JP3292097B2 - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents

半導体装置およびその製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体チップの主面
上にインナーリードが延在するLOC(リード・オン・
チップ)構造を有する半導体装置およびその製造方法に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、主としてメモリーチップなどに代
表される半導体チップのパッケージング技術としては、
リードフレームのインナーリード部が半導体チップの主
面上に延在し、そのリード部と半導体チップ主面とを接
着して固定し、半導体チップを支持するダイパッドをな
くした、いわゆるLOC技術が開発されている。従来の
LOC型の半導体装置としては、半導体チップ主面とイ
ンナーリード部の一部とを絶縁テープを介して接着して
固定するものがあるが、最近は半導体チップの側面部分
をリードにより支持固定するタイプのLOC型半導体装
置も開発されている。
【0003】以下、従来のLOC型の半導体装置につい
て図面を参照しながら説明する。図12は従来の半導体
チップ側面支持型の半導体装置を示す平面図であり、樹
脂封止後のリードフレーム状態での構造を示している。
図13は同様に半導体チップ側面支持型の半導体装置を
示す断面図であり、図12のA−A1箇所の断面図であ
る。なお、図12においては、内部構成を示すために封
止樹脂を省略し、封止樹脂の領域を破線で示している。
【0004】図示するように、半導体チップ1は対向す
る両側面をリードフレーム2の支持リード部3により、
接着剤4を介して支持されている。そして半導体チップ
1の主面にはリードフレーム2のインナーリード部5が
延在し、半導体チップ1上の電極パッド6とインナーリ
ード部5の先端部とは金属細線7により電気的に接続さ
れている。そして半導体チップ1を含む外囲は封止樹脂
8により封止されているものである。また、支持リード
部3は、半導体チップ1の側面を接着剤4を介して支持
する部位である支持部9と、その支持部9を保持する吊
り部10とにより構成されているものであり、吊り部1
0は2本のリードよりなるものである。そして支持部9
が半導体チップ1の側面に当接するように、吊り部10
の途中で折り曲げられて、接着剤4により支持部9と半
導体チップ1を支持、固定しているものである。なお、
アウターリード部11は封止樹脂8により外囲を封止し
た際に封止樹脂8より突出して、外部端子となるもので
ある。
【0005】以上、従来の半導体装置は、半導体チップ
1の側面部分をリードフレーム2に設けた支持リード部
3により支持固定し、外囲を封止してなるものであっ
た。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来の半
導体装置の構成では、以下に示す課題があった。
【0007】まず、半導体チップの側面を支持リード部
によって支持、固定している構造であるが、半導体チッ
プの側面と支持リード部の先端部(支持部)とは接触し
ており、支持リード部が半導体チップ側面を押さえ、そ
の状態で接着剤で固定しているので、実質的に半導体チ
ップの側面に接触する支持リード部および接着剤の面積
が少なく、半導体チップに対する支持力としては低いも
のであった。そのため、半導体チップの外囲を封止樹脂
で封止し、その熱応力により半導体チップ、支持リード
部がストレスを受けた場合、半導体チップと支持リード
部とが剥離を起こし、信頼性が低下するという課題があ
った。また封止樹脂で外囲を封止する前であっても、半
導体チップを支持リード部で支持して次の工程、例えば
金属細線による接続工程(ワイヤーボンディング工程)
に移行する際の搬送時の外的な応力によっても、支持力
が弱いため、半導体チップと支持リード部とが外れると
いう課題があった。
【0008】また半導体チップの側面と支持リード部と
は接着剤により固定されているが、接着剤の半導体チッ
プ側面に対する面積が小さいため、半導体チップと支持
リードとの間に弾力性がなく、チップ支持の安定性に欠
ける構造であった。
【0009】さらに従来の支持リード部は、吊り部を折
り曲げて、支持部を半導体チップの側面に当接させるも
のであるが、その折り曲げ角度いかんによっては、支持
強度のバラツキが発生するという課題もあった。
【0010】本発明は前記従来の課題を解決するもので
あり、半導体チップ側面を支持する構造の半導体装置に
おいて、半導体チップの側面とその側面を支持する支持
リードとの間の構成に着目し、チップ支持強度を向上さ
せ、半導体装置製品の信頼性向上を実現できる半導体装
置およびその製造方法を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に本発明の半導体装置は、半導体チップと、その半導体
チップの側面を接着剤を介して支持する第1のリード部
と、半導体チップの主面上に延在した第2のリード部
と、半導体チップとその第2のリード部とを電気的に接
続する手段と、半導体チップと第1のリード部および第
2のリード部とを封止している封止樹脂と、封止樹脂よ
り露出した第3のリード部とよりなる半導体装置であっ
て、半導体チップの側面を支持する第1のリードは、5
0度〜75度の範囲の角度で折れ曲がって半導体チップ
を支持し、半導体チップの側面を接着剤を介して支持す
る第1のリードと支持される半導体チップ側面との間隔
は、100[μm]〜300[μm]の間隔が形成され
て接着剤により支持され、接着剤は半導体チップの側面
全面にわたって形成されているものである。また、半導
体チップの主面に延在した第2のリード部と半導体チッ
プの主面との間には、封止樹脂中のフィラーよりも大き
な間隔が形成されているものである。また、半導体チッ
プの側面を接着剤を介して支持する第1のリードの先端
部は半導体チップ底面より突出し、その突出部分と半導
体チップ底面との間に接着剤のフィレットが形成されて
いるものである。
【0012】また本発明の半導体装置の製造方法におい
ては、半導体チップを支持するのに用いる複数の第1の
リード部と、半導体チップと電気的な接続をするための
複数のインナーリード部と、そのインナーリード部と接
続した複数のアウターリード部とを有するリードフレー
ムに対して、第1のリード部を50度〜75度の角度で
折り曲げる工程と、その折り曲げた第1のリード部と半
導体チップ側面との間に100[μm]〜300[μ
m]の間隔を形成して、その間隔の折り曲げ部側から
着剤を供給して半導体チップを第1のリードで支持する
工程と、半導体チップとインナーリード部とを電気的に
接続する工程と、アウターリード部を露出させて半導体
チップの外囲を封止樹脂で封止する工程とよりなるもの
である。
【0013】前記構成の通り、半導体チップの側面を接
着剤を介して支持する第1リードの折れ曲がり角度を5
0度〜75度の範囲としており、また第1のリード部と
支持される半導体チップ側面との間隔は、100[μ
m]〜300[μm]の間隔が形成されて、その間隔に
接着剤が充填することにより支持されているので、半導
体チップ側面とそれを支持する第1のリード部とは直接
には当接するものではなく、半導体チップの外囲を封止
樹脂で封止し、その熱応力により半導体チップ、第1の
リード部がストレスを受けても弾力性があるため、半導
体チップと第1のリード部とが剥離を起こすことはなく
なる。すなわち、50度〜75度の折れ曲がり角度、半
導体チップ側面と第1のリード部との間隔は、半導体チ
ップと第1のリードとの間のストレスを緩和するのに必
要な角度である。さらに、半導体チップの側面を接着剤
を介して支持する第1のリードの先端部は半導体チップ
底面より突出し、その突出部分と半導体チップ底面との
間に接着剤のフィレットが形成されているので、そのフ
ィレットにより半導体チップを支持する支持力が強化さ
れ、安定したチップ支持が行われるものである。
【0014】なお、本発明は、半導体チップを支持する
リードの折り曲げ角度の条件設定ではなく、その折り曲
げ角度に加えて、半導体チップと支持するリードとの間
に特徴的に間隔をもって、接着剤を介して接着すること
を特徴とするものであり、支持するリードは半導体チッ
プの側面には接触しておらず、接着剤のみが介在するこ
とにより、チップ/リード間に弾力性を生じさせ、チッ
プとリードとの剥離、外れを解消できるものである。し
たがって、単なる本発明は、半導体チップを支持するリ
ードの折り曲げ角度や間隔の条件設定ではなく、チップ
/リード間の弾力性に着目して諸課題を解決しようとす
るものである。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態につい
て図面を参照しながら説明する。図1は本実施形態の半
導体装置を示す平面図であり、リードフレーム状態での
構造を示している。図2は同様に半導体装置を示す断面
図であり、図1のA−A1箇所の断面図である。図3は
半導体装置を示す断面図であり、図1のB−B1箇所の
断面図である。図4は半導体装置を示す断面図であり、
図1のC−C1箇所の断面図である。図5は半導体チッ
プの一側面と支持リードとの接着状態を示す部分的に拡
大した断面図である。図1においては、内部構成を示す
ために封止樹脂を省略し、封止樹脂の領域を破線で示し
ている。
【0016】図示するように、本実施形態の半導体装置
は、半導体チップ12と、その半導体チップ12の側面
を接着剤13を介して支持する第1のリード部である支
持リード部14と、半導体チップ12の主面上に延在し
た第2のリード部であるインナーリード部15と、半導
体チップ12の電極パッド12aとそのインナーリード
部15とを電気的に接続する手段である金属細線16
と、半導体チップ12と支持リード部14およびインナ
ーリード部15とを封止している封止樹脂17と、その
封止樹脂17より露出した第3のリード部であるアウタ
ーリード部18とよりなる半導体装置であって、半導体
チップ12の側面を接着剤13を介して支持する支持リ
ード部14は、50度〜75度の範囲、好ましくは55
度の角度で半導体チップ12の側面方向である下方に折
れ曲がって半導体チップ12を支持しているものであ
る。ここで前述したように、封止樹脂17は、図中、破
線で示した領域に設けられているものである。
【0017】また半導体チップ12の側面を支持してい
る支持リード部14は、半導体チップ12の側面を接着
剤13を介して支持する支持部19と、その支持部19
を保持する2本の吊り部20とより構成されており、吊
り部20の途中で半導体チップ12の側面方向である下
方に折れ曲がっているものである。なお、フレーム枠2
1はリードフレームの外枠である。
【0018】ここで本実施形態の半導体装置は、図2,
図5に示すように、半導体チップ12の側面を接着剤1
3を介して支持する支持リード部14は、50度〜75
度の範囲の角度[θ]で半導体チップ12の側面方向で
ある下方に折れ曲がって半導体チップ12を支持してい
るものであり、また支持リード部14と支持される半導
体チップ12の側面との間隔[L]は、100[μm]
〜300[μm]の間隔、好ましくは150[μm]の
間隔が形成されて、その間隔に接着剤を充填することに
より支持されているので、半導体チップ12の側面とそ
れを支持する支持リード部14とは直接には当接するも
のではなく、半導体チップ12の外囲を封止樹脂で封止
し、その熱応力により半導体チップ12、支持リード部
14がストレスを受けても弾力性があるため、半導体チ
ップ12と支持リード部14とが剥離を起こすことはな
くなる。すなわち、50度〜75度の折れ曲がり角度、
および半導体チップ12の側面と支持リード部14との
間隔は、半導体チップ12と支持リード部14との間の
ストレスを緩和するのに必要な角度である。なお、支持
リード部14と支持される半導体チップ12の側面との
間隔[L]は、100[μm]〜300[μm]の範囲
であれば、熱応力により半導体チップ12、支持リード
部14がストレスを受けても弾力性を有するものであ
る。
【0019】また本実施形態の半導体装置は、図5に示
すように、半導体チップ12の側面を接着剤13を介し
て支持する支持リード部14の支持部19(先端部)は
半導体チップ12の底面より突出し、その突出部分と半
導体チップ12の底面との間に接着剤13のフィレット
部13aが形成されているものである。このフィレット
部13aを形成するように接着剤13を介在させること
により、半導体チップ12と支持リード部14との接着
構造において、その接着力を強化させることができる。
また、その突出量[T]は、半導体チップ12の底面よ
り120[μm]〜180[μm]突出しているもので
ある。実質的には、半導体チップ12の側面を接着剤1
3により接着、固定する場合、150[μm]の突出量
が好ましいが、120[μm]〜180[μm]の範囲
であれば接着強度の向上に寄与するものである。
【0020】また図3に示すように、半導体チップ12
の主面に延在したインナーリード部15と半導体チップ
12の主面との間には、外囲を封止する封止樹脂17中
に含まれるフィラーよりも大きな間隔が形成され、その
間隔に封止樹脂17が充填されて、隙間や樹脂ボイドな
く封止されているものである。この構造により、隙間が
ないため、半導体装置としての信頼性を向上させること
ができる。具体的には、封止樹脂17中のフィラーの粒
径として80[μm]よりも大きい間隔が形成されて封
止させている構造である。現状、封止樹脂17に用いて
いるエポキシ系樹脂に含有させているフィラーの粒径
は、80[μm]程度である。もし、半導体チップ12
の主面とインナーリード部15との間隔がフィラーの粒
径よりも小さい値であれば、封止樹脂17が半導体チッ
プ12/インナーリード部15間に充填されず、空隙と
して残存し、熱衝撃等の信頼性上の課題となるものであ
る。
【0021】さらに本実施形態では、半導体チップ12
の側面を支持している支持リード部14の支持部19の
面積は、支持しようとする半導体チップ12の側面の面
積の40[%]以上で構成しているものであり、前記し
た半導体チップ12側面と支持リード部14との間隔、
支持リード部14の折れ曲がり角度、支持リード部14
の先端部と半導体チップ12の底面との間の接着剤13
のフィレット部13aの形成に加えて、接着面積を向上
させることにより、さらに安定したチップ支持を実現し
ようとするものである。
【0022】次に本実施形態で用いたリードフレームの
構成について図面を参照しながら説明する。図6は本実
施形態の半導体装置に用いたリードフレームを示す平面
図である。
【0023】図示するように、本実施形態のリードフレ
ームは、2本の吊り部20で保持された支持部19より
なる支持リード部14と、インナーリード部15と、ア
ウターリード部18と、これらを連結支持しているフレ
ーム枠21よりなるものである。このようにリードフレ
ームに対して、半導体チップを接着剤を介して支持、固
定し、インナーリード部と半導体チップとを電気的な接
続をして、外囲を封止することにより、半導体装置を構
成するものである。
【0024】さらにここで半導体チップを安定に支持、
固定することができるように、支持リード部14の構成
について別の実施形態を説明する。図7はリードフレー
ムの支持リード部14の別の実施形態を示す平面図であ
る。
【0025】図示するように、半導体チップの側面を支
持する支持リード部14の吊り部20は、前記した構成
のように2本のリード構成とは異なり、面状の吊り部2
0であり、幅広に構成することにより、支持部19のね
じれ、変形を防止できる構成となっている。さらに支持
リード部14を構成している支持部19と吊り部20と
の連結部分はテーパー状とし、支持部19のねじれ、変
形を防止し、半導体チップを支持した際に安定した支持
ができる構成としている。なお、リード状の吊り部とし
た場合でもその連結部分をテーパー状とすることによ
り、支持部19のねじれ、変形を防止し、半導体チップ
を支持した際に安定した支持ができる。また半導体チッ
プの側面を支持する支持リード部14において、吊り部
20と支持部19との連結部分付近は厚みが他の部分よ
り薄く形成され、折り曲げの際に、容易にしかも適正箇
所での折り曲げが精度よくできる構造を有しているもの
である。
【0026】以上、本実施形態の半導体装置は、半導体
チップの側面とその側面を支持する支持リード部との間
の構成に着目し、支持リード部の折り曲げ角度、チップ
と支持リード部との間隔、接着剤のフィレット形成、支
持リード部の支持部とチップ側面との面積構成等を主眼
とすることにより、チップ支持強度を向上させ、半導体
装置製品の信頼性向上を実現できる半導体装置である。
【0027】次に本発明の半導体装置の製造方法の一実
施形態について図面を参照しながら説明する。図8〜図
11は、本実施形態の半導体装置の製造方法を示す工程
ごとの断面図である。
【0028】まず図8(a),図8(b)および図8
(c)に示すように、半導体チップを支持するのに用い
る複数の支持リード部と、半導体チップと電気的な接続
をするための複数のインナーリード部と、そのインナー
リード部と接続した複数のアウターリード部とを有する
リードフレーム22に対して、支持リード部14を50
度〜75度の角度で下方に折り曲げる。
【0029】この折り曲げ工程は、下型23にリードフ
レーム22を載置し(図8(a))、上方より上型24
により、支持リード部分を押圧して下方に折り曲げるも
のである(図8(b),図8(c))。また支持リード
部14の折り曲げ角度の設定は、下型23の凹部25の
形状および上型24の押圧機構26により設定すること
ができる。また、ここでは半導体チップの側面を支持リ
ード部14で支持した際に、支持リード部14と半導体
チップとの間に100[μm]〜300[μm]の間隔
が形成されるようにリードフレームを設計しているもの
である。なお、図8においては、断面方向を先に示した
図1の平面図におけるA−A1箇所の断面で示してい
る。
【0030】次に図9(a),図9(b),図9(c)
および図9(d)に示すように、支持リード部14を所
定角度で折り曲げたリードフレーム22に対して、その
支持リード部14に対して、半導体チップ12を接着さ
せる。
【0031】まず半導体チップ12を支持台27上に載
置し、その半導体チップ12をその側面で支持するよう
に、支持リード部14を折り曲げたリードフレーム22
を位置合わせする(図9(a))。そして半導体チップ
12の側面と支持リード部14との間隔に接着剤13を
塗布する(図9(b))。そして加熱により塗布した接
着剤13を硬化させ(図9(c))、半導体チップ12
を接着剤13を介して支持リード部14で支持、固定す
るものである(図9(d))。ここでは、支持リード部
14の先端部を支持しようとする半導体チップ12の底
面ラインよりも120[μm]〜180[μm]、好ま
しくは150[μm]突出させて位置合わせした後、接
着剤13により固定するものであり、突出した支持リー
ド部14の先端部と半導体チップ12の底面部分には、
接着剤13のフィレット部13aが形成されるようにす
るこの構成により、チップ/リードの接着強度を向上さ
せることができるものである。なお、図9においても、
断面方向を先に示した図1の平面図におけるA−A1箇
所の断面で示している。
【0032】次に図10(a),図10(b)および図
10(c)に示すように、半導体チップ12の電極部と
インナーリード部15とを金属細線16により電気的に
接続する。
【0033】まず支持台28上に半導体チップ12を支
持したリードフレーム22を載置し(図10(a))、
押え機構29によりインナーリード部15を半導体チッ
プ12の面に押し当てて、ワイヤーボンダーのキャピラ
リー30により金属細線16を接続する(図10
(b))。そして押え機構29による押し当てを解除す
ることにより、半導体チップ12とインナーリード部1
5との間に間隔を形成して金属細線16を接続すること
ができる(図10(c))。ここでは80[μm]以上
の間隔を形成しているが、この間隔の値の設定は、前工
程の接着工程で設定するものである。なお、図10にお
いては、断面方向を先に示した図1の平面図におけるC
−C1箇所の断面で示している。
【0034】次に図11(a),図11(b)および図
11(c)に示すように、半導体チップ12を支持した
リードフレーム22に対して、その外囲を封止樹脂17
により封止する。
【0035】まず半導体チップ12をその支持リード部
14で支持したリードフレーム22を封止用の上金型3
1および下金型32とよりなる封止金型内にセットする
(図11(a))。そしていわゆるトランスファーモー
ルド法により、下金型32側のゲート口33より封止樹
脂17を注入する(図11(b))。そして封止樹脂1
7を注入後、封止樹脂17を硬化させることにより半導
体チップ12の外囲を封止することができる(図11
(c))。なお、図11においては、断面方向を先に示
した図1の平面図におけるA−A1箇所の断面で示して
いる。
【0036】以上、本実施形態の半導体装置の製造方法
に示したような工程により、半導体チップの側面を支持
した構造の半導体装置を製造することができる。
【0037】また本実施形態の半導体装置の製造方法で
は、半導体チップ12の側面と支持リード部14とを接
着剤13により接着する工程においては、50[ポイ
ズ]〜350[ポイズ]の粘度の接着剤により接着する
ことにより、接着剤の余分なはみ出し、広がりは抑制し
て接着することができる。さらに効率よく接着剤のフィ
レット部を形成でき、接着強度の向上を図ることができ
る。
【0038】前述した半導体装置の実施形態およびその
製造方法の実施形態では、半導体チップとその側面を支
持、固定するリードフレームの支持リード部とは、熱硬
化型などの接着剤により接着する構造を示したが、次に
別の実施形態について説明する。
【0039】図10に示したように、金属細線16によ
り半導体チップ12上の電極部とインナーリード部15
とを電気的に接続する際、押え機構29によりインナー
リード部15を半導体チップ12の面に押し当てて、ワ
イヤーボンダーのキャピラリー30により金属細線16
を接続する工程において、第1ボンドで半導体チップ1
2上の電極に金属細線16を接続した後、連続して第2
ボンドでインナーリード部15上に接続するものである
が、第2ボンドでの衝撃により半導体チップ12が破壊
する恐れがある。これは金属細線16の接続時に印加さ
れる押圧(荷重)と超音波パワー(摺り合わせ)による
ものであり、特に超音波パワーによる振動が悪影響を起
こすことに起因する。
【0040】ここで本実施形態では、インナーリード部
15の金属細線16が接続される領域に金属細線16と
同質材の金属層をメッキ等により、予め形成しておき、
その状態に対して金属細線16を接続すると、第2ボン
ド側では、破壊の原因である超音波パワーを印加せずと
も、押圧(荷重)のみで接続することができる。これは
金属細線16とインナーリード部15上の金属層が同質
であり、それらが加熱で軟化し、押圧により接合する作
用によるものである。以上のような方法により、半導体
チップの破壊を防止して、金属細線による接続を行うこ
とができる。例えば、金属細線16およびインナーリー
ド部15表面の金属層は、金(Au)を主成分とする金
属とすることで接続可能である。または銀(Ag)を主
成分とする金属でもよい。
【0041】また本実施形態では、半導体チップの側面
と支持リード部とを接着する場合、接着剤により接着す
る例を示したが、他に接着剤の代わりに溶融性金属で接
合することも可能である。例えば、共晶はんだの作用を
用いて、半導体チップの側面と支持リード部とを接合す
ることができる。そして金属接合の場合は、支持強度を
飛躍的に向上させることができるという利点がある。
【0042】また本実施形態で示した各特徴的構成の組
み合わせによっても、チップ支持強度を向上させ、半導
体装置製品の信頼性向上を実現できるものであるが、チ
ップ折り曲げ角度、チップ/支持リードの間隔、支持リ
ード部のチップ底面に対する突出量構成などの各特徴的
構成のみでもチップ支持強度を向上させることができる
ものである。
【0043】
【発明の効果】以上、実施形態で説明した通り、本発明
は半導体チップの側面とその側面を支持する支持リード
部との間の構成に着目し、支持リード部の折り曲げ角
度、チップと支持リード部との間隔、接着剤のフィレッ
ト形成、支持リード部の支持部とチップ側面との面積構
成等を主眼とすることにより、チップ支持強度を向上さ
せ、半導体装置製品の信頼性向上を実現できる半導体装
置およびその製造方法である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態の半導体装置を示す平面図
【図2】本発明の一実施形態の半導体装置を示す断面図
【図3】本発明の一実施形態の半導体装置を示す断面図
【図4】本発明の一実施形態の半導体装置を示す断面図
【図5】本発明の一実施形態の半導体装置を示す断面図
【図6】本発明の一実施形態の半導体装置のリードフレ
ームを示す平面図
【図7】本発明の一実施形態の半導体装置のリードフレ
ームを示す平面図
【図8】本発明の一実施形態の半導体装置の製造方法を
示す断面図
【図9】本発明の一実施形態の半導体装置の製造方法を
示す断面図
【図10】本発明の一実施形態の半導体装置の製造方法
を示す断面図
【図11】本発明の一実施形態の半導体装置の製造方法
を示す断面図
【図12】従来の半導体装置を示す平面図
【図13】従来の半導体装置を示す断面図
【符号の説明】
1 半導体チップ 2 リードフレーム 3 支持リード部 4 接着剤 5 インナーリード部 6 電極パッド 7 金属細線 8 封止樹脂 9 支持部 10 吊り部 11 アウターリード部 12 半導体チップ 13 接着剤 14 支持リード部 15 インナーリード部 16 金属細線 17 封止樹脂 18 アウターリード部 19 支持部 20 吊り部 21 フレーム枠 22 リードフレーム 23 下型 24 上型 25 凹部 26 押圧機構 27 支持台 28 支持台 29 押え機構 30 キャピラリー 31 上金型 32 下金型 33 ゲート口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 野村 徹 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特開 平5−235249(JP,A) 特開 平8−125105(JP,A) 特開 平8−274234(JP,A) 特開 平9−134996(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 23/50

Claims (12)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体チップと、前記半導体チップの側
    面を接着剤を介して支持する第1のリード部と、前記半
    導体チップの主面上に延在した第2のリード部と、前記
    半導体チップと前記第2のリード部とを電気的に接続す
    る手段と、前記半導体チップと第1のリード部および第
    2のリード部とを封止している封止樹脂と、前記封止樹
    脂より露出した第3のリード部とよりなる半導体装置で
    あって、前記半導体チップの側面を接着剤を介して支持
    する第1のリードは、50度〜75度の範囲の角度で折
    れ曲がって前記半導体チップを支持し、前記半導体チッ
    プの側面を接着剤を介して支持する前記第1のリードと
    支持される前記半導体チップ側面との間隔は、100
    [μm]〜300[μm]の間隔が形成され、前記接着
    剤は前記半導体チップの側面全面にわたって形成されて
    いることを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 半導体チップの側面を接着剤を介して支
    持する第1のリードの先端部は前記半導体チップ底面よ
    り突出し、その突出部分と前記半導体チップ底面との間
    に前記接着剤のフィレットが形成されていることを特徴
    とする請求項1に記載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 半導体チップの側面を支持する第1のリ
    ードの先端部は前記半導体チップ底面より120[μ
    m]〜180[μm]突出して、その突出部分と前記
    導体チップ底面との間に前記接着剤のフィレットが形成
    されていることを特徴とする請求項記載の半導体装
    置。
  4. 【請求項4】 半導体チップの側面を支持している第1
    のリード部は支持部を有し、その支持部の面積は、前記
    半導体チップの側面の40[%]以上であることを特徴
    とする請求項1に記載の半導体装置。
  5. 【請求項5】 半導体チップの側面を支持している第1
    のリード部は支持部とその支持部を保持する吊り部とを
    有し、その吊り部は幅広に形成されていることを特徴と
    する請求項1に記載の半導体装置。
  6. 【請求項6】 半導体チップの側面を支持している第1
    のリード部は支持部とその支持部を保持する吊り部とを
    有し、その吊り部と前記支持部との連結部分はテーパー
    状であることを特徴とする請求項1に記載の半導体装
    置。
  7. 【請求項7】 半導体チップの側面を支持している第1
    のリード部は、支持部とその支持部を保持する吊り部と
    を有し、その吊り部と前記支持部との連結部分付近は厚
    みが他の部分より薄く形成されていることを特徴とする
    請求項1に記載の半導体装置。
  8. 【請求項8】 半導体チップの側面と第1のリード部と
    は、接着剤の代わりに溶融性金属で接合されて支持され
    ていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  9. 【請求項9】 半導体チップを支持するのに用いる複数
    の第1のリード部と、前記半導体チップと電気的な接続
    をするための複数のインナーリード部と、前記インナー
    リード部と接続した複数のアウターリード部とを有する
    リードフレームに対して、前記第1のリード部を50度
    〜75度の角度で折り曲げる工程と、前記折り曲げた第
    1のリード部と前記半導体チップ側面との間に100
    [μm]〜300[μm]の間隔を形成して、その間隔
    の前記折り曲げ部側から接着剤を供給して半導体チップ
    を第1のリードで支持する工程と、前記半導体チップと
    前記インナーリード部とを電気的に接続する工程と、前
    記アウターリード部を露出させて前記半導体チップの外
    囲を封止樹脂で封止する工程とよりなることを特徴とす
    る半導体装置の製造方法。
  10. 【請求項10】 折り曲げた第1のリード部と半導体チ
    ップ側面との間に100[μm]〜300[μm]の間
    隔を形成して、その間隔の前記折り曲げ部側から接着剤
    を供給して前記半導体チップを第1のリードで支持する
    工程は、折り曲げた第1のリード部と前記半導体チップ
    側面との間に100[μm]〜300[μm]の間隔を
    形成して、その間隔の前記折り曲げ部側から前記接着剤
    を供給して、前記半導体素子の側面全面にわたって前記
    接着剤を形成し、前記半導体チップを前記第1のリード
    で支持することを特徴とする請求項9に記載の半導体装
    置の製造方法。
  11. 【請求項11】 半導体チップの側面と第1のリード部
    とを接着剤により接着する工程において、50[ポイ
    ズ]〜350[ポイズ]の粘度の接着剤により接着する
    ことを特徴とする請求項に記載の半導体装置の製造方
    法。
  12. 【請求項12】 半導体チップの側面と第1のリード部
    とを接着剤により接着する工程において、第1のリード
    部の先端部と半導体チップ側面底部との領域に前記接着
    剤のフィレットを形成することを特徴とする請求項
    記載の半導体装置の製造方法。
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