JP3192709B2 - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体記憶装置に係
り、特に、ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリ
(DRAM)においてデータ書き込み時の性能を向上さ
せる技術に関する。近年のDRAMにおいては、その高
速動作と低消費電力化が要求されてきており、またメモ
リの大容量化に伴い複数ビットの同時書き込みおよび同
時読み出しが求められてきている。そのため、多数のデ
ータ線すなわち入出力(I/O)線を用意し、これらの
I/O線を介してデータの読み出しおよび書き込みを行
う必要がある。
【0002】
【従来の技術】従来知られているDRAMのI/O回路
では、データ書き込み時およびデータ読み出し時のいず
れの場合にも、I/O線のレベルを電源電圧Vccおよび
Vssのレベルの間で最大限に振幅(つまりフルスィン
グ)させ、それによって情報の伝達を行っている。
【0003】ところが、高速ページモード等の高速サイ
クルでメモリを動作させると、I/O線の充放電電流が
デバイスの消費電力の大部分を占めるようになるので、
何らかの対応策が必要となる。これに対処するため、従
来の典型的なDRAMでは、読み出し時に、カレントミ
ラー型の増幅回路を用いたり、あるいはI/O線の情報
を増幅する際に当該I/O線と増幅回路を分離したりす
ることで、I/O線のレベル自体を増幅しないようにし
ている。
【0004】しかしデータ書き込み時には、依然とし
て、図5の波形図に示されるようにI/O線(相補デー
タ線DB,DBX)のレベルを電源電圧VccおよびVssのレベ
ルの間で振幅させているため、低消費電力化の妨げとな
っていた。この傾向は、特に近年の大容量化に伴うI/
O線の増加により、ますます大きくなってきている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述したように従来の
DRAMでは、データ書き込み時に、I/O線のレベル
を電源電圧のレベルまで最大限に振幅(フルスィング)
させているので、デバイスの低消費電力化を推進できな
いという課題がある。また、データ書き込みに際してI
/O線のレベルをフルスィングさせることに起因してデ
ータ書き込みの時間が相対的に長くなるという欠点もあ
る。そのために、近年要求されている多ビット化(複数
ビットの同時書き込み/読み出し)にも応えることがで
きないという不都合が生じる。
【0006】本発明は、かかる従来技術における課題に
鑑み創作されたもので、データ書き込み時の消費電力を
低減すると共に、そのデータ書き込みを高速に行うこと
ができる半導体記憶装置を提供することを目的としてい
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の半導体記憶装置は、読み出しデータまたは
書き込みデータを伝達するデータ線対と、メモリセル
接続されたビット線対と前記ビット線対を前記データ
線対に接続し、選択信号に応答してオンオフする一対の
トランスファゲートと、前記ビット線対に接続され、
記選択信号及び前記選択信号に対して独立した制御信号
に応答して動作するセンス増幅回路と、電源電圧に接続
され、外部からの入力データを増幅して前記データ線
に出力する書き込み増幅回路を具備した半導体記憶装
置であって前記センス増幅回路は、前記ビット線対の
レベルを所定レベルまで拡大するフリップフロップと、
前記選択信号及び前記制御信号を入力信号とし、前記選
択信号が前記一対のトランスファゲートがオンする論理
レベルである時は、前記制御信号の論理レベルに応じて
前記フリップフロップを活性状態または非活性状態に制
御し、選択信号が前記一対のトランスファゲートがオフ
する論理レベルである時は前記制御信号の論理レベルに
よらず前記フリップフロップを活性状態にするゲート手
段とを有し、前記メモリセルへのデータ書き込み時に、
前記書き込み増幅回路は前記データ線対の高電位側と低
電位側のレベル差を前記電源電圧の値より小さくし、且
つ、選択された前記メモリセルに対応する前記センス増
幅回路は、非選択のメモリセルに対応する前記センス増
幅回路が活性化しているにもかかわらず、対応する前記
一対のトランスファゲートがオフするまでの間、前記制
御信号に応答して前記ゲート手段により選択的にその動
作を停止することを特徴としている。
【0008】
【作用】上述した構成によれば、データ書き込み時に、
書き込みのためのデータ線対(相補データ線)すなわち
I/O線のレベルの変化量(つまり振幅)が書き込み増
幅回路によって制限されるので、当該I/O線の充放電
電流を減少することができ、ひいてはデータ書き込み時
の消費電力を低減することができる。
【0009】また、データ書き込みの期間中、書き込み
が行われるセル(すなわち選択されたメモリセル)に対
応するセンス増幅回路の動作が停止されるので、書き込
み時のI/O線レベルの振幅制限により書き込み時間の
遅延が抑制される。これは、データ書き込みの高速化に
寄与するものである。なお、本発明の他の構成上の特徴
および作用の詳細については、添付図面を参照しつつ以
下に記述される実施例を用いて説明する。
【0010】
【実施例】図1に本発明の一実施例としてのDRAMの
構成が示される。同図において、1は4M容量のダイナ
ミック型メモリセルアレイ、2はそれぞれ外部からのア
クティブ・ローのロウアドレスストローブ信号RASXおよ
びコラムアドレスストローブ信号CASXに応答して第1の
クロックを発生するクロックジェネレータ、3はコラム
アドレスストローブ信号CASXの反転信号および上記第1
のクロックに応答するアンドゲート、4は該アンドゲー
トの出力に応答して第2のクロックを発生するクロック
ジェネレータ、5は第2のクロックおよび外部からのア
クティブ・ローのライトイネーブル信号WEX に応答して
ライトクロックWCを発生するジェネレータ、6はコラム
アドレスストローブ信号CASXおよび第1のクロックに応
答して通常動作モードまたはテストモードの設定を行う
モードコントローラ、7は該モードコントローラでテス
トモードが設定された時にリフレッシュ用アドレスをカ
ウントするカウンタ、8は該カウンタのカウント値およ
び外部からの10ビットのアドレス信号A0 〜A9 と上記
第2のクロックに応答してアドレスのバッファリングお
よびプリデコーディングを行う回路、9および10はプリ
デコードされたアドレス情報に基づきそれぞれ第1およ
び第2のクロックに応答してメモリセルアレイ1内の複
数のワード線および複数のビット線(つまりコラム線)
のいずれかをそれぞれ選択するロウデコーダおよびコラ
ムデコーダ、11は選択されたビット線を対応するデータ
線(I/O線)に接続すると共に、選択セルから読み出
されたデータを第1のクロックおよびライトクロックWC
に応答してセンスおよび増幅するセンスアンプ(S/
A)回路およびI/Oゲート、12は該S/A回路および
I/Oゲートを介して読み出されたデータを第2のクロ
ックおよび外部からのアクティブ・ローの出力イネーブ
ル信号OEX に応答して外部に出力するデータ出力バッフ
ァ(4ビットのデータDQ1 〜DQ4)、13は外部からの4ビ
ットのデータをライトクロックWCに応答して取り込むデ
ータ入力バッファ、14は取り込まれた入力データを増幅
してI/Oゲートに接続するライトアンプ(W/A)回
路、そして、15は基板バイアスを発生するジェネレータ
を示す。
【0011】なお、DRAM内の各回路には高電位の電
源電圧Vccと低電位の電源電圧Vssが供給されている。
次に、図1におけるS/A回路およびI/Oゲート11と
W/A回路14の構成について図2および図3を参照しな
がら説明する。まず、図2を参照すると、S/A回路は
n個(nは8の倍数)のセンスアンプS/A1〜S/Anから成
り、それぞれ相補ビット線BL1,BLX1〜BLn,BLXnを介して
メモリセルアレイに接続されると共に、それぞれ1対の
コラムゲートトランジスタ(I/Oゲート)を介して8
対の相補I/O線DB1,DBX1〜DB8,DBX8に順次接続されて
いる。つまり、センスアンプS/A1,S/A9,………は同じI
/O線DB1,DBX1に接続され、センスアンプS/A2,S/A10,
……は同じI/O線DB2,DBX2に接続され、以下、同様に
して順次接続されている。
【0012】一方、W/A回路14は8個のライトアンプ
W/A1〜W/A8から成り、それぞれデータ入力バッファから
のデータD1 〜D8 を増幅し、それぞれ対応する相補I
/O線DB1,DBX1〜DB8,DBX8に接続している。図3にはS
/A回路およびW/A回路の1コラム分(つまり、各セ
ンスアンプS/Aiおよび各ライトアンプW/Ai)の回路構成
が示される。
【0013】まず、ライトアンプW/Aiは、対応する入力
データDi にそれぞれ応答するインバータ20および21
と、インバータ20の出力に応答するインバータ22と、電
源ラインVccと電源ラインVssの間に直列に接続された
nチャネルトランジスタ23、pチャネルトランジスタ2
4、nチャネルトランジスタ25およびnチャネルトラン
ジスタ26と、同じく電源ラインVccと電源ラインVssの
間に直列に接続されたnチャネルトランジスタ27、pチ
ャネルトランジスタ28、nチャネルトランジスタ29およ
びnチャネルトランジスタ30とから構成されている。こ
こで、トランジスタ23,26,27および30の各ゲートはそれ
ぞれのドレインに接続されており、トランジスタ24,25,
28および29の各ゲートにはそれぞれインバータ21の出
力、インバータ20の出力、インバータ22の出力および入
力データDi が印加される。また、トランジスタ24およ
び25の各ドレインは対応するI/O線DBi,DBXiの一方(D
Bi) に接続され、トランジスタ28および29の各ドレイン
は当該I/O線の他方(DBXi)に接続されている。
【0014】一方、センスアンプS/Aiは、ライト信号
(ライトクロックWC)とコラム選択信号CLに応答するナ
ンドゲート40と、該ナンドゲートの出力に応答するイン
バータ41と、交差接続された4個のトランジスタ(pチ
ャネルトランジスタ42,44 およびnチャネルトランジス
タ43,45)から成り、前述の第1のクロック(センスアン
プ活性化信号)に応答して対応する相補ビット線BLi,BL
Xiのレベルを所定レベルまで拡大するフリップフロップ
と、該フリップフロップと一方のセンスアンプ活性化信
号用ラインPSA の間に接続され、インバータ41の出力に
応答してオンオフするpチャネルトランジスタ46と、同
じくフリップフロップと他方のセンスアンプ活性化信号
用ラインNSA の間に接続され、ナンドゲート40の出力に
応答してオンオフするnチャネルトランジスタ47とから
構成されている。また、相補ビット線BLi,BLXiとそれに
対応するI/O線DBi,DBXiは1対のトランスファゲート
用nチャネルトランジスタ51および52を介して接続さ
れ、該トランジスタ51,52 はコラム選択信号CLに応答し
てオンオフする。
【0015】以下、図3の回路の動作について図4の信
号波形図も併せて参照しながら説明する。なお、初期状
態として相補I/O線DBi,DBXiのレベルが“H”レベル
(Vccのレベル)にあり、相補ビット線BLi,BLXiのレベ
ルがそれぞれ“L”レベル(Vssのレベル)、“H”レ
ベル(Vccのレベル)にあるものとする。
【0016】まず、ライトアンプW/Aiに関しては、入力
データDi が“H”レベルの時、インバータ20,21 の各
出力は“L”レベル、インバータ22の出力は“H”レベ
ルとなるので、トランジスタ25,28 はそれぞれカットオ
フし、トランジスタ24,29 はそれぞれターンオンする。
これによってトランジスタ24,25 のドレイン端(DBi)の
レベルは“H”レベルに上昇し、トランジスタ28,29 の
ドレイン端(DBXi)のレベルは“L”レベルに低下する。
【0017】ただし、pチャネルトランジスタ24のソー
スと電源ラインVccの間にはnチャネルトランジスタ23
(そのゲートはドレインに接続されている)が接続され
ているので、I/O線DBi のレベルは、電源電圧Vccか
らトランジスタ23のスレッショルドレベルVthだけ低下
したレベルに最終的に安定する(図4参照)。同様に相
補I/O線DBXiのレベルについても、nチャネルトラン
ジスタ29のドレインと電源ラインVssの間にはnチャネ
ルトランジスタ30(そのゲートはドレインに接続されて
いる)が接続されているので、最終的には、電源電圧V
ssよりもトランジスタ30のスレッショルドレベルVthだ
け高いレベルに安定する。
【0018】また、入力データDi が“L”レベルの場
合には、相補I/O線DBi,DBXiのレベルの関係は図4に
示す論理と逆になり、その動作形態については上記説明
から容易に類推されるので、その説明は省略する。この
ように、ライトアンプW/Aiにおけるトランジスタ23,26,
27および30は、データ書き込み時に相補I/O線DBi,DB
Xiのレベルの変化幅(つまり振幅)を従来の(Vcc−V
ss)の電位差から(Vcc−Vss−2Vth)の電位差に制
限する機能を有している。
【0019】一方、センスアンプS/Aiに関しては、デー
タ書き込み動作が開始され(つまりライトクロックWCが
“H”レベル)、且つ、書き込みが行われるメモリセル
に対応するビット線対BLi,BLXiすなわちコラムが選択さ
れた時(つまりコラム選択信号CLが“H”レベル)、ナ
ンドゲート40の出力は“L”レベル、インバータ41の出
力は“H”レベルとなるので、トランジスタ46および47
はそれぞれカットオフする。これによって、フリップフ
ロップ42〜45はセンスアンプ活性化信号用ラインPSA,NS
A から電気的に切り離される。つまり、データ書き込み
時に選択されたセルに対応するセンスアンプS/Aiはその
機能を停止する(非活性状態)。
【0020】この時、“H”レベルのコラム選択信号CL
によりI/Oゲート51,52 は開いているので、振幅レベ
ルが制限された相補I/O線DBi,DBXiは当該I/Oゲー
トを介して相補ビット線BLi,BLXiに接続される。データ
書き込みが終了し(つまりライトクロックWCが“L”レ
ベル)、あるいは当該ビット線対以外のビット線対が選
択されると(つまりコラム選択信号CLが“L”レベ
ル)、ナンドゲート40の出力は“H”レベル、インバー
タ41の出力は“L”レベルとなるので、トランジスタ4
6,47 はそれぞれターンオンする。これによって、フリ
ップフロップ42〜45はセンスアンプ活性化信号用ライン
PSA,NSAに接続され、電源供給を受ける。つまり、セン
スアンプS/Aiはその動作を再開する(活性状態)。
【0021】このセンスアンプの再動作により、それま
で振幅レベルが制限されていた相補ビット線BLi,BLXi上
のデータは、それぞれVccおよびVssの電位までレベル
増幅され、その結果、書き込み動作は正常に行われる。
本実施例の回路構成による動作タイミング波形(図4参
照)を図5に示す従来形の動作タイミング波形と比較す
ると、図5の場合にはビット線BL,BLXに情報を書き込む
ためにI/O線DB,DBXのレベルを電源電圧VssとVccの
間で振幅(フルスィング)させていたが、本実施例(図
4)ではI/O線DBi,DBXiのレベルの振幅を制限し(図
示の例ではVthと(Vcc−Vth)の間のレベル)、それ
によってI/O線の充放電電流を低減している。これに
よって、データ書き込み時の消費電力を低減することが
できる。
【0022】また、データ書き込み開始のタイミングと
コラム選択信号CLに同期させてセンスアンプS/Aiの動作
を停止および再開させているので、従来形に比して書き
込み時間の遅延を抑制することができる。これは、デー
タ書き込みの高速化に寄与するものである。なお、本実
施例ではnチャネルトランジスタ23,26,27および30を用
いてI/O線DBi,DBXiの振幅レベルを制限した場合につ
いて説明したが、これは、例えばpチャネルトランジス
タを用いて振幅制限を行うように構成してもよい。
【0023】また、上述した実施例では振幅制限を電源
電圧の高電位側(Vcc)および低電位側(Vss)の両方
で制御するようにしたが、これは、いずれか一方の電源
電位側で制御するようにしてもよい。このためには、図
3の構成において、例えばトランジスタ23および26のい
ずれか一方を省略し、あるいはトランジスタ27および30
のいずれか一方を省略すればよい。
【0024】さらに、振幅制限されるレベルについて
も、本実施例ではトランジスタ1段分のスレッショルド
レベルVth(図4参照)に設定したが、例えば図3の構
成においてトランジスタ23(または26,27,30)を2段、
3段、………、直列接続することにより、それぞれ2V
th、3Vth、………、のレベルに適宜変更設定できるこ
とはもちろんである。
【0025】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、消
費電力を低減して高速の多ビットデータ書き込みを実現
することができる。これによって。メモリ(特にDRA
M)の特性を向上させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例としてのDRAMの構成を示
すブロック図である。
【図2】図1におけるS/A回路およびI/Oゲートと
W/A回路の構成を概略的に示した図である。
【図3】図2におけるS/A回路およびW/A回路の1
コラム分の構成を示す回路図である。
【図4】図3の回路の動作を説明するための信号波形図
である。
【図5】従来形における書き込みおよび読み出し動作を
説明するための信号波形図である。
【符号の説明】
BL1,BLX1〜BLn,BLXn…相補ビット線 DB1,DBX1〜DB8,DBX8…相補データ線(I/O線) Di …入力データ(書き込みデータ) S/Ai…センス増幅回路 Vcc,Vss…電源ライン(電源電圧) W/Ai…書き込み増幅回路 WC…制御信号(ライトクロック) 23〜30, 42〜47…(MOS)トランジスタ 40…ナンドゲート 41…インバータ 51,52 …I/Oゲート(トランスファゲート)

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 読み出しデータまたは書き込みデータを
    伝達するデータ線対と、 メモリセルが接続されたビット線対と前記ビット線対を前記データ線対に接続し、選択信号に
    応答してオンオフする一対の トランスファゲートと、 前記ビット線対に接続され、前記選択信号及び前記選択
    信号に対して独立した制御信号に応答して動作するセン
    ス増幅回路と、 電源電圧に接続され、外部からの入力データを増幅して
    記データ線に出力する書き込み増幅回路を具備し
    た半導体記憶装置であって前記センス増幅回路は、前記ビット線対のレベルを所定
    レベルまで拡大するフリップフロップと、前記選択信号
    及び前記制御信号を入力信号とし、前記選択信号が前記
    一対のトランスファゲートがオンする論理レベルである
    時は、前記制御信号の論理レベルに応じて前記フリップ
    フロップを活性状態または非活性状態に制御し、選択信
    号が前記一対のトランスファゲートがオフする論理レベ
    ルである時は前記制御信号の論理レベルによらず前記フ
    リップフロップを活性状態にするゲート手段とを有し、 前記メモリセルへのデータ書き込み時に、前記書き込み
    増幅回路は前記データ線対の高電位側と低電位側のレベ
    ル差を前記電源電圧の値より小さくし、且つ、選択され
    た前記メモリセルに対応する前記センス増幅回路は、非
    選択のメモリセルに対応する前記センス増幅回路が活性
    化しているにもかかわらず、対応する前記一対のトラン
    スファゲートがオフするまでの間、前記制御信号に応答
    して前記ゲート手段により選択的にその動作を停止する
    ことを特徴とする半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 前記書き込み増幅回路は、前記入力デー
    タに応答するCMOS構成の1対のトランジスタと、該
    1対のトランジスタの少なくとも一方のソース側と前記
    電源ラインの間に接続されたレベルシフト手段とを有
    し、該レベルシフト手段による電圧シフト量によって前
    記データ線のレベル縮小量を決定するようにしたこと
    を特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 前記レベルシフト手段は、そのゲートが
    ドレインに接続されたnチャネル型もしくはpチャネル
    型のトランジスタによって構成されることを特徴とする
    請求項2に記載の半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 前記メモリセルはダイナミック型メモリ
    セルであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに
    記載の半導体記憶装置。
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