JPH08168719A - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法Info
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- JPH08168719A JPH08168719A JP6313317A JP31331794A JPH08168719A JP H08168719 A JPH08168719 A JP H08168719A JP 6313317 A JP6313317 A JP 6313317A JP 31331794 A JP31331794 A JP 31331794A JP H08168719 A JPH08168719 A JP H08168719A
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- coating
- coating liquid
- support
- coater
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/26—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface
- B05D1/265—Extrusion coatings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 表面の平坦な支持体だけではなく、表面の平
坦性の粗い支持体に対してもビード塗布方式による高速
で安定した薄膜塗布が単層重層共に可能にする。また、
重層塗布における各層の収縮バランスの良い塗布方法を
確立する。 【構成】 塗布される面の中心線平均粗さRaが、Ra≧
0.3μmである支持体に対し塗布液を塗布する塗布方法に
おいて、前記塗布液物性が、支持体に対して塗布を行う
速度である塗布速度Ucm/secと前記塗布液の粘度μP
と該塗布液の表面張力σdyne/cmとによって次式で定義
される無次元数のキャピラリ数Caを満たすようにしたこ
とを特徴とする塗布方法。 Ca=μ・U/σ≦0.3 更に2層以上の塗布液を重層塗布する場合に支持体に隣
接して塗布される第1の塗布層の塗布液の粘度μ及び表
面張力が上記の関係式を満たすようにしたことを特徴と
する塗布方法。
坦性の粗い支持体に対してもビード塗布方式による高速
で安定した薄膜塗布が単層重層共に可能にする。また、
重層塗布における各層の収縮バランスの良い塗布方法を
確立する。 【構成】 塗布される面の中心線平均粗さRaが、Ra≧
0.3μmである支持体に対し塗布液を塗布する塗布方法に
おいて、前記塗布液物性が、支持体に対して塗布を行う
速度である塗布速度Ucm/secと前記塗布液の粘度μP
と該塗布液の表面張力σdyne/cmとによって次式で定義
される無次元数のキャピラリ数Caを満たすようにしたこ
とを特徴とする塗布方法。 Ca=μ・U/σ≦0.3 更に2層以上の塗布液を重層塗布する場合に支持体に隣
接して塗布される第1の塗布層の塗布液の粘度μ及び表
面張力が上記の関係式を満たすようにしたことを特徴と
する塗布方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は表面が平坦でなくやや粗
い支持体に塗布液を高速で薄膜塗布する塗布方法に関す
る。
い支持体に塗布液を高速で薄膜塗布する塗布方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来、ビード塗布方式については米国特
許2,681,294号,同2,761,791号等に多くの特許が出願さ
れている。ビード塗布方式はエクストルージョンコータ
ヘッド又はスライドコータヘッドのコータリップの先端
をバックアップローラに巻回されて搬送される支持体に
近接させてクリヤランスを設け該クリヤランスに前記コ
ータからの塗布液のビード(液溜り)を形成させながら
前記支持体上に薄膜塗布がなされる。
許2,681,294号,同2,761,791号等に多くの特許が出願さ
れている。ビード塗布方式はエクストルージョンコータ
ヘッド又はスライドコータヘッドのコータリップの先端
をバックアップローラに巻回されて搬送される支持体に
近接させてクリヤランスを設け該クリヤランスに前記コ
ータからの塗布液のビード(液溜り)を形成させながら
前記支持体上に薄膜塗布がなされる。
【0003】そして、薄膜塗布を更に薄くし高速で安定
した塗布をさせるために該ビードの背面を減圧する方法
がとられている。
した塗布をさせるために該ビードの背面を減圧する方法
がとられている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、表面の平坦な
支持体に対してはこのような塗布方法により高速で安定
した薄膜塗布が可能であったが、表面の平坦性の粗い支
持体に対しビード塗布方式を用いるときは平坦な支持体
に対する塗布とは異なる挙動を示し薄膜塗布が困難にな
る。特に高速になればなるほど顕著である。
支持体に対してはこのような塗布方法により高速で安定
した薄膜塗布が可能であったが、表面の平坦性の粗い支
持体に対しビード塗布方式を用いるときは平坦な支持体
に対する塗布とは異なる挙動を示し薄膜塗布が困難にな
る。特に高速になればなるほど顕著である。
【0005】いままでは、表面の平坦性の粗い支持体に
対するビード塗布方式についての高速化の先行技術は無
く、本発明はこのような表面の平坦性の粗い支持体に対
しても高速薄膜塗布が安定して達成できる塗布方法を提
供することを課題目的にする。
対するビード塗布方式についての高速化の先行技術は無
く、本発明はこのような表面の平坦性の粗い支持体に対
しても高速薄膜塗布が安定して達成できる塗布方法を提
供することを課題目的にする。
【0006】
【課題を解決するための手段】この目的は次の技術手段
a項又はb項により達成される。
a項又はb項により達成される。
【0007】(a)塗布される面の中心線平均粗さRa
が、Ra≧0.3μmである支持体に対し塗布液を塗布する
塗布方法において、前記塗布液物性が、支持体に対して
塗布を行う速度である塗布速度Ucm/secと前記塗布液
の粘度μPと該塗布液の表面張力σdyne/cmとによって
次式のなかで定義される無次元数のキャピラリ数Caが次
式を満たすようにしたことを特徴とする塗布方法。
が、Ra≧0.3μmである支持体に対し塗布液を塗布する
塗布方法において、前記塗布液物性が、支持体に対して
塗布を行う速度である塗布速度Ucm/secと前記塗布液
の粘度μPと該塗布液の表面張力σdyne/cmとによって
次式のなかで定義される無次元数のキャピラリ数Caが次
式を満たすようにしたことを特徴とする塗布方法。
【0008】Ca=μ・U/σ≦0.3 (b)塗布される面の中心線平均粗さRaが、Ra≧0.3
μmである支持体に対し、少なくとも2種類の塗布液を
同時に重層塗布する塗布方法において、前記少なくとも
2種類の塗布液のうち、支持体に隣接して塗布される第
一の塗布液の物性が、支持体に対して塗布を行う速度で
ある塗布速度Ucm/secと前記第一の塗布液の粘度μ1P
と該塗布液の表面張力σ1dyne/cmとによって次式のな
かで定義される無次元数のキャピラリ数Ca1が次式を満
たすようにしたことを特徴とする塗布方法。
μmである支持体に対し、少なくとも2種類の塗布液を
同時に重層塗布する塗布方法において、前記少なくとも
2種類の塗布液のうち、支持体に隣接して塗布される第
一の塗布液の物性が、支持体に対して塗布を行う速度で
ある塗布速度Ucm/secと前記第一の塗布液の粘度μ1P
と該塗布液の表面張力σ1dyne/cmとによって次式のな
かで定義される無次元数のキャピラリ数Ca1が次式を満
たすようにしたことを特徴とする塗布方法。
【0009】によって達成される。
【0010】Ca1=μ1・U/σ1≦0.3
【0011】
【作用】塗布される支持体面の中心線平均粗さRaが、
Ra≧0.3μmのとき顕在化し特にRa≧0.4μmのとき顕著
な傾向を示す、ビード塗布方式における高速薄膜塗布が
不可能とされていた領域においても、塗布速度Ucm/se
cを上げるに従い粘度μPを下げ、表面張力σdyne/cm
を上げることにより高速塗布が可能になることが本発明
者の実験によってわかってきた。更に詳しくは次式で定
義される無次元数のキャピラリ数Caを満たすようにすれ
ば良いことが判明した。
Ra≧0.3μmのとき顕在化し特にRa≧0.4μmのとき顕著
な傾向を示す、ビード塗布方式における高速薄膜塗布が
不可能とされていた領域においても、塗布速度Ucm/se
cを上げるに従い粘度μPを下げ、表面張力σdyne/cm
を上げることにより高速塗布が可能になることが本発明
者の実験によってわかってきた。更に詳しくは次式で定
義される無次元数のキャピラリ数Caを満たすようにすれ
ば良いことが判明した。
【0012】Ca=μ・U/σ≦0.3 更に、前記Caは次式を満たすようにすればより好ましい
ことが判明した。
ことが判明した。
【0013】Ca=μ・U/σ≦0.2 また、支持体が前記同様な中心線平均粗さRaを持つと
き、少なくとも2種類の塗布液を同時に重層塗布する塗
布方法において、前記少なくとも2種類の塗布液のう
ち、支持体に隣接して塗布される第一の塗布液の物性
が、支持体に対して塗布を行う速度である塗布速度Ucm
/secと前記第一の塗布液の粘度μ1Pと該塗布液の表面
張力σ1dyne/cmとによって次式のなかで定義される無
次元数のキャピラリ数Ca1が次式を満たすようにすれば
よいことが判明した。
き、少なくとも2種類の塗布液を同時に重層塗布する塗
布方法において、前記少なくとも2種類の塗布液のう
ち、支持体に隣接して塗布される第一の塗布液の物性
が、支持体に対して塗布を行う速度である塗布速度Ucm
/secと前記第一の塗布液の粘度μ1Pと該塗布液の表面
張力σ1dyne/cmとによって次式のなかで定義される無
次元数のキャピラリ数Ca1が次式を満たすようにすれば
よいことが判明した。
【0014】Ca1=μ1・U/σ1≦0.3 更に、前記Ca1は次式を満たすようにすればより好まし
いことが判明した。
いことが判明した。
【0015】Ca1=μ1・U/σ1≦0.2 以上のように塗膜が単層構成であれ重層構成であれ、表
面性の粗い支持体面に高速塗布を施す場合にはその支持
体と接する塗布液物性を操作すれば良好な薄膜塗布が可
能となることが明らかになったが、実際には表面張力よ
りも粘度のほうが選択幅が広く操作しやすい。
面性の粗い支持体面に高速塗布を施す場合にはその支持
体と接する塗布液物性を操作すれば良好な薄膜塗布が可
能となることが明らかになったが、実際には表面張力よ
りも粘度のほうが選択幅が広く操作しやすい。
【0016】また、少なくとも2種類の塗布液を同時に
重層塗布する塗布方法において、前記少なくとも2種類
の塗布液のなかで隣接する塗布液のうち、支持体側に塗
布される塗布液の方が低い表面張力となっている場合は
上層側塗布膜の収縮が起こり易い傾向も判明した。した
がって均一な重層同時塗布を実現するためには隣接する
塗布液のうち、支持体側に塗布される塗布液の方が高い
表面張力を有していることが好ましい。
重層塗布する塗布方法において、前記少なくとも2種類
の塗布液のなかで隣接する塗布液のうち、支持体側に塗
布される塗布液の方が低い表面張力となっている場合は
上層側塗布膜の収縮が起こり易い傾向も判明した。した
がって均一な重層同時塗布を実現するためには隣接する
塗布液のうち、支持体側に塗布される塗布液の方が高い
表面張力を有していることが好ましい。
【0017】以上のように塗膜が単層構成であれ、多層
構成であれ、表面性の粗い支持体面に高速塗布を施すに
はその支持体と接する塗布液物性を操作すれば良好な薄
膜塗布が可能となることが明らかになったが、実際には
塗膜の機能、性能からの制約や乾燥条件からの制約によ
り塗布液の物性は安易に操作できない場合も多い。その
場合、所望の塗布液を塗布する前に支持体表面性を平滑
にするためのプレ・コートを行うのが一般的であるが、
乾燥負荷の増大につながったり、また、それを回避する
ためには相当の薄膜のプレ・コートが要求され、かなり
の難易度を伴う。そこで上記同時重層塗布技術を応用
し、支持体と接する最下層として固形分を有しない溶剤
層を追加することが有効である。その溶剤層は乾燥工程
において蒸発し、乾燥後の塗膜としては所望のものとほ
ぼ同等の塗膜が得られる。但し、乾燥後の塗膜中に最下
層として追加した残留溶剤として存在し、塗膜性能に影
響を及ぼすことがまれに起こり得る。その場合には追加
する最下層に隣接する上層中に含有されている溶剤を最
下層の溶剤層として用いることが好ましい。このように
することにより、乾燥後の塗膜としては所望のものと何
ら変わらない塗膜が効率良く生産できる。
構成であれ、表面性の粗い支持体面に高速塗布を施すに
はその支持体と接する塗布液物性を操作すれば良好な薄
膜塗布が可能となることが明らかになったが、実際には
塗膜の機能、性能からの制約や乾燥条件からの制約によ
り塗布液の物性は安易に操作できない場合も多い。その
場合、所望の塗布液を塗布する前に支持体表面性を平滑
にするためのプレ・コートを行うのが一般的であるが、
乾燥負荷の増大につながったり、また、それを回避する
ためには相当の薄膜のプレ・コートが要求され、かなり
の難易度を伴う。そこで上記同時重層塗布技術を応用
し、支持体と接する最下層として固形分を有しない溶剤
層を追加することが有効である。その溶剤層は乾燥工程
において蒸発し、乾燥後の塗膜としては所望のものとほ
ぼ同等の塗膜が得られる。但し、乾燥後の塗膜中に最下
層として追加した残留溶剤として存在し、塗膜性能に影
響を及ぼすことがまれに起こり得る。その場合には追加
する最下層に隣接する上層中に含有されている溶剤を最
下層の溶剤層として用いることが好ましい。このように
することにより、乾燥後の塗膜としては所望のものと何
ら変わらない塗膜が効率良く生産できる。
【0018】ここでは適用される支持体とは、紙、プラ
スティック、金属等から成る支持体であり、材質は特に
限定されない。
スティック、金属等から成る支持体であり、材質は特に
限定されない。
【0019】塗布方式については、特に限定されない
が、エクストルージョン塗布方式、スライド塗布方式に
代表されるようなコータへの送液流量によってのみ塗布
膜厚が決定される塗布方式に対して好適である。
が、エクストルージョン塗布方式、スライド塗布方式に
代表されるようなコータへの送液流量によってのみ塗布
膜厚が決定される塗布方式に対して好適である。
【0020】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されるものではない。
るが、本発明の態様はこれに限定されるものではない。
【0021】本発明の実施例に用いた塗布装置の概要を
図1,図2,図3及び図4の各側面図に示す。
図1,図2,図3及び図4の各側面図に示す。
【0022】図1はエクストルージョン塗布方式の単層
ビードコータ、図2はその重層ビードコータ、図3はス
ライド塗布方式の単層ビードコータ、図4はその重層ビ
ードコータの模式図である。
ビードコータ、図2はその重層ビードコータ、図3はス
ライド塗布方式の単層ビードコータ、図4はその重層ビ
ードコータの模式図である。
【0023】エクストルージョン塗布方式の単層ビード
コータのコータヘッド3は図1に示すようにバックアッ
プローラ1に巻回された支持体2に対してクリアランス
をおいて該単層ビードコータのコータヘッド3のコータ
リップ6を近接させて設けられ、該コータリップ6の近
傍には塗布液の押し出し路(スリット)5の出口が設け
られている。エクストルージョンによって押し出された
塗布液は前記コータリップ6のところでビード(液溜
り)18を生じながら速度Uで走行する支持体上に流延し
ながら塗布される。尚、ビード18の形成を安定させるた
めに減圧室15と吸引口14が設けられている。
コータのコータヘッド3は図1に示すようにバックアッ
プローラ1に巻回された支持体2に対してクリアランス
をおいて該単層ビードコータのコータヘッド3のコータ
リップ6を近接させて設けられ、該コータリップ6の近
傍には塗布液の押し出し路(スリット)5の出口が設け
られている。エクストルージョンによって押し出された
塗布液は前記コータリップ6のところでビード(液溜
り)18を生じながら速度Uで走行する支持体上に流延し
ながら塗布される。尚、ビード18の形成を安定させるた
めに減圧室15と吸引口14が設けられている。
【0024】エクストルージョン塗布方式の重層ビード
コータのコータヘッド3Aはその2層の場合を図2に示
すように該コータヘッド3Aには塗布液の押し出し路
(スリット)5A,5Bが設けられその出口のコータリ
ップ6のところで2層のビード18が形成されながら支持
体上に2層塗布される。ビード18の形成を安定させるた
めに減圧室15と吸引口14が前述の単層の場合と同様に設
けられている。押し出し路(スリット)を3本以上設け
ることにより更に多層の重層塗布を行うことができる。
コータのコータヘッド3Aはその2層の場合を図2に示
すように該コータヘッド3Aには塗布液の押し出し路
(スリット)5A,5Bが設けられその出口のコータリ
ップ6のところで2層のビード18が形成されながら支持
体上に2層塗布される。ビード18の形成を安定させるた
めに減圧室15と吸引口14が前述の単層の場合と同様に設
けられている。押し出し路(スリット)を3本以上設け
ることにより更に多層の重層塗布を行うことができる。
【0025】勿論、重層ビードコータを用い塗布液の押
し出し路(スリット)の1本のみを用い他の押し出し路
を閉鎖することにより単層塗布することが可能である。
し出し路(スリット)の1本のみを用い他の押し出し路
を閉鎖することにより単層塗布することが可能である。
【0026】次にスライド塗布方式の塗布装置について
のべる。
のべる。
【0027】スライド塗布方式の単層スライド型コータ
ヘッド103には、図3に示すようにバックアップローラ
1に巻回された支持体2に対してクリアランスをおいて
該単層スライド型コータヘッド103のコータリップ106が
近接して設けられ、該コータリップ106の上方斜面には
塗布液のスライド面104が形成され塗布液が供給される
スリット105からの塗布液が該スライド面104を流れ前記
コータリップ106のところでビード(液溜り)18を生成
しながら速度Uで走行する支持体上に塗布される。尚、
ビード18の形成を安定させるために減圧室15と吸引口14
が設けられている。
ヘッド103には、図3に示すようにバックアップローラ
1に巻回された支持体2に対してクリアランスをおいて
該単層スライド型コータヘッド103のコータリップ106が
近接して設けられ、該コータリップ106の上方斜面には
塗布液のスライド面104が形成され塗布液が供給される
スリット105からの塗布液が該スライド面104を流れ前記
コータリップ106のところでビード(液溜り)18を生成
しながら速度Uで走行する支持体上に塗布される。尚、
ビード18の形成を安定させるために減圧室15と吸引口14
が設けられている。
【0028】スライド塗布方式の重層スライド型コータ
ヘッド103Aには、その2層の場合を図4に示すよう
に、バックアップローラ1に巻回された支持体2に対し
てクリアランスをおいて該重層スライド型コータヘッド
103Aのコータリップ106が近接して設けられ、該コータ
リップ106の上方斜面には塗布液のスライド面104が形成
され、塗布液が供給される2本のスリット105A,105B
からの該塗布液が該スライド面104を重ねられて流れ、
前記コータリップ106のところでビード(液溜り)18を
生じながら速度Uで走行する支持体上に塗布される。
尚、ビード18の形成を安定させるために減圧室15と吸引
口14が設けられている。また、スリットを3本以上設け
ることにより更に多層の重層塗布を行うことができる。
ヘッド103Aには、その2層の場合を図4に示すよう
に、バックアップローラ1に巻回された支持体2に対し
てクリアランスをおいて該重層スライド型コータヘッド
103Aのコータリップ106が近接して設けられ、該コータ
リップ106の上方斜面には塗布液のスライド面104が形成
され、塗布液が供給される2本のスリット105A,105B
からの該塗布液が該スライド面104を重ねられて流れ、
前記コータリップ106のところでビード(液溜り)18を
生じながら速度Uで走行する支持体上に塗布される。
尚、ビード18の形成を安定させるために減圧室15と吸引
口14が設けられている。また、スリットを3本以上設け
ることにより更に多層の重層塗布を行うことができる。
【0029】勿論、重層ビードコータを用い塗布液の供
給用スリットの1本のみを用い他のスリットを閉鎖する
ことにより単層塗布することが可能である。
給用スリットの1本のみを用い他のスリットを閉鎖する
ことにより単層塗布することが可能である。
【0030】次に上記図1及び図2で説明した装置を用
いて実施した本発明の塗布方法の実施例を示す。
いて実施した本発明の塗布方法の実施例を示す。
【0031】実施例A 図1の単層エクストルージョン型コータヘッド3を用
い、支持体2とコータリップ6の先端とのクリアランス
を100μmに設定し、ビード18の背部を−300mmH2Oに減圧
した条件下で、塗布速度U,粘度μ,表面張力σを変更
しながら、即ち、キャピラリ数を変更しながら下記する
表面粗さの異なる2種類の支持体,に塗布し塗布可
能な薄膜限界を求めた。その結果を表1に示す。
い、支持体2とコータリップ6の先端とのクリアランス
を100μmに設定し、ビード18の背部を−300mmH2Oに減圧
した条件下で、塗布速度U,粘度μ,表面張力σを変更
しながら、即ち、キャピラリ数を変更しながら下記する
表面粗さの異なる2種類の支持体,に塗布し塗布可
能な薄膜限界を求めた。その結果を表1に示す。
【0032】支持体 Ra=0.2のポリエチレンテレフ
タレート支持体(平滑面) 支持体 Ra=0.5の紙支持体(粗面)
タレート支持体(平滑面) 支持体 Ra=0.5の紙支持体(粗面)
【0033】
【表1】
【0034】表1の結果から明らかなように実施例1,
2,3,4,5は所望の塗布速度50m/minや100m/mi
nに対し、キャピラリ数Caを0.3以下と小さくすることに
より、表面の粗い支持体に対しても平滑な支持体と
同等の薄膜塗布が可能になった。しかし、比較例1,2
に示すようにキャピラリ数Caが0.3を越えると支持体
2への薄膜限界が異常に大きくなることがわかる。また
キャピラリ数Ca1が0.2以下になると薄膜限界が更に小さ
くなり良好となることがわかる。
2,3,4,5は所望の塗布速度50m/minや100m/mi
nに対し、キャピラリ数Caを0.3以下と小さくすることに
より、表面の粗い支持体に対しても平滑な支持体と
同等の薄膜塗布が可能になった。しかし、比較例1,2
に示すようにキャピラリ数Caが0.3を越えると支持体
2への薄膜限界が異常に大きくなることがわかる。また
キャピラリ数Ca1が0.2以下になると薄膜限界が更に小さ
くなり良好となることがわかる。
【0035】実施例B 図2の二つの塗布液の押し出し路(スリット)5A,5
Bを有する重層エクストルージョン型コータヘッド3A
を用い、支持体2とコータリップ6の先端とのクリアラ
ンスを100μmに設定し、ビード18の背部を−300mmH2Oに
減圧し、上層側の膜厚を15μmに固定した条件下で、塗
布速度U,粘度μ,表面張力σを変更しながら、即ち、
キャピラリ数を変更しながら下記する表面粗さの異なる
2種類の支持体,に塗布し塗布可能な下層側の薄膜
限界を求めた。その結果を表2に示す。
Bを有する重層エクストルージョン型コータヘッド3A
を用い、支持体2とコータリップ6の先端とのクリアラ
ンスを100μmに設定し、ビード18の背部を−300mmH2Oに
減圧し、上層側の膜厚を15μmに固定した条件下で、塗
布速度U,粘度μ,表面張力σを変更しながら、即ち、
キャピラリ数を変更しながら下記する表面粗さの異なる
2種類の支持体,に塗布し塗布可能な下層側の薄膜
限界を求めた。その結果を表2に示す。
【0036】支持体 Ra=0.2のポリエチレンテレフ
タレート支持体(平滑面) 支持体 Ra=0.5のポリエチレンテレフタレート支持
体(粗面)
タレート支持体(平滑面) 支持体 Ra=0.5のポリエチレンテレフタレート支持
体(粗面)
【0037】
【表2】
【0038】表2の結果から明らかなように実施例6,
7,8,9,10は所望の塗布速度50m/minや100m/min
に対し、支持体と接する再下層のキャピラリ数Ca1を0.3
以下と小さくすることにより、それより上層のキャピラ
リ数Ca2を0.3より大きく0.4とした場合でも、表面の粗
い支持体に対して平滑な支持体と同等の薄膜塗布が
可能になった。しかし、比較例3,4に示すように、支
持体と接する下層のキャピラリ数Ca1が0.3を越えると支
持体に対する薄膜限界が異常に大きくなることがわか
る。
7,8,9,10は所望の塗布速度50m/minや100m/min
に対し、支持体と接する再下層のキャピラリ数Ca1を0.3
以下と小さくすることにより、それより上層のキャピラ
リ数Ca2を0.3より大きく0.4とした場合でも、表面の粗
い支持体に対して平滑な支持体と同等の薄膜塗布が
可能になった。しかし、比較例3,4に示すように、支
持体と接する下層のキャピラリ数Ca1が0.3を越えると支
持体に対する薄膜限界が異常に大きくなることがわか
る。
【0039】実施例C 図2の二つの塗布液の押し出し路(スリット)5A,5
Bを有する重層エクストルージョン型コータヘッド3A
を用い、Ra=0.5のポリエチレンテレフタレート支持体
2に対し、該支持体2とコータリップ6のクリアランス
を100μmに設定し、ビード18の背部を−300mmH2Oに減圧
し、以下のように上下層の表面張力のバランスを変化さ
せて塗布し比較した。その結果を表3に示す。
Bを有する重層エクストルージョン型コータヘッド3A
を用い、Ra=0.5のポリエチレンテレフタレート支持体
2に対し、該支持体2とコータリップ6のクリアランス
を100μmに設定し、ビード18の背部を−300mmH2Oに減圧
し、以下のように上下層の表面張力のバランスを変化さ
せて塗布し比較した。その結果を表3に示す。
【0040】
【表3】
【0041】表3において、実施例11は下層の塗布液の
表面張力σ1が上層の塗布液の表面張力σ2よりも小さく
幅方向の端部の様子は図5の被塗布物の幅方向断面図に
示すように上層塗膜の収縮が著しい。また、実施例12は
下層と上層の各塗布液の表面張力の大きさが実施例11と
は逆になっており図6の被塗布物の幅方向断面図に示す
ように下層塗膜と上層塗膜のバランスがよい安定した塗
布である。このように、重層塗布においては隣接する層
の上層塗膜よりも下層塗膜の方の表面張力が高いことが
望ましい。
表面張力σ1が上層の塗布液の表面張力σ2よりも小さく
幅方向の端部の様子は図5の被塗布物の幅方向断面図に
示すように上層塗膜の収縮が著しい。また、実施例12は
下層と上層の各塗布液の表面張力の大きさが実施例11と
は逆になっており図6の被塗布物の幅方向断面図に示す
ように下層塗膜と上層塗膜のバランスがよい安定した塗
布である。このように、重層塗布においては隣接する層
の上層塗膜よりも下層塗膜の方の表面張力が高いことが
望ましい。
【0042】上記、表1,2,3において塗布速度Uは
m/minの単位、粘度μ,μ1,μ2はセンチポアズ(c
P)の単位、表面張力σ,σ1,σ2はdyne/cmで表して
あるが、キャピラリ数Ca,Ca1,Ca2はUをcm/sec、
μ,μ1,μ2をホアーズ(P)、σ,σ1,σ2を同じdy
ne/cmの単位で算出したものである。
m/minの単位、粘度μ,μ1,μ2はセンチポアズ(c
P)の単位、表面張力σ,σ1,σ2はdyne/cmで表して
あるが、キャピラリ数Ca,Ca1,Ca2はUをcm/sec、
μ,μ1,μ2をホアーズ(P)、σ,σ1,σ2を同じdy
ne/cmの単位で算出したものである。
【0043】
【発明の効果】以上、本願発明請求項1記載の発明によ
れば、表面の平坦な支持体だけでなく、被塗布面が、中
心線平均粗さが0.3μmを越えるような粗い支持体の場合
であっても、高速で安定し、かつ均一な薄膜塗布が可能
である。
れば、表面の平坦な支持体だけでなく、被塗布面が、中
心線平均粗さが0.3μmを越えるような粗い支持体の場合
であっても、高速で安定し、かつ均一な薄膜塗布が可能
である。
【0044】本願発明請求項2記載の発明によれば、被
塗布面が、中心線平均粗さが0.3μmを越えるような粗い
場合に、複数の塗布層を形成する際、安定し、かつバラ
ンスのよい塗布層が形成できる。
塗布面が、中心線平均粗さが0.3μmを越えるような粗い
場合に、複数の塗布層を形成する際、安定し、かつバラ
ンスのよい塗布層が形成できる。
【0045】本願発明請求項3記載の発明によれば、支
持体側の塗布液の表面張力が大きいので、上層側の塗膜
の収縮が生じにくくなり、塗布層の幅方向において、上
層のみが収縮することによる不均一な塗布層の形成を防
止することができ、生産性が向上する。
持体側の塗布液の表面張力が大きいので、上層側の塗膜
の収縮が生じにくくなり、塗布層の幅方向において、上
層のみが収縮することによる不均一な塗布層の形成を防
止することができ、生産性が向上する。
【0046】本願発明請求項4記載の発明によれば、最
下層に塗布する塗布液に、固形分を有しない種類の物を
使用することにより、乾燥後の塗布層(塗膜)に所望の
精度のものが得られる。
下層に塗布する塗布液に、固形分を有しない種類の物を
使用することにより、乾燥後の塗布層(塗膜)に所望の
精度のものが得られる。
【0047】本願発明請求項5記載の発明によれば、最
下層の塗布に使用する塗布液に、この最下層に隣接する
層の塗布液の溶剤を用いるので、乾燥後に残留溶剤とし
て残り、悪影響を及ぼすことがない。
下層の塗布に使用する塗布液に、この最下層に隣接する
層の塗布液の溶剤を用いるので、乾燥後に残留溶剤とし
て残り、悪影響を及ぼすことがない。
【図1】エクストルージョン塗布方式の単層ビードコー
タの模式図。
タの模式図。
【図2】エクストルージョン塗布方式の重層ビードコー
タの模式図。
タの模式図。
【図3】スライド塗布方式の単層ビードコータの模式
図。
図。
【図4】スライド塗布方式の重層ビードコータの模式
図。
図。
【図5】被塗布物の幅方向断面図。
【図6】被塗布物の幅方向断面図。
1 バックアップローラ 2 支持体 3,3A,103,103A コータヘッド 5,5A,5B 塗布液の押し出し路(スリット) 6,106 コータリップ 14 吸引口 15 減圧室 105,105A,105B スリット
Claims (5)
- 【請求項1】 塗布される面の中心線平均粗さRaが、
Ra≧0.3μmである支持体に対し塗布液を塗布する塗布
方法において、前記塗布液物性が、支持体に対して塗布
を行う速度である塗布速度Ucm/secと前記塗布液の粘
度μPと該塗布液の表面張力σdyne/cmとによって次式
のなかで定義される無次元数のキャピラリ数Caが次式を
満たすようにしたことを特徴とする塗布方法。 Ca=μ・U/σ≦0.3 - 【請求項2】 塗布される面の中心線平均粗さRaが、
Ra≧0.3μmである支持体に対し、少なくとも2種類の
塗布液を同時に重層塗布する塗布方法において、前記少
なくとも2種類の塗布液のうち、支持体に隣接して塗布
される第一の塗布液の物性が、支持体に対して塗布を行
う速度である塗布速度Ucm/secと前記第一の塗布液の
粘度μ1Pと該塗布液の表面張力σ1dyne/cmとによって
次式のなかで定義される無次元数のキャピラリ数Ca1が
次式を満たすようにしたことを特徴とする塗布方法。 Ca1=μ1・U/σ1≦0.3 - 【請求項3】 請求項2において、前記少なくとも2種
類の塗布液のなかで隣接する塗布液のうち、前記支持体
側に塗布される塗布液の方が高い表面張力を有するよう
にしたことを特徴とする塗布方法。 - 【請求項4】 請求項2又は請求項3において、前記支
持体に隣接して塗布される第一の塗布液が固形分を有し
ない溶剤を用いたことを特徴とする塗布方法。 - 【請求項5】 請求項4において、前記支持体に隣接し
て塗布される第一の塗布液は前記第一の塗布液に隣接し
て塗布される塗布液が含有する溶剤と同じ溶剤であるこ
とを特徴とする塗布方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31331794A JP3282062B2 (ja) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | 塗布方法 |
US08/569,657 US5670214A (en) | 1994-12-16 | 1995-12-08 | Method for coating a thin layer on a substrate having a rough surface |
DE69516097T DE69516097T2 (de) | 1994-12-16 | 1995-12-12 | Ein Beschichtungsverfahren |
EP95119571A EP0716890B1 (en) | 1994-12-16 | 1995-12-12 | A coating method |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP31331794A JP3282062B2 (ja) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | 塗布方法 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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JP3282062B2 JP3282062B2 (ja) | 2002-05-13 |
Family
ID=18039779
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EP (1) | EP0716890B1 (ja) |
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DE (1) | DE69516097T2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002248399A (ja) * | 2001-02-27 | 2002-09-03 | Toray Ind Inc | 塗布部材の製造方法及び装置 |
JP2009262154A (ja) * | 2002-07-26 | 2009-11-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 塗膜の製造方法 |
US8808795B2 (en) | 2010-02-25 | 2014-08-19 | Fujifilm Corporation | Method of producing laminate film |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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EP1325948A1 (en) * | 1996-02-28 | 2003-07-09 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Process for producing a coated film continuously |
SE515824C2 (sv) * | 2000-01-26 | 2001-10-15 | Tetra Laval Holdings & Finance | Förfarande för tillverkning av ett flerskiktat förpackningslaminat genom våtbeläggning, samt laminat tillverkat enligt förfarandet |
US6548117B2 (en) * | 2000-06-26 | 2003-04-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for coating a running web using a plurality of coating liquids |
JP2002059062A (ja) * | 2000-08-24 | 2002-02-26 | Konica Corp | エクストルージョン塗布方法、エクストルージョン塗布装置 |
GB2376429B (en) | 2001-04-25 | 2004-09-01 | Eastman Kodak Co | A method of coating a web |
EP1329297A3 (en) * | 2001-06-15 | 2011-10-19 | FUJIFILM Corporation | Method of producing of cellulose ester film |
US7291362B2 (en) * | 2004-01-20 | 2007-11-06 | 3M Innovative Properties Company | Method and apparatus for controlling coating width |
US7081687B2 (en) * | 2004-07-22 | 2006-07-25 | Sprint Communications Company L.P. | Power system for a telecommunications facility |
WO2008014604A1 (en) * | 2006-08-02 | 2008-02-07 | Nanometrix Inc. | Modular transfer apparatus and process |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6064662A (ja) * | 1983-09-19 | 1985-04-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布方法 |
JP2565414B2 (ja) * | 1990-04-16 | 1996-12-18 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布装置 |
JP3097786B2 (ja) * | 1992-04-16 | 2000-10-10 | 富士写真フイルム株式会社 | 有機溶剤系塗布液の塗布方法 |
-
1994
- 1994-12-16 JP JP31331794A patent/JP3282062B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-12-08 US US08/569,657 patent/US5670214A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-12-12 EP EP95119571A patent/EP0716890B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-12-12 DE DE69516097T patent/DE69516097T2/de not_active Expired - Fee Related
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JP2002248399A (ja) * | 2001-02-27 | 2002-09-03 | Toray Ind Inc | 塗布部材の製造方法及び装置 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
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DE69516097D1 (de) | 2000-05-11 |
DE69516097T2 (de) | 2000-11-02 |
EP0716890A1 (en) | 1996-06-19 |
EP0716890B1 (en) | 2000-04-05 |
US5670214A (en) | 1997-09-23 |
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