JP3285340B2 - Developer composition - Google Patents
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- JP3285340B2 JP3285340B2 JP2000117769A JP2000117769A JP3285340B2 JP 3285340 B2 JP3285340 B2 JP 3285340B2 JP 2000117769 A JP2000117769 A JP 2000117769A JP 2000117769 A JP2000117769 A JP 2000117769A JP 3285340 B2 JP3285340 B2 JP 3285340B2
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、現像液組成物に関
し、特に集積回路、プリント基板、カラー液晶表示装
置、カラーフィルターなどの分野に応用され、感光性樹
脂組成物の膜塗布段階と露光段階後に、未露光部位に現
像によりパターン形成をする現像液組成物に関するもの
である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a developer composition, and more particularly to an application step for integrated circuits, printed circuit boards, color liquid crystal displays, color filters, and the like. The present invention relates to a developer composition for forming a pattern on an unexposed portion by development.
【０００２】[0002]
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】カラー
フィルターを製造する場合、一般には基板上に感光性組
成物を塗布する。それらの塗布方法には、染色法、印刷
法、電着法、顔料分散法などがある。顔料分散法を例に
とると、まず、顔料分散液、溶剤、感光性樹脂と他の添
加剤などを混合してカラー感光性樹脂組成物を作製し、
当該感光性樹脂組成物を基板上に塗布し、且つプリべー
クを行い、マスクにて露光後に、現像液にて未露光部分
を除去することにより、所望のカラーパターンが得られ
る。よく使用される現像方式には、浸漬現像、揺動現
像、スプレー現像、パドル現像などが挙げられる。2. Description of the Related Art When a color filter is manufactured, a photosensitive composition is generally applied onto a substrate. These coating methods include a dyeing method, a printing method, an electrodeposition method, and a pigment dispersion method. Taking the pigment dispersion method as an example, first, a pigment dispersion, a solvent, a photosensitive resin and other additives are mixed to prepare a color photosensitive resin composition,
A desired color pattern can be obtained by applying the photosensitive resin composition on a substrate, performing pre-baking, exposing with a mask, and removing an unexposed portion with a developing solution. Commonly used development methods include immersion development, swing development, spray development, and paddle development.
【０００３】しかしながら、従来の現像液の技術では、
感光性樹脂組成物は膜塗布とプリべークと露光が実行さ
れると、アルカリ性現像液によって未露光の不要な塗膜
部分が溶解除去されるが、現像の際に未現像部分に粒子
又は未溶解物が残存しやすく、現像後に適正なパターン
を形成できない場合が多い。現像性を改善するために特
開平１０−１０７４９号には、水とアルカリ性化合物と
陰イオン界面活性剤とからなる現像液が提案されてい
る。この種の陰イオン界面活性剤の現像液は不要な塗膜
部の除去効果があり現像性が改善されるものの、その現
像液の消泡性、操作温度と着色感光性樹脂組成物の分散
性が劣っているので、使用にはあまり好ましくない。こ
こで、現像液中での着色感光性樹脂組成物の分散性が重
要な理由は、通常現像工程に用いられた現像液はフィル
ターでろ過して回収され、再び現像工程に用いられるの
で、着色感光性樹脂組成物の現像液中での分散性が悪い
場合、フィルターへの負荷がかかり過ぎるし、現像性も
悪化するからである。また、現像工程における操作温度
については、できるだけ温度幅が広い方が好ましい。However, in the conventional developer technology,
When the photosensitive resin composition is subjected to film coating, prebaking and exposure, the unexposed unnecessary coating portion is dissolved and removed by the alkaline developer, but particles or particles in the undeveloped portion during development are removed. In many cases, undissolved matter remains and an appropriate pattern cannot be formed after development. In order to improve the developability, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-10749 proposes a developer comprising water, an alkaline compound and an anionic surfactant. The developer of this type of anionic surfactant has the effect of removing unnecessary coating portions and improves the developability, but the defoaming property of the developer, the operating temperature and the dispersibility of the colored photosensitive resin composition Is inferior in use, and is not so preferable for use. Here, the reason why the dispersibility of the colored photosensitive resin composition in the developer is important is that the developer used in the normal developing step is collected by filtration with a filter, and used again in the developing step. If the dispersibility of the photosensitive resin composition in the developer is poor, the load on the filter is excessively increased, and the developability also deteriorates. The operating temperature in the developing step is preferably as wide as possible.
【０００４】そのため、本発明は現像性が良好であり、
消泡性に優れ、操作温度幅が広く、しかも現像液中での
着色感光性樹脂組成物の分散性に優れ、残渣を生じな
い、感光性樹脂組成物に利用できる現像液組成物を提供
することを目的とする。Therefore, the present invention has good developability,
Provided is a developer composition which is excellent in defoaming properties, has a wide operating temperature range, is excellent in dispersibility of a colored photosensitive resin composition in a developer, does not generate a residue, and can be used as a photosensitive resin composition. The purpose is to:
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明者は、前記の感光
性樹脂組成物の現像液の使用時に、現像性と共に、消泡
性、着色感光性樹脂組成物の分散性の改善と使用温度の
性質を検討することにより、前記諸課題を一々改善し
た。Means for Solving the Problems The present inventors have found that, when a developer of the above-mentioned photosensitive resin composition is used, improvement in defoaming property, dispersibility of the colored photosensitive resin composition, and use temperature can be achieved. By examining the properties of the above, each of the above problems was improved.
【０００６】すなわち、本発明は、感光性樹脂組成物の
露光後にパターンを形成するための現像液組成物に関
し、（Ａ）水９１．５ないし９９．９８重量％と、
（Ｂ）アルカリ性化合物０．０１ないし５重量％と、
（Ｃ）下記一般式（１）で表される非イオン性界面活性
剤０．０１ないし３．５重量％とを含有する、感光性樹
脂露光後パターン形成時に用いられる現像液組成物を提
供する。That is, the present invention relates to a developer composition for forming a pattern after exposure of a photosensitive resin composition, wherein (A) 91.5 to 99.98% by weight of water;
(B) 0.01 to 5% by weight of an alkaline compound;
(C) A developer composition for use in pattern formation after exposure of a photosensitive resin, comprising 0.01 to 3.5% by weight of a nonionic surfactant represented by the following general formula (1): .
【０００７】[0007]
【化２】 Embedded image
【０００８】〔式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5は、そ
れぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、
アラルキル基、ハロゲン原子を示し、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，
Ｒ4，Ｒ 5の中の少なくとも２つはアラルキル基及び／又
はアリール基を示す。Ｒ6はエチレン基、プロピレン
基、ブチレン基を示し、Ｒ7は水素原子、アセチル基、
アルキル基、アリール基を示し、ｎは６〜２３の整数を
示す。〕[Wherein, R1, RTwo, RThree, RFour, RFiveIs
Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group,
An aralkyl group or a halogen atom;1, RTwo, RThree,
RFour, R FiveAt least two of the aralkyl groups and / or
Represents an aryl group. R6Is ethylene group, propylene
A butylene group, R7Is a hydrogen atom, an acetyl group,
Represents an alkyl group or an aryl group, and n is an integer of 6 to 23.
Show. ]
【０００９】[0009]
【発明の実施の形態】以下に、本発明に使用される各組
成成分（Ａ）〜（Ｃ）について具体的に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Each of the components (A) to (C) used in the present invention will be specifically described below.
【００１０】（Ａ）水 現像液の分散媒体として一般には有機溶剤又は水が用い
られる。そのうち、現像液によく使用される有機溶剤に
は、例えばトリクロルエタンのハロゲン系溶剤などがあ
る。しかしながら、ハロゲン系溶剤は大気に悪影響を及
ぼすことが懸念され、且つ着火性が強く、しかも悪臭を
放つことがあるので、環境保護や安全、衛生などのすべ
ての点で不利である。他方、水を分散媒体とする現像液
は毒性が少なく、着火性がなく、管理が容易、廃液処理
が便利で且つ低コストなどの長所を有するので、現在で
は現像液の主要な分散媒体となっている。(A) Water Generally, an organic solvent or water is used as a dispersion medium of a developer. Among them, examples of the organic solvent often used in the developer include a halogen-based solvent of trichloroethane. However, halogen-based solvents are feared to have an adverse effect on the atmosphere, are highly ignitable, and may emit a foul odor, and are disadvantageous in all aspects such as environmental protection, safety and hygiene. On the other hand, a developer using water as a dispersion medium has advantages such as low toxicity, non-ignitability, easy management, convenient disposal of waste liquid, and low cost. ing.
【００１１】（Ｂ）アルカリ性化合物 本発明のアルカリ性化合物の作用は、非パターン部分の
樹脂を溶解することである。本発明に適用するアルカリ
性化合物は、有機アルカリ性化合物と無機アルカリ性化
合物の２種類に分けられる。そのうち、有機アルカリ性
化合物は、テトラメチルアンモニウム塩類と有機アミン
とから選ばれる。テトラメチルアンモニウム塩には、テ
トラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒド
ロキシエチルアンモニウムヒドロキシドなどが挙げられ
る。また、有機アミンとしては、モノメチルアミン、ジ
メチルアミン、トリメチルアミン、モノイソプロピルア
ミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミンなどが
挙げられる。また、無機アルカリ性化合物としては、ア
ルカリ金属化合物とアルカリ土類金属化合物として、例
えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸水素二アンモニ
ウム、リン酸水素二カリウム、リン酸リチウム、ケイ酸
リチウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸ナトリウム、炭酸リ
チウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリ
ウム、水酸化バリウム等が挙げられ、また水酸化アンモ
ニウムなどの化合物及びこれらを少なくとも１種含有す
る混合物などが挙げられる。アクリル酸系樹脂を感光性
樹脂のバインダーとする場合、アルカリ性化合物として
はアルカリ金属水酸化物によって調製したアルカリ性水
溶液の方がより好ましい。(B) Alkaline compound The action of the alkaline compound of the present invention is to dissolve the resin in the non-patterned portion. The alkaline compound applied to the present invention is classified into two types, an organic alkaline compound and an inorganic alkaline compound. Among them, the organic alkaline compound is selected from tetramethylammonium salts and organic amines. Examples of the tetramethylammonium salt include tetramethylammonium hydroxide, trimethylhydroxyethylammonium hydroxide and the like. Examples of the organic amine include monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, and ethanolamine. Examples of the inorganic alkaline compound include alkali metal compounds and alkaline earth metal compounds such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, disodium hydrogen phosphate, diammonium hydrogen phosphate, and dipotassium hydrogen phosphate. , Lithium phosphate, lithium silicate, potassium silicate, sodium silicate, lithium carbonate, potassium carbonate, lithium borate, sodium borate, barium hydroxide and the like, and compounds such as ammonium hydroxide and at least these. A mixture containing one kind is exemplified. When the acrylic resin is used as a binder for the photosensitive resin, the alkaline compound is more preferably an alkaline aqueous solution prepared with an alkali metal hydroxide.
【００１２】本発明の組成物を感光性樹脂組成物の現像
液に利用する場合、前記（Ｂ）アルカリ性化合物の使用
量が有効分換算で０．０１〜５重量％であり、好ましく
は０．０２〜３．５重量％、更に好ましくは０．０３〜
１．５重量％である。（Ｂ）のアルカリ性化合物の使用
量が０．０１重量％より低い場合、現像効力が足りな
く、現像性が劣る。それに対して、使用量が５重量％よ
り高くなる場合、現像効力が効き過ぎ、製造プロセスの
コントロールが難しくなり、現像性が好ましくない。When the composition of the present invention is used in a developer for a photosensitive resin composition, the amount of the alkaline compound (B) used is 0.01 to 5% by weight in terms of an effective component, preferably 0.1 to 5% by weight. 02 to 3.5% by weight, more preferably 0.03 to 3.5% by weight
1.5% by weight. When the use amount of the alkaline compound (B) is lower than 0.01% by weight, the developing effect is insufficient and the developability is poor. On the other hand, if the amount used is higher than 5% by weight, the developing effect becomes too effective, and it becomes difficult to control the production process, and the developability is not preferable.
【００１３】（Ｃ）非イオン性界面活性剤 本発明では、下記一般式（１）で表される非イオン性界
面活性剤（Ｃ）が用いられる。(C) Nonionic surfactant In the present invention, a nonionic surfactant (C) represented by the following general formula (1) is used.
【００１４】[0014]
【化３】 Embedded image
【００１５】式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5は、それ
ぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、ア
ラルキル基、ハロゲン原子を示し、そのうち少なくとも
２つはアリール基及び／又はアラルキル基を示す。好ま
しくは、一般式（１）におけるＲ2，Ｒ4が、アラルキル
基又はアリール基である化合物、更にフェネチル基（フ
ェニルエチル基）である化合物が挙げられる。また、好
ましくは一般式（１）におけるＲ1，Ｒ3，Ｒ5が、アラ
ルキル基又はアリール基である化合物、更にフェネチル
基（フェニルエチル基）である化合物が挙げられる。Ｒ
1〜Ｒ5にアリール基又はアラルキル基を一切含まない場
合、又は単に１個だけアリール基又はアラルキル基を有
する場合は、組成物のカラーレジストの分散性が悪くな
り、残渣が増加する傾向がある。また、一般式（１）で
表される非イオン性界面活性剤（Ｃ）以外の化合物を用
いた場合には、カラーレジストの分散性が損なわれ、残
渣が増加する傾向が甚だしくなる。In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, or a halogen atom, at least two of which are aryl. And / or an aralkyl group. Preferably, a compound in which R 2 and R 4 in the general formula (1) are an aralkyl group or an aryl group, and further a compound in which R 2 and R 4 are a phenethyl group (phenylethyl group). Further, preferably, a compound in which R 1 , R 3 , and R 5 in the general formula (1) are an aralkyl group or an aryl group, and further a compound in which a phenethyl group (phenylethyl group) is used. R
1 to R 5 when containing no aryl group or an aralkyl group, or if simply having one only aryl group or an aralkyl group, deteriorates the dispersibility of the color resist of the composition, tend residue increases . In addition, when a compound other than the nonionic surfactant (C) represented by the general formula (1) is used, the dispersibility of the color resist is impaired, and the tendency for the residue to increase becomes severe.
【００１６】また、一般式（１）において、Ｒ6はエチ
レン基、プロピレン基、ブチレン基を示し、Ｒ7は水素
原子、アセチル基、アルキル基、アリール基を示す。ｎ
は６〜２３の整数で、好ましくは６〜１８、更に好まし
くは６〜１４である。ｎの値が６より低くなる場合、当
該非イオン性界面活性剤（Ｃ）と水（Ａ）との溶解性が
劣り、現像効果が悪くなる。また、ｎの値が２３より高
くなる場合、着色感光性樹脂組成物の分散性が悪くな
る。In the general formula (1), R 6 represents an ethylene group, a propylene group or a butylene group, and R 7 represents a hydrogen atom, an acetyl group, an alkyl group or an aryl group. n
Is an integer of 6 to 23, preferably 6 to 18, and more preferably 6 to 14. If the value of n is lower than 6, the solubility of the nonionic surfactant (C) and water (A) is poor, and the developing effect is poor. When the value of n is higher than 23, the dispersibility of the colored photosensitive resin composition becomes poor.
【００１７】本発明の非イオン性界面活性剤（Ｃ）とし
て用いられる一般式（１）で表される化合物は、下記に
示すものがあるが、これらに限られたものではない。
１）ポリオキシエチレン−３，５−ビス（１−フェニル
エチル）フェニルエーテルで、一般式（１）中のｎ値が
９のもの。具体的な化学式は下記の通りである。The compounds represented by the general formula (1) used as the nonionic surfactant (C) of the present invention include, but are not limited to, the following.
1) Polyoxyethylene-3,5-bis (1-phenylethyl) phenyl ether having an n value of 9 in the general formula (1). The specific chemical formula is as follows.
【００１８】[0018]
【化４】 Embedded image
【００１９】２）ポリオキシエチレン−３，５−ビス
（１−フェニルエチル）フェニルエーテルで、一般式
（１）中のｎ値が１２のもの。具体的な化学式は下記の
通りである。2) Polyoxyethylene-3,5-bis (1-phenylethyl) phenyl ether having an n value of 12 in the general formula (1). The specific chemical formula is as follows.
【００２０】[0020]
【化５】 Embedded image
【００２１】３）ポリオキシエチレン−２，４，６−ト
リス（１−フェニルエチル）フェニルエーテルで、一般
式（１）中のｎ値が９のもの。具体的な化学式は下記の
通りである。3) Polyoxyethylene-2,4,6-tris (1-phenylethyl) phenyl ether having an n value of 9 in the general formula (1). The specific chemical formula is as follows.
【００２２】[0022]
【化６】 Embedded image
【００２３】４）ポリオキシエチレン−２，４，６−ト
リス（１−フェニルエチル)フェニルエーテルで、一般
式（１）中のｎ値が１２のもの。その具体的な化学式は
下記の通りである。4) Polyoxyethylene-2,4,6-tris (1-phenylethyl) phenyl ether having an n value of 12 in the general formula (1). The specific chemical formula is as follows.
【００２４】[0024]
【化７】 Embedded image
【００２５】本発明の現像液組成物において、前記一般
式（Ｉ）で表される非イオン性界面活性剤（Ｃ）の使用
量は０．０１〜３．５重量％であり、好ましくは０．０
３〜２．５重量％であり、更に好ましくは０．０４〜
１．５重量％である。非イオン性界面活性剤（Ｃ）の使
用量が０．０１重量％未満の場合、着色感光性樹脂組成
物の分散性が劣り、残渣が生じやすい。そして、前記非
イオン性界面活性剤（Ｃ）の使用量が３．５重量％を超
える場合、消泡性が悪くなり、現像の作業性に影響を及
ぼす。In the developer composition of the present invention, the amount of the nonionic surfactant (C) represented by the general formula (I) is 0.01 to 3.5% by weight, preferably 0 to 3.5% by weight. .0
3 to 2.5% by weight, more preferably 0.04 to
1.5% by weight. When the amount of the nonionic surfactant (C) used is less than 0.01% by weight, the dispersibility of the colored photosensitive resin composition is poor, and residues are likely to be generated. If the amount of the nonionic surfactant (C) exceeds 3.5% by weight, the defoaming property is deteriorated, and the workability of development is affected.
【００２６】本発明では、一般式（１）で表される非イ
オン性界面活性剤のほかに、必要に応じ、他の界面活性
剤、例えば、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリ
オキシエチレンソルビタン脂肪酸エーテル、ポリオキシ
エチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキ
ルアリールエーテル、ポリオキシエチレンスチレンフェ
ノールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアミド等
の化合物又はその混合物も適量に使用できる。In the present invention, in addition to the nonionic surfactant represented by the general formula (1), if necessary, other surfactants such as polyoxyethylene fatty acid ester and polyoxyethylene sorbitan fatty acid ether , Polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl aryl ether, polyoxyethylene styrene phenol ether, polyoxyethylene alkyl amide and the like or a mixture thereof can also be used in an appropriate amount.
【００２７】本発明の現像液は着色剤を含有する着色感
光性樹脂に適用する。前記感光性樹脂には特別な制限は
なく、ネガ型又はポジ型双方の感光性樹脂組成物に利用
可能である。通常、着色感光性樹脂組成物の配合は有機
又は無機の顔料（着色剤）、アルカリ性の可溶性バイン
ダー樹脂、感光性化合物と溶剤などからなる。前記アル
カリ性の可溶性バインダー樹脂は、ノボラック樹脂、ア
クリル酸樹脂、無水マレイン酸又はその半エステルのポ
リマー、又はポリヒドロキシスチレンなどが挙げられ
る。そのうち、アクリル酸系樹脂が一番好ましい。前記
アクリル酸系樹脂はメタクリレート及び／又はメタクリ
ル酸を主成分とするものが挙げられ、具体的には下記の
ようなものがある。 （１）メチルメタクリレート／ヒドロキシスチレン／ス
チレン／メタクリル酸共重合体。 （２）べンジルメタクリレート／メタクリル酸／スチレ
ン共重合体。 （３）メチルメタクリレート／メタクリル酸／スチレン
共重合体。 （４）べンジルメタクリレート／メタクリル酸／ポリス
チレンマクロモノマー共重合体。 （５）メチルメタクリレート／メタクリル酸／ポリスチ
レンマクロモノマー共重合体。 （６）メチルメタクリレート／べンジルメタクリレート
／メタクリル酸共重合体。 （７）メチルメタクリレート／べンジルメタクリレート
／２−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体。The developer of the present invention is applied to a colored photosensitive resin containing a colorant. The photosensitive resin is not particularly limited, and can be used for both negative and positive photosensitive resin compositions. Usually, the colored photosensitive resin composition is composed of an organic or inorganic pigment (colorant), an alkaline soluble binder resin, a photosensitive compound and a solvent. Examples of the alkaline soluble binder resin include a novolak resin, an acrylic acid resin, a polymer of maleic anhydride or a half ester thereof, and polyhydroxystyrene. Among them, acrylic resin is most preferable. Examples of the acrylic resin include those having methacrylate and / or methacrylic acid as a main component, and specific examples include the following. (1) Methyl methacrylate / hydroxystyrene / styrene / methacrylic acid copolymer. (2) Benzyl methacrylate / methacrylic acid / styrene copolymer. (3) Methyl methacrylate / methacrylic acid / styrene copolymer. (4) Benzyl methacrylate / methacrylic acid / polystyrene macromonomer copolymer. (5) Methyl methacrylate / methacrylic acid / polystyrene macromonomer copolymer. (6) Methyl methacrylate / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer. (7) Methyl methacrylate / benzyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer.
【００２８】[0028]
【実施例】［ベース基材の製造例］以下の成分を用いて
感光性樹脂組成物を調製し、以下の手順でベース基材を
製造した。 ＜組成成分＞ ・バインダー：メタクリル酸−ベンジルメタクリレート
共重合体 ８．４０ｇ ・フォトレジスト：ジペンタエリスリトールヘキサ（メ
タ）アクリレート ０．２４ｇ ・光開始剤：２−ベンジル−２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミ
ノ−１−（４−モルホリノ−フェニル）−１−ブタノン
０．１４ｇ及び４，４’−ビス（ジエチルアミン）ベ
ンゾフェノン ０．０４ｇ ・有機溶剤：プロピレングリコールメチルエーテルアセ
テート ９．４５ｇ ・顔料：ＰＲ１７７（チバガイギー社、商品名：Ｒｅｄ
Ａ２Ｂ） ４．００ｇ 前記各成分を攪拌機によって混合して得た感光性樹脂組
成物を、スピンコーターによってガラス基板に塗布し、
且つ１１０℃にてプリべークし、それから２００ｍJ／
ｃｍ2の紫外線によって露光し、パターンを形成するた
めのベース基材を製造した。EXAMPLES [Production Example of Base Substrate] A photosensitive resin composition was prepared using the following components, and a base substrate was produced by the following procedure. <Composition components> Binder: methacrylic acid-benzyl methacrylate copolymer 8.40 g Photoresist: 0.24 g of dipentaerythritol hexa (meth) acrylate Photoinitiator: 2-benzyl-2-N, N-dimethylamino -1- (4-morpholino-phenyl) -1-butanone 0.14 g and 4,4'-bis (diethylamine) benzophenone 0.04 g Organic solvent: propylene glycol methyl ether acetate 9.45 g Pigment: PR177 (Ciba-Geigy) , Product name: Red
A2B) 4.00 g The photosensitive resin composition obtained by mixing the above components with a stirrer was applied to a glass substrate by a spin coater,
And pre-baked at 110 ° C, then 200mJ /
Exposure was performed with UV light of cm 2 to produce a base substrate for forming a pattern.
【００２９】［実施例１］製造例で製造したベース基材
を、表１の実施例１に示す現像液に約２分間浸漬し、そ
れから２００℃にて６０分間焼き付ける。こうすると、
前記ガラス基材に膜が形成される。本実施例の現像液は
９９．２重量％の水と、０．０７重量％の水酸化カリウ
ムと０．１重量％のポリエチレンオキサイド−３，５−
ジフェニルエチルフェニルエーテル〔エチレンオキシド
平均付加モル数（以下ＥＯｐと表記する）９〕を含有す
る。現像後の物性を以下の方法で評価した結果を表２に
示す。Example 1 The base material produced in the production example was immersed in the developer shown in Example 1 in Table 1 for about 2 minutes, and then baked at 200 ° C. for 60 minutes. In this case,
A film is formed on the glass substrate. The developer of this example was 99.2% by weight of water, 0.07% by weight of potassium hydroxide and 0.1% by weight of polyethylene oxide-3,5-.
Contains diphenylethyl phenyl ether [average number of moles of ethylene oxide added (hereinafter referred to as EOp) 9]. Table 2 shows the results of evaluating the physical properties after development by the following methods.
【００３０】＜現像液の評価法＞ １．現像性 ガラス基板におけるパターンの線幅の状態を観察する。 ○：パターンの線幅が完璧。 ×：パターンの線幅が不完全で、ささくれがある。 ２．残渣 ２５０倍の顕微鏡によってガラス基板における非パター
ン部分に残渣があるかをチェックする。 ○：残渣がない。 △：残渣が少ない ×：残渣が多い ３．消泡性 １００ｍｌの計量容器に、得られた現像液２０ｃｃを入
れ、垂直式振動機によって所定の周波数で３０分間振動
させ、その後１時間静置後に泡の高さを測る。以下の基
準に従って泡の高さを評価する。 ○：泡の高さが１．５ｃｍ未満 ×：泡の高さが１．５ｃｍ以上 ４．操作温度の測定 １００ｍｌの計量容器に、得られた現像液２０ｃｃを入
れると共に、水銀温度計を挿入し、その後、この容器を
徐々に加熱し、現像液が濁った時の温度を記録し、それ
から室温で冷却させ、現像液が再び澄んだ時の温度を記
録し、前記混濁温度と前記清澄温度の平均値を取り、以
下の基準に従って評価を行う。 ○：４５℃以上 △：３８℃以上４５℃未満 ×：３８℃未満 ５．分散性 現像液２５０ｇに１ｇの製造例で用いた着色感光性樹脂
組成物を加えて混合後、５μｍの濾紙を用いてろ過を行
い、濾紙を１０５℃にて１時間乾燥し、濾紙上に残存し
たろ過残渣の重さを量る。その重さによって下記のよう
な基準評価を行う。 ○：ろ過残渣の重量が０．０４ｇ未満 ×：ろ過残渣の重量が０．０４ｇ以上。<Evaluation Method of Developer> Developability Observe the line width of the pattern on the glass substrate. ：: The line width of the pattern is perfect. ×: The line width of the pattern is incomplete, and there is scum. 2. Residue It is checked with a microscope of 250 times whether there is a residue in a non-patterned portion of the glass substrate. ：: There is no residue. Δ: Less residue ×: More residue Defoaming property 20 cc of the obtained developer is placed in a 100 ml measuring container, and vibrated at a predetermined frequency for 30 minutes by a vertical vibrator. After standing for 1 hour, the height of the foam is measured. The height of the foam is evaluated according to the following criteria. ○: Foam height is less than 1.5 cm ×: Foam height is 1.5 cm or more Measurement of operating temperature Into a 100 ml measuring container, put 20 cc of the obtained developer and insert a mercury thermometer, then gradually heat the container, record the temperature when the developer becomes cloudy, and then After cooling at room temperature, the temperature at which the developer becomes clear again is recorded, the average value of the turbidity temperature and the clarification temperature is taken, and the evaluation is performed according to the following criteria. ：: 45 ° C. or more Δ: 38 ° C. or more and less than 45 ° C. ×: less than 38 ° C. Dispersibility 1 g of the colored photosensitive resin composition used in the Production Example was added to 250 g of the developer, mixed, and filtered using a 5 μm filter paper. The filter paper was dried at 105 ° C. for 1 hour, and remained on the filter paper. The filtered residue is weighed. The following standard evaluation is performed according to the weight. ：: The weight of the filtration residue is less than 0.04 g. X: The weight of the filtration residue is 0.04 g or more.
【００３１】顕微鏡による基板におけるパターン観察の
結果、実施例１の組成物はその現像性が良好で、残渣が
なく、しかも現像液の消泡性と操作温度と分散性とがす
べて優れていた。As a result of observing the pattern on the substrate with a microscope, the composition of Example 1 had good developability, had no residue, and was excellent in defoaming property, operating temperature and dispersibility of the developing solution.
【００３２】［実施例２〜５］表１の現像液の組成を変
えるほかは、実施例１と同じ条件で、表１に示すように
各成分とその配合量を変更して評価を行った。現像後の
物性を実施例１と同様に評価した結果を表２に示す。実
施例１と同様に、その現像性がよく、残渣がなく、しか
も現像液の消泡性と操作温度と分散性とがすべて優れて
いた。[Examples 2 to 5] Evaluations were made under the same conditions as in Example 1 except that the composition of the developer shown in Table 1 was changed, and the components and their amounts were changed as shown in Table 1. . Table 2 shows the results of evaluating the physical properties after development in the same manner as in Example 1. As in Example 1, the developing property was good, there was no residue, and the defoaming property, operating temperature and dispersibility of the developing solution were all excellent.
【００３３】［比較例１〜９］現像液の組成を表１に示
すように変更して実施例１と同様な操作を行った。現像
後の物性を実施例１と同様に評価した結果を表２に示
す。Comparative Examples 1 to 9 The same operation as in Example 1 was performed except that the composition of the developer was changed as shown in Table 1. Table 2 shows the results of evaluating the physical properties after development in the same manner as in Example 1.
【００３４】[0034]
【表１】 [Table 1]
【００３５】[0035]
【表２】 [Table 2]
【００３６】この結果から分かるように、本発明の現像
液組成物は、成分とその配合量を特定することによっ
て、パターンの現像効果が向上でき、残渣もなく、しか
も現像液の消泡性と操作温度と分散性を大幅に改善でき
る。As can be seen from the results, the developer composition of the present invention can improve the pattern developing effect, has no residue, and has a defoaming property of the developer by specifying the components and the amounts thereof. The operating temperature and dispersibility can be greatly improved.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G03F 7/32 H01L 21/027 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G03F 7/32 H01L 21/027
Claims (8)
％と、（Ｂ）アルカリ性化合物０．０１ないし５重量％
と、（Ｃ）下記一般式（１）で表される非イオン性界面
活性剤０．０１ないし３．５重量％とを含有する、感光
性樹脂露光後パターン形成時に用いられる現像液組成
物。 【化１】 〔式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5は、それぞれ独立し
て、水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル
基、ハロゲン原子を示し、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ 5の
中の少なくとも２つはアラルキル基及び／又はアリール
基を示す。Ｒ6はエチレン基、プロピレン基、ブチレン
基を示し、Ｒ7は水素原子、アセチル基、アルキル基、
アリール基を示し、ｎは６〜２３の整数を示す。〕(A) 91.5 to 99.98 weight of water
% And (B) 0.01 to 5% by weight of the alkaline compound
And (C) a nonionic interface represented by the following general formula (1)
Photosensitizer containing 0.01 to 3.5% by weight of an activator
Developer composition used in pattern formation after exposure to hydrophilic resin
object. Embedded image[Wherein, R1, RTwo, RThree, RFour, RFiveAre independent
Hydrogen, alkyl, aryl, aralkyl
A group or a halogen atom;1, RTwo, RThree, RFour, R Fiveof
At least two of them are aralkyl groups and / or aryl
Represents a group. R6Is ethylene group, propylene group, butylene
A group represented by R7Represents a hydrogen atom, an acetyl group, an alkyl group,
It shows an aryl group and n shows the integer of 6-23. ]
アラルキル基又はアリール基であることを特徴とする請
求項１に記載の現像液組成物。2. R 2 and R 4 in the general formula (1) are:
The developer composition according to claim 1, which is an aralkyl group or an aryl group.
フェネチル基であることを特徴とする請求項１に記載の
現像液組成物。3. R 2 and R 4 in the general formula (1) are:
The developer composition according to claim 1, which is a phenethyl group.
5が、アラルキル基又はアリール基であることを特徴と
する請求項１に記載の現像液組成物。4. The method according to claim 1, wherein R 1 , R 3 , R
The developer composition according to claim 1, wherein 5 is an aralkyl group or an aryl group.
5が、フェネチル基であることを特徴とする請求項１に
記載の現像液組成物。5. The method of claim 1, wherein R 1 , R 3 , R
The developer composition according to claim 1, wherein 5 is a phenethyl group.
属化合物の水溶液であることを特徴とする請求項１に記
載の現像液組成物。6. The developer composition according to claim 1, wherein the alkaline compound is an aqueous solution of an alkaline metal compound.
によるパターン形成に用いられることを特徴とする請求
項１に記載の現像液組成物。7. The developer composition according to claim 1, which is used for forming a pattern with a colored photosensitive resin composition containing a colorant.
感光性樹脂組成物によるパターン形成に用いられること
を特徴とする請求項１に記載の現像液組成物。8. The developer composition according to claim 1, which is used for forming a pattern with a colored photosensitive resin composition using an acrylic acid resin as a binder.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2000117769A JP3285340B2 (en) | 2000-04-19 | 2000-04-19 | Developer composition |
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| JP2000117769A JP3285340B2 (en) | 2000-04-19 | 2000-04-19 | Developer composition |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001305748A JP2001305748A (en) | 2001-11-02 |
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|---|---|---|---|---|
| KR101161029B1 (en) * | 2006-01-06 | 2012-06-28 | 에버라이트 유에스에이, 인코오포레이티드 | Developer Composition |
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- 2000-04-19 JP JP2000117769A patent/JP3285340B2/en not_active Ceased
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| JP2001305748A (en) | 2001-11-02 |
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