JP3217194B2 - 平版印刷版用支持体の製造方法 - Google Patents
平版印刷版用支持体の製造方法Info
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- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
- C25F3/00—Electrolytic etching or polishing
- C25F3/02—Etching
- C25F3/04—Etching of light metals
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/03—Chemical or electrical pretreatment
- B41N3/034—Chemical or electrical pretreatment characterised by the electrochemical treatment of the aluminum support, e.g. anodisation, electro-graining; Sealing of the anodised layer; Treatment of the anodic layer with inorganic compounds; Colouring of the anodic layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/10—Etching compositions
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- C23F1/16—Acidic compositions
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は印刷版用支持体に関する
ものであり、特にオフセット印刷版用に適する粗面化さ
れたアルミニウム板からなる平版印刷版用支持体の製造
方法に関するものである。
ものであり、特にオフセット印刷版用に適する粗面化さ
れたアルミニウム板からなる平版印刷版用支持体の製造
方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、平版印刷版用支持体としてアル
ミニウム板が広く使用されており、その上に設けられる
感光層との密着性を良好にし、かつ、それを用いて作製
する平版印刷版の非画像部（印刷時に使用される湿し水
を受容し、油性インクを反発する領域で、支持体の表面
が露出している領域がこれを担う）の保水性を改善する
ことを目的として、アルミニウム板の表面は粗面化され
るのが通例である。
ミニウム板が広く使用されており、その上に設けられる
感光層との密着性を良好にし、かつ、それを用いて作製
する平版印刷版の非画像部（印刷時に使用される湿し水
を受容し、油性インクを反発する領域で、支持体の表面
が露出している領域がこれを担う）の保水性を改善する
ことを目的として、アルミニウム板の表面は粗面化され
るのが通例である。
【０００３】この粗面化処理は、いわゆる砂目だてと称
され、ボールグレイン、ワイヤーグレイン、ブラシグレ
イン等の機械的な粗面化方法、化学的な粗面化方法及び
電気化学的な粗面化方法がある。
され、ボールグレイン、ワイヤーグレイン、ブラシグレ
イン等の機械的な粗面化方法、化学的な粗面化方法及び
電気化学的な粗面化方法がある。
【０００４】そして、従来、特開昭57−16918号公報、
特開昭54−63902号公報、特開昭63−104890号公報、特
開平３−132395号公報等で提案されているように、機械
的な粗面化方法と電気化学的な粗面化方法とを組み合わ
せることにより、アルミニウム板に平版印刷版用支持体
として好適な粗面を形成していた。
特開昭54−63902号公報、特開昭63−104890号公報、特
開平３−132395号公報等で提案されているように、機械
的な粗面化方法と電気化学的な粗面化方法とを組み合わ
せることにより、アルミニウム板に平版印刷版用支持体
として好適な粗面を形成していた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した従来
の粗面化方法で形成された平版印刷版用支持体を用いた
印刷版は、汚れ性能（非画像面にインクが付着しない性
能）と絡み性能（非画像面が水を保持する性能）とが両
立せず、どちらかの性能が犠牲になるものであり、通
常、絡み性能が十分でないものであった。
の粗面化方法で形成された平版印刷版用支持体を用いた
印刷版は、汚れ性能（非画像面にインクが付着しない性
能）と絡み性能（非画像面が水を保持する性能）とが両
立せず、どちらかの性能が犠牲になるものであり、通
常、絡み性能が十分でないものであった。
【０００６】また、耐刷性能（印刷時に支持体から感光
層が剥がれない性能）が十分でないものであった。
層が剥がれない性能）が十分でないものであった。
【０００７】本発明は、以上の問題点を解決し、汚れ性
能及び絡み性能が良好で、かつ、耐刷性能も良好な平版
印刷版用支持体の製造方法を提供することを目的とす
る。
能及び絡み性能が良好で、かつ、耐刷性能も良好な平版
印刷版用支持体の製造方法を提供することを目的とす
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するために鋭意検討し、電気化学的な粗面化方法
等で形成された粗面のピットに、0.05〜0.5μｍ程度の
ピットを形成した粗面が、汚れ性能及び絡み性能に有効
であることを見出すとともに、この0.05〜0.5μｍ程度
のピットを良好に形成できる方法を見出した。
を達成するために鋭意検討し、電気化学的な粗面化方法
等で形成された粗面のピットに、0.05〜0.5μｍ程度の
ピットを形成した粗面が、汚れ性能及び絡み性能に有効
であることを見出すとともに、この0.05〜0.5μｍ程度
のピットを良好に形成できる方法を見出した。
【０００９】すなわち、本発明者は、径が約１〜３０μ
ｍの基礎ピットと、この基礎ピットに形成された径が
０．０５〜０．５μｍの微細ピットとを有する平版印刷
版用支持体が極めて好適であることを見出し、さらに、
このような平版印刷版用支持体を好適に製造することが
できる製造方法を見出し、本発明を完成させたものであ
る。
ｍの基礎ピットと、この基礎ピットに形成された径が
０．０５〜０．５μｍの微細ピットとを有する平版印刷
版用支持体が極めて好適であることを見出し、さらに、
このような平版印刷版用支持体を好適に製造することが
できる製造方法を見出し、本発明を完成させたものであ
る。
【００１０】本発明による平版印刷版用支持体の製造方
法は、電気化学的にアルミニウム板表面を粗面化処理
後、アルカリエッチング０．０１〜２０ｇ／ｍ ２ 処理
し、このアルカリエッチング処理されたアルミニウム板
を、硝酸濃度１５重量％以上の硝酸を主体とした電解液
中でアルミニウム板を陽極として直流を加えて電気化学
的に粗面化処理して径が０．０５〜０．５μｍのピット
を形成することを特徴として構成されている。 また、本
発明による平版印刷版用支持体の製造方法は、電気化学
的にアルミニウム板表面を粗面化処理後、アルカリエッ
チング０．０１〜２０ｇ／ｍ ２ 処理し、このアルカリエ
ッチング処理されたアルミニウム板を、塩酸を主体とし
た電解液中でアルミニウム板に対向する電極との間に交
流を加えて電気化学的に粗面化処理して径が０．０５〜
０．５μｍのピットを形成することを特徴として構成さ
れている。
法は、電気化学的にアルミニウム板表面を粗面化処理
後、アルカリエッチング０．０１〜２０ｇ／ｍ ２ 処理
し、このアルカリエッチング処理されたアルミニウム板
を、硝酸濃度１５重量％以上の硝酸を主体とした電解液
中でアルミニウム板を陽極として直流を加えて電気化学
的に粗面化処理して径が０．０５〜０．５μｍのピット
を形成することを特徴として構成されている。 また、本
発明による平版印刷版用支持体の製造方法は、電気化学
的にアルミニウム板表面を粗面化処理後、アルカリエッ
チング０．０１〜２０ｇ／ｍ ２ 処理し、このアルカリエ
ッチング処理されたアルミニウム板を、塩酸を主体とし
た電解液中でアルミニウム板に対向する電極との間に交
流を加えて電気化学的に粗面化処理して径が０．０５〜
０．５μｍのピットを形成することを特徴として構成さ
れている。
【００１１】本発明の平版印刷版用支持体は、径が１〜
30μｍの基礎ピットが形成されている。このような基礎
ピットに、径が0.05〜0.5μｍの微細ピットが形成され
ていおり、好ましくは0.1〜0.3μｍである。微細ピット
の径が0.05μｍ未満であると、微細ピットを形成した効
果を良好に発揮できない。また、微細ピットの径が0.5
μｍを超えると、絡み性能及び耐刷性能を向上させる効
果が小さい。
30μｍの基礎ピットが形成されている。このような基礎
ピットに、径が0.05〜0.5μｍの微細ピットが形成され
ていおり、好ましくは0.1〜0.3μｍである。微細ピット
の径が0.05μｍ未満であると、微細ピットを形成した効
果を良好に発揮できない。また、微細ピットの径が0.5
μｍを超えると、絡み性能及び耐刷性能を向上させる効
果が小さい。
【００１２】以上のような微細ピットは、アルミニウム
板を硝酸濃度が15重量％以上の電解液中で陽極として直
流電解処理すること又は塩酸を主体とした電解液中でア
ルミニウム板に対向する電極との間に交流を加えて電気
化学的に粗面化することにより形成される。直流電解処
理の場合、硝酸濃度が15重量％未満であると、微細ピッ
トの形成が良好に行えず、好ましくは30重量％以上であ
る。
板を硝酸濃度が15重量％以上の電解液中で陽極として直
流電解処理すること又は塩酸を主体とした電解液中でア
ルミニウム板に対向する電極との間に交流を加えて電気
化学的に粗面化することにより形成される。直流電解処
理の場合、硝酸濃度が15重量％未満であると、微細ピッ
トの形成が良好に行えず、好ましくは30重量％以上であ
る。
【００１３】電解液は硝酸の水溶液で、硝酸の塩の一種
又は二種以上を混合することができる。さらに、必要に
応じて特開昭47−38301号公報に示されているアミン等
の化合物、特開昭49−57902号公報に示されている硫
酸、特開昭51−41653号公報に示されているホウ酸、西
ドイツ公開特許第2250275号明細書に示されているリン
酸等を添加することができる。
又は二種以上を混合することができる。さらに、必要に
応じて特開昭47−38301号公報に示されているアミン等
の化合物、特開昭49−57902号公報に示されている硫
酸、特開昭51−41653号公報に示されているホウ酸、西
ドイツ公開特許第2250275号明細書に示されているリン
酸等を添加することができる。
【００１４】電解液の温度は、30℃〜80℃が好ましく、
40℃〜60℃がより好ましい。直流電解処理に用いる直流
電圧は、連続直流電圧はもちろん、商用交流をダイオー
ド、トランジスタ、サイリスタ、ＧＴＯなどで整流した
ものや、矩形のパルス直流などをいい、一般的な直流の
定義にあてはまる極性の変化しない電圧のことをいう。
40℃〜60℃がより好ましい。直流電解処理に用いる直流
電圧は、連続直流電圧はもちろん、商用交流をダイオー
ド、トランジスタ、サイリスタ、ＧＴＯなどで整流した
ものや、矩形のパルス直流などをいい、一般的な直流の
定義にあてはまる極性の変化しない電圧のことをいう。
【００１５】電流密度は、３〜100Ａ／dm2が好ましく、
５〜50Ａ／dm2がより好ましい。電気量は、５〜100Ｃ／
dm2が好ましく、10〜60Ｃ／dm2 がより好ましい。
５〜50Ａ／dm2がより好ましい。電気量は、５〜100Ｃ／
dm2が好ましく、10〜60Ｃ／dm2 がより好ましい。
【００１６】本発明において、アルミニウム板は、純ア
ルミニウム板及びアルミニウム合金板が含まれる。アル
ミニウム合金としては種々のものが使用でき、例えばケ
イ素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、鉛、亜
鉛、ビスマス、チタン、タンタル、ニオブ、鉄、ニッケ
ルなどの金属とアルミニウムの合金が用いられる。
ルミニウム板及びアルミニウム合金板が含まれる。アル
ミニウム合金としては種々のものが使用でき、例えばケ
イ素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、鉛、亜
鉛、ビスマス、チタン、タンタル、ニオブ、鉄、ニッケ
ルなどの金属とアルミニウムの合金が用いられる。
【００１７】微細ピットを形成する前に、機械的、化学
的又は電気化学的に若しくはこれらを組み合わせてアル
ミニウム板に基礎ピットを形成し粗面化している。
的又は電気化学的に若しくはこれらを組み合わせてアル
ミニウム板に基礎ピットを形成し粗面化している。
【００１８】機械的に粗面化するには、従来公知の方法
を用いることができ、例えば、ナイロンブラシを用いた
スラリーブラッシング、ワイヤーブラシを用いたドライ
ブラッシング、サンドブラスト、ボールグレイン、圧延
ロールなどを用いたプレス加工によるエンボス処理など
の方法がある。プレスをおこなう圧延ロールの表面に凹
凸をつける方法として、サンドブラスト処理、グリッド
ブラスト処理、ショットブラスト処理、化学的エッチン
グ処理、エキシマレーザーなどのレーザー照射による金
属の溶解処理、フォトレジストを用いたパターンエッチ
ング処理などを用いることができる。
を用いることができ、例えば、ナイロンブラシを用いた
スラリーブラッシング、ワイヤーブラシを用いたドライ
ブラッシング、サンドブラスト、ボールグレイン、圧延
ロールなどを用いたプレス加工によるエンボス処理など
の方法がある。プレスをおこなう圧延ロールの表面に凹
凸をつける方法として、サンドブラスト処理、グリッド
ブラスト処理、ショットブラスト処理、化学的エッチン
グ処理、エキシマレーザーなどのレーザー照射による金
属の溶解処理、フォトレジストを用いたパターンエッチ
ング処理などを用いることができる。
【００１９】化学的に粗面化するには、従来公知の方法
を用いることができ、例えば、塩酸によるケミカルエッ
チング処理、アルカリエッチング処理などを用いること
ができる。
を用いることができ、例えば、塩酸によるケミカルエッ
チング処理、アルカリエッチング処理などを用いること
ができる。
【００２０】前段の電気化学的粗面化には、従来公知の
方法を用いることができ、例えば、塩酸又は硝酸を主体
とする水溶液の中でおこなう方法がある。
方法を用いることができ、例えば、塩酸又は硝酸を主体
とする水溶液の中でおこなう方法がある。
【００２１】塩酸を主体とする水溶液中で電気化学的に
粗面化処理するには、塩酸を含有する水溶液中でアルミ
ニウム板に対向する電極との間に交流を加えて電気化学
的に粗面化処理する。塩酸化合物の濃度は1.0g／ｌから
飽和限界まで採用することができ、好ましくは５〜100g
／ｌの範囲である。好ましい化合物は、塩化アルミニウ
ム、塩酸、塩化ナトリウム、塩化アンモニウムまたは塩
化マグネシウムからなる塩酸イオンを含有するもので、
これらを単独または組み合わせて使用する。また、その
他の塩酸イオンを含有する化合物と組み合わせてもよ
い。さらに、塩酸電解液にアルミニウム塩を20〜150g／
ｌの量で混合することが好ましい。塩酸を主体とする電
解液の温度は、30〜55℃の範囲が好ましい。
粗面化処理するには、塩酸を含有する水溶液中でアルミ
ニウム板に対向する電極との間に交流を加えて電気化学
的に粗面化処理する。塩酸化合物の濃度は1.0g／ｌから
飽和限界まで採用することができ、好ましくは５〜100g
／ｌの範囲である。好ましい化合物は、塩化アルミニウ
ム、塩酸、塩化ナトリウム、塩化アンモニウムまたは塩
化マグネシウムからなる塩酸イオンを含有するもので、
これらを単独または組み合わせて使用する。また、その
他の塩酸イオンを含有する化合物と組み合わせてもよ
い。さらに、塩酸電解液にアルミニウム塩を20〜150g／
ｌの量で混合することが好ましい。塩酸を主体とする電
解液の温度は、30〜55℃の範囲が好ましい。
【００２２】塩酸を主体とする水溶液中で、電気化学的
な粗面化に用いる交流電流波形としては、特公昭48−28
123号公報に記載のような正弦波や、特開昭55−25381号
公報に記載のように正弦波交流をサイリスタで位相制御
したもの、特開昭52−58602号公報に記載されているよ
うに特殊な波形などがあり、設備的にＤＵＴＹ比１：１
の矩形波交流を用いることが好ましい。また、交流以外
に特開昭51−42605号、特開平１−141094号公報に記載
のように直流を用いることもできる。
な粗面化に用いる交流電流波形としては、特公昭48−28
123号公報に記載のような正弦波や、特開昭55−25381号
公報に記載のように正弦波交流をサイリスタで位相制御
したもの、特開昭52−58602号公報に記載されているよ
うに特殊な波形などがあり、設備的にＤＵＴＹ比１：１
の矩形波交流を用いることが好ましい。また、交流以外
に特開昭51−42605号、特開平１−141094号公報に記載
のように直流を用いることもできる。
【００２３】塩酸を主体とする水溶液中で交流電圧を用
いて電気化学的に粗面化処理する方法においては、電流
密度は10〜200Ａ／dm2の範囲が好ましく、電気量は１〜
1000Ｃ／dm2の範囲が好ましく、10〜800Ｃ／dm2の範囲
がより好ましい。周波数は50Ｈｚ以上が好ましい、60〜
500Ｈｚの範囲がより好ましい。
いて電気化学的に粗面化処理する方法においては、電流
密度は10〜200Ａ／dm2の範囲が好ましく、電気量は１〜
1000Ｃ／dm2の範囲が好ましく、10〜800Ｃ／dm2の範囲
がより好ましい。周波数は50Ｈｚ以上が好ましい、60〜
500Ｈｚの範囲がより好ましい。
【００２４】塩酸を主体とした水溶液中で電気化学的に
粗面化処理したアルミニウム板は、アルミニウム板表面
に生成したスマット成分を除去する目的で、酸またはア
ルカリ水溶液中でデスマット処理および／または軽度の
エッチング処理がおこなわれる。酸またはアルカリの具
体例としては、弗酸、弗化ジルコン酸、燐酸、硫酸、塩
酸、硝酸などの酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、第３燐酸ナトリウム、アルミン酸ナトリウム、硅酸
ナトリウム、炭酸ナトリウムなどのアルカリがある。こ
れらの酸またはアルカリ水溶液は、それぞれ一種または
二種以上を混合して使用することができる。エッチング
は、0.01〜10ｇ／ｍ2に相当するアルミニウムをエッチ
ングすることが好ましい。このようなエッチング量のエ
ッチングを行うには、酸またはアルカリの濃度は0.05〜
40％、液温は35℃から100℃、処理時間は２〜300秒間の
範囲から適宜選択して行う。
粗面化処理したアルミニウム板は、アルミニウム板表面
に生成したスマット成分を除去する目的で、酸またはア
ルカリ水溶液中でデスマット処理および／または軽度の
エッチング処理がおこなわれる。酸またはアルカリの具
体例としては、弗酸、弗化ジルコン酸、燐酸、硫酸、塩
酸、硝酸などの酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、第３燐酸ナトリウム、アルミン酸ナトリウム、硅酸
ナトリウム、炭酸ナトリウムなどのアルカリがある。こ
れらの酸またはアルカリ水溶液は、それぞれ一種または
二種以上を混合して使用することができる。エッチング
は、0.01〜10ｇ／ｍ2に相当するアルミニウムをエッチ
ングすることが好ましい。このようなエッチング量のエ
ッチングを行うには、酸またはアルカリの濃度は0.05〜
40％、液温は35℃から100℃、処理時間は２〜300秒間の
範囲から適宜選択して行う。
【００２５】このような軽度なエッチング処理は、中性
塩水溶液中でアルミニウム板を陰極にして直流電圧を加
え電気化学的な処理をおこなうこともできる。
塩水溶液中でアルミニウム板を陰極にして直流電圧を加
え電気化学的な処理をおこなうこともできる。
【００２６】アルミニウム表面の軽度なエッチングを行
った場合には、その表面に不溶解物すなわちスマットが
生成する。このスマットは燐酸、硫酸、硝酸、クロム酸
等はこれらの混合物による洗浄で除去することができ
る。
った場合には、その表面に不溶解物すなわちスマットが
生成する。このスマットは燐酸、硫酸、硝酸、クロム酸
等はこれらの混合物による洗浄で除去することができ
る。
【００２７】硝酸を主体とする水溶液中で電気化学的に
粗面化処理するには、硝酸を含有する水溶液中でアルミ
ニウム板に対向する電極との間に直流または交流を加え
て電気化学的に粗面化処理する。硝酸化合物の濃度は1.
0g／ｌから飽和限界の範囲で採用でき、５〜100g／ｌの
範囲が好ましい。好ましい化合物としては、硝酸アルミ
ニウム、硝酸、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等が
あり、これらを単独または組み合わせて用いる。また、
その他の硝酸イオンを含有する化合物を組み合わせるこ
ともできる。また、硝酸電解液にアルミニウム塩を20〜
150g／ｌの量で混合することが好ましい。硝酸を主体と
する電解液の温度としては、30〜55℃の範囲が好まし
い。交流電流波形は塩酸の場合と同一である。
粗面化処理するには、硝酸を含有する水溶液中でアルミ
ニウム板に対向する電極との間に直流または交流を加え
て電気化学的に粗面化処理する。硝酸化合物の濃度は1.
0g／ｌから飽和限界の範囲で採用でき、５〜100g／ｌの
範囲が好ましい。好ましい化合物としては、硝酸アルミ
ニウム、硝酸、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等が
あり、これらを単独または組み合わせて用いる。また、
その他の硝酸イオンを含有する化合物を組み合わせるこ
ともできる。また、硝酸電解液にアルミニウム塩を20〜
150g／ｌの量で混合することが好ましい。硝酸を主体と
する電解液の温度としては、30〜55℃の範囲が好まし
い。交流電流波形は塩酸の場合と同一である。
【００２８】硝酸を主体とする水溶液中で、交流を用い
て電気化学的に粗面化処理する方法においては、電流密
度は10〜200Ａ／dm2の範囲が好ましく、電気量は10〜60
0Ｃ／dm2の範囲が好ましく、100から300Ｃ／dm2の範囲
がより好ましい。アルミニウム板上の電圧または電位の
変化する周波数は160Ｈｚ以下が好ましく、60〜0.1Ｈｚ
の範囲がより好ましい。
て電気化学的に粗面化処理する方法においては、電流密
度は10〜200Ａ／dm2の範囲が好ましく、電気量は10〜60
0Ｃ／dm2の範囲が好ましく、100から300Ｃ／dm2の範囲
がより好ましい。アルミニウム板上の電圧または電位の
変化する周波数は160Ｈｚ以下が好ましく、60〜0.1Ｈｚ
の範囲がより好ましい。
【００２９】さらに、このように処理されたアルミニウ
ム板は、親水性、保水性、耐印刷性能を向上させるため
に、常法により硫酸または燐酸を含む電解液中で陽極酸
化処理を行うことができる。また、陽極酸化処理後に封
孔処理を行うことが出来る。さらに珪酸ソーダなどを含
む水溶液中に浸漬し、親水化処理を行うこともできる。
ム板は、親水性、保水性、耐印刷性能を向上させるため
に、常法により硫酸または燐酸を含む電解液中で陽極酸
化処理を行うことができる。また、陽極酸化処理後に封
孔処理を行うことが出来る。さらに珪酸ソーダなどを含
む水溶液中に浸漬し、親水化処理を行うこともできる。
【００３０】また、上述した基礎ピットを形成する粗面
化処理の後に、アルカリエッチング処理することが望ま
しく、このエッチング処理は適宜選択される。
化処理の後に、アルカリエッチング処理することが望ま
しく、このエッチング処理は適宜選択される。
【００３１】本発明の平版印刷版用支持体の製造方法
は、ラジアルセル型、フラットセル型、縦型セル型等で
行うことができ、また、直接給電方式でも間接給電方式
でもよい。
は、ラジアルセル型、フラットセル型、縦型セル型等で
行うことができ、また、直接給電方式でも間接給電方式
でもよい。
【００３２】本発明の平版印刷版用支持体の製造方法を
実施する平版印刷版用支持体の製造装置の一例を図面に
基づいて説明する。
実施する平版印刷版用支持体の製造装置の一例を図面に
基づいて説明する。
【００３３】図１は、平版印刷版用支持体の製造装置の
概略図である。この図において、符号１は電解処理槽
で、この電解処理槽１は、その底面が半円状に形成され
円弧状の陰極２が設けられている。また、電解処理槽１
には、一端部に電解液取入口３が設けられるとともに、
他端部に電解液排出口４が設けられ、電解液取入口３か
ら電解処理液５が充填されるとともに、電解液排出口４
から使用済の電解処理液５を排出している。
概略図である。この図において、符号１は電解処理槽
で、この電解処理槽１は、その底面が半円状に形成され
円弧状の陰極２が設けられている。また、電解処理槽１
には、一端部に電解液取入口３が設けられるとともに、
他端部に電解液排出口４が設けられ、電解液取入口３か
ら電解処理液５が充填されるとともに、電解液排出口４
から使用済の電解処理液５を排出している。
【００３４】また、陰極２の上方には電解処理液５に浸
漬した状態でドラムローラ６が回転自在に設けられてお
り、このドラムローラ６の上方には、搬送ローラ７及び
コンダクタロール８が設けられ、アルミニウム板９の走
行路が形成されている。そして、コンダクタロール８と
陰極２とは直流電源10を介して接続されている。
漬した状態でドラムローラ６が回転自在に設けられてお
り、このドラムローラ６の上方には、搬送ローラ７及び
コンダクタロール８が設けられ、アルミニウム板９の走
行路が形成されている。そして、コンダクタロール８と
陰極２とは直流電源10を介して接続されている。
【００３５】
【作用】本発明の平版印刷版用支持体では、大きい基礎
ピットに形成された微細ピットが、汚れ性能を低下させ
ることなく絡み性能を向上させ、また、耐刷性能も向上
させている。
ピットに形成された微細ピットが、汚れ性能を低下させ
ることなく絡み性能を向上させ、また、耐刷性能も向上
させている。
【００３６】また、本発明の平版印刷版用支持体の製造
方法では、基礎ピットに0.05〜0.5μｍの微細ピットを
良好に形成できる。
方法では、基礎ピットに0.05〜0.5μｍの微細ピットを
良好に形成できる。
【００３７】
実施例１ 厚さ0.3mmのＪＩＳ1050アルミニウム板の表面を、パミ
ストン懸濁液と８号ナイロンブラシによって研磨し、粗
面化した。
ストン懸濁液と８号ナイロンブラシによって研磨し、粗
面化した。
【００３８】次に、10％水酸化ナトリウム水溶液中に50
℃で30秒間浸漬して化学的なエッチング処理を行った
後、80℃の3％クロム酸と3.5％のリン酸混合液中に30秒
間浸漬してデスマット処理を行った。
℃で30秒間浸漬して化学的なエッチング処理を行った
後、80℃の3％クロム酸と3.5％のリン酸混合液中に30秒
間浸漬してデスマット処理を行った。
【００３９】その後、濃度１％の硝酸水溶液(0.5％のア
ルミニウムイオンを含む）を電解液として周波数200Ｈ
ｚの矩形波交流を用いて電流密度60Ａ／dm2でアルミニ
ウム板が陽極時の電気量が400Ｃ／dm2となるように電気
化学的な粗面化処理を行ったあと水洗した。
ルミニウムイオンを含む）を電解液として周波数200Ｈ
ｚの矩形波交流を用いて電流密度60Ａ／dm2でアルミニ
ウム板が陽極時の電気量が400Ｃ／dm2となるように電気
化学的な粗面化処理を行ったあと水洗した。
【００４０】次いで、水酸化ナトリウム５％水溶液中で
アルミニウム板の溶解量が0.5g／ｍ 2となるように化学
的なエッチング処理を行った後、80℃の３％クロム酸と
3.5％のリン酸混合液中に30秒間浸漬してデスマット処
理を行った。
アルミニウム板の溶解量が0.5g／ｍ 2となるように化学
的なエッチング処理を行った後、80℃の３％クロム酸と
3.5％のリン酸混合液中に30秒間浸漬してデスマット処
理を行った。
【００４１】そして、硝酸濃度が34％、液温が50℃の硝
酸水溶液を電解処理液とし、アルミニウム板を陽極とし
て電流密度５Ａ／dm2、電気量15Ｃ／dm2、処理時間３秒
で電解処理して微細ピットを形成した。
酸水溶液を電解処理液とし、アルミニウム板を陽極とし
て電流密度５Ａ／dm2、電気量15Ｃ／dm2、処理時間３秒
で電解処理して微細ピットを形成した。
【００４２】さらに、80℃の３％クロム酸と3.5％のリ
ン酸混合液中に30秒間浸漬してデスマット処理を行った
後、15％硫酸水溶液中で極間距離150mmにおいて電圧22
Ｖの直流によって60秒間陽極酸化処理を行った。
ン酸混合液中に30秒間浸漬してデスマット処理を行った
後、15％硫酸水溶液中で極間距離150mmにおいて電圧22
Ｖの直流によって60秒間陽極酸化処理を行った。
【００４３】実施例２ 厚さ0.3mmのＪＩＳ1050アルミニウム板を、濃度１％の
硝酸水溶液（0.5％のアルミニウムイオンを含む)を電解
液として周波数200Ｈｚの矩形波交流を用いて電流密度6
0Ａ／dm2でアルミニウム板が陽極時の電気量が400Ｃ／d
m2となるように電気化学的な粗面化処理を行ったあと水
洗した。
硝酸水溶液（0.5％のアルミニウムイオンを含む)を電解
液として周波数200Ｈｚの矩形波交流を用いて電流密度6
0Ａ／dm2でアルミニウム板が陽極時の電気量が400Ｃ／d
m2となるように電気化学的な粗面化処理を行ったあと水
洗した。
【００４４】次いで、水酸化ナトリウム５％水溶液中で
アルミニウム板の溶解量が0.5g／ｍ 2となるように化学
的なエッチング処理を行った後、80℃の３％クロム酸と
3.5％のリン酸混合液中に30秒間浸漬してデスマット処
理を行った。
アルミニウム板の溶解量が0.5g／ｍ 2となるように化学
的なエッチング処理を行った後、80℃の３％クロム酸と
3.5％のリン酸混合液中に30秒間浸漬してデスマット処
理を行った。
【００４５】そして、塩酸12.5ｇ／ｌを含む液温50℃の
電解液中で120Ｈｚ、電流密度10Ａ／dm2、電気量15Ｃ／
dm2の交流電解粗面化を施して微細ピットを形成した。
電解液中で120Ｈｚ、電流密度10Ａ／dm2、電気量15Ｃ／
dm2の交流電解粗面化を施して微細ピットを形成した。
【００４６】さらに、80℃の３％クロム酸と3.5％のリ
ン酸混合液中に30秒間浸漬してデスマット処理を行った
後、15％硫酸水溶液中で極間距離150mmにおいて電圧22
Ｖの直流によって60秒間陽極酸化処理を行った。
ン酸混合液中に30秒間浸漬してデスマット処理を行った
後、15％硫酸水溶液中で極間距離150mmにおいて電圧22
Ｖの直流によって60秒間陽極酸化処理を行った。
【００４７】従来例１ 微細ピットを形成する電解処理工程及び次段のデスマッ
ト工程を省略した他は、実施例１と同様に行った。
ト工程を省略した他は、実施例１と同様に行った。
【００４８】表面形状 実施例１で得られたアルミニウム板の表面の電子顕微鏡
写真を図２(10,000倍)及び図３（30,000倍）に示す。ま
た、実施例２で得られたアルミニウム板の電子顕微鏡写
真を図４（10,000倍）及び図５（50,000倍）に示す。
写真を図２(10,000倍)及び図３（30,000倍）に示す。ま
た、実施例２で得られたアルミニウム板の電子顕微鏡写
真を図４（10,000倍）及び図５（50,000倍）に示す。
【００４９】これらの電子顕微鏡写真により、約0.3μ
ｍの微細ピットが均一に形成されていることが確認でき
た。
ｍの微細ピットが均一に形成されていることが確認でき
た。
【００５０】性能評価結果 上記アルミニウム板に、ポジティブタイプのＯ−ジアゾ
オキサイド系の感光物を感光層として乾燥後の厚さが2.
5ｇ／ｍ2となるように塗布乾燥して、平版印刷版を製作
した。そして、この平版印刷版を露光し、現像した後ハ
イデルベルグＫＯＲ印刷機につけて印刷を行い、耐刷性
能、汚れ性能及び絡み性能を評価した。結果を表１に示
す。
オキサイド系の感光物を感光層として乾燥後の厚さが2.
5ｇ／ｍ2となるように塗布乾燥して、平版印刷版を製作
した。そして、この平版印刷版を露光し、現像した後ハ
イデルベルグＫＯＲ印刷機につけて印刷を行い、耐刷性
能、汚れ性能及び絡み性能を評価した。結果を表１に示
す。
【００５１】
【表１】 ○：良好 △：普通 ×：悪い
【００５２】以上の結果より、本発明は絡み性能及び耐
刷性能が向上していることが確認された。
刷性能が向上していることが確認された。
【００５３】
【発明の効果】本発明は、良好な汚れ性能及び絡み性能
を同時に保持でき、かつ、耐刷性能を向上させることが
できる。
を同時に保持でき、かつ、耐刷性能を向上させることが
できる。
【図１】 本発明の平版印刷版用支持体の製造方法を実
施する平版印刷版用支持体の製造装置の概略図。
施する平版印刷版用支持体の製造装置の概略図。
【図２】 本発明の平版印刷版用支持体の製造方法で作
製されたアルミニウム板の表面の電子顕微鏡写真（10,0
00倍）。
製されたアルミニウム板の表面の電子顕微鏡写真（10,0
00倍）。
【図３】 本発明の平版印刷版用支持体の製造方法で作
製されたアルミニウム板の表面の電子顕微鏡写真（30,0
00倍）。
製されたアルミニウム板の表面の電子顕微鏡写真（30,0
00倍）。
【図４】 本発明の平版印刷版用支持体の製造方法で作
製されたアルミニウム板の表面の電子顕微鏡写真（10,0
00倍）。
製されたアルミニウム板の表面の電子顕微鏡写真（10,0
00倍）。
【図５】 本発明の平版印刷版用支持体の製造方法で作
製されたアルミニウム板の表面の電子顕微鏡写真（50,0
00倍）。
製されたアルミニウム板の表面の電子顕微鏡写真（50,0
00倍）。
１…電解処理槽 ２…陰極 ５…電解処理液 ６…ドラムローラ ８…コンダクタローラ ９…アルミニウム板 10…直流電源
Claims (2)
- 【請求項１】 電気化学的にアルミニウム板表面を粗面
化処理後、アルカリエッチング０．０１〜２０ｇ／ｍ２
処理し、このアルカリエッチング処理されたアルミニウ
ム板を、硝酸濃度１５重量％以上の硝酸を主体とした電
解液中でアルミニウム板を陽極として直流を加えて電気
化学的に粗面化処理して径が０．０５〜０．５μｍのピ
ットを形成することを特徴とする平版印刷版用支持体の
製造方法 - 【請求項２】 電気化学的にアルミニウム板表面を粗面
化処理後、アルカリエッチング０．０１〜２０ｇ／ｍ２
処理し、このアルカリエッチング処理されたアルミニウ
ム板を、塩酸を主体とした電解液中でアルミニウム板に
対向する電極との間に交流を加えて電気化学的に粗面化
処理して径が０．０５〜０．５μｍのピットを形成する
ことを特徴とする平版印刷版用支持体の製造方法
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21570193A JP3217194B2 (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
| EP94113640A EP0645260B1 (en) | 1993-08-31 | 1994-08-31 | Method of producing support for planographic printing plate |
| DE69410560T DE69410560T2 (de) | 1993-08-31 | 1994-08-31 | Verfahren zur Herstellung eines Trägers für Flachdruckplatten |
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21570193A JP3217194B2 (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
Publications (2)
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|---|---|
| JPH0761161A JPH0761161A (ja) | 1995-03-07 |
| JP3217194B2 true JP3217194B2 (ja) | 2001-10-09 |
Family
ID=16676735
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| US (1) | US5518589A (ja) |
| EP (1) | EP0645260B1 (ja) |
| JP (1) | JP3217194B2 (ja) |
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| JP3342776B2 (ja) | 1994-08-30 | 2002-11-11 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版用アルミニウム支持体及びその製造方法並びにアルミニウム支持体の粗面化処理方法 |
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| DE69821044T2 (de) * | 1997-04-25 | 2004-06-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara | Verfahren zur Herstellung eines Aluminiumträgers für lithographische Druckplatten |
| DE60021140T2 (de) | 1999-04-22 | 2006-05-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara | Verfahren zur Herstellung eines Aluminiumträgers für lithographische Druckplatten |
| EP1231510A3 (en) * | 2000-12-23 | 2004-03-17 | Agfa-Gevaert | Printing plate having a radiation-sensitive recording layer on a rolled and embossed aluminium support, and process for the production thereof |
| ATE541709T1 (de) | 2001-10-05 | 2012-02-15 | Fujifilm Corp | Lithographisches druckplattensubstrat und vorsensibilisierte platte und herstellungsverfahren für eine lithographische druckplatte |
| US20040169013A1 (en) * | 2003-02-28 | 2004-09-02 | General Electric Company | Method for chemically removing aluminum-containing materials from a substrate |
| US20080003411A1 (en) * | 2006-06-29 | 2008-01-03 | Joseph Hunter | Aluminum lithographic substrate and method of making |
| DE602006009919D1 (de) * | 2006-08-03 | 2009-12-03 | Agfa Graphics Nv | Flachdruckplattenträger |
| US20080305435A1 (en) * | 2007-06-05 | 2008-12-11 | Yasushi Miyamoto | Method of making lithographic printing plate substrate and imageable elements |
| US8632940B2 (en) | 2011-04-19 | 2014-01-21 | Eastman Kodak Company | Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors |
| US8722308B2 (en) | 2011-08-31 | 2014-05-13 | Eastman Kodak Company | Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors |
| US8703381B2 (en) | 2011-08-31 | 2014-04-22 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursors for on-press development |
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|---|---|---|---|---|
| JPS5463902A (en) * | 1977-10-31 | 1979-05-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method of making offset printing plate |
| JPS5485802A (en) * | 1977-12-19 | 1979-07-07 | Nippon Keikinzoku Sougou Kenki | Preparation of aluminium roughened surface plate for offset printing block |
| GB2047274B (en) * | 1979-03-29 | 1983-05-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Support for lithographic printing plates and process for their production |
| JPS60190392A (ja) * | 1984-03-13 | 1985-09-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 原版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 |
| DE3635304A1 (de) * | 1986-10-17 | 1988-04-28 | Hoechst Ag | Verfahren zur elektrochemischen aufrauhung von aluminium fuer druckplattentraeger |
| US4721552A (en) * | 1987-04-27 | 1988-01-26 | Polychrome Corporation | Two-step method for electrolytically graining lithographic metal plates |
| JPH0729507B2 (ja) * | 1987-10-30 | 1995-04-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 |
| JP2660581B2 (ja) * | 1989-08-21 | 1997-10-08 | 富士写真フイルム株式会社 | 印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 |
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-
1993
- 1993-08-31 JP JP21570193A patent/JP3217194B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-08-31 US US08/298,673 patent/US5518589A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-08-31 DE DE69410560T patent/DE69410560T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-08-31 EP EP94113640A patent/EP0645260B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69410560D1 (de) | 1998-07-02 |
| EP0645260A1 (en) | 1995-03-29 |
| JPH0761161A (ja) | 1995-03-07 |
| US5518589A (en) | 1996-05-21 |
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| EP0645260B1 (en) | 1998-05-27 |
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