JP3244129B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、オ−ディオテ−プ、ビ
デオテ−プ、コンピュ−タ−テ−プ、磁気ディスク、フ
ロッピ−ディスク、磁気カ−ドなどに関して用いられる
磁気記録媒体の性能向上に関し、さらに詳しくは、放射
線により硬化するバインダを用いた磁気記録媒体に関す
る。
デオテ−プ、コンピュ−タ−テ−プ、磁気ディスク、フ
ロッピ−ディスク、磁気カ−ドなどに関して用いられる
磁気記録媒体の性能向上に関し、さらに詳しくは、放射
線により硬化するバインダを用いた磁気記録媒体に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気記録媒体においては、放射線
硬化性樹脂を磁性粉およびその他の必須成分とともに混
合分散して磁性塗料を調整し、得られる磁性塗料を支持
体上に塗布、乾燥させた後、放射線硬化し磁性層を形成
することが行なわれている。そして、これら放射線硬化
性樹脂として、塩化ビニル系共重合体に不飽和二重結合
を導入した樹脂が使用されている。特開昭６１−５９６
２１号公報においては分子量３００〜１０，０００の水
酸基を有する塩化ビニル系共重合体に２−イソシアナ−
トエチルメタアクリレ−ト（ＭＯＩ）を反応させた放射
線硬化性塩化ビニル系共重合体を得ている。しかしなが
らこの範囲の樹脂では十分な機械物性を有する塗膜は得
られない。
硬化性樹脂を磁性粉およびその他の必須成分とともに混
合分散して磁性塗料を調整し、得られる磁性塗料を支持
体上に塗布、乾燥させた後、放射線硬化し磁性層を形成
することが行なわれている。そして、これら放射線硬化
性樹脂として、塩化ビニル系共重合体に不飽和二重結合
を導入した樹脂が使用されている。特開昭６１−５９６
２１号公報においては分子量３００〜１０，０００の水
酸基を有する塩化ビニル系共重合体に２−イソシアナ−
トエチルメタアクリレ−ト（ＭＯＩ）を反応させた放射
線硬化性塩化ビニル系共重合体を得ている。しかしなが
らこの範囲の樹脂では十分な機械物性を有する塗膜は得
られない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の種々
の欠点を改良しようとするもので、磁性粉の分散性、配
向性に優れ、かつ耐久性に優れた高記録密度化に適した
磁気記録媒体を提供するものである。
の欠点を改良しようとするもので、磁性粉の分散性、配
向性に優れ、かつ耐久性に優れた高記録密度化に適した
磁気記録媒体を提供するものである。
【０００４】本発明は、水酸基、および−ＳＯ3Ｍ基
（ＭはＨ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｂａ，Ｃｓの原子を表す）
を有し、−ＳＯ3Ｍ基の濃度が１０〜２００当量／１０6
ｇであり、かつ分子量が１０，０００〜１００，０００
の塩化ビニル系共重合体（Ａ）とエチレン性不飽和二重
結合を１個以上およびイソシアネート基１個を分子中に
有しかつウレタン結合を分子中に持たないモノマー
（Ｂ）とをＮＣＯ基／ＯＨ基（当量比）が０．５〜０．
９／１．０の範囲で反応させて得られる、ウレタン結合
濃度が２００〜４００当量／１０6ｇの範囲の放射線硬
化型樹脂と磁性分とを含む磁性層が支持体上に設けら
れ、該磁性層が放射線照射により硬化されている磁気記
録媒体である。
（ＭはＨ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｂａ，Ｃｓの原子を表す）
を有し、−ＳＯ3Ｍ基の濃度が１０〜２００当量／１０6
ｇであり、かつ分子量が１０，０００〜１００，０００
の塩化ビニル系共重合体（Ａ）とエチレン性不飽和二重
結合を１個以上およびイソシアネート基１個を分子中に
有しかつウレタン結合を分子中に持たないモノマー
（Ｂ）とをＮＣＯ基／ＯＨ基（当量比）が０．５〜０．
９／１．０の範囲で反応させて得られる、ウレタン結合
濃度が２００〜４００当量／１０6ｇの範囲の放射線硬
化型樹脂と磁性分とを含む磁性層が支持体上に設けら
れ、該磁性層が放射線照射により硬化されている磁気記
録媒体である。
【０００５】本発明において、水酸基および−ＳＯ3Ｍ
基（ＭはＨ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｂａ，Ｃｓの原子を表
す）を有しかつ分子量１０，０００〜１００，０００の
塩化ビニル系共重合体（Ａ）としては、塩化ビニル−酢
酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−ビ
ニルアルコール共重合体、塩化ビニル−ヒドロキシアル
キル（メタ）アクリレート共重合体、塩化ビニル−酢酸
ビニル−ビニルアルコール−グリシジル（メタ）アクリ
レート共重合体などがあり、また、極性基として−ＳＯ
3Ｍ基（ＭはＨ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｂａ，Ｃｓの原子を
表す）含有することが必要である。
基（ＭはＨ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｂａ，Ｃｓの原子を表
す）を有しかつ分子量１０，０００〜１００，０００の
塩化ビニル系共重合体（Ａ）としては、塩化ビニル−酢
酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−ビ
ニルアルコール共重合体、塩化ビニル−ヒドロキシアル
キル（メタ）アクリレート共重合体、塩化ビニル−酢酸
ビニル−ビニルアルコール−グリシジル（メタ）アクリ
レート共重合体などがあり、また、極性基として−ＳＯ
3Ｍ基（ＭはＨ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｂａ，Ｃｓの原子を
表す）含有することが必要である。
【０００６】本発明において、エチレン性不飽和二重結
合を１個以上およびイソシアネ−ト基１個を１分子中に
有し、かつウレタン結合を分子中に持たないモノマ−
（Ｂ）としては、２−イソシアネ−トエチル（メタ）ア
クリレ−ト、メタクリロイルイソシアネ−トなどがあ
る。この分子の様にイソシアネ−ト基とアクリル基の距
離は短くなければならない。
合を１個以上およびイソシアネ−ト基１個を１分子中に
有し、かつウレタン結合を分子中に持たないモノマ−
（Ｂ）としては、２−イソシアネ−トエチル（メタ）ア
クリレ−ト、メタクリロイルイソシアネ−トなどがあ
る。この分子の様にイソシアネ−ト基とアクリル基の距
離は短くなければならない。
【０００７】水酸基、および−ＳＯ3Ｍ基（ＭはＨ，Ｌ
ｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｂａ，Ｃｓの原子を表す）を有しかつ分
子量１０，０００〜１００，０００の塩化ビニル系共重
合体（Ａ）とモノマー（Ｂ）との反応によってウレタン
結合によりエチレン性二重結合を導入するが、塩化ビニ
ル系共重合体（Ａ）とモノマー（Ｂ）の重量比によって
放射線硬化性を自由に設計できる。しかしながら、ウレ
タン結合濃度を上げすぎると分散性の低下が生じる。そ
こで分散性と硬度のバランスをとると、ウレタン結合濃
度が２００〜４００当量／１０6ｇの範囲でなけばなら
ない。また、塩化ビニル系共重合体の未反応水酸基を多
くすると、水酸基間の水素結合による溶液粘度の増加が
起きるため、ＮＣＯ基／ＯＨ基（当量）が０．５／１．
０以上である必要がある。しかし、反応性の点からはＮ
ＣＯ基／ＯＨ基が０．９／１．０以下である必要があ
る。この溶液粘度と反応性を考慮すると、ＮＣＯ基／Ｏ
Ｈ基が０．５〜０．９の範囲で塩化ビニル系共重合体
（Ａ）とモノマー（Ｂ）を反応させなければならない。
ｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｂａ，Ｃｓの原子を表す）を有しかつ分
子量１０，０００〜１００，０００の塩化ビニル系共重
合体（Ａ）とモノマー（Ｂ）との反応によってウレタン
結合によりエチレン性二重結合を導入するが、塩化ビニ
ル系共重合体（Ａ）とモノマー（Ｂ）の重量比によって
放射線硬化性を自由に設計できる。しかしながら、ウレ
タン結合濃度を上げすぎると分散性の低下が生じる。そ
こで分散性と硬度のバランスをとると、ウレタン結合濃
度が２００〜４００当量／１０6ｇの範囲でなけばなら
ない。また、塩化ビニル系共重合体の未反応水酸基を多
くすると、水酸基間の水素結合による溶液粘度の増加が
起きるため、ＮＣＯ基／ＯＨ基（当量）が０．５／１．
０以上である必要がある。しかし、反応性の点からはＮ
ＣＯ基／ＯＨ基が０．９／１．０以下である必要があ
る。この溶液粘度と反応性を考慮すると、ＮＣＯ基／Ｏ
Ｈ基が０．５〜０．９の範囲で塩化ビニル系共重合体
（Ａ）とモノマー（Ｂ）を反応させなければならない。
【０００８】本発明における、塩化ビニル系共重合体
（Ａ）とモノマ−（Ｂ）との反応は、必要に応じて反応
に関与しない公知の有機溶剤に塩化ビニル系共重合体
（Ａ）を溶解させ、公知のウレタン化触媒を用い、公知
のラジカル重合禁止剤、たとえばハイドロキノンを用
い、反応温度６０℃以下で行なわれる。
（Ａ）とモノマ−（Ｂ）との反応は、必要に応じて反応
に関与しない公知の有機溶剤に塩化ビニル系共重合体
（Ａ）を溶解させ、公知のウレタン化触媒を用い、公知
のラジカル重合禁止剤、たとえばハイドロキノンを用
い、反応温度６０℃以下で行なわれる。
【０００９】本発明において磁性粉としては、γ−Ｆｅ
2 Ｏ3 、Ｆｅ3 Ｏ4 、γ−Ｆｅ2 Ｏ3 とＦｅ3 Ｏ4 の混
晶、コバルトをド−プしたγ−Ｆｅ2 Ｏ3 、コバルトを
ド−プしたＦｅ3 Ｏ4 、二酸化クロム、バリウムフェラ
イト、または鉄、コバルト等の金属磁性体、あるいは種
々の合金磁性体等をあげることができる。
2 Ｏ3 、Ｆｅ3 Ｏ4 、γ−Ｆｅ2 Ｏ3 とＦｅ3 Ｏ4 の混
晶、コバルトをド−プしたγ−Ｆｅ2 Ｏ3 、コバルトを
ド−プしたＦｅ3 Ｏ4 、二酸化クロム、バリウムフェラ
イト、または鉄、コバルト等の金属磁性体、あるいは種
々の合金磁性体等をあげることができる。
【００１０】上記放射線硬化性樹脂および磁性粉のほか
に、ポリエステルアクリレ−ト、ポリウレタンアクリレ
−ト、エポキシアクリレ−トなどの放射線硬化性樹脂、
スチレンなどの希釈モノマ−、潤滑剤、研磨剤、帯電防
止剤などを添加し、塗布などの方法により支持体上に磁
性層として設け、必要に応じて乾燥後、放射線照射によ
り硬化させて磁気記録媒体を得る。
に、ポリエステルアクリレ−ト、ポリウレタンアクリレ
−ト、エポキシアクリレ−トなどの放射線硬化性樹脂、
スチレンなどの希釈モノマ−、潤滑剤、研磨剤、帯電防
止剤などを添加し、塗布などの方法により支持体上に磁
性層として設け、必要に応じて乾燥後、放射線照射によ
り硬化させて磁気記録媒体を得る。
【００１１】本発明の磁気記録媒体に用いられる支持体
としては、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレン
ナフタレ−ト、ポリカ−ボネ−ト、ポリプロピレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリイミド、ポリアミドイミド、アルミ
ニウム合金などの任意の物をあげることができる。ま
た、塗布乾燥後の磁性層の厚さは通常２〜２０μｍであ
る。
としては、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレン
ナフタレ−ト、ポリカ−ボネ−ト、ポリプロピレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリイミド、ポリアミドイミド、アルミ
ニウム合金などの任意の物をあげることができる。ま
た、塗布乾燥後の磁性層の厚さは通常２〜２０μｍであ
る。
【００１２】本発明において使用される放射線として
は、電子線加速器などを線源とした電子線、Ｃｏ60を線
源としたγ線、Ｘ線発生器を線源としたＸ線、紫外線な
どである。
は、電子線加速器などを線源とした電子線、Ｃｏ60を線
源としたγ線、Ｘ線発生器を線源としたＸ線、紫外線な
どである。
【００１３】
【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。実施
例中部とは、重量部を表す。 合成例 １ 下記の塩化ビニル系共重合体（Ｉ）１００部をメチルエ
チルケトン２００部とトルエン５０部に溶解させ、つい
でフェノチアジン、ハイドロキノンを各々下記アクリル
化合物に対して２００ppm 混合した。その後、２−イソ
シアナ−トエチルメタアクリレ−ト（ＭＯＩ）５部、ウ
レタン化触媒のジ−ｎ−ブチルチンラウレ−ト（ＤＢＴ
Ｌ）を上記イソシアネ−ト化合物に対して１０００ppm
混合し、反応温度６０℃で８時間撹拌を行なった。ＩＲ
スペクトルによりイソシアネート基の吸収がないことを
確認した。 塩化ビニル系共重合体（Ｉ） 共重合組成：塩化ビニル５５ｗｔ％、酢酸ビニル３９ｗ
ｔ％、スルホニルスチレンのナトリウム塩１ｗｔ％、ヒ
ドロキシエチルアクリレ−ト５ｗｔ％ 分子量：２５０００
例中部とは、重量部を表す。 合成例 １ 下記の塩化ビニル系共重合体（Ｉ）１００部をメチルエ
チルケトン２００部とトルエン５０部に溶解させ、つい
でフェノチアジン、ハイドロキノンを各々下記アクリル
化合物に対して２００ppm 混合した。その後、２−イソ
シアナ−トエチルメタアクリレ−ト（ＭＯＩ）５部、ウ
レタン化触媒のジ−ｎ−ブチルチンラウレ−ト（ＤＢＴ
Ｌ）を上記イソシアネ−ト化合物に対して１０００ppm
混合し、反応温度６０℃で８時間撹拌を行なった。ＩＲ
スペクトルによりイソシアネート基の吸収がないことを
確認した。 塩化ビニル系共重合体（Ｉ） 共重合組成：塩化ビニル５５ｗｔ％、酢酸ビニル３９ｗ
ｔ％、スルホニルスチレンのナトリウム塩１ｗｔ％、ヒ
ドロキシエチルアクリレ−ト５ｗｔ％ 分子量：２５０００
【００１４】合成例 ２ 水酸基を含有し、水酸基以外の極性基をほとんど含有し
ない塩化ビニル酢酸ビニル系共重合体「ＶＲＯＨ」（ユ
ニオンカ−バイド社製）２００部をメチルエチルケトン
４００部、トルエン１８０部に溶解させ、ついでフェノ
チアジン、ハイドロキノンを下記各々アクリル化合物に
対して２００ppm 混合した。その後ＭＯＩを２０部加
え、ＤＢＴＬを上記イソシアネート化合物に対して、１
０００ppm混合し、反応温度６０℃で８時間攪拌を行な
った。ＩＲスペクトルによりイソシアネート基の吸収が
ないことを確認した。
ない塩化ビニル酢酸ビニル系共重合体「ＶＲＯＨ」（ユ
ニオンカ−バイド社製）２００部をメチルエチルケトン
４００部、トルエン１８０部に溶解させ、ついでフェノ
チアジン、ハイドロキノンを下記各々アクリル化合物に
対して２００ppm 混合した。その後ＭＯＩを２０部加
え、ＤＢＴＬを上記イソシアネート化合物に対して、１
０００ppm混合し、反応温度６０℃で８時間攪拌を行な
った。ＩＲスペクトルによりイソシアネート基の吸収が
ないことを確認した。
【００１５】合成例 ３ ８０℃に加熱したトリレンジイソシアネ−ト １７４部
にハイドロキノン０．１３部を加えた後、２−ヒドロキ
シエチルメタアクリレ−ト１３０部を徐々に滴下するこ
とにより加え、８０℃で２時間反応させてアダクト体を
得た。塩化ビニル系共重合体「ＶＲＯＨ」（ユニオンカ
−バイド社製）２００部をメチルエチルケトン４００
部、トルエン１８０部に６０℃で溶解させ、これに得ら
れたアダクト体５０部を加え、ウレタン化反応触媒のＤ
ＢＴＬを０．１部加えた。６０℃で８時間撹拌し、ＩＲ
スペクトルによりイソシアネ−ト基の吸収のないことを
確認した。
にハイドロキノン０．１３部を加えた後、２−ヒドロキ
シエチルメタアクリレ−ト１３０部を徐々に滴下するこ
とにより加え、８０℃で２時間反応させてアダクト体を
得た。塩化ビニル系共重合体「ＶＲＯＨ」（ユニオンカ
−バイド社製）２００部をメチルエチルケトン４００
部、トルエン１８０部に６０℃で溶解させ、これに得ら
れたアダクト体５０部を加え、ウレタン化反応触媒のＤ
ＢＴＬを０．１部加えた。６０℃で８時間撹拌し、ＩＲ
スペクトルによりイソシアネ−ト基の吸収のないことを
確認した。
【００１６】実施例 １ 成分 コバルトをド−プした針状 γ−Fe2O3(比表面積２１m2/g) １００部 カ−ボンブラック（帯電防止剤） ４部 アルミナ粉末（研磨剤） ８部 レシチン ３部 メチルエチルケトン ５０部 トルエン ５０部 成分 合成例１において得られた樹脂の溶剤溶液 ６０部 ウレタンアクリレ−ト「アロニックス Ｍ−１２００」（東亜合成化学工業株 製） ７部 ステアリン酸ブチル ２部 メチルエチルケトン ９０部 トルエン ９０部 上記成分をボ−ルミル中にて３時間混合分散させ、次
いで上記成分を加え、５時間混合分散させて磁性塗料
を得た。ＮＣＯ基／ＯＨ基（当量比）は０．７５であ
る。得られた磁性塗料を厚さ１５μｍのポリエステルフ
ィルム製支持体に塗布することによって磁性層を設け、
磁場配向させ、電子線を５Mrad照射することにより硬化
させた。得られた磁気フィルムについて、磁気記録媒体
の性能評価を行なうために表面光沢（グロス６０度）、
角形比（Ｒｓ）、走行耐久性の評価を行なった。なお、
上記の磁性塗料は２４時間放置後も磁性塗料の沈澱やバ
インダ−の分離等はほとんど認められず非常に安定なも
のであった。
いで上記成分を加え、５時間混合分散させて磁性塗料
を得た。ＮＣＯ基／ＯＨ基（当量比）は０．７５であ
る。得られた磁性塗料を厚さ１５μｍのポリエステルフ
ィルム製支持体に塗布することによって磁性層を設け、
磁場配向させ、電子線を５Mrad照射することにより硬化
させた。得られた磁気フィルムについて、磁気記録媒体
の性能評価を行なうために表面光沢（グロス６０度）、
角形比（Ｒｓ）、走行耐久性の評価を行なった。なお、
上記の磁性塗料は２４時間放置後も磁性塗料の沈澱やバ
インダ−の分離等はほとんど認められず非常に安定なも
のであった。
【００１７】比較例 １ 実施例１において、合成例１で得られた樹脂の溶剤溶液
の代わりに、合成例２で得られた樹脂の溶剤溶液を使用
し、同様の組成および分散条件で磁性塗料を調整し、同
様の評価を行った。なを磁性塗料の安定性は不良であっ
た。
の代わりに、合成例２で得られた樹脂の溶剤溶液を使用
し、同様の組成および分散条件で磁性塗料を調整し、同
様の評価を行った。なを磁性塗料の安定性は不良であっ
た。
【００１８】比較例 ２ 実施例１において、合成例１で得られた樹脂の溶剤溶液
のかわりに、合成例３で得られた樹脂の溶剤溶液を使用
し、同様の組成および分散条件で磁性塗料を調整し、同
様の評価を行った。なを磁性塗料の安定性は不良であっ
た。得られた磁気フィルムについて、実施例と比較例と
の評価結果を表１に示す。
のかわりに、合成例３で得られた樹脂の溶剤溶液を使用
し、同様の組成および分散条件で磁性塗料を調整し、同
様の評価を行った。なを磁性塗料の安定性は不良であっ
た。得られた磁気フィルムについて、実施例と比較例と
の評価結果を表１に示す。
【００１９】
【表１】 表１から明らかなように、本発明のバインダ−を使用す
ることにより、磁性粉の分散性、配向性に優れ、磁性記
録媒体としての耐久性を著しく向上させることができ
る。
ることにより、磁性粉の分散性、配向性に優れ、磁性記
録媒体としての耐久性を著しく向上させることができ
る。
【００２０】
【発明の効果】本発明における水酸基及び水酸基以外の
極性基を有した特定の塩化ビニル系共重合体をイソシア
ネート基とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物で
特定量のウレタン結合濃度になるように変性した放射線
硬化性樹脂は、従来の塩ビ系バインダーでは達成が困難
であった磁性塗料の安定性を著しく向上させるのみなら
ず、磁性粉の分散性、耐向性に優れ、かつ放射線硬化に
より強靱な樹脂塗膜を形成することができるため、耐久
性に優れ、かつ高記録密度化に適した磁気記録媒体を提
供することができる。
極性基を有した特定の塩化ビニル系共重合体をイソシア
ネート基とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物で
特定量のウレタン結合濃度になるように変性した放射線
硬化性樹脂は、従来の塩ビ系バインダーでは達成が困難
であった磁性塗料の安定性を著しく向上させるのみなら
ず、磁性粉の分散性、耐向性に優れ、かつ放射線硬化に
より強靱な樹脂塗膜を形成することができるため、耐久
性に優れ、かつ高記録密度化に適した磁気記録媒体を提
供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平３−41618（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−72320（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−67314（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−59621（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−149763（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−77930（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−44227（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 5/702 C09D 175/04 C09D 127/06
Claims (1)
- 【請求項１】水酸基、および−ＳＯ 3 Ｍ基（ＭはＨ，Ｌ
ｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｂａ，Ｃｓの原子を表す）を有し、−Ｓ
Ｏ 3 Ｍ基の濃度が１０〜２００当量／１０6ｇであり、か
つ分子量が１０，０００〜１００，０００の塩化ビニル
共重合体（Ａ）とエチレン性不飽和二重結合を１個以上
およびイソシアネート基１個を分子中に有しかつウレタ
ン結合を持たないモノマー（Ｂ）とをＮＣＯ基／ＯＨ基
（当量比）が０．５〜０．９／１．０の範囲で反応させ
て得られる、ウレタン結合濃度が２００〜４００当量／
１０6ｇの範囲の放射線硬化型樹脂と磁性分とを含む磁
性層が支持体上に設けられ、該磁性層が放射線照射によ
り硬化されている磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35963191A JP3244129B2 (ja) | 1991-12-26 | 1991-12-26 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35963191A JP3244129B2 (ja) | 1991-12-26 | 1991-12-26 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05182175A JPH05182175A (ja) | 1993-07-23 |
| JP3244129B2 true JP3244129B2 (ja) | 2002-01-07 |
Family
ID=18465488
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35963191A Expired - Fee Related JP3244129B2 (ja) | 1991-12-26 | 1991-12-26 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3244129B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5391286B2 (ja) * | 2011-01-12 | 2014-01-15 | 富士フイルム株式会社 | 磁気記録媒体用結合剤樹脂組成物およびその製造方法、ならびに磁気記録媒体 |
-
1991
- 1991-12-26 JP JP35963191A patent/JP3244129B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05182175A (ja) | 1993-07-23 |
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