JP3282062B2 - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法Info
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/26—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface
- B05D1/265—Extrusion coatings
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は表面が平坦でなくやや粗
い支持体に塗布液を高速で薄膜塗布する塗布方法に関す
る。
い支持体に塗布液を高速で薄膜塗布する塗布方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、ビード塗布方式については米国特
許2,681,294号，同2,761,791号等に多くの特許が出願さ
れている。ビード塗布方式はエクストルージョンコータ
ヘッド又はスライドコータヘッドのコータリップの先端
をバックアップローラに巻回されて搬送される支持体に
近接させてクリヤランスを設け該クリヤランスに前記コ
ータからの塗布液のビード（液溜り）を形成させながら
前記支持体上に薄膜塗布がなされる。
許2,681,294号，同2,761,791号等に多くの特許が出願さ
れている。ビード塗布方式はエクストルージョンコータ
ヘッド又はスライドコータヘッドのコータリップの先端
をバックアップローラに巻回されて搬送される支持体に
近接させてクリヤランスを設け該クリヤランスに前記コ
ータからの塗布液のビード（液溜り）を形成させながら
前記支持体上に薄膜塗布がなされる。
【０００３】そして、薄膜塗布を更に薄くし高速で安定
した塗布をさせるために該ビードの背面を減圧する方法
がとられている。
した塗布をさせるために該ビードの背面を減圧する方法
がとられている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、表面の平坦な
支持体に対してはこのような塗布方法により高速で安定
した薄膜塗布が可能であったが、表面の平坦性の粗い支
持体に対しビード塗布方式を用いるときは平坦な支持体
に対する塗布とは異なる挙動を示し薄膜塗布が困難にな
る。特に高速になればなるほど顕著である。
支持体に対してはこのような塗布方法により高速で安定
した薄膜塗布が可能であったが、表面の平坦性の粗い支
持体に対しビード塗布方式を用いるときは平坦な支持体
に対する塗布とは異なる挙動を示し薄膜塗布が困難にな
る。特に高速になればなるほど顕著である。
【０００５】いままでは、表面の平坦性の粗い支持体に
対するビード塗布方式についての高速化の先行技術は無
く、本発明はこのような表面の平坦性の粗い支持体に対
しても高速薄膜塗布が安定して達成できる塗布方法を提
供することを課題目的にする。
対するビード塗布方式についての高速化の先行技術は無
く、本発明はこのような表面の平坦性の粗い支持体に対
しても高速薄膜塗布が安定して達成できる塗布方法を提
供することを課題目的にする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この目的は次の技術手段
ａ項又はｂ項により達成される。
ａ項又はｂ項により達成される。
【０００７】（ａ）エクストルージョン塗布方式又はス
ライド塗布方式でビードを形成して塗布する塗布方法に
おいて、塗布される面の中心線平均粗さＲaが、Ｒa≧0.
3μmである支持体に対し塗布液を塗布する塗布方法にお
いて、前記塗布液物性が、支持体に対して塗布を行う速
度である塗布速度Ｕcm／secと前記塗布液の粘度μＰと
該塗布液の表面張力σdyne／cmとによって次式のなかで
定義される無次元数のキャピラリ数Caが次式を満たすよ
うにしたことを特徴とする塗布方法。Ca＝μ・Ｕ／σ≦0.3
ライド塗布方式でビードを形成して塗布する塗布方法に
おいて、塗布される面の中心線平均粗さＲaが、Ｒa≧0.
3μmである支持体に対し塗布液を塗布する塗布方法にお
いて、前記塗布液物性が、支持体に対して塗布を行う速
度である塗布速度Ｕcm／secと前記塗布液の粘度μＰと
該塗布液の表面張力σdyne／cmとによって次式のなかで
定義される無次元数のキャピラリ数Caが次式を満たすよ
うにしたことを特徴とする塗布方法。Ca＝μ・Ｕ／σ≦0.3
【０００８】（ｂ）エクストルージョン塗布方式又はス
ライド塗布方式でビードを形成して塗布する塗布方法に
おいて、塗布される面の中心線平均粗さＲaが、Ｒa≧0.
3μmである支持体に対し、少なくとも２種類の塗布液を
同時に重層塗布する塗布方法において、前記少なくとも
２種類の塗布液のうち、支持体に隣接して塗布される第
一の塗布液の物性が、支持体に対して塗布を行う速度で
ある塗布速度Ｕcm／secと前記第一の塗布液の粘度μ1Ｐ
と該塗布液の表面張力σ1dyne／cmとによって次式のな
かで定義される無次元数のキャピラリ数Ca1が次式を満
たすようにしたことを特徴とする塗布方法。
ライド塗布方式でビードを形成して塗布する塗布方法に
おいて、塗布される面の中心線平均粗さＲaが、Ｒa≧0.
3μmである支持体に対し、少なくとも２種類の塗布液を
同時に重層塗布する塗布方法において、前記少なくとも
２種類の塗布液のうち、支持体に隣接して塗布される第
一の塗布液の物性が、支持体に対して塗布を行う速度で
ある塗布速度Ｕcm／secと前記第一の塗布液の粘度μ1Ｐ
と該塗布液の表面張力σ1dyne／cmとによって次式のな
かで定義される無次元数のキャピラリ数Ca1が次式を満
たすようにしたことを特徴とする塗布方法。
【０００９】によって達成される。
【００１０】Ca1＝μ1・Ｕ／σ1≦0.3
【００１１】
【作用】塗布される支持体面の中心線平均粗さＲaが、
Ｒa≧0.3μmのとき顕在化し特にＲa≧0.4μmのとき顕著
な傾向を示す、ビード塗布方式における高速薄膜塗布が
不可能とされていた領域においても、塗布速度Ｕcm／se
cを上げるに従い粘度μＰを下げ、表面張力σdyne／cm
を上げることにより高速塗布が可能になることが本発明
者の実験によってわかってきた。更に詳しくは次式で定
義される無次元数のキャピラリ数Caを満たすようにすれ
ば良いことが判明した。
Ｒa≧0.3μmのとき顕在化し特にＲa≧0.4μmのとき顕著
な傾向を示す、ビード塗布方式における高速薄膜塗布が
不可能とされていた領域においても、塗布速度Ｕcm／se
cを上げるに従い粘度μＰを下げ、表面張力σdyne／cm
を上げることにより高速塗布が可能になることが本発明
者の実験によってわかってきた。更に詳しくは次式で定
義される無次元数のキャピラリ数Caを満たすようにすれ
ば良いことが判明した。
【００１２】Ca＝μ・Ｕ／σ≦0.3 更に、前記Caは次式を満たすようにすればより好ましい
ことが判明した。
ことが判明した。
【００１３】Ca＝μ・Ｕ／σ≦0.2 また、支持体が前記同様な中心線平均粗さＲaを持つと
き、少なくとも２種類の塗布液を同時に重層塗布する塗
布方法において、前記少なくとも２種類の塗布液のう
ち、支持体に隣接して塗布される第一の塗布液の物性
が、支持体に対して塗布を行う速度である塗布速度Ｕcm
／secと前記第一の塗布液の粘度μ1Ｐと該塗布液の表面
張力σ1dyne／cmとによって次式のなかで定義される無
次元数のキャピラリ数Ca1が次式を満たすようにすれば
よいことが判明した。
き、少なくとも２種類の塗布液を同時に重層塗布する塗
布方法において、前記少なくとも２種類の塗布液のう
ち、支持体に隣接して塗布される第一の塗布液の物性
が、支持体に対して塗布を行う速度である塗布速度Ｕcm
／secと前記第一の塗布液の粘度μ1Ｐと該塗布液の表面
張力σ1dyne／cmとによって次式のなかで定義される無
次元数のキャピラリ数Ca1が次式を満たすようにすれば
よいことが判明した。
【００１４】Ca1＝μ1・Ｕ／σ1≦0.3 更に、前記Ca1は次式を満たすようにすればより好まし
いことが判明した。
いことが判明した。
【００１５】Ca1＝μ1・Ｕ／σ1≦0.2 以上のように塗膜が単層構成であれ重層構成であれ、表
面性の粗い支持体面に高速塗布を施す場合にはその支持
体と接する塗布液物性を操作すれば良好な薄膜塗布が可
能となることが明らかになったが、実際には表面張力よ
りも粘度のほうが選択幅が広く操作しやすい。
面性の粗い支持体面に高速塗布を施す場合にはその支持
体と接する塗布液物性を操作すれば良好な薄膜塗布が可
能となることが明らかになったが、実際には表面張力よ
りも粘度のほうが選択幅が広く操作しやすい。
【００１６】また、少なくとも２種類の塗布液を同時に
重層塗布する塗布方法において、前記少なくとも２種類
の塗布液のなかで隣接する塗布液のうち、支持体側に塗
布される塗布液の方が低い表面張力となっている場合は
上層側塗布膜の収縮が起こり易い傾向も判明した。した
がって均一な重層同時塗布を実現するためには隣接する
塗布液のうち、支持体側に塗布される塗布液の方が高い
表面張力を有していることが好ましい。
重層塗布する塗布方法において、前記少なくとも２種類
の塗布液のなかで隣接する塗布液のうち、支持体側に塗
布される塗布液の方が低い表面張力となっている場合は
上層側塗布膜の収縮が起こり易い傾向も判明した。した
がって均一な重層同時塗布を実現するためには隣接する
塗布液のうち、支持体側に塗布される塗布液の方が高い
表面張力を有していることが好ましい。
【００１７】以上のように塗膜が単層構成であれ、多層
構成であれ、表面性の粗い支持体面に高速塗布を施すに
はその支持体と接する塗布液物性を操作すれば良好な薄
膜塗布が可能となることが明らかになったが、実際には
塗膜の機能、性能からの制約や乾燥条件からの制約によ
り塗布液の物性は安易に操作できない場合も多い。その
場合、所望の塗布液を塗布する前に支持体表面性を平滑
にするためのプレ・コートを行うのが一般的であるが、
乾燥負荷の増大につながったり、また、それを回避する
ためには相当の薄膜のプレ・コートが要求され、かなり
の難易度を伴う。そこで上記同時重層塗布技術を応用
し、支持体と接する最下層として固形分を有しない溶剤
層を追加することが有効である。その溶剤層は乾燥工程
において蒸発し、乾燥後の塗膜としては所望のものとほ
ぼ同等の塗膜が得られる。但し、乾燥後の塗膜中に最下
層として追加した残留溶剤として存在し、塗膜性能に影
響を及ぼすことがまれに起こり得る。その場合には追加
する最下層に隣接する上層中に含有されている溶剤を最
下層の溶剤層として用いることが好ましい。このように
することにより、乾燥後の塗膜としては所望のものと何
ら変わらない塗膜が効率良く生産できる。
構成であれ、表面性の粗い支持体面に高速塗布を施すに
はその支持体と接する塗布液物性を操作すれば良好な薄
膜塗布が可能となることが明らかになったが、実際には
塗膜の機能、性能からの制約や乾燥条件からの制約によ
り塗布液の物性は安易に操作できない場合も多い。その
場合、所望の塗布液を塗布する前に支持体表面性を平滑
にするためのプレ・コートを行うのが一般的であるが、
乾燥負荷の増大につながったり、また、それを回避する
ためには相当の薄膜のプレ・コートが要求され、かなり
の難易度を伴う。そこで上記同時重層塗布技術を応用
し、支持体と接する最下層として固形分を有しない溶剤
層を追加することが有効である。その溶剤層は乾燥工程
において蒸発し、乾燥後の塗膜としては所望のものとほ
ぼ同等の塗膜が得られる。但し、乾燥後の塗膜中に最下
層として追加した残留溶剤として存在し、塗膜性能に影
響を及ぼすことがまれに起こり得る。その場合には追加
する最下層に隣接する上層中に含有されている溶剤を最
下層の溶剤層として用いることが好ましい。このように
することにより、乾燥後の塗膜としては所望のものと何
ら変わらない塗膜が効率良く生産できる。
【００１８】ここでは適用される支持体とは、紙、プラ
スティック、金属等から成る支持体であり、材質は特に
限定されない。
スティック、金属等から成る支持体であり、材質は特に
限定されない。
【００１９】塗布方式については、特に限定されない
が、エクストルージョン塗布方式、スライド塗布方式に
代表されるようなコータへの送液流量によってのみ塗布
膜厚が決定される塗布方式に対して好適である。
が、エクストルージョン塗布方式、スライド塗布方式に
代表されるようなコータへの送液流量によってのみ塗布
膜厚が決定される塗布方式に対して好適である。
【００２０】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されるものではない。
るが、本発明の態様はこれに限定されるものではない。
【００２１】本発明の実施例に用いた塗布装置の概要を
図１，図２，図３及び図４の各側面図に示す。
図１，図２，図３及び図４の各側面図に示す。
【００２２】図１はエクストルージョン塗布方式の単層
ビードコータ、図２はその重層ビードコータ、図３はス
ライド塗布方式の単層ビードコータ、図４はその重層ビ
ードコータの模式図である。
ビードコータ、図２はその重層ビードコータ、図３はス
ライド塗布方式の単層ビードコータ、図４はその重層ビ
ードコータの模式図である。
【００２３】エクストルージョン塗布方式の単層ビード
コータのコータヘッド３は図１に示すようにバックアッ
プローラ１に巻回された支持体２に対してクリアランス
をおいて該単層ビードコータのコータヘッド３のコータ
リップ６を近接させて設けられ、該コータリップ６の近
傍には塗布液の押し出し路（スリット）５の出口が設け
られている。エクストルージョンによって押し出された
塗布液は前記コータリップ６のところでビード（液溜
り）18を生じながら速度Ｕで走行する支持体上に流延し
ながら塗布される。尚、ビード18の形成を安定させるた
めに減圧室15と吸引口14が設けられている。
コータのコータヘッド３は図１に示すようにバックアッ
プローラ１に巻回された支持体２に対してクリアランス
をおいて該単層ビードコータのコータヘッド３のコータ
リップ６を近接させて設けられ、該コータリップ６の近
傍には塗布液の押し出し路（スリット）５の出口が設け
られている。エクストルージョンによって押し出された
塗布液は前記コータリップ６のところでビード（液溜
り）18を生じながら速度Ｕで走行する支持体上に流延し
ながら塗布される。尚、ビード18の形成を安定させるた
めに減圧室15と吸引口14が設けられている。
【００２４】エクストルージョン塗布方式の重層ビード
コータのコータヘッド３Ａはその２層の場合を図２に示
すように該コータヘッド３Ａには塗布液の押し出し路
（スリット）５Ａ，５Ｂが設けられその出口のコータリ
ップ６のところで２層のビード18が形成されながら支持
体上に２層塗布される。ビード18の形成を安定させるた
めに減圧室15と吸引口14が前述の単層の場合と同様に設
けられている。押し出し路（スリット）を３本以上設け
ることにより更に多層の重層塗布を行うことができる。
コータのコータヘッド３Ａはその２層の場合を図２に示
すように該コータヘッド３Ａには塗布液の押し出し路
（スリット）５Ａ，５Ｂが設けられその出口のコータリ
ップ６のところで２層のビード18が形成されながら支持
体上に２層塗布される。ビード18の形成を安定させるた
めに減圧室15と吸引口14が前述の単層の場合と同様に設
けられている。押し出し路（スリット）を３本以上設け
ることにより更に多層の重層塗布を行うことができる。
【００２５】勿論、重層ビードコータを用い塗布液の押
し出し路（スリット）の１本のみを用い他の押し出し路
を閉鎖することにより単層塗布することが可能である。
し出し路（スリット）の１本のみを用い他の押し出し路
を閉鎖することにより単層塗布することが可能である。
【００２６】次にスライド塗布方式の塗布装置について
のべる。
のべる。
【００２７】スライド塗布方式の単層スライド型コータ
ヘッド103には、図３に示すようにバックアップローラ
１に巻回された支持体２に対してクリアランスをおいて
該単層スライド型コータヘッド103のコータリップ106が
近接して設けられ、該コータリップ106の上方斜面には
塗布液のスライド面104が形成され塗布液が供給される
スリット105からの塗布液が該スライド面104を流れ前記
コータリップ106のところでビード（液溜り）18を生成
しながら速度Ｕで走行する支持体上に塗布される。尚、
ビード18の形成を安定させるために減圧室15と吸引口14
が設けられている。
ヘッド103には、図３に示すようにバックアップローラ
１に巻回された支持体２に対してクリアランスをおいて
該単層スライド型コータヘッド103のコータリップ106が
近接して設けられ、該コータリップ106の上方斜面には
塗布液のスライド面104が形成され塗布液が供給される
スリット105からの塗布液が該スライド面104を流れ前記
コータリップ106のところでビード（液溜り）18を生成
しながら速度Ｕで走行する支持体上に塗布される。尚、
ビード18の形成を安定させるために減圧室15と吸引口14
が設けられている。
【００２８】スライド塗布方式の重層スライド型コータ
ヘッド103Ａには、その２層の場合を図４に示すよう
に、バックアップローラ１に巻回された支持体２に対し
てクリアランスをおいて該重層スライド型コータヘッド
103Ａのコータリップ106が近接して設けられ、該コータ
リップ106の上方斜面には塗布液のスライド面104が形成
され、塗布液が供給される２本のスリット105Ａ，105Ｂ
からの該塗布液が該スライド面104を重ねられて流れ、
前記コータリップ106のところでビード（液溜り）18を
生じながら速度Ｕで走行する支持体上に塗布される。
尚、ビード18の形成を安定させるために減圧室15と吸引
口14が設けられている。また、スリットを３本以上設け
ることにより更に多層の重層塗布を行うことができる。
ヘッド103Ａには、その２層の場合を図４に示すよう
に、バックアップローラ１に巻回された支持体２に対し
てクリアランスをおいて該重層スライド型コータヘッド
103Ａのコータリップ106が近接して設けられ、該コータ
リップ106の上方斜面には塗布液のスライド面104が形成
され、塗布液が供給される２本のスリット105Ａ，105Ｂ
からの該塗布液が該スライド面104を重ねられて流れ、
前記コータリップ106のところでビード（液溜り）18を
生じながら速度Ｕで走行する支持体上に塗布される。
尚、ビード18の形成を安定させるために減圧室15と吸引
口14が設けられている。また、スリットを３本以上設け
ることにより更に多層の重層塗布を行うことができる。
【００２９】勿論、重層ビードコータを用い塗布液の供
給用スリットの１本のみを用い他のスリットを閉鎖する
ことにより単層塗布することが可能である。
給用スリットの１本のみを用い他のスリットを閉鎖する
ことにより単層塗布することが可能である。
【００３０】次に上記図１及び図２で説明した装置を用
いて実施した本発明の塗布方法の実施例を示す。
いて実施した本発明の塗布方法の実施例を示す。
【００３１】実施例Ａ 図１の単層エクストルージョン型コータヘッド３を用
い、支持体２とコータリップ６の先端とのクリアランス
を100μmに設定し、ビード18の背部を−300mmH2Oに減圧
した条件下で、塗布速度Ｕ，粘度μ，表面張力σを変更
しながら、即ち、キャピラリ数を変更しながら下記する
表面粗さの異なる２種類の支持体，に塗布し塗布可
能な薄膜限界を求めた。その結果を表１に示す。
い、支持体２とコータリップ６の先端とのクリアランス
を100μmに設定し、ビード18の背部を−300mmH2Oに減圧
した条件下で、塗布速度Ｕ，粘度μ，表面張力σを変更
しながら、即ち、キャピラリ数を変更しながら下記する
表面粗さの異なる２種類の支持体，に塗布し塗布可
能な薄膜限界を求めた。その結果を表１に示す。
【００３２】支持体 Ra＝0.2のポリエチレンテレフ
タレート支持体（平滑面） 支持体 Ra＝0.5の紙支持体（粗面）
タレート支持体（平滑面） 支持体 Ra＝0.5の紙支持体（粗面）
【００３３】
【表１】
【００３４】表１の結果から明らかなように実施例１，
２，３，４，５は所望の塗布速度50ｍ／minや100ｍ／mi
nに対し、キャピラリ数Caを0.3以下と小さくすることに
より、表面の粗い支持体に対しても平滑な支持体と
同等の薄膜塗布が可能になった。しかし、比較例１，２
に示すようにキャピラリ数Caが0.3を越えると支持体
２への薄膜限界が異常に大きくなることがわかる。また
キャピラリ数Ca1が0.2以下になると薄膜限界が更に小さ
くなり良好となることがわかる。
２，３，４，５は所望の塗布速度50ｍ／minや100ｍ／mi
nに対し、キャピラリ数Caを0.3以下と小さくすることに
より、表面の粗い支持体に対しても平滑な支持体と
同等の薄膜塗布が可能になった。しかし、比較例１，２
に示すようにキャピラリ数Caが0.3を越えると支持体
２への薄膜限界が異常に大きくなることがわかる。また
キャピラリ数Ca1が0.2以下になると薄膜限界が更に小さ
くなり良好となることがわかる。
【００３５】実施例Ｂ 図２の二つの塗布液の押し出し路（スリット）５Ａ，５
Ｂを有する重層エクストルージョン型コータヘッド３Ａ
を用い、支持体２とコータリップ６の先端とのクリアラ
ンスを100μmに設定し、ビード18の背部を−300mmH2Oに
減圧し、上層側の膜厚を15μmに固定した条件下で、塗
布速度Ｕ，粘度μ，表面張力σを変更しながら、即ち、
キャピラリ数を変更しながら下記する表面粗さの異なる
２種類の支持体，に塗布し塗布可能な下層側の薄膜
限界を求めた。その結果を表２に示す。
Ｂを有する重層エクストルージョン型コータヘッド３Ａ
を用い、支持体２とコータリップ６の先端とのクリアラ
ンスを100μmに設定し、ビード18の背部を−300mmH2Oに
減圧し、上層側の膜厚を15μmに固定した条件下で、塗
布速度Ｕ，粘度μ，表面張力σを変更しながら、即ち、
キャピラリ数を変更しながら下記する表面粗さの異なる
２種類の支持体，に塗布し塗布可能な下層側の薄膜
限界を求めた。その結果を表２に示す。
【００３６】支持体 Ra＝0.2のポリエチレンテレフ
タレート支持体（平滑面） 支持体 Ra＝0.5のポリエチレンテレフタレート支持
体（粗面）
タレート支持体（平滑面） 支持体 Ra＝0.5のポリエチレンテレフタレート支持
体（粗面）
【００３７】
【表２】
【００３８】表２の結果から明らかなように実施例６，
７，８，９，10は所望の塗布速度50m/minや100ｍ／min
に対し、支持体と接する再下層のキャピラリ数Ca1を0.3
以下と小さくすることにより、それより上層のキャピラ
リ数Ca2を0.3より大きく0.4とした場合でも、表面の粗
い支持体に対して平滑な支持体と同等の薄膜塗布が
可能になった。しかし、比較例３，４に示すように、支
持体と接する下層のキャピラリ数Ca1が0.3を越えると支
持体に対する薄膜限界が異常に大きくなることがわか
る。
７，８，９，10は所望の塗布速度50m/minや100ｍ／min
に対し、支持体と接する再下層のキャピラリ数Ca1を0.3
以下と小さくすることにより、それより上層のキャピラ
リ数Ca2を0.3より大きく0.4とした場合でも、表面の粗
い支持体に対して平滑な支持体と同等の薄膜塗布が
可能になった。しかし、比較例３，４に示すように、支
持体と接する下層のキャピラリ数Ca1が0.3を越えると支
持体に対する薄膜限界が異常に大きくなることがわか
る。
【００３９】実施例Ｃ 図２の二つの塗布液の押し出し路（スリット）５Ａ，５
Ｂを有する重層エクストルージョン型コータヘッド３Ａ
を用い、Ra＝0.5のポリエチレンテレフタレート支持体
２に対し、該支持体２とコータリップ６のクリアランス
を100μmに設定し、ビード18の背部を−300mmH2Oに減圧
し、以下のように上下層の表面張力のバランスを変化さ
せて塗布し比較した。その結果を表３に示す。
Ｂを有する重層エクストルージョン型コータヘッド３Ａ
を用い、Ra＝0.5のポリエチレンテレフタレート支持体
２に対し、該支持体２とコータリップ６のクリアランス
を100μmに設定し、ビード18の背部を−300mmH2Oに減圧
し、以下のように上下層の表面張力のバランスを変化さ
せて塗布し比較した。その結果を表３に示す。
【００４０】
【表３】
【００４１】表３において、実施例11は下層の塗布液の
表面張力σ1が上層の塗布液の表面張力σ2よりも小さく
幅方向の端部の様子は図５の被塗布物の幅方向断面図に
示すように上層塗膜の収縮が著しい。また、実施例12は
下層と上層の各塗布液の表面張力の大きさが実施例11と
は逆になっており図６の被塗布物の幅方向断面図に示す
ように下層塗膜と上層塗膜のバランスがよい安定した塗
布である。このように、重層塗布においては隣接する層
の上層塗膜よりも下層塗膜の方の表面張力が高いことが
望ましい。
表面張力σ1が上層の塗布液の表面張力σ2よりも小さく
幅方向の端部の様子は図５の被塗布物の幅方向断面図に
示すように上層塗膜の収縮が著しい。また、実施例12は
下層と上層の各塗布液の表面張力の大きさが実施例11と
は逆になっており図６の被塗布物の幅方向断面図に示す
ように下層塗膜と上層塗膜のバランスがよい安定した塗
布である。このように、重層塗布においては隣接する層
の上層塗膜よりも下層塗膜の方の表面張力が高いことが
望ましい。
【００４２】上記、表１，２，３において塗布速度Ｕは
ｍ／minの単位、粘度μ，μ1，μ2はセンチポアズ（c
P）の単位、表面張力σ，σ1，σ2はdyne／cmで表して
あるが、キャピラリ数Ca，Ca1，Ca2はＵをcm／sec、
μ，μ1，μ2をホアーズ（Ｐ）、σ，σ1，σ2を同じdy
ne／cmの単位で算出したものである。
ｍ／minの単位、粘度μ，μ1，μ2はセンチポアズ（c
P）の単位、表面張力σ，σ1，σ2はdyne／cmで表して
あるが、キャピラリ数Ca，Ca1，Ca2はＵをcm／sec、
μ，μ1，μ2をホアーズ（Ｐ）、σ，σ1，σ2を同じdy
ne／cmの単位で算出したものである。
【００４３】
【発明の効果】以上、本願発明請求項１記載の発明によ
れば、表面の平坦な支持体だけでなく、被塗布面が、中
心線平均粗さが0.3μmを越えるような粗い支持体の場合
であっても、高速で安定し、かつ均一な薄膜塗布が可能
である。
れば、表面の平坦な支持体だけでなく、被塗布面が、中
心線平均粗さが0.3μmを越えるような粗い支持体の場合
であっても、高速で安定し、かつ均一な薄膜塗布が可能
である。
【００４４】本願発明請求項２記載の発明によれば、被
塗布面が、中心線平均粗さが0.3μmを越えるような粗い
場合に、複数の塗布層を形成する際、安定し、かつバラ
ンスのよい塗布層が形成できる。
塗布面が、中心線平均粗さが0.3μmを越えるような粗い
場合に、複数の塗布層を形成する際、安定し、かつバラ
ンスのよい塗布層が形成できる。
【００４５】本願発明請求項３記載の発明によれば、支
持体側の塗布液の表面張力が大きいので、上層側の塗膜
の収縮が生じにくくなり、塗布層の幅方向において、上
層のみが収縮することによる不均一な塗布層の形成を防
止することができ、生産性が向上する。
持体側の塗布液の表面張力が大きいので、上層側の塗膜
の収縮が生じにくくなり、塗布層の幅方向において、上
層のみが収縮することによる不均一な塗布層の形成を防
止することができ、生産性が向上する。
【００４６】本願発明請求項４記載の発明によれば、最
下層に塗布する塗布液に、固形分を有しない種類の物を
使用することにより、乾燥後の塗布層（塗膜）に所望の
精度のものが得られる。
下層に塗布する塗布液に、固形分を有しない種類の物を
使用することにより、乾燥後の塗布層（塗膜）に所望の
精度のものが得られる。
【００４７】本願発明請求項５記載の発明によれば、最
下層の塗布に使用する塗布液に、この最下層に隣接する
層の塗布液の溶剤を用いるので、乾燥後に残留溶剤とし
て残り、悪影響を及ぼすことがない。
下層の塗布に使用する塗布液に、この最下層に隣接する
層の塗布液の溶剤を用いるので、乾燥後に残留溶剤とし
て残り、悪影響を及ぼすことがない。
【図１】エクストルージョン塗布方式の単層ビードコー
タの模式図。
タの模式図。
【図２】エクストルージョン塗布方式の重層ビードコー
タの模式図。
タの模式図。
【図３】スライド塗布方式の単層ビードコータの模式
図。
図。
【図４】スライド塗布方式の重層ビードコータの模式
図。
図。
【図５】被塗布物の幅方向断面図。
【図６】被塗布物の幅方向断面図。
１ バックアップローラ ２ 支持体 ３，３Ａ，103，103Ａ コータヘッド ５，５Ａ，５Ｂ 塗布液の押し出し路（スリット） ６，106 コータリップ 14 吸引口 15 減圧室 105，105Ａ，105Ｂ スリット
Claims (5)
- 【請求項１】 エクストルージョン塗布方式又はスライ
ド塗布方式でビードを形成して塗布する塗布方法におい
て、塗布される面の中心線平均粗さＲaが、Ｒa≧0.3μm
である支持体に対し塗布液を塗布する塗布方法におい
て、前記塗布液物性が、支持体に対して塗布を行う速度
である塗布速度Ｕcm／secと前記塗布液の粘度μＰと該
塗布液の表面張力σdyne／cmとによって次式のなかで定
義される無次元数のキャピラリ数Caが次式を満たすよう
にしたことを特徴とする塗布方法。 Ca＝μ・Ｕ／σ≦0.3 - 【請求項２】 エクストルージョン塗布方式又はスライ
ド塗布方式でビードを形成して塗布する塗布方法におい
て、塗布される面の中心線平均粗さＲaが、Ｒa≧0.3μm
である支持体に対し、少なくとも２種類の塗布液を同時
に重層塗布する塗布方法において、前記少なくとも２種
類の塗布液のうち、支持体に隣接して塗布される第一の
塗布液の物性が、支持体に対して塗布を行う速度である
塗布速度Ｕcm／secと前記第一の塗布液の粘度μ1Ｐと該
塗布液の表面張力σ1dyne／cmとによって次式のなかで
定義される無次元数のキャピラリ数Ca1が次式を満たす
ようにしたことを特徴とする塗布方法。 Ca1＝μ1・Ｕ／σ1≦0.3 - 【請求項３】 請求項２において、前記少なくとも２種
類の塗布液のなかで隣接する塗布液のうち、前記支持体
側に塗布される塗布液の方が高い表面張力を有するよう
にしたことを特徴とする塗布方法。 - 【請求項４】 請求項２又は請求項３において、前記支
持体に隣接して塗布される第一の塗布液が固形分を有し
ない溶剤を用いたことを特徴とする塗布方法。 - 【請求項５】 請求項４において、前記支持体に隣接し
て塗布される第一の塗布液は前記第一の塗布液に隣接し
て塗布される塗布液が含有する溶剤と同じ溶剤であるこ
とを特徴とする塗布方法。
Priority Applications (4)
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|---|---|---|---|
| JP31331794A JP3282062B2 (ja) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | 塗布方法 |
| US08/569,657 US5670214A (en) | 1994-12-16 | 1995-12-08 | Method for coating a thin layer on a substrate having a rough surface |
| DE69516097T DE69516097T2 (de) | 1994-12-16 | 1995-12-12 | Ein Beschichtungsverfahren |
| EP95119571A EP0716890B1 (en) | 1994-12-16 | 1995-12-12 | A coating method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31331794A JP3282062B2 (ja) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | 塗布方法 |
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|---|---|
| JPH08168719A JPH08168719A (ja) | 1996-07-02 |
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Family
ID=18039779
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP31331794A Expired - Fee Related JP3282062B2 (ja) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | 塗布方法 |
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| EP (1) | EP0716890B1 (ja) |
| JP (1) | JP3282062B2 (ja) |
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| EP1325948A1 (en) * | 1996-02-28 | 2003-07-09 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Process for producing a coated film continuously |
| SE515824C2 (sv) * | 2000-01-26 | 2001-10-15 | Tetra Laval Holdings & Finance | Förfarande för tillverkning av ett flerskiktat förpackningslaminat genom våtbeläggning, samt laminat tillverkat enligt förfarandet |
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| JP2002059062A (ja) * | 2000-08-24 | 2002-02-26 | Konica Corp | エクストルージョン塗布方法、エクストルージョン塗布装置 |
| JP2002248399A (ja) * | 2001-02-27 | 2002-09-03 | Toray Ind Inc | 塗布部材の製造方法及び装置 |
| GB2376429B (en) | 2001-04-25 | 2004-09-01 | Eastman Kodak Co | A method of coating a web |
| EP1329297A3 (en) * | 2001-06-15 | 2011-10-19 | FUJIFILM Corporation | Method of producing of cellulose ester film |
| WO2004011157A1 (ja) * | 2002-07-26 | 2004-02-05 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 塗膜の製造方法 |
| US7291362B2 (en) * | 2004-01-20 | 2007-11-06 | 3M Innovative Properties Company | Method and apparatus for controlling coating width |
| US7081687B2 (en) * | 2004-07-22 | 2006-07-25 | Sprint Communications Company L.P. | Power system for a telecommunications facility |
| WO2008014604A1 (en) * | 2006-08-02 | 2008-02-07 | Nanometrix Inc. | Modular transfer apparatus and process |
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| JP3097786B2 (ja) * | 1992-04-16 | 2000-10-10 | 富士写真フイルム株式会社 | 有機溶剤系塗布液の塗布方法 |
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1994
- 1994-12-16 JP JP31331794A patent/JP3282062B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-12-08 US US08/569,657 patent/US5670214A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-12-12 EP EP95119571A patent/EP0716890B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-12-12 DE DE69516097T patent/DE69516097T2/de not_active Expired - Fee Related
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| JPH08168719A (ja) | 1996-07-02 |
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