JP3188281B2 - 真空積層成形方法及び装置 - Google Patents
真空積層成形方法及び装置Info
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- JP3188281B2 JP3188281B2 JP08555591A JP8555591A JP3188281B2 JP 3188281 B2 JP3188281 B2 JP 3188281B2 JP 08555591 A JP08555591 A JP 08555591A JP 8555591 A JP8555591 A JP 8555591A JP 3188281 B2 JP3188281 B2 JP 3188281B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、真空積層成形方法及び
装置に関し、特に模様等を印刷された合成樹脂シートを
基材の外表面に密着積層あるいは転写する真空積層成形
方法、及びこの方法に実施に使用される装置に関するも
のである。
装置に関し、特に模様等を印刷された合成樹脂シートを
基材の外表面に密着積層あるいは転写する真空積層成形
方法、及びこの方法に実施に使用される装置に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】ラミネート、ホットスタンプ式の転写等
のために、模様等を印刷された熱可遡性の合成樹脂製の
化粧シート（合成樹脂シート）を基材の外表面に密着積
層する真空積層成形方法の一つとして、開閉可能な密閉
容器内にて、基材を基材載置台上に載置し、化粧シート
をその上側に対向配置し、この化粧シートにより基材
側、即ち下側に第一の室を、反対側、即ち上側に第二の
室を互いに気密に区画し、化粧シートを加熱により軟化
させると共に第一の室と第二の室とを互いに等しく減圧
して両室内をほぼ真空状態とし、この後に前記第二の室
の減圧を解除して両室間の差圧を与え、この差圧により
化粧シートを基材の外表面に密着積層させるＯＶＬ法に
よる真空積層成形方法が知られており、これは例えば特
公昭５６−４５７６８号公報に示されており、またこの
方法を実施する装置が特開昭５６−９９６２４号公報に
示されている。
のために、模様等を印刷された熱可遡性の合成樹脂製の
化粧シート（合成樹脂シート）を基材の外表面に密着積
層する真空積層成形方法の一つとして、開閉可能な密閉
容器内にて、基材を基材載置台上に載置し、化粧シート
をその上側に対向配置し、この化粧シートにより基材
側、即ち下側に第一の室を、反対側、即ち上側に第二の
室を互いに気密に区画し、化粧シートを加熱により軟化
させると共に第一の室と第二の室とを互いに等しく減圧
して両室内をほぼ真空状態とし、この後に前記第二の室
の減圧を解除して両室間の差圧を与え、この差圧により
化粧シートを基材の外表面に密着積層させるＯＶＬ法に
よる真空積層成形方法が知られており、これは例えば特
公昭５６−４５７６８号公報に示されており、またこの
方法を実施する装置が特開昭５６−９９６２４号公報に
示されている。
【０００３】またもう一つの真空積層成形方法として、
上述の如きＯＶＬ法による真空積層成形方法に於て、前
記第一の室と前記第二の室とをゴム等によるゴム状弾性
膜により予め互いに気密に区画し、それの第一の室に化
粧シートを配置することにより、上述のＯＶＬ法による
真空積層成形方法と同等の積層成形を行う真空積層成形
方法が知られており、これは、一般に真空プレス法と称
されている。
上述の如きＯＶＬ法による真空積層成形方法に於て、前
記第一の室と前記第二の室とをゴム等によるゴム状弾性
膜により予め互いに気密に区画し、それの第一の室に化
粧シートを配置することにより、上述のＯＶＬ法による
真空積層成形方法と同等の積層成形を行う真空積層成形
方法が知られており、これは、一般に真空プレス法と称
されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述の如き真空積層成
形方法では、何れに於いても基材が基材載置台に当接す
る下部周縁部にて成形性不足、若しくは余分な皺の生
じ、化粧シートの剥離などの外観不良が発生することが
あった。このことに鑑み、基材より小さい平面形状の置
き台を基材載置台上に設け、これの上面上に基材をオー
バハング状態にて前記基材載置台より浮かして載置し、
即ち置き台上にて基材の外周縁部が置き台の外周縁部よ
り外側方へはみ出るようにし、この状態にて前記第一の
室と前記第二の室とに差圧を与えて前記合成樹脂シート
を前記基材の外表面に密着させるが考えられている。こ
の場合は、基材の下部周縁部が基材載置台より離れた状
態にあるから、この部分にも化粧シートがよく密着し、
また下部周縁部より基材の底部まで化粧シートが回り込
むことから、下部周縁部に皺が発生することがなく、成
形性が向上する。
形方法では、何れに於いても基材が基材載置台に当接す
る下部周縁部にて成形性不足、若しくは余分な皺の生
じ、化粧シートの剥離などの外観不良が発生することが
あった。このことに鑑み、基材より小さい平面形状の置
き台を基材載置台上に設け、これの上面上に基材をオー
バハング状態にて前記基材載置台より浮かして載置し、
即ち置き台上にて基材の外周縁部が置き台の外周縁部よ
り外側方へはみ出るようにし、この状態にて前記第一の
室と前記第二の室とに差圧を与えて前記合成樹脂シート
を前記基材の外表面に密着させるが考えられている。こ
の場合は、基材の下部周縁部が基材載置台より離れた状
態にあるから、この部分にも化粧シートがよく密着し、
また下部周縁部より基材の底部まで化粧シートが回り込
むことから、下部周縁部に皺が発生することがなく、成
形性が向上する。
【０００５】しかしながら、図７に例示されている如
く、基材Ｗの角部Ｃに発生する皺Ｌの発生は低減でき
ず、まだ問題は残っている。この皺Ｌの発生は、軟化状
態にある化粧シートＳが基材Ｗに接触する際に、その角
部Ｃ近傍にて内向きに変形し、更に前記第一の室と前記
第二の室との間の差圧により化粧シートＳが基材Ｗに接
触する以前にこの部分の化粧シートＳ同士が互いに接触
し、密着してしまうことに起因していると考えられ、こ
のため基材載置台に上述の如き置き台を設けるのみでは
角部Ｃの皺Ｌの発生を防止することはできなかった。
く、基材Ｗの角部Ｃに発生する皺Ｌの発生は低減でき
ず、まだ問題は残っている。この皺Ｌの発生は、軟化状
態にある化粧シートＳが基材Ｗに接触する際に、その角
部Ｃ近傍にて内向きに変形し、更に前記第一の室と前記
第二の室との間の差圧により化粧シートＳが基材Ｗに接
触する以前にこの部分の化粧シートＳ同士が互いに接触
し、密着してしまうことに起因していると考えられ、こ
のため基材載置台に上述の如き置き台を設けるのみでは
角部Ｃの皺Ｌの発生を防止することはできなかった。
【０００６】本発明は、従来の真空積層成形方法に於け
る上述の如き問題点に着目してなされたものであり、化
粧シートの如き合成樹脂シートが基材の外表面に張り付
けられた時に、角部を含む全体に合成樹脂シートに皺が
生じることを回避し、合成樹脂シートと基材とを常に良
好に密着させる真空積層成形方法及びこの方法の実施に
使用される真空積層成形装置を提供することを目的とし
ている。
る上述の如き問題点に着目してなされたものであり、化
粧シートの如き合成樹脂シートが基材の外表面に張り付
けられた時に、角部を含む全体に合成樹脂シートに皺が
生じることを回避し、合成樹脂シートと基材とを常に良
好に密着させる真空積層成形方法及びこの方法の実施に
使用される真空積層成形装置を提供することを目的とし
ている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上述の如き目的は、本発
明によれば、基材載置台に載置された基材に対し積層す
べき合成樹脂シートを対向配置し、前記合成樹脂シート
より前記基材側に形成された第一の室とその反対側に形
成された第二の室とに差圧を与えることにより前記合成
樹脂シートを前記基材の外表面に密着させ、前記基台に
前記合成樹脂シートを積層する真空積層成形方法に於
て、前記基材載置台に前記基材より小さい平面形状の置
き台を設け、該置き台に前記基材をオーバハング状態に
て前記基材載置台より浮かして載置し、前記基材の外周
縁部より所定距離だけ外側に離間した位置に前記置き台
に載置された前記基材の高さよりも低い高さの枠部材を
配置し、これに前記合成樹脂シートが被る状態にて前記
第一の室と前記第二の室とに差圧を与えて前記合成樹脂
シートを前記基材の外表面に密着させることを特徴とす
る真空積層成形方法によって達成される。
明によれば、基材載置台に載置された基材に対し積層す
べき合成樹脂シートを対向配置し、前記合成樹脂シート
より前記基材側に形成された第一の室とその反対側に形
成された第二の室とに差圧を与えることにより前記合成
樹脂シートを前記基材の外表面に密着させ、前記基台に
前記合成樹脂シートを積層する真空積層成形方法に於
て、前記基材載置台に前記基材より小さい平面形状の置
き台を設け、該置き台に前記基材をオーバハング状態に
て前記基材載置台より浮かして載置し、前記基材の外周
縁部より所定距離だけ外側に離間した位置に前記置き台
に載置された前記基材の高さよりも低い高さの枠部材を
配置し、これに前記合成樹脂シートが被る状態にて前記
第一の室と前記第二の室とに差圧を与えて前記合成樹脂
シートを前記基材の外表面に密着させることを特徴とす
る真空積層成形方法によって達成される。
【０００８】本発明による真空積層成形方法の詳細な特
徴によれば、前記枠部材の高さは前記置き台に載置され
た前記基材の高さの４５〜７０％で、前記枠部材の前記
基材の外周縁部よりの離間距離が３０〜５０mmであって
よい。また本発明による真空積層成形装置は、基材載置
台を有し、前記基材載置台に載置された基材に対し対向
配置された積層部材としての合成樹脂シートより前記基
材側に形成された第一の室とその反対側に形成されて第
二の室とに差圧を与えることにより前記合成樹脂シート
を前記基材の外表面に密着させ、前記基台に前記合成樹
脂シートを積層する真空積層成形装置に於て、前記基材
載置台に設けられ前記基材より平面形状が小さい平面形
状をなし前記基材載置台より所定量上方に離間した位置
に前記基材をオーバハング状態にて載置される置き台
と、前記基材載置台の前記置き台の外周縁部より所定距
離だけ外側に離間した位置に配置された枠部材とを有す
ることを特徴としている。
徴によれば、前記枠部材の高さは前記置き台に載置され
た前記基材の高さの４５〜７０％で、前記枠部材の前記
基材の外周縁部よりの離間距離が３０〜５０mmであって
よい。また本発明による真空積層成形装置は、基材載置
台を有し、前記基材載置台に載置された基材に対し対向
配置された積層部材としての合成樹脂シートより前記基
材側に形成された第一の室とその反対側に形成されて第
二の室とに差圧を与えることにより前記合成樹脂シート
を前記基材の外表面に密着させ、前記基台に前記合成樹
脂シートを積層する真空積層成形装置に於て、前記基材
載置台に設けられ前記基材より平面形状が小さい平面形
状をなし前記基材載置台より所定量上方に離間した位置
に前記基材をオーバハング状態にて載置される置き台
と、前記基材載置台の前記置き台の外周縁部より所定距
離だけ外側に離間した位置に配置された枠部材とを有す
ることを特徴としている。
【０００９】
【作用】本発明による真空積層成形方法及び装置によれ
ば、置き台に基材を載置して基材の下部周縁部を基材載
置台より離した状態にて合成樹脂シートを基材の外表面
に密着させることから、基材の下部周縁部にも合成樹脂
シートがよく密着し、下部周縁部より基材の底部まで合
成樹脂シートが回り込むことから、下部周縁部に皺が発
生することがなく、更に基材の外周縁部と枠部材との離
間距離を適切に定めることにより、合成樹脂シートの基
材よりの初期垂れ下がり量と、第一の室と第二の室との
間の差圧とがバランスし、合成樹脂シートが基材に接触
する以前に角部の合成樹脂シート同士が互いに接触する
ことが回避され、これらのことから基材の外表面に張り
付けられる合成樹脂シートのどの箇所にもに皺が生じる
ことがない。
ば、置き台に基材を載置して基材の下部周縁部を基材載
置台より離した状態にて合成樹脂シートを基材の外表面
に密着させることから、基材の下部周縁部にも合成樹脂
シートがよく密着し、下部周縁部より基材の底部まで合
成樹脂シートが回り込むことから、下部周縁部に皺が発
生することがなく、更に基材の外周縁部と枠部材との離
間距離を適切に定めることにより、合成樹脂シートの基
材よりの初期垂れ下がり量と、第一の室と第二の室との
間の差圧とがバランスし、合成樹脂シートが基材に接触
する以前に角部の合成樹脂シート同士が互いに接触する
ことが回避され、これらのことから基材の外表面に張り
付けられる合成樹脂シートのどの箇所にもに皺が生じる
ことがない。
【００１０】
【実施例】以下に添付の図を参照して本発明を実施例に
ついて詳細に説明する。図１は本発明による真空積層成
形装置の一実施例を示している。真空積層成形装置は基
台１上に固定の下部容器２と可動の上部容器３とによる
開閉可能な密閉容器４を有している。
ついて詳細に説明する。図１は本発明による真空積層成
形装置の一実施例を示している。真空積層成形装置は基
台１上に固定の下部容器２と可動の上部容器３とによる
開閉可能な密閉容器４を有している。
【００１１】下部容器２は上方開口のカップ状容器によ
り構成され、下部容器２内には基材載置台５が設けられ
ている。基材載置台５は、基台１に固定された流体圧シ
リンダ装置６のピストンロッド７の上端に固定され、下
部容器２内を流体圧シリンダ装置６より上下動されるよ
うになっている。上部容器３は、下方開口のカップ状容
器により構成され、上側枠部材８に固定された流体圧シ
リンダ装置９のピストンロッド１０の下端に固定され、
この流体圧シリンダ装置１０より上下動されて密閉容器
４の開閉を行うようになっている。上部容器３の下方開
口部にはゴム膜１１が張られており、これにより上部容
器３の下方開口が閉じられ、上部容器３内部に後述の第
二の室Ｂが予め郭定されている。
り構成され、下部容器２内には基材載置台５が設けられ
ている。基材載置台５は、基台１に固定された流体圧シ
リンダ装置６のピストンロッド７の上端に固定され、下
部容器２内を流体圧シリンダ装置６より上下動されるよ
うになっている。上部容器３は、下方開口のカップ状容
器により構成され、上側枠部材８に固定された流体圧シ
リンダ装置９のピストンロッド１０の下端に固定され、
この流体圧シリンダ装置１０より上下動されて密閉容器
４の開閉を行うようになっている。上部容器３の下方開
口部にはゴム膜１１が張られており、これにより上部容
器３の下方開口が閉じられ、上部容器３内部に後述の第
二の室Ｂが予め郭定されている。
【００１２】上部容器３内の天井面にはシート加熱用ヒ
ータ１２が取り付けられている。下部容器２と上部容器
３には各々空気圧ポート１３、１４が設けられている。
下部容器２の空気圧ポート１３は、導管１５により切換
弁１６と接続され、切換弁１６の切換作動により真空ポ
ンプ１７、導管１８よりの負圧と大気圧とを下部容器２
内に選択的に与えるようになっている。
ータ１２が取り付けられている。下部容器２と上部容器
３には各々空気圧ポート１３、１４が設けられている。
下部容器２の空気圧ポート１３は、導管１５により切換
弁１６と接続され、切換弁１６の切換作動により真空ポ
ンプ１７、導管１８よりの負圧と大気圧とを下部容器２
内に選択的に与えるようになっている。
【００１３】上部容器３の空気圧ポート１４は、導管１
９により切換弁２０と接続され、切換弁２０の切換作動
により真空ポンプ１７、導管１８、２１よりの負圧と空
気圧ポンプ２２、導管２３よりの空気圧と大気圧とを上
部容器３内、即ちに第二の室Ｂに選択的に与えるように
なっている。図２、図３に拡大して示されている如く、
基材載置台５には治具２４が交換可能に取り付けられて
いる。治具２４は、敷板２５と敷板２５上に配置された
置き台２６及び枠部材２７とを有し、全体をＭＤＦ、パ
ーチクルボードの如く、通気性を有すると共に成形に耐
え得る強度（４kgf/cm2以上）の材料により構成されて
いる。
９により切換弁２０と接続され、切換弁２０の切換作動
により真空ポンプ１７、導管１８、２１よりの負圧と空
気圧ポンプ２２、導管２３よりの空気圧と大気圧とを上
部容器３内、即ちに第二の室Ｂに選択的に与えるように
なっている。図２、図３に拡大して示されている如く、
基材載置台５には治具２４が交換可能に取り付けられて
いる。治具２４は、敷板２５と敷板２５上に配置された
置き台２６及び枠部材２７とを有し、全体をＭＤＦ、パ
ーチクルボードの如く、通気性を有すると共に成形に耐
え得る強度（４kgf/cm2以上）の材料により構成されて
いる。
【００１４】敷板２５は厚さ４mm程度の板材により構成
されている。尚、敷板２５は省略されてもよく、この場
合は、置き台２６と枠部材２７は基材載置台５上に直接
配置されることになる。置き台２６は、高さが９〜１２
mm程度で、積層成形すべき基材Ｗの底面部の平面形状と
相似形で、これより小さい平面形状を有する台状のブロ
ックであり、上面上に基材Ｗを載置され、該基材Ｗを基
材載置台５より上方に離間した位置にオーバハング状態
にて支持するようになっている。このオーバハング量Ｏ
ｈは５mm程度であってよい。
されている。尚、敷板２５は省略されてもよく、この場
合は、置き台２６と枠部材２７は基材載置台５上に直接
配置されることになる。置き台２６は、高さが９〜１２
mm程度で、積層成形すべき基材Ｗの底面部の平面形状と
相似形で、これより小さい平面形状を有する台状のブロ
ックであり、上面上に基材Ｗを載置され、該基材Ｗを基
材載置台５より上方に離間した位置にオーバハング状態
にて支持するようになっている。このオーバハング量Ｏ
ｈは５mm程度であってよい。
【００１５】置き台２６は、積層成形すべき基材Ｗの形
状、大きさに応じて様々な形状及び大きさのものを準備
され、交換可能に敷板２５は固定されてもよく、これ以
外に様々な形状及び大きさの置き台２６、またこれに応
じた枠部材２７が敷板２５に固定された治具２４が複数
種類準備されて、これが基材載置台５には交換可能に取
り付けられてもよい。
状、大きさに応じて様々な形状及び大きさのものを準備
され、交換可能に敷板２５は固定されてもよく、これ以
外に様々な形状及び大きさの置き台２６、またこれに応
じた枠部材２７が敷板２５に固定された治具２４が複数
種類準備されて、これが基材載置台５には交換可能に取
り付けられてもよい。
【００１６】枠部材２７は置き台２６の外周縁部より所
定距離だけ外側に離間した位置にこれを取り囲むように
配置されている。枠部材２７の置き台２６の外周縁部よ
りの離間距離は置き台２６に載置された基材Ｗの外周縁
部より３０〜５０mm程度離れる距離であってよい。枠部
材２７は、角棒材により構成され、その高さは置き台２
６の高さと基材Ｗの高さとを加えた高さ、即ち置き台２
６上に載置された基材てＷの高さのの４５％〜７０％の
高さであってよく、幅は３０mm程度であってよい。
定距離だけ外側に離間した位置にこれを取り囲むように
配置されている。枠部材２７の置き台２６の外周縁部よ
りの離間距離は置き台２６に載置された基材Ｗの外周縁
部より３０〜５０mm程度離れる距離であってよい。枠部
材２７は、角棒材により構成され、その高さは置き台２
６の高さと基材Ｗの高さとを加えた高さ、即ち置き台２
６上に載置された基材てＷの高さのの４５％〜７０％の
高さであってよく、幅は３０mm程度であってよい。
【００１７】次に上述の如き構成よりなる真空積層成形
装置の作用について説明する。先ず上部容器３を流体圧
シリンダ装置９により上方へ移動させて密閉容器４を開
いた状態にて下部容器２内の基材載置台５上の治具２４
の置き台２６上に基材Ｗを中心を合わせて載置する。こ
れにより基材Ｗはその全外周縁部が置き台２６より外側
方へはし出したオーバハング状態にて前記敷板２５より
上方に浮かされた状態に水平配置されることになる。
装置の作用について説明する。先ず上部容器３を流体圧
シリンダ装置９により上方へ移動させて密閉容器４を開
いた状態にて下部容器２内の基材載置台５上の治具２４
の置き台２６上に基材Ｗを中心を合わせて載置する。こ
れにより基材Ｗはその全外周縁部が置き台２６より外側
方へはし出したオーバハング状態にて前記敷板２５より
上方に浮かされた状態に水平配置されることになる。
【００１８】そして、下部容器２の上部開口を閉じるよ
うに下部容器２の上部開口部上に化粧シートＳを被せ、
この後に上部容器３を流体圧シリンダ装置９により下方
へ移動させて密閉容器４を閉じる。これにより化粧シー
トＳは密閉容器４内にて置き台２５上の基材Ｗと対向
し、基材載置台側、即ち下部容器２側に第一の室Ａを郭
定するようになる。
うに下部容器２の上部開口部上に化粧シートＳを被せ、
この後に上部容器３を流体圧シリンダ装置９により下方
へ移動させて密閉容器４を閉じる。これにより化粧シー
トＳは密閉容器４内にて置き台２５上の基材Ｗと対向
し、基材載置台側、即ち下部容器２側に第一の室Ａを郭
定するようになる。
【００１９】この状態下にてシート加熱用ヒータ１２に
より化粧シートＳの加熱軟化が行われる。次に切替弁１
６、２０の切換作動により真空ポンプ１７の負圧が空気
圧ポート１３と１４とに与えられ、第一の室Ａと第二の
室Ｂの減圧が行われる。そして、流体圧シリンダ装置６
により基材載置台５が持ち上げられることにより、化粧
シートＳは中央部にて置き台２６上の基材Ｗの上面に接
触する。この時、化粧シートＳは、その周縁部にて枠部
材２７上に乗り、これより支持されることにより、基材
Ｗの外周縁部よりの初期垂れ下がり量を制限される。
より化粧シートＳの加熱軟化が行われる。次に切替弁１
６、２０の切換作動により真空ポンプ１７の負圧が空気
圧ポート１３と１４とに与えられ、第一の室Ａと第二の
室Ｂの減圧が行われる。そして、流体圧シリンダ装置６
により基材載置台５が持ち上げられることにより、化粧
シートＳは中央部にて置き台２６上の基材Ｗの上面に接
触する。この時、化粧シートＳは、その周縁部にて枠部
材２７上に乗り、これより支持されることにより、基材
Ｗの外周縁部よりの初期垂れ下がり量を制限される。
【００２０】次に切換弁２０の切換作動により空気圧ポ
ート１４に大気圧、更に空気圧ポンプ２２より空気圧が
供給される。これにより第二の室Ｂが加圧空気状態にな
り、第一の室Ａと第二の室Ｂとの大きい差圧により化粧
シートＳは、ゴム膜１１と共に図４に示されている如
く、基材Ｗの外表面に押し付けられ、密着状態で積層さ
れる。
ート１４に大気圧、更に空気圧ポンプ２２より空気圧が
供給される。これにより第二の室Ｂが加圧空気状態にな
り、第一の室Ａと第二の室Ｂとの大きい差圧により化粧
シートＳは、ゴム膜１１と共に図４に示されている如
く、基材Ｗの外表面に押し付けられ、密着状態で積層さ
れる。
【００２１】この時、基材Ｗは置き台２６上にあって、
その下部周縁部は敷板２５より上方に離れてオーバハン
グ状態にあるから、化粧シートＳは基材Ｗの下部周縁部
にもよく密着し、またその下部周縁部より基材Ｗの底部
まで回り込むことから、下部周縁部にて皺を発生するこ
とがなく。更に基材Ｗの外周縁部と枠部材２７との離間
距離が上述の如く適切に定められていることにより、軟
化した化粧シートＳの基材Ｗの外周縁部よりの初期垂れ
下がり量と、第一の室Ａと第二の室Ｂとの間の差圧とが
微妙にバランスし、化粧シートＳが基材Ｗに接触する以
前に、その角部の化粧シート同士が互いに接触すること
が回避され、このことから基材Ｗの、特に角部Ｃにて化
粧シートＳが確実に密着し、この部分にて化粧シートＳ
に皺が生じることがない。この場合の化粧シート積層状
態が図５に示されている。基材Ｗの材料としてはＡＢＳ
フェノール樹脂等の合成樹脂、アルミニウム、鉄等の金
属、木材、パーチクルボード等の木質材料、陶磁器、セ
メント、硝子等の無機窯業系材料等が使用できる。
その下部周縁部は敷板２５より上方に離れてオーバハン
グ状態にあるから、化粧シートＳは基材Ｗの下部周縁部
にもよく密着し、またその下部周縁部より基材Ｗの底部
まで回り込むことから、下部周縁部にて皺を発生するこ
とがなく。更に基材Ｗの外周縁部と枠部材２７との離間
距離が上述の如く適切に定められていることにより、軟
化した化粧シートＳの基材Ｗの外周縁部よりの初期垂れ
下がり量と、第一の室Ａと第二の室Ｂとの間の差圧とが
微妙にバランスし、化粧シートＳが基材Ｗに接触する以
前に、その角部の化粧シート同士が互いに接触すること
が回避され、このことから基材Ｗの、特に角部Ｃにて化
粧シートＳが確実に密着し、この部分にて化粧シートＳ
に皺が生じることがない。この場合の化粧シート積層状
態が図５に示されている。基材Ｗの材料としてはＡＢＳ
フェノール樹脂等の合成樹脂、アルミニウム、鉄等の金
属、木材、パーチクルボード等の木質材料、陶磁器、セ
メント、硝子等の無機窯業系材料等が使用できる。
【００２２】尚、枠部材２７は必ずしも基材Ｗの全周を
完全に取り囲むように配置される必要はなく、これは図
６に示されている如く、分離配置されていてもよく、こ
の場合は、基材Ｗの角部Ｃに於ける化粧シートＳの逃げ
が確保され、より一層、基材Ｗの角部Ｃに化粧シートＳ
が確実に密着することがある。尚、化粧シートＳの材料
としては、ポリ塩化ビニル，ポリ塩化ビニリデン，ポリ
酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体，ポリフッ化ビニル，
ポリビニルブチラール，ポリフッ化ビニリデン等のビニ
ル重合体、ポリスチレン、アクリルスチレン、ＡＢＳ等
のスチレン系樹脂、ポリメタクリル酸エチル，ポリメタ
クリル酸メチル，ポリアクリロニトリル等のアクリル樹
脂、ポリエチレン，ポリプロピレン，ポリメチルペンテ
ン等のポリオレフィン、酢酸セルロース，ニトロセルロ
ース等のセルローズ誘導体、ナイロン６，ナイロン６６
等のポリアミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート，ポ
リエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合体，
ポリブチレンテレフタレート，ポリアクリレート等のポ
リエステル樹脂、ブタジエン，クロロプレンゴム、シリ
コンゴム等のゴム系樹脂、ビニロン，ポレビニルアルコ
ール等のポリビニルアルコール系樹脂、ポリカーボネー
ト等が挙げられ、厚さは、２０〜２００μｍ程度であっ
てよく、特に成形適性の点から５０〜１００μｍである
ことが望ましい。
完全に取り囲むように配置される必要はなく、これは図
６に示されている如く、分離配置されていてもよく、こ
の場合は、基材Ｗの角部Ｃに於ける化粧シートＳの逃げ
が確保され、より一層、基材Ｗの角部Ｃに化粧シートＳ
が確実に密着することがある。尚、化粧シートＳの材料
としては、ポリ塩化ビニル，ポリ塩化ビニリデン，ポリ
酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体，ポリフッ化ビニル，
ポリビニルブチラール，ポリフッ化ビニリデン等のビニ
ル重合体、ポリスチレン、アクリルスチレン、ＡＢＳ等
のスチレン系樹脂、ポリメタクリル酸エチル，ポリメタ
クリル酸メチル，ポリアクリロニトリル等のアクリル樹
脂、ポリエチレン，ポリプロピレン，ポリメチルペンテ
ン等のポリオレフィン、酢酸セルロース，ニトロセルロ
ース等のセルローズ誘導体、ナイロン６，ナイロン６６
等のポリアミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート，ポ
リエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合体，
ポリブチレンテレフタレート，ポリアクリレート等のポ
リエステル樹脂、ブタジエン，クロロプレンゴム、シリ
コンゴム等のゴム系樹脂、ビニロン，ポレビニルアルコ
ール等のポリビニルアルコール系樹脂、ポリカーボネー
ト等が挙げられ、厚さは、２０〜２００μｍ程度であっ
てよく、特に成形適性の点から５０〜１００μｍである
ことが望ましい。
【００２３】化粧シートＳには、意匠性の賦与のため
に、シートに着色、各種模様印刷、金属蒸着等が施こさ
れて良い。また、化粧シートＳと基材Ｗとの接着性の向
上のために、シート表面にコロナ放電処理、公知の各種
プライマ塗工等が行われても良い。又、化粧シートＳは
転写シートの構成としても良い転写紙の構成としては公
知のものであり、合成樹脂シート（必要に応じ離型層を
形成）と、その上に離型可能に形成された剥離保護層、
絵柄層の片方又は両方、更に必要に応じ接着剤層を設け
た構成であり、基材Ｗと転写シートの絵柄層等の層が対
向する様に積層接着後、該シートのみ離型し、除去すれ
ば良い。
に、シートに着色、各種模様印刷、金属蒸着等が施こさ
れて良い。また、化粧シートＳと基材Ｗとの接着性の向
上のために、シート表面にコロナ放電処理、公知の各種
プライマ塗工等が行われても良い。又、化粧シートＳは
転写シートの構成としても良い転写紙の構成としては公
知のものであり、合成樹脂シート（必要に応じ離型層を
形成）と、その上に離型可能に形成された剥離保護層、
絵柄層の片方又は両方、更に必要に応じ接着剤層を設け
た構成であり、基材Ｗと転写シートの絵柄層等の層が対
向する様に積層接着後、該シートのみ離型し、除去すれ
ば良い。
【００２４】
【発明の効果】以上の説明により明らかな如く、本発明
による真空積層成形装置及び方法によれば、置き台に基
材を載置して基材の下部周縁部を基材載置台より離した
状態にて化粧シート等の合成樹脂シートを基材の外表面
に密着させることから、基材の下部周縁部にも合成樹脂
シートがよく密着し、下部周縁部より基材の底部まで合
成樹脂シートが回り込むことから、下部周縁部に皺が発
生することがなく、更に基材の外周縁部と枠部材との離
間距離を適切に定めることにより、合成樹脂シートの基
材よりの初期垂れ下がり量と、第一の室と第二の室との
間の差圧とがバランスし、合成樹脂シートが基材に接触
する以前に角部の合成樹脂シート同士が互いに接触する
ことが回避され、これらのことから基材の外表面に張り
付けられる合成樹脂シートのどの箇所にもに皺が生じる
ことがなく、合成樹脂シートと基材とが常に良好に密着
し、高品質の真空積層成形品が安定して生産され得るよ
うになる。
による真空積層成形装置及び方法によれば、置き台に基
材を載置して基材の下部周縁部を基材載置台より離した
状態にて化粧シート等の合成樹脂シートを基材の外表面
に密着させることから、基材の下部周縁部にも合成樹脂
シートがよく密着し、下部周縁部より基材の底部まで合
成樹脂シートが回り込むことから、下部周縁部に皺が発
生することがなく、更に基材の外周縁部と枠部材との離
間距離を適切に定めることにより、合成樹脂シートの基
材よりの初期垂れ下がり量と、第一の室と第二の室との
間の差圧とがバランスし、合成樹脂シートが基材に接触
する以前に角部の合成樹脂シート同士が互いに接触する
ことが回避され、これらのことから基材の外表面に張り
付けられる合成樹脂シートのどの箇所にもに皺が生じる
ことがなく、合成樹脂シートと基材とが常に良好に密着
し、高品質の真空積層成形品が安定して生産され得るよ
うになる。
【図１】本発明による真空積層成形装置の一実施例を示
す概略構成図。
す概略構成図。
【図２】図１に示された本発明による真空積層成形装置
の要部の拡大立面図。
の要部の拡大立面図。
【図３】図１に示された本発明による真空積層成形装置
の要部の拡大平面図。
の要部の拡大平面図。
【図４】本発明による真空積層成形方法に於ける一工程
を示す説明図。
を示す説明図。
【図５】本発明による真空積層成形方法により得られた
真空積層成形品の積層状態例を示す斜視図。
真空積層成形品の積層状態例を示す斜視図。
【図６】本発明による真空積層成形装置の変形実施例を
示す要部の拡大平面図。
示す要部の拡大平面図。
【図７】従来の真空積層成形方法により化粧シートを基
材の外表面に密着積層させた状態例を示す斜視図。
材の外表面に密着積層させた状態例を示す斜視図。
１ 基台 ２ 下部容器 ３ 上部容器 ４ 密閉容器 ５ 基材載置台 １７ 真空ポンプ ２２ 空気圧ポンプ ２４ 治具 ２５ 敷板 ２６ 置き台 ２７ 枠部材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B29C 63/00 - 63/48 B29C 51/00 - 51/46
Claims (3)
- 【請求項１】 基材載置台に載置された基材に対し積層
すべき合成樹脂シートを対向配置し、前記合成樹脂シー
トより前記基材側に形成された第一の室とその反対側に
形成された第二の室とに差圧を与えることにより前記合
成樹脂シートを前記基材の外表面に密着させ、前記基材
載置台に前記合成樹脂シートを積層する真空積層成形方
法に於て、前記基材載置台に前記基材より小さい平面形
状の置き台を設け、該置き台に前記基材をオーバハング
状態にて前期基材載置台より浮かして載置し、前記基材
の外周縁部より所定距離だけ外側に離間した位置に前記
置き台に載置された前記基材の高さよりも低い高さの枠
部材を配置し、これに前記合成樹脂シートが被る状態に
て前記第一の室と前記第二の室とに差圧を与えて前期合
成樹脂シートを前記基材の外表面に密着させることを特
徴とする真空積層成形方法。 - 【請求項２】 前記枠部材の高さが前記置き台に載置さ
れた前記基材の高さの４５〜７０％であり、前記枠部材
の前記基材の外周縁部よりの離間距離が３０〜５０mmで
あることを特徴とする請求項１に記載の真空積層成形方
法。 - 【請求項３】 基材載置台を有し、前記基材載置台に載
置された基材に対し対向配置された積層部材としての合
成樹脂シートより前記基材側に形成された第一の室とそ
の反対側に形成されて第二の室とに差圧を与えることに
より前記合成樹脂シートを前記基材の外表面に密着さ
せ、前記基材載置台に前記合成樹脂シートを積層する真
空積層成形装置に於て、前記基材載置台に設けられ前記
基材より平面形状が小さい平面形状をなし、前記基材載
置台より所定量上方に離間した位置に前記基材をオーバ
ハング状態にて載置される置き台と、前記基材載置台の
前記置き台の外周縁部より所定距離だけ外側に離間した
位置に配置された枠部材と、を有することを特徴とする
真空積層成形装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08555591A JP3188281B2 (ja) | 1991-04-17 | 1991-04-17 | 真空積層成形方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08555591A JP3188281B2 (ja) | 1991-04-17 | 1991-04-17 | 真空積層成形方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04316832A JPH04316832A (ja) | 1992-11-09 |
| JP3188281B2 true JP3188281B2 (ja) | 2001-07-16 |
Family
ID=13862072
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08555591A Expired - Lifetime JP3188281B2 (ja) | 1991-04-17 | 1991-04-17 | 真空積層成形方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3188281B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4626217B2 (ja) * | 2004-08-17 | 2011-02-02 | 横浜ゴム株式会社 | 常温接着施工法に於ける真空圧着施工方法 |
-
1991
- 1991-04-17 JP JP08555591A patent/JP3188281B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04316832A (ja) | 1992-11-09 |
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