JPH09270384A - 温度制御装置及び露光装置 - Google Patents
温度制御装置及び露光装置Info
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- JPH09270384A JPH09270384A JP8103599A JP10359996A JPH09270384A JP H09270384 A JPH09270384 A JP H09270384A JP 8103599 A JP8103599 A JP 8103599A JP 10359996 A JP10359996 A JP 10359996A JP H09270384 A JPH09270384 A JP H09270384A
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- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 claims description 8
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
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- G—PHYSICS
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】異種媒体を用いて複数の空間を冷却する装置は
媒体ごとに冷却機構が設けられていたため装置構成が大
型にならざるを得なかつた。 【解決手段】複数の空間を個別に温度調整する異種媒体
を同一冷媒を用いて冷却するようにする。これにより異
なる種類の媒体ごとに専用の冷却機構を設けなくて良く
なり、その分、装置構成が小型で済む。
媒体ごとに冷却機構が設けられていたため装置構成が大
型にならざるを得なかつた。 【解決手段】複数の空間を個別に温度調整する異種媒体
を同一冷媒を用いて冷却するようにする。これにより異
なる種類の媒体ごとに専用の冷却機構を設けなくて良く
なり、その分、装置構成が小型で済む。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は例えば露光装置の温
度制御装置に関する。
度制御装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体集積回路の集積度が高まる
につれて、レチクル上のパターンをウエハ上に投影転写
する投影露光装置においても高解像力の縮小投影レンズ
を搭載した投影露光装置が主流となつてきている。すな
わちウエハをステツプ・アンド・リピート方式で移動さ
せてウエハ上の複数の露光領域に順次パターンを投影転
写するステツパーが主流となつてきている。
につれて、レチクル上のパターンをウエハ上に投影転写
する投影露光装置においても高解像力の縮小投影レンズ
を搭載した投影露光装置が主流となつてきている。すな
わちウエハをステツプ・アンド・リピート方式で移動さ
せてウエハ上の複数の露光領域に順次パターンを投影転
写するステツパーが主流となつてきている。
【0003】ところがこのように解像力が高い投影露光
装置の場合、投影レンズの解像力に見合つた重ね合わせ
(ウエハ上の前工程で形成されたパターンとレチクルの
投影像の位置合わせ)精度として、一般には投影レンズ
の最小解像線幅の 1/5〜1/10もの精度が要求されるた
め、ごくわずかな温度変動による露光条件の変化が重ね
合わせ精度の劣化に直結してしまう。例えば超LSI製
造用の 0.8〔μm〕幅のパターンを解像し得るレンズの
場合、0.08〜0.16〔μm〕の重ね合わせ精度が必要とな
る。従つて投影光の光路上における空気の温度変動は屈
折率の変動につながり重ね合わせ精度の劣化に直結して
しまう。
装置の場合、投影レンズの解像力に見合つた重ね合わせ
(ウエハ上の前工程で形成されたパターンとレチクルの
投影像の位置合わせ)精度として、一般には投影レンズ
の最小解像線幅の 1/5〜1/10もの精度が要求されるた
め、ごくわずかな温度変動による露光条件の変化が重ね
合わせ精度の劣化に直結してしまう。例えば超LSI製
造用の 0.8〔μm〕幅のパターンを解像し得るレンズの
場合、0.08〜0.16〔μm〕の重ね合わせ精度が必要とな
る。従つて投影光の光路上における空気の温度変動は屈
折率の変動につながり重ね合わせ精度の劣化に直結して
しまう。
【0004】このため従来の投影露光装置には装置各部
の温度を管理して高精度の重ね合わせを実現する機構が
設けられている。かかる機構の一つが空気を媒体とする
方法であり、もう一つが液体を媒体とする方法である。
従来の投影露光装置ではこのように装置内全体の温度調
整や局所部分、例えば干渉計の温度調整に前者の媒体を
使用し、投影レンズの温度調整に後者の媒体を使用する
ようになされている。因に媒体としての空気は冷凍機よ
り供給される同一の冷媒によつて冷却され、その温度は
ヒーターによつて個別に管理されるようになされてい
る。また媒体としての液体は電子冷却機によつて温度管
理されるようになされている。
の温度を管理して高精度の重ね合わせを実現する機構が
設けられている。かかる機構の一つが空気を媒体とする
方法であり、もう一つが液体を媒体とする方法である。
従来の投影露光装置ではこのように装置内全体の温度調
整や局所部分、例えば干渉計の温度調整に前者の媒体を
使用し、投影レンズの温度調整に後者の媒体を使用する
ようになされている。因に媒体としての空気は冷凍機よ
り供給される同一の冷媒によつて冷却され、その温度は
ヒーターによつて個別に管理されるようになされてい
る。また媒体としての液体は電子冷却機によつて温度管
理されるようになされている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで従来用いられ
ているかかる構成の投影露光装置の場合、媒体ごとに個
別に温度調整系を構築しなければならないため、装置が
大型になるのを避け得ないという問題があつた。本発明
は以上の点を考慮してなされたもので、従来に比して機
構の簡単な温度制御装置を提案しようとするものであ
る。
ているかかる構成の投影露光装置の場合、媒体ごとに個
別に温度調整系を構築しなければならないため、装置が
大型になるのを避け得ないという問題があつた。本発明
は以上の点を考慮してなされたもので、従来に比して機
構の簡単な温度制御装置を提案しようとするものであ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明の温度制御装置においては、複数の空間を個別
に温度調整する異種媒体を同一冷媒を用いて冷却するよ
うにする。これにより異なる種類の媒体ごとに専用の冷
媒を用いた冷却機構を設けなくて良くなり、その分、温
度制御装置の構成を小型化することができる。
め本発明の温度制御装置においては、複数の空間を個別
に温度調整する異種媒体を同一冷媒を用いて冷却するよ
うにする。これにより異なる種類の媒体ごとに専用の冷
媒を用いた冷却機構を設けなくて良くなり、その分、温
度制御装置の構成を小型化することができる。
【0007】
【発明の実施の形態】以下図面について、本発明の一実
施例を詳述する。
施例を詳述する。
【0008】図1に本発明にかかる投影露光装置システ
ムの一実施例を示す。この投影露光装置システム1は、
投影露光装置2Aの温度及び洗浄度を一定に保つチヤン
バ2と、投影露光装置2Aの各部の温度を個別に制御す
る温度調整系3及び4とによつて構成されている。この
うち温度調整系3は空気を媒体とする調整系であり、温
度調整系4は液体を媒体とする調整系である。
ムの一実施例を示す。この投影露光装置システム1は、
投影露光装置2Aの温度及び洗浄度を一定に保つチヤン
バ2と、投影露光装置2Aの各部の温度を個別に制御す
る温度調整系3及び4とによつて構成されている。この
うち温度調整系3は空気を媒体とする調整系であり、温
度調整系4は液体を媒体とする調整系である。
【0009】まず温度調整系3について説明する。温度
調整系3はチヤンバ内全体の温度を全体的に調整する調
整系と、投影露光装置2Aのうち局所部分、例えば干渉
計の温度を部分的に調整する調整系との2種類でなる。
このうちチヤンバ内全体の温度を調整する調整系は、温
度センサ5、温度コントローラ6、ヒーター7、冷却器
8、送風フアン9及びエアフイルタ10によつて構成さ
れており、送風フアン9がチヤンバ2の下部から送り込
んだ空気をチヤンバ2の上部から排気して循環させるこ
とによりチヤンバ内の温度を一定に保つようになされて
いる。
調整系3はチヤンバ内全体の温度を全体的に調整する調
整系と、投影露光装置2Aのうち局所部分、例えば干渉
計の温度を部分的に調整する調整系との2種類でなる。
このうちチヤンバ内全体の温度を調整する調整系は、温
度センサ5、温度コントローラ6、ヒーター7、冷却器
8、送風フアン9及びエアフイルタ10によつて構成さ
れており、送風フアン9がチヤンバ2の下部から送り込
んだ空気をチヤンバ2の上部から排気して循環させるこ
とによりチヤンバ内の温度を一定に保つようになされて
いる。
【0010】因に温度センサ5はチヤンバ2の下部に設
けられた流入孔付近に設けられており、チヤンバ2内に
流入される空気の温度を正確に検出できるようになつて
いる。また温度コントローラ6はこの温度センサ5の検
出結果に基づいてヒーター7をスイツチング制御し、冷
却器8で画一的に冷却された空気の温度が所定の温度に
なるように制御するようになされている。
けられた流入孔付近に設けられており、チヤンバ2内に
流入される空気の温度を正確に検出できるようになつて
いる。また温度コントローラ6はこの温度センサ5の検
出結果に基づいてヒーター7をスイツチング制御し、冷
却器8で画一的に冷却された空気の温度が所定の温度に
なるように制御するようになされている。
【0011】一方、投影露光装置2Aのうち局所部分の
温度を調整する調整系は、温度センサ11、温度コント
ローラ12、ヒーター13、冷却器14、送風フアン1
5及びエアフイルタ16によつて構成されており、送風
フアン15が局所部分に送り込む空気をチヤンバ2の上
部から排気循環させることにより局所部分の温度を一定
に保つようになされている。この調整系の場合にも、温
度センサ11の検出結果に基づいてヒーター13をスイ
ツチング制御し、冷却器14で画一的に冷却された空気
の温度が所定の温度になるように制御するようになされ
ている。
温度を調整する調整系は、温度センサ11、温度コント
ローラ12、ヒーター13、冷却器14、送風フアン1
5及びエアフイルタ16によつて構成されており、送風
フアン15が局所部分に送り込む空気をチヤンバ2の上
部から排気循環させることにより局所部分の温度を一定
に保つようになされている。この調整系の場合にも、温
度センサ11の検出結果に基づいてヒーター13をスイ
ツチング制御し、冷却器14で画一的に冷却された空気
の温度が所定の温度になるように制御するようになされ
ている。
【0012】続いて温度調整系4について説明する。温
度調整系4は温度センサ17、温度コントローラ18、
ヒーター19、冷却器20及びポンプ21によつて構成
されており、ポンプ21が循環させる液体を媒体として
投影レンズの温度を一定に制御するようになされてい
る。なおこの調整系の場合にも、温度センサ17の検出
結果に基づいてヒーター19をスイツチング制御し、冷
却器20で画一的に冷却された液体の温度が所定の温度
になるように制御するようになされている。
度調整系4は温度センサ17、温度コントローラ18、
ヒーター19、冷却器20及びポンプ21によつて構成
されており、ポンプ21が循環させる液体を媒体として
投影レンズの温度を一定に制御するようになされてい
る。なおこの調整系の場合にも、温度センサ17の検出
結果に基づいてヒーター19をスイツチング制御し、冷
却器20で画一的に冷却された液体の温度が所定の温度
になるように制御するようになされている。
【0013】さて以上が各調整系の構成であるが、この
実施例に係る投影露光装置システム1では、冷却器8、
14及び20に一つの冷媒が共通して供給されるように
なされている。すなわち空気の冷却にも液体の冷却にも
冷凍機22から循環的に供給される冷媒(例えば代替フ
ロンガス)23によつて冷却されるようになされてい
る。なお冷媒23は冷却水24によつて冷却されるよう
になされている。このように投影露光装置システム1で
は冷媒系統が共用化されるので、従来のように空気媒体
冷却系と液体媒体冷却系とのそれぞれに冷却水を供給し
なくて済むようになつている。
実施例に係る投影露光装置システム1では、冷却器8、
14及び20に一つの冷媒が共通して供給されるように
なされている。すなわち空気の冷却にも液体の冷却にも
冷凍機22から循環的に供給される冷媒(例えば代替フ
ロンガス)23によつて冷却されるようになされてい
る。なお冷媒23は冷却水24によつて冷却されるよう
になされている。このように投影露光装置システム1で
は冷媒系統が共用化されるので、従来のように空気媒体
冷却系と液体媒体冷却系とのそれぞれに冷却水を供給し
なくて済むようになつている。
【0014】また従来のように空気媒体冷却系と液体媒
体冷却系とを別々に冷却する場合には、液体を冷却する
ために電子冷却機及び放熱機が必要であつたが、本実施
例のように構成することによりこれらの機器をなくすこ
とができ、装置の小型化を実現することができる。また
空気媒体冷却系と液体媒体冷却系とのそれぞれについて
同じ構成の冷却機構(冷却器及びヒーター)を用いるこ
とができるので、部品の共用化も可能であり、製造コス
トの観点からも利点がある。また保守の際に必要となる
部品の種類も減るので保守の際にも優位である。
体冷却系とを別々に冷却する場合には、液体を冷却する
ために電子冷却機及び放熱機が必要であつたが、本実施
例のように構成することによりこれらの機器をなくすこ
とができ、装置の小型化を実現することができる。また
空気媒体冷却系と液体媒体冷却系とのそれぞれについて
同じ構成の冷却機構(冷却器及びヒーター)を用いるこ
とができるので、部品の共用化も可能であり、製造コス
トの観点からも利点がある。また保守の際に必要となる
部品の種類も減るので保守の際にも優位である。
【0015】なお上述の実施例においては、異種媒体を
用いる温度制御装置の適用例として投影露光装置につい
て述べたが、本発明はこれに限らず、他の装置にも適用
し得る。また上述の実施例においては、空気を媒体する
温度調整系3によつてチヤンバ内全体の温度を調整する
と共に、局所部分の温度を部分的に調整する場合につい
て述べたが、本発明はこれに限らず、一方のみの温度を
調整する場合にも適用し得る。
用いる温度制御装置の適用例として投影露光装置につい
て述べたが、本発明はこれに限らず、他の装置にも適用
し得る。また上述の実施例においては、空気を媒体する
温度調整系3によつてチヤンバ内全体の温度を調整する
と共に、局所部分の温度を部分的に調整する場合につい
て述べたが、本発明はこれに限らず、一方のみの温度を
調整する場合にも適用し得る。
【0016】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、複数の空
間を個別に温度調整する異種媒体を同一冷媒を用いて冷
却することにより、異なる種類の媒体ごとに専用の冷却
機構を設けなくて良くなり、その分、装置構成が小型で
済む温度制御装置を実現することができる。
間を個別に温度調整する異種媒体を同一冷媒を用いて冷
却することにより、異なる種類の媒体ごとに専用の冷却
機構を設けなくて良くなり、その分、装置構成が小型で
済む温度制御装置を実現することができる。
【図1】本発明による温度制御装置を用いた装置の一例
を示す略線的断面図である。
を示す略線的断面図である。
1……投影露光装置システム、2……チヤンバ、2A…
…投影露光装置、3、4……温度調整系、5、11、1
7……温度センサ、6、12、18……温度コントロー
ラ、7、13、19……ヒーター、8、14、20……
冷却器、9、15……送風フアン、10、16……エア
フイルタ、21……ポンプ、22……冷凍機、23……
冷媒、24……冷却水。
…投影露光装置、3、4……温度調整系、5、11、1
7……温度センサ、6、12、18……温度コントロー
ラ、7、13、19……ヒーター、8、14、20……
冷却器、9、15……送風フアン、10、16……エア
フイルタ、21……ポンプ、22……冷凍機、23……
冷媒、24……冷却水。
Claims (2)
- 【請求項1】複数の空間を個別に温度調整する異種媒体
を同一冷媒を用いて冷却する冷却手段を具えることを特
徴とする温度制御装置。 - 【請求項2】所定のパターンが形成されたマスクを照明
手段によつて照明し、該パターンの像を感光基板上に投
影する露光装置において、 装置内の第1の空間を第1の媒体を用いて温度調整する
第1の温度調整系と、 装置内の第2の空間を前記第1の媒体と種類の異なる第
2の媒体を用いて温度調整する第2の温度調整系と、 前記第1及び第2の媒体を同一冷媒によつて冷却する冷
却手段とを具えることを特徴とする露光装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8103599A JPH09270384A (ja) | 1996-03-29 | 1996-03-29 | 温度制御装置及び露光装置 |
US08/828,386 US5974816A (en) | 1996-03-29 | 1997-03-28 | Temperature-control method and apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8103599A JPH09270384A (ja) | 1996-03-29 | 1996-03-29 | 温度制御装置及び露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09270384A true JPH09270384A (ja) | 1997-10-14 |
Family
ID=14358240
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8103599A Pending JPH09270384A (ja) | 1996-03-29 | 1996-03-29 | 温度制御装置及び露光装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5974816A (ja) |
JP (1) | JPH09270384A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7106414B2 (en) | 2002-04-24 | 2006-09-12 | Nikon Corporation | Exposure system and method for manufacturing device |
JP2006261273A (ja) * | 2005-03-16 | 2006-09-28 | Canon Inc | チャンバおよびこれを用いた露光装置 |
JP2008292761A (ja) * | 2007-05-24 | 2008-12-04 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4256031B2 (ja) * | 1999-07-27 | 2009-04-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置およびその温度制御方法 |
JP2003195476A (ja) * | 2001-12-27 | 2003-07-09 | Toshiba Corp | パターン形成装置およびパターン形成方法 |
US6742345B2 (en) * | 2002-03-27 | 2004-06-01 | The Penray Companies, Inc. | Temperature control system using aqueous 1,3-propanediol solution |
US7738074B2 (en) * | 2003-07-16 | 2010-06-15 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7304715B2 (en) | 2004-08-13 | 2007-12-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
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