JP3291811B2

JP3291811B2 - 投影露光装置

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Publication number: JP3291811B2
Application number: JP02649293A
Authority: JP
Inventors: 和俊菅; 吉男中島; 陽三日比野; 隆一船津
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1993-02-16
Filing date: 1993-02-16
Publication date: 2002-06-17
Anticipated expiration: 2017-06-17
Also published as: JPH06244076A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置の縮小
投影露光装置に係り、位置決め精度を向上させることが
できる投影露光装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の露光装置は、特開昭６２−９３９
３６号公報に記載されているように、ウエハステ−ジ部
と投影光学部との間の空間中の空気の屈折率を均一化す
るために、ウエハステ−ジ部に温度制御された気流を送
り込むための１系統の温度調整系を備えるものがある。
このような１系統の温度制御系では、流れてくる気流の
経路によって、その気流の温度上昇の大きさが異なるた
め、ウェハステージ部に、多くの異なる温度の気流が入
り込み、ステージの移動で様々に混ざるため、ステージ
部の雰囲気温度を一定に保てない。このため、ステージ
やウェハに温度変動が生じ、位置決め精度を安定化させ
ることができない。

【０００３】そこで、特開平４−２２１１８号公報や特
開平２−１９９８１４号公報に記載されているように、
露光装置の各部分を複数に区画し、この各区画にそれぞ
れ温度制御された気流を供給するものや、ステージ部な
どに局所的に個別チャンバを設け、このチャンバに温度
制御された気流を供給するものなどの多系統の温度制御
系を構成したものが知られている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の従来技
術においては、ステージ部へのウェハの受渡しが露光装
置の外部から行われることについて何等配慮されていな
い。このため、このステージ部へのウェハの受渡しによ
るステージ部での温度管理を行うためには、その温度調
整に多大な時間を要するという問題があった。

【０００５】また、露光装置に多系統の温度制御系を備
えたものにおいては、その温度設定をステッパの調整時
に、試行錯誤的に行い、やってみて、良くないところを
直すような調整方策が取られていた。このため、調整に
時間が掛り、また、１個所を温度調整することにより、
別の個所の温度にアンバランスを生じ、その調整が効率
的でなかった。

【０００６】本発明の目的は、上述の事柄にもとずいて
なされたもので、ステージ部の温度を安定化させること
ができると共に、その温度調整の時間を短縮することが
できる投影露光装置を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、露光さ
れるウエハを位置決めできるステージと、温度制御がで
きる複数の気流を内部に供給できるようにしたチャンバ
とを備えた投影露光装置において、前記ステージが設置
されるステージ部の面に、ステージへのウエハの出入り
部を設け、温度制御された気流を、温度差をもってステ
ージに供給する気流供給部を設け、前記ウエハの出入り
部以外のステージ部分に排気部を設けることにより、達
成される。

【０００８】又、本発明の上記目的は、露光されるウエ
ハを位置決めできるステージと、温度制御ができる複数
の気流を内部に供給できるように構成したチャンバとを
備えた投影露光装置において、前記チャンバに、装置全
体を冷却するためにチャンバ内空間に温度制御された気
流を供給する第１の気流供給手段と、ステージに温度制
御された気流を供給する第２の気流供給手段とを設け、
前記第１の気流供給手段と第２の気流供給手段とからの
気流の温度をそれぞれ検出する温度検出手段を設け、前
記温度検出手段の検出信号に基づいて、前記第１の気流
供給手段からの気流と前記第２の気流供給手段からの気
流に温度差を与えるように前記第１の気流供給手段と第
２の気流供給手段を制御する制御手段を備えることによ
り、達成される。

【０００９】

【作用】ステージ部に流入する気流に、温度差を付けて
供給する。これにより、ステージ部の可動範囲で温度が
均一になる。即ち、ステージ部へ気流供給手段によって
気流が供給される。チャンバ内には、装置全体を冷却す
るために、気流が送られる。この装置全体を冷却するた
めの気流とステージ部のための気流がステージ部に流入
する。そして、これら複数の気流も温度は温度差をもっ
て供給される。これにより、ステージ部の温度の安定化
が図れ、温度設定のための調整を効率よく行うことがで
きる。

【００１０】

【実施例】図１は本発明の投影露光装置の１実施例を示
す平面図であり、この図１の下方が装置の前面となる。
図２は図１に示す投影露光装置のステージ部の側面図で
あり、この図２の右側が前面になる。

【００１１】図１において、投影露光装置の本体１は、
サーマルクリーンチャンバ２の中に格納されている。チ
ャンバ２は投影露光装置の本体１を格納する格納室３
と、そこに空気を供給して温度を制御するための機械を
納めた機械室４とからなっている。

【００１２】ステージ部５とは、ステージ６が移動する
定盤上を示し、ステージ６は、ウェハ受け渡し時には、
ロード点Ａにあり、露光時には、図２に示すように縮小
レンズ７の下方のＢ点辺りにある。ステージ部５は、後
方を仕切り板８で仕切られ、左右を仕切り板９，１０で
仕切られ、ウェハの出し入れのため、前部は開放されて
いる。これにより、左右及び後方からの気流のステージ
部５への流入はないが、前部からは気流が入るようにな
っている。

【００１３】チャンバ２の格納室内の空気を機械室に返
すためのリターンダクト口１１に接続したダクト１２
と、ステージ部５の空気を返すためのダクト１３は、機
械室４に接続されている。このダクト１２，１３を通っ
てくる空気は、送風器１４で吸引される。送風器１４を
出た空気は、外気と共に、冷却器１５に入る。冷却器１
５で気流温度を下げられた後、ここを出た空気は、空気
温度調整器１６，１７に入る。空気温度調整器１６，１
７では、ここを通る空気の温度を調整する。そして、空
気温度調整器１６，１７は、それぞれ送風器１８，１９
に接続している。送風器１８から出た空気は、チャンバ
２の機械室４とステッパ格納室３との境にあるサイドフ
ローフィルタ２０に入り、このフィルタ２０を通って格
納室３に入る。送風器１９を出た空気は、ダクト２１を
通って、ステージ部５内にあるエアカーテンフィルタ２
２，２３と、図２にも示すようにステージ部５手前上に
あるフィルタ２４に入る。

【００１４】フィルタ２０及び２３の気流の出口直後に
は、それぞれ温度センサ２５，２６が設けられている。
温度センサ２５，２６の信号ｔｓ１，ｔｓ２は、それぞ
れ温度制御装置２７，２８に入力される。温度制御装置
２７，２８は、この信号から温度を制御する信号ｐｐ
１，ｐｐ２を演算し、このそれ信号ｐｐ１，ｐｐ２をぞ
れ空気温度調整器１６，１７に入力する。

【００１５】前述した温度制御装置２７，２８は、温度
センサ２５，２６の位置での気流温度が、それぞれ温度
制御装置２７，２８に予め設定された温度設定値になる
ように、空気温度調整器１６，１７を制御する。空気温
度調整器１６で温度制御された気流は、サイドフローフ
ィルタ２０を通って、装置全体へ向けてステッパ格納室
３内に流入する。一方、空気温度調整器１７を通った気
流は、エアカーテンフィルタ２２，２３および、ステー
ジ部５手前上方のフィルタ２４に入り、ステージ部５に
向けて、送風される。

【００１６】図３は図１に示す空気温度調整器１６，１
７の部分の構成を示すもので、空気温度調整器１６，１
７の上流側には冷却器２９が設けられている。この冷却
器２９は圧縮器３０、凝縮器３１、膨張弁３２、蒸発器
３３で構成されている。

【００１７】この図では、冷媒を圧縮器３０で圧縮し、
凝縮器３１で凝縮した後、膨張弁３２を経て、蒸発器３
３に入る。この蒸発器３３で、気流の温度を下げる。こ
こで熱を奪った冷媒は、圧縮器２９に入り、冷凍サイク
ルを作っている。凝縮器３１では、冷却水ｃｗによっ
て、冷媒をを凝縮している。気流は、この蒸発器３３を
通ることで、温度が下がり、空気温度調整器１６，１７
に入る。

【００１８】図４は本発明に用いられる冷却器２９のも
う一つの例を示すものである。この場合、冷却水ｃｗで
直接、気流と熱交換するようになっている。このよう
に、冷却器２９は、気流の温度を一時下げ、次段に接続
している空気温度調整器１６，１７で気流温度の制御を
行うためのものであるので、制御範囲まで気流温度を下
げる手段であればよい。

【００１９】図５は本発明を構成する温度制御装置２
７，２８の構成図を示すもので、温度制御装置２７，２
８は、同じ制御構成で良く、設定温度や制御系のパラメ
ータの値を変えることで、それぞれの系統の制御を行
う。この温度制御装置２７，２８は各種演算を行うＣＰ
Ｕ部３４と、設定値などを記憶しておくメモリ部３５、
表示部３６、入力部３７と、温度センサ２５，２６のイ
ンタフェース部３８、操作量を指示するためのインタフ
ェース部３９及びトライアック４０からなる。空気温度
調整器１６，１７は、発熱体で構成され、トライアック
４０で制御された電源４１からの電力ｐｐ１，ｐｐ２で
その発熱量が制御されている。

【００２０】前述した温度制御装置２７，２８は、投影
露光装置の制御装置（図示せず）で実行されるアライメ
ントの際に用いられるＳＷＡ（統計処理ウエハアライメ
ント）処理の評価結果、すなわちウエハ中心の誤差量に
基づいて温度設定値を演算する機能も備えている。

【００２１】図６は本発明における温度制御系のブロッ
ク図を示すもので、この図において、温度センサ２５，
２６の信号は、インタフェース部３８を経てＣＰＵ部３
４に入り、ここで、換算され、温度情報となる。図６に
示すERR部４２で、この情報と温度設定値ｓ１，ｓ２と
の差がとられ、誤差信号となる。ＰＩＤ部４３で、この
誤差信号は、ＰＩＤ制御系で制御信号が演算され、ＰＷ
Ｍ部４４で、制御量がパルス幅変調した信号に変換さ
れ、インタフェース部３９、トライアック４０を経て空
気温度調整器１６，１７の発熱体の発熱量を制御し、気
流の温度を温度設定値になるように制御する。このよう
な温度制御系による制御量は、パルス幅変調により実行
することに限定するものではなくＰＩＤ制御系からの指
令値に応じて発熱量を変化できる手段であればよい。

【００２２】次に、図７を用いて、本発明の装置におけ
る気流の温度制御の原理を説明する。図７は図１に示す
本発明の装置を簡略化して表したものである。この図に
おいて、流れは一定であるとし、気流の混合によって温
度が平衡すると仮定する。このとき、ステージ部５に流
入して来る気流は、温度ｔ_aのエアカーテンフィルタ２
２及び２３，及び温度ｔ_bのフィルタ２４から給気され
るものと、温度ｔ_sのサイドフローフィルタ２０から給
気されるものとがある。左右からの流入はないから、前
面からのみサイドフロー気流の流入があるとしている。
そこで、今、単位時間あたりに、次のような気流がステ
ージ部に流入するとする。

【００２３】ステージ部５前面から温度ｔ₂＝ｔ_s＋Δｔ
₂、体積Ｖ₂の気流エアカーテンから温度ｔ_a、体積Ｖ_aの気流フィルタ２４から温度ｔ_b＝ｔ_a＋Δｔ_b、体積Ｖ_bの気流チャンバのサイドフローフィルタ２０から吹き出した気
流は、露光装置の発熱による雰囲気の温度上昇によっ
て、通常温度上昇する。Δｔ₂は、このような気流が動
いて来る間の温度上昇である。また、エアカーテンフィ
ルタ２２及び２３から給気される気流温度ｔ_aについて
は、フィルタ２４出口で温度制御している。この気流
は、ステージ部５の極く近くであるので、この温度上昇
は無視できる。

【００２４】しかし、フィルタ２４からの気流は、エア
カーテンに供給している同じ気流を流しているため、ス
テージ部５へ来るまでに温度変化Δｔ_bがある。ただ
し、これらの気流の温度上昇は、たかだか数度であり、
気流の密度変化は無視できるとする。

【００２５】このとき、ステージ部５での気流の混合に
よって平衡するレンズ直下付近Ｂの平均温度ｔ_cは、次
のように考えられる。

【００２６】

【数１】

【００２７】ここで、ウェハを受渡しするロード点付近
Ａとレンズ下部Ｂでの雰囲気温度が等しければ、ウェハ
ステージの移動範囲では一定温度と考えられるから、ロ
ード点付近の温度ｔ₂とｔ_cが等しいとする。

【００２８】ｔ_c ＝ｔ₂ ＝ｔ_s＋Δｔ₂ ……………………………………………………… 式，式より、ｔ_aとｔ_sの関係は、次のように示され
る。

【００２９】

【数３】

【００３０】このとき、ステージ手前上部のフィルタ２
４からの流入は、サイドフローフィルタ２０からの気流
のように空間を漂って来ないから、比較的安定な温度で
一定の体積の流入と考えられる。したがって、Δｔ_bの
寄与は、一定と考えられる。

【００３１】このため、変動要因は、Δｔ₂のみとな
り、平衡点の安定性はΔｔ₂に依存する。

【００３２】つまり、ステージ部５の温度が均一になる
条件が、式だから、サイドフロー気流の温度ｔ_sと、
ステージ部５内のエアカーテン気流温度ｔ_aとの間に予
め温度差を設定することで、ステージ部５の温度を均一
にすることができる。実際には、気流の拡散はもっと複
雑であるため、式で示した単純な差であるとはいえな
いが、ステージ部５の温度を確認しながら温度差を付け
ていくことで、最適な気流温度差を設定できる。

【００３３】つぎに、投影露光装置におけるステージ部
５の雰囲気温度が一定になったと判断する方法について
述べる。これには、温度センサを用いてもよいが、ここ
では前述したアライメントの際に用いるＳＷＡ（Statis
tic Wafer Alignment:統計処理ウェハアライメント）処
理を用いる場合について説明する。このＳＷＡ処理は、
ウェハ内任意の位置に指定した多数のチップのアライメ
ント結果を統計処理することで、ウェハ中心の誤差量
（オフセット）を算出するものであるが、このＳＷＡ処
理は、この実施例では投影露光装置の制御装置（図示せ
ず）によって指示される。温度調整時では、このウェハ
中心の誤差量であるオフセットに着目する。１回のＳＷ
Ａ処理で、ウェハ上の多数のチップをアライメントし、
全体として１組のＸＹオフセット値が得られる。

【００３４】この処理は、ステージ６がロード点Ａでウ
ェハを受け取り、そこからレンズ下に入って複数チップ
のアライメントを行い、ある待機位置で停止すること
で、１回のシーケンスを終える。さらに、この待機位置
から２回目以降のＳＷＡ処理を開始する。

【００３５】この時、ウェハ及びステージ６は、ロード
点Ａ位置、レンズ下Ｂでの各チップの位置、そして、待
機位置へと動く。さらに、次のＳＷＡ処理で、待機位置
からレンズ下での各チップの位置、そして、再び待機位
置へと動くことをくり返す。このため、ロード点Ａ位置
の雰囲気温度、レンズ下Ｂでの各チップの位置の雰囲気
温度、そして、待機位置での雰囲気温度にさらされる。
したがって、これらの雰囲気温度に温度差が有ると、ウ
ェハあるいはステージ６は、熱変形する。

【００３６】ＳＷＡ処理によって、この熱変形は、ＳＷ
Ａ処理のウェハ中心のオフセットの変化となって表れ
る。したがって、ｎ回のＳＷＡ処理をくり返したとき、
そのオフセット値のバラツキ量が、規定の値内になるま
で、位置間の温度差を無くすように、サイドフローとエ
アカーテンの気流に温度差をつければよい。

【００３７】図８は、本発明の投影露光装置における気
流温度差の調整方法を示すフローチャートで、この図８
において、まず、サイドフロ−フィルタ２０からのサイ
ドフロ−とエアカ−テンフィルタ２２，２３からのエア
カ−テンとの温度を同じ値に設定する（ステップ８
０）。

【００３８】次に、前述の状態で投影露光装置の制御装
置からの指示により、ＳＷＡ処理を行う（ステップ８
１）。このＳＷＡ処理の結果を温度制御装置２７，２８
が判断して、：ＳＷＡ値が小さくなるか、：ＳＷＡ
値が大きくなるか、：変化は規定値以内かを判定する
（ステップ８２）。そして、の場合（ステップ８３）
には、サイドフロ−気流の温度設定値をΔｔだけ低くす
る（ステップ８４）。また、の場合（ステップ８５）
には、サイドフロ−気流の温度設定値をΔｔだけ高くす
る（ステップ８６）。

【００３９】温度設定値を変更する値は、変化の度合い
によって変わるが、０．１から０．４度位の値でよい。

【００４０】その後、再び、ＳＷＡ処理を行い、判定す
る（ステップ８２）。その結果、でなければ、今度
は、変更値を前より小さくして、変更する。このように
して、になれば、その温度設定のまま、装置の安定性
を出すために時間をおく（ステップ８７，８８）。

【００４１】この後、さらに、ＳＷＡ処理を行い、で
あれば、変化を示すバラツキ量が規定値内になっている
ため、調整を終了する。規定値は、必要とされる合わせ
精度の数分の１の値とすればよい。例えば、０．５μｍ
プロセス対応の場合であるならば、合わせ精度は、０．
１μｍ程度となり、この数分の１の０．０２μｍを規定
値とすることができる。

【００４２】上述した温度設定値の変更は、サイドフロ
ー気流の温度を変化させる例について説明したが、サイ
ドフロー気流の温度を一定にしておいて、エアカーテン
気流の温度を変化させても良い。この場合、の場合に
はエアカーテン気流温度をΔｔだけ高くし、の場合に
はエアカーテン気流温度をΔｔだけ低くすれば良い。

【００４３】このようにして、エアカーテン気流温度と
サイドフロー気流温度の設定値を追い込んでいくことに
よって、その調整時間を短縮させることができる。

【００４４】この調整方式は、本実施例だけでなく、複
数の温度制御系統を持つ他の装置にも適用可能である。
例えば、図９に示すように、密閉状態にしたステージ部
を持つ装置においては、ウェハの受渡しのため密閉した
部屋の壁９１に扉９２を設けて、その扉９２を開け閉め
する方式が考えられる。この場合、ステージ部５内の雰
囲気温度Ｔ１と外の雰囲気温度Ｔ２の設定には、ウェハ
Ｗが出入りすることで温度による伸縮がなくなるために
調整が必要である。この調整には、本発明がそのまま適
用できる。

【００４５】あるいはまた、図１０に示すように、専用
の部屋１００を設け、受渡しをする方式も考えられる。
この場合には、ステージ部５内の雰囲気温度Ｔ１と専用
部屋１００内の雰囲気温度Ｔ２の設定に、本発明が適用
できる。または、外の雰囲気温度Ｔ３とＴ２との調整も
同様である。

【００４６】また、この調整の中で、使用している検出
装置の機能の確認も容易にでき、さらに、装置の調整段
階のみでなく、装置使用時にも同じような確認を行うこ
とで、安定性の維持を図ることができる効果がある。

【００４７】図１１は本発明の装置の他の実施例を示す
もので、この図において、図１と同符号のものは同一部
分である。この実施例は投影露光装置本体１を制御する
投影露光装置制御装置１１０と温度制御装置２７，２８
とこれらを統括する上位制御装置１１１とを備えてい
る。この上位制御装置１１１は、始めに、最初の温度設
定値を温度制御装置２７，２８に入力し、投影露光装置
制御装置１１０に対し、調整開始の信号ｓｔを送る。こ
れにより、投影露光装置制御装置１１０は、投影露光装
置を制御してＳＷＡ処理を実行する。この後、上位制御
装置１１１は、投影露光装置制御装置１１０からＳＷＡ
処理の結果ｓｖを受取り、その値を前述した調整法に基
づき判断して、温度制御装置２７，２８に対し、新たな
温度設定値ｓ１，ｓ２を指示するものである。また、温
度制御装置２７，２８からは、現在の温度情報ｐ１，ｐ
２を受取り、異常がないか判定する。このような機能を
投影露光装置制御装置１１０、または温度制御装置２
７，２８のどちらかに持たせることも可能である。

【００４８】上述の実施例においては、ステージ部５に
ウエハを受渡しする部分を装置の前面に設けたが、装置
の側方で受渡しすることも可能である。この場合は、側
方が開放され、前面が閉鎖されることになる。

【００４９】また、温度センサ２５，２６の取付け位置
は、フィルタ２０，２３のように層流状態で流れ出てい
る場所の方が温度制御性が良い。フィルタ２３の出口に
設けたセンサ２６は、フィルタ２２またはフィルタ２４
の気流出口に設けることも可能である。

【００５０】又、ステージ部５の手前上方のフィルタ２
４の気流は、送風機１８の系統から供給することもでき
る。この場合は、フィルタ２０の出口に設けたセンサ２
５は、フィルタ２４に設けることも可能である。

【００５１】なお、ステージ部の手前上方のフィルタ２
４は、ステージ部５の手前、または、左右に設置して
も、同様の効果を得ることができる。

【００５２】また、上述の実施例ではステージでのウエ
ハの受渡し部を、ステージ部の側面に設けたが、その上
面からの受渡しも可能である。

【００５３】

【発明の効果】本発明によれば、ステージ部を開放した
ままで、ウェハの受渡しができるため、構造が簡素で装
置全体の信頼性を向上させることができる。さらに、ス
テージ部の温度を安定に維持させることができると共
に、その温度設定のための調整時間を短縮させることが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の投影露光装置の１実施例の構成を示す
平面図である。

【図２】図１に示す本発明の投影露光装置の１実施例を
構成するステージ部の側面図である。

【図３】図１に示す本発明の投影露光装置の１実施例を
構成する冷却器、空気温度調整器と送風器の構成を示す
図である。

【図４】図１に示す本発明の投影露光装置の１実施例を
構成する冷却器の他の例示す図である。

【図５】図１に示す本発明の投影露光装置の１実施例を
構成する温度制御装置の構成を示す図である。

【図６】図５に示す温度制御装置の制御ブロック図であ
る。

【図７】図１に示す本発明の投影露光装置の１実施例に
おける温度調整を説明するためのステ−ジ部の構成図で
ある。

【図８】本発明の投影露光装置の１実施例の温度制御動
作を示すフロ−チャ−ト図である。

【図９】本発明の投影露光装置を構成するステ−ジ部の
他の例を示す側面図である。

【図１０】本発明の投影露光装置を構成するステ−ジ部
のさらに他の例を示す側面図である。

【図１１】本発明の投影露光装置の他の実施例の構成を
示す平面図である。

【符号の説明】

１…投影露光装置本体、２…チャンバ、３…格納室、４
…機械室、５…ステ−ジ部、６…ステ−ジ、７…縮小レ
ンズ、１１…リタ−ンダクト、１２，１３…ダクト、１
４…送風機、１５…冷却器、１６，１７…空気温度調整
器、１８、１９…送風機、２０…サイドフローフィル
タ、２２，２３…エアカーテンフィルタ、２４…フィル
タ、２５，２６…温度センサ、２７，２８…温度制御装
置。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者船津隆一茨城県勝田市市毛882番地株式会社日立製作所計測機事業部内 (56)参考文献特開平２−199814（ＪＰ，Ａ) 特開平３−97216（ＪＰ，Ａ) 特開平３−129720（ＪＰ，Ａ) 特開平４−22118（ＪＰ，Ａ) 特開平５−129175（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/027 G03F 7/20

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】露光されるウエハを位置決めできるステー
ジと、温度制御ができる複数の気流を内部に供給できる
ように構成したチャンバとを備えた投影露光装置におい
て、前記チャンバに、装置全体を冷却するためにチャン
バ内空間に温度制御された気流を供給する第１の気流供
給手段と、ステージに温度制御された気流を供給する第
２の気流供給手段とを設け、前記第１の気流供給手段と
第２の気流供給手段とからの気流の温度をそれぞれ検出
する温度検出手段を設け、前記温度検出手段からの検出
信号とウエハまたはチップのアライメントの位置情報に
基づいて、前記第１の気流供給手段からの気流と前記第
２の気流供給手段からの気流に温度差を与えるように前
記第１の気流供給手段と第２の気流供給手段を制御する
制御手段を備えたことを特徴とする投影露光装置。
【請求項２】請求項１に記載の投影露光装置において、
新鮮な気流をステージ部に送風するフィルタを、ステー
ジ部の手前上方、又は前方、又は左右に設けたことを特
徴とする投影露光装置。
【請求項３】請求項２に記載の投影露光装置において、
前記温度検出手段を前記フィルタ吹き出し口に設けたこ
とを特徴とする投影露光装置。