要求する。そして、本発明のDRAMによっ
て構成されたファイルシステムはそれを受けてファイル
データのアクセスを行なう。このように、本発明のDR
AMをコンピュータシステムに応用することによって、
上述したような携帯用のコンピュータシステムに応用す
ることができる。このことによって、従来のディスクを
回転させる必要がなく、システム全体の小型化,軽量
化,薄型化が図れるとともに消費電力を低減でき、さら
に大容量の情報を高速に読み書きできるので、コンピュ
ータシステム全体としての処理能力を向上させることが
できる。さらに、従来のディスクを本発明のDRAMで
置き換えているため、携帯用コンピュータにおいて問題
となる耐衝撃性が向上でき、コンピュータシステムにお
ける信頼性を向上させることができる。
【0025】
【発明の効果】DRAMの差動アンプの感度が向上さ
れ、1つのセンスアンプに接続できるビット線の数を増
やすことができるため、センスアンプ数を減らせるため
DRAMのチップ面積が低減でき、メインアンプに弧の
差動アンプを適用することにより動作の信頼性が向上す
る。また、DRAMを主記憶メモリとして使用したメモ
リボードが小型になるため、データ処理システムとして
コストが低減できる。また、半導体ディスク装置として
磁気ディスクの代わりに使用することによってさらに小
型な信頼性を向上させたコンピュータシステムが実現で
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のNMOSトランジスタのしきい値を補
償する回路を有するセンスアンプ及びその制御回路を含
むDRAMの回路の概略図。
【図2】従来のCMOSセンスアンプの回路図およびそ
の動作波形図。
【図3】従来のしきい値電圧を補償するタイプのCMO
Sセンスアンプの回路図およびその動作波形図。
【図4】しきい値電圧Vthのばらつきによるノイズ量と
カップリング容量との関係を示す図およびしきい値電圧
thのばらつきによるノイズ量とカップリング容量のば
らつきについての関係を示す図。
【図5】従来のDRAMのレイアウトの概略図。
【図6】しきい値電圧Vthを補償するCMOSセンスア
ンプを適用したDRAMにおいてセンスアンプを1/4
にしたDRAMと従来のDRAMにおけるノイズ量を比
較した図。
【図7】本発明のNMOSトランジスタのしきい値を補
償する回路を有するセンスアンプ及びその制御回路を含
むDRAMの動作波形図。
【図8】本発明のPMOSトランジスタのしきい値を補
償する回路を有するセンスアンプ及びその制御回路を含
むDRAMの回路の概略図。
【図9】本発明のPMOSトランジスタのしきい値を補
償する回路を有するセンスアンプ及びその制御回路を含
むDRAMの動作波形図。
【図10】本発明のセンスアンプあるいはメインアンプ
におけるキャパシタにメモリセル構造を用いたときのレ
イアウト図。
【図11】本発明のDRAMのレイアウト図。
【図12】本発明のNMOSトランジスタのしきい値を
補償する回路を有するメインアンプ及びその制御回路を
含むDRAMの回路の概略図。
【図13】本発明のNMOSトランジスタのしきい値を
補償する回路を有するメインアンプ及びその制御回路を
含むDRAMの動作波形図。
【図14】本発明のセンスアンプおよびあるいはメイン
アンプを使用したDRAMの機能ブロック図。
【図15】本発明のDRAMを使用したメモリボードの
機能ブロック図。
【図16】本発明のDRAMを使用したICカードの機
能ブロック図。
【図17】本発明のDRAMを使用したコンピュータシ
ステムの機能ブロック図。
【符号の説明】
BL,BLB・・・ビット線、WL・・・ワード線、CNTR
L1,2・・・Vth制御回路、SA・・・センスアンプ、PC
・・・プリチャージ回路、ADB・・・アドレスバッファ、C
D,CDB・・・コモンデータ線、DCR・・・デコーダ、M
AT,MAB・・・メインアンプ入出力線、DRIVE・・・
ドライバ、OB・・・出力バッファ、MA・・・メインアン
プ、SWTスイッチ、CPU・・・中央処理装置、I/F・
・・インターフェース回路、RAR・・・ロウアドレスレシ
ーバー、CAR・・・カラムアドレスレシーバー、ADR・
・・アドレスレシーバー、DCR・・・デコーダ、RAS−
CNTRL・・・RASコントロール回路、CNTRL・・・
コントロール回路、DBD・・・データバスドライバ、R
EFREQ・・・リフレッシュ要求信号、MS・・・メモリ起
動信号、REGRNT・・・リフレッシュ指示信号、AD
MPX・・・アドレスマルチプレクサ、DP・・・ディスプレ
イ、FDD・・・フロッピーディスクドライブ、FD・・・フ
ラッピーディスク、file M・・・ファイルメモリ、
KB・・・キーボード、KBDC・・・キーボードコントロー
ラ、HDD・・・ハードディスクドライブ、main M・
・・主記憶メモリ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮沢 英之 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日 立製作所 デバイス開発センタ内 (56)参考文献 特開 昭56−105389(JP,A) 特開 昭52−149449(JP,A) 特開 昭59−167896(JP,A) 特開 昭64−10493(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 11/409 H01L 21/822 H01L 21/8242 H01L 27/04 H01L 27/108

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数のビット線対と複数のワード線との交
    点に設けられそれぞれ情報蓄積用の第1キャパシタを有
    する複数のメモリセルを含むメモリアレイと、前記複数
    のビット線対の各々に対応して設けられメモリセルから
    読み出された信号を第1電位又は第2電位に増幅するた
    めのセンスアンプと、前記複数のビット線対を前記第1
    電位と前記第2電位の中間の電位である第3電位にプリ
    チャージするためのプリチャージ手段とを有するダイナ
    ミック型RAMであって、 前記複数のセンスアンプのそれぞれは、ソースが共通に
    接続されゲートとドレインが互いに交差して結合された
    第1導電型の第1MOSトランジスタ対と、ゲートとド
    レインが互いに交差して結合された第2導電形の第2M
    OSトランジスタ対と、前記第2MOSトランジスタ対
    の一方のトランジスタのソースに第1電極が接続される
    第2キャパシタと、前記第2MOSトランジスタ対の他
    方のトランジスタのソースに第3電極が接続される第3
    キャパシタと、記第2MOSトランジスタ対の一方と
    他方に対応して設けられそれぞれのソースにそのソース
    ・ドレイン経路が接続された第4MOSトランジスタ対
    を含み、 前記第2キャパシタの残る第2電極と、前記第3キャパ
    シタの残る第4電極とは共通に接続され、 ダイナミック型RAMは、前記通に接続された前記第
    電極及び前記第4電極を前記第1電位又は前記第3電
    位に駆動するための第1駆動手段と、前複数のセンス
    アンプの前記第2MOSトランジスタ対のソースを前記
    第4MOSトランジスタ対を介して前記第1電位に駆動
    するための前記第1駆動手段とは独立に動作可能とされ
    る第2駆動手段とを更に有し、 前記第2及び第3キャパシタは、前記メモリセルの第1
    キャパシタと同一の構造であるか又は同一のプロセス工
    程で作成され、前記第1から第4電極が半導体基板の上
    部に形成されたMOS容量ではないキャパシタ構造を有
    することを特徴とするダイナミック型RAM。
  2. 【請求項2】請求項1において、前記ダイナミック型R
    AMは、前記複数のセンスアンプのそれぞれ対応する前
    記ビット線対との間に設けられ、センスアンプとビット
    線対とを切り離すための複数の第5MOSトランジスタ
    対を更に有することを特徴とするダイナミック型RA
    M。
  3. 【請求項3】請求項1または2において、前記第1キャ
    パシタはフィン−スタックドトレンチキャパシタ構造を
    有することを特徴とするダイナミック型RAM。
  4. 【請求項4】請求項1から3のいずれかにおいて、前記
    第1導電型はP型であり、前記第2導電型はN型である
    ことを特徴とするダイナミック型RAM。
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