JP3182517B2

JP3182517B2 - 欠陥検出装置及びその方法

Info

Publication number: JP3182517B2
Application number: JP03230699A
Authority: JP
Inventors: 高志広井; 俊二前田; 坦牧平; 仁志窪田
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1999-02-10
Filing date: 1999-02-10
Publication date: 2001-07-03
Anticipated expiration: 2016-07-03
Also published as: JPH11317432A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばＬＳＩウエ
ハやＴＦＴなどのパターンを比較してパターンの欠陥等
を認識する欠陥検出装置及びその方法に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】従来欠陥検出装置、方法は、特開昭５７
−１９６３７７号公報に記載のように、パターンを検出
する手段と、検出したパターンを記憶しておく手段と、
一つ前に検出・記憶しておいたパターンと検出したパタ
ーンとを画素単位に位置合わせする手段と、位置合わせ
した２つのパターンの誤差を抽出・比較する手段とを設
け、これによって比較してパターンの欠陥を認識するよ
うになっていた。ここで、認識対象は、図２に示すよう
なメモリー用ＬＳＩなどのパターンや、ＴＦＴ（Ｔhin
Ｆilm Ｔransistor）のパターンや、プリント配線板の
パターンや、セラミック基板のパターンや、それらを製
造する工程で用いるマスクやレチクルなどのパターンで
ある。ここでは、一例として半導体ウエハのパターンに
ついて説明するが、他のパターンについても同じことが
成り立つ。半導体ウエハのパターンは、最終的に切り離
されて個別製品となるチップが数十個一枚のウエハに載
っており、これらは互いに同じパターンを持っている。

【０００３】上記のようなパターンの欠陥を認識する原
理を図２を用いて説明する。すなわち、各チップが全く
同一のパターンを持っていることに着目し、あるパター
ンを検出して記憶しておき、それと同一であるはずの別
のパターンを次に検出して、画素単位に位置合わせ（検
出パターンと記憶しておいたパターンとの各画素ごとの
差の画像全面での総和をとる。検出パターンに対して記
憶しておいたパターンを画素単位でシフトさせながらこ
れを行い、最も差の総和の小さい位置、すなわち最も２
つの画像が一致している位置に合わせること）を行い、
位置合わせした２つのパターンの誤差を抽出して比較す
る。そして、いずれのパターンにも欠陥が存在しない場
合には、パターンの差はほとんどないが、いずれかのパ
ターンに欠陥が存在する場合には、欠陥部分でパターン
に差があるため、パターンの比較により誤差を生じる場
所を検出することによってパターン欠陥を認識すること
ができる。

【０００４】このとき、比較して差があれば、いずれか
のパターンに欠陥があると言えるが、いずれのパターン
に欠陥があるかを判別することはできない。これを判別
する手段としては種々のものがあるが、本発明に係わる
技術とは直接関係がないので、ここでは特に説明しな
い。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来の欠陥検出装置及びその方法においては、検査対象の
ウエハの正常部パターンは、各種誤差要因によって場所
により異なったパターンとなっている。このため、パタ
ーンに差があっても必ずしも欠陥とは限らず、小さい欠
陥と正常部の誤差との識別が困難になる。このことを以
下に説明する。

【０００６】まず、欠陥と正常部の誤差との違いを定義
する。正常部の誤差は、着目場所の近傍でも同一のパタ
ーンでは同じように誤差を持っているものとする。これ
に対し、欠陥は局所的な違いで、近傍の同一のパターン
では誤差を持っていないとする。また、正常部の許容寸
法誤差は、認識すべき最小欠陥寸法より大きいものとす
る。もちろん例外はあるが、それらは対象外とする。

【０００７】上記のような定義の場合、パターンに差が
あれば欠陥とする方式では、図３に示すような問題があ
る。すなわち、図３は説明を簡単にするため２値画像と
して、図３(ａ)は記憶パターンと検出パターンで許容寸
法誤差を持った正常部を比較した場合、同図(ｂ)は正常
なパターンと欠陥を持った検出パターンで認識すべき最
小寸法の欠陥を持ったパターンを比較した場合、同図
(ｃ)、(ｄ)はそれぞれ同図(ａ)、(ｂ)のパターンの差を
示したものである。図３(ｃ)と(ｄ)とを比較すると、正
常部のパターンの違う面積が欠陥部のパターンの違う面
積より大きくなっており、欠陥の識別は困難となる。

【０００８】上記の例では、誤差を持った正常部パター
ンと欠陥との識別を容易にする方式が必要である。ま
た、パターンのずれや変形量などのパターンの性質を認
識する場合にも、発明の実施の形態の欄で説明するよう
に、同様の方法で問題を解決することができる。

【０００９】本発明は上記の課題を解決するためになさ
れたもので、誤差を持った正常部パターンと欠陥との識
別を容易にしうる欠陥検出装置及びその方法を提供する
ことを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明では、試料を載置するテーブルを少なくとも
一軸方向に連続的に移動させる駆動部を備えたテーブル
手段と、該テーブル手段で前記テーブルに載置した試料
を前記一軸方向に連続的に移動させながら前記試料上に
形成されたパターンを撮像して前記パターンの画像を得
る画像取得手段と、該画像取得手段で得た前記試料上に
形成された第１のパターンの画像を記憶する記憶手段
と、該記憶手段に記憶された前記第１のパターンの画像
と本来該第１のパターンと同じ形状になるように前記試
料上に形成された第２のパターンを前記画像取得手段で
撮像して得た第２のパターンの画像との情報に基づいて
前記第１のパターンの画像と前記第２のパターンの画像
との位置合わせするための相対的なずらし量の範囲を求
める演算手段と、該演算手段で求めて相対的なずらし量
の範囲で前記第１のパターンの画像と前記第２のパター
ンの画像とを相対的に順次ずらして両画像の差画像を求
め該求めた差画像から前記パターンの欠陥を検出する欠
陥検出手段とを備える。

【００１１】この場合、前記画像取得手段は、前記試料
上に形成されたパターンの拡大光学像を形成する光学系
と、該光学系で拡大された前記パターンの光学像を検出
するイメージセンサとを備える。

【００１２】また、本来同一形状である複数のパターン
が形成された基板の前記パターンの欠陥を検出する欠陥
検出方法において、前記複数のパターンのうちの第１の
パターンを撮像して第１の画像を得、該第１の画像を記
憶し、前記複数のパターンのうちの第２のパターンを撮
像して第２の画像を得、前記第１の画像と前記第２の画
像とのずれ量を求め、該求めたずれ量に基づいて前記第
１の画像と前記第２の画像とのずれを補正し、該ずれを
補正した前記第１の画像と前記第２の画像とを前記ずれ
量よりも狭い範囲で相対的にずらして前記第１の画像と
前記第２の画像との差画像を複数求め、該複数求めた差
画像から前記パターンの欠陥を検出する方法を用いる。

【００１３】この場合、前記検出する欠陥が、前記パタ
ーンの許容誤差よりも小さい欠陥を含む。

【００１４】また、前記第１のパターンの撮像と前記第
２のパターンの撮像とを、前記基板を連続的に移動させ
ながら行う。

【００１５】

【発明の実施の形態】図１に、本発明の欠陥検出装置及
びその方法の原理図を示す。すなわち、検査対象である
ウエハ１のパターンを検出する検出手段２と、検出した
パターンを記憶しておく記憶手段３と、一つ前に検出・
記憶しておいたパターンと検出したパターンとを位置合
わせする位置合わせ手段４と、位置合わせした２つのパ
ターンに対して一致度の高い画像として複数個の位置合
わせシフトの候補を選択する位置合わせ候補選択手段５
と、選択したすべての候補より各画素ごとに候補の値と
その画素近傍の値とを用いて計算して誤差画像を作成す
る誤差画像抽出手段６と、誤差画像からパターンの欠陥
を認識する欠陥認識手段７からなっている。

【００１６】また、誤差画像抽出手段６は、例えば候補
の値の最小値をとる方式がある。

【００１７】図１の構成の作用を、前述の図３(ａ)、
(ｂ)に適用した場合を例として説明する。

【００１８】まず、図３(ａ)の場合、最良位置合わせ位
置の近傍±２画素の画像シフトの範囲で複数個の位置合
わせシフトの候補を探す。各シフト位置における画像全
体での差の総和の例を表１に示す。

【００１９】

【表１】

【００２０】ここで、（０,０)、(１,０）の差の総和は
小さく、位置合わせシフトの候補となり、２つの候補で
の差画像はそれぞれ図４(ａ)、(ｂ)のようになり、２つ
の候補の最小誤差はすべての画素で０となる。

【００２１】

【表２】

【００２２】これに対して、図３(ｂ)の場合、差の総和
の例を表２に示してあるが、（０,０）以外の差の総和
は大きく、（０,０）しか位置合わせ候補とならず、誤
差画像は図３(ｄ)と同一となる。これらのことから、差
の面積が大きい場所として欠陥を認識できる。

【００２３】以上の例で示したように、着目点の近傍で
同じように誤差を持っている正常部の場合、その誤差を
なくす位置は位置合わせシフトの候補となり、また、着
目点の近傍で誤差のない場合は位置合わせシフトの候補
とならず、誤差画像には欠陥のみが現われる。

【００２４】なお、位置合わせシフト候補の決定方法と
しては、例えば最良位置合わせ位置での差の総和の２倍
より小さい差の総和の持つ位置とするなどの方式で一致
度の高い画像を選択する。また、位置合わせ手段４を省
略して、複数個所の位置合わせシフト候補を選択する位
置合わせ候補選択手段５において同時に最良位置合わせ
位置を探すこともできる。

【００２５】以下、本発明の第１の実施の形態を図５に
より説明する。本実施の形態は、本発明の欠陥検出装置
及びその方法をＬＳＩウエハのパターンの欠陥検査に適
用した例であるが、ＴＦＴなどのパターンにも適用でき
ることは言うまでもない。図５は、その実施に用いるＬ
ＳＩウエハの欠陥検出装置（以下の説明では装置と略
す）の構成図である。装置は、ウエハ１を走査するＸ−
Ｙステージ８（テーブル手段）、ウエハを照明する照明
光源９と照明光学系１０、照明されたウエハの光学像を
検出する対物レンズ１１と一次元イメージセンサ１２か
らなる検出部２Ａ（画像取得手段）、および一次元イメ
ージセンサ１２の信号をデジタル化して記憶するための
Ａ／Ｄ変換器１３と画像メモリ部１４とからなる画像入
力部１５（記憶手段）、および画像入力部１５に入力さ
れた検出画像１６（第１のパターンの画像）と画像メモ
リ部１４からの比較画像１７（第２のパターンの画像）
より、後記する数１式で表わされるマッチング値を計算
するマッチング部１８、マッチング部１８からのマッチ
ング値より最良位置合わせ位置および複数の位置合わせ
候補シフトを求める演算部１９（演算手段）、演算部１
９からの位置合わせ候補シフト量を用いて検出画像１６
と比較画像１７とより誤差画像２０を抽出する誤差画像
抽出部２１、誤差画像２０を二値化して差の存在する場
所の各種特徴量を抽出し、欠陥判定を行う欠陥判定部２
２からなる画像処理部２３（欠陥検出手段）、およびＸ
−Ｙステージ８の制御と画像処理部２３から出力される
欠陥情報の記憶や表示と全体シーケンスの管理を行う計
算機で構成された全体制御部２４からなる。

【００２６】装置の各部は、以下のように動作してパタ
ーン欠陥を検出する。すなわち、全体制御部２４からの
指令により各部のイニシャライズを行った後、Ｘ−Ｙス
テージ８の走査に同期して、照明光源９で照明されたウ
エハ１のパターンを対物レンズ１１を介して一次元イメ
ージセンサ１２で光電変換することにより二次元のパタ
ーンを検出し、Ａ／Ｄ変換器１３でデジタル化した二次
元の検出画像１６とし、得られた検出画像を画像メモリ
部１４に記憶する。検出画像１６と画像メモリ部１４に
記憶しておいた比較画像１７とから、マッチング部１８
でマッチング値を求める。この動作を図６を用いて以下
に説明する。

【００２７】図６はマッチング部１８の動作原理を示し
た図である。検出画像１６と比較画像１７より、比較画
像１７をΔＸ、ΔＹ方向に位置ずれ許容量の±δ画素
（本実施の形態ではδ＝１として説明するが、これは検
出対象の寸法精度と欠陥検出装置の位置決め精度で決ま
る値であり、必要な値を適宜設定するものとする。）だ
けシフトしたときの検出画像１６と比較画像１７との画
像の差を数１式で計算し、各シフト量に対応した画像の
差をマッチング値Ｓ１として出力する。

【００２８】

【数１】Ｓ１(Δｉ,Δｊ)＝ΣΣ|ｆ(ｉ,ｊ)−ｇ(ｉ＋Δ
ｉ,ｊ＋Δｊ)| ここで、ｆ(ｉ,ｊ)は検出画像１６の画素（ｉ,ｊ）にお
ける値、ｇ(ｉ,ｊ)は比較画像１７の画素（ｉ,ｊ）にお
ける値、Ｓ１(Δｉ,Δｊ)は画素シフト量（Δｉ,Δｊ）
における画像の差である。ΣΣは位置ずれを計算する画
像全面における加算、Δｉ，Δｊは図６の場合は−１か
ら１である。

【００２９】演算部１９では、Ｓ１(Δｉ,Δｊ)の最小
値Ｓ_minと、その最小値をとる（Δｉ,Δｊ）の組である
最良位置合わせ位置（Δｉ_m,Δｊ_m）を求める。次に、
数２式を満足する（Δｉ,Δｊ）の組として複数の位置
合わせ候補シフト（Δｉ_s,Δｊ_s)，ｓ＝１，２，…を求
める。

【００３０】

【数２】Ｓ１(Δｉ,Δｊ）＜Ｓ_min×Ｔh ここで、Ｔhはあらかじめ設定しておくしきい値で、２
程度の値をとる。

【００３１】誤差画像抽出部２１では、演算部１９より
の複数の位置合わせ候補シフト（Δｉ_s,Δｊ_s）から、
数３式で誤差画像２０を求める。

【００３２】

【数３】ｈ(ｉ,ｊ)＝Ｍin(ｓ＝１,２,…) {|ｆ(ｉ,ｊ)−ｇ(ｉ＋Δｉ_s,ｊ＋Δｊ_s)|} 欠陥判定部２２では、誤差画像２０を欠陥判定のしきい
値Ｖ_thで二値化して、差の存在する場所の面積、幅、投
影長などの各種特徴量を抽出して欠陥判定を行う。

【００３３】本実施の形態によれば、誤差を持った正常
部パターンと欠陥との識別を容易にできるため、正常部
許容誤差寸法より小さい欠陥を認識することができると
いう効果がある。

【００３４】また、本実施の形態の変形として次のもの
がある。すなわち、第１に、数２式のＳ_min×Ｔhの代り
にＳ_min×Ｓ_min×ＴhなどＳ_minの関数とするものがあ
る。本変形例によれば、自由度を大きくでき、本例の場
合Ｓ_minが小さく一致度の高い場合には基準を低くし、
逆の場合は高くするという画質に合わせたしきい値をと
ることができる。

【００３５】第２に、まず記憶パターンと検出パターン
とを位置合わせした後、位置合わせ範囲より狭い範囲で
複数の位置合わせ候補を求めるようにするものがある。
この場合は、位置合わせ候補シフトを求める範囲が狭い
ので、この部分の回路の規模は小さくなる。また、位置
合わせは一般的に行われており、そのような装置へ最小
限の追加で本発明の方法を導入できる効果がある。

【００３６】第３に、数３式において、最小値を求める
代りに数４式を用いるものがある。すなわち、もし、
｛ｆ(ｉ,ｊ)−ｇ(ｉ＋Δｉ_s,ｊ＋Δｊ_s)｝に符号の違う
ものが存在すれば

【００３７】

【数４】ｈ(ｉ,ｊ)＝Ｍin(ｓ＝１,２,…) {|ｆ(ｉ,ｊ)−ｇ(ｉ＋Δｉ_s,ｊ＋Δｊ_s)|} ＝０この場合、符号が違うものがあるということは、画素以
下の単位でみたときにどこかに０という値があるという
ことで、これを正確に評価できる効果がある。

【００３８】第４に、Ｘ−Ｙステージ８の走査に同期し
て一次元イメージセンサ１２で光電変換することにより
二次元のパターンを検出する代りに、Ｘ−Ｙステージ８
をステップ移動させてＴＶカメラで光電変換することに
より、二次元のパターンを検出するものがある。また
は、一次元イメージセンサ１２の代りに、フォトマルな
どのポイント型センサと走査機構を用いるなど、他の型
のセンサを用いることができる。

【００３９】第５に、検出画像１６と比較画像１７のマ
ッチング値を数１式で計算する代りに、検出画像１６と
比較画像１７にそれぞれフィルタをかけてエッジを抽出
し、そのエッジ画像に対してマッチング値を数１式で計
算するものがある。または、検出画像１６と比較画像１
７にそれぞれフィルタをかけてエッジを二値化し、その
エッジ二値画像に対してマッチング値を数１式で計算す
る。この変形例によれば、エッジを用いているため、検
出画像と比較画像のパターンの明るさの違いなどによる
影響を受けにくい利点がある。

【００４０】次に、本発明の第２の実施の形態を図７に
より説明する。本実施の形態は、本発明の欠陥検出装置
及びその方法をＬＳＩウエハのパターンのずれ量測定に
適用した例であるが、ＴＦＴなどのパターンにも適用で
きることは言うまでもない。図７は、その実施に用いる
ＬＳＩウエハの欠陥検出装置（以下の説明では装置と略
す）の構成図である。装置は、ウエハ１を走査するＸ−
Ｙステージ８（テーブル手段）、ウエハを照明する照明
光源９と照明光学系１０、照明されたウエハの光学像を
検出する対物レンズ１１とＴＶカメラ２５からなる検出
部２Ｂ（画像取得手段）、およびＴＶカメラ２５の信号
をデジタル化して記憶するためのＡ／Ｄ変換器１３と画
像メモリ部１４とからなる画像入力部１５（記憶手
段）、および画像入力部１５に入力された検出画像１６
と画像メモリ部１４からの比較画像１７より、数１式で
表わされるマッチング値を計算するマッチング部１８、
マッチング部１８からのマッチング値より最良位置合わ
せ位置および複数の位置合わせ候補シフトを求める演算
部１９（演算手段）、ずれ量を求めるずれ量抽出部２６
からなる画像処理部２３Ａ（欠陥検出手段）、およびＸ
−Ｙステージ８の制御と画像処理部２３Ａから出力され
るずれ量情報の記憶や表示と全体シーケンスの管理を行
う計算機で構成された全体制御部２４からなる。

【００４１】装置の各部は、以下のように動作してパタ
ーンの位置ずれ量を測定する。すなわち、全体制御部２
４からの指令により各部のイニシャライズを行った後、
Ｘ−Ｙステージ８を位置決めして、照明光源９で照明さ
れたウエハ１のパターンを対物レンズ１１を介してＴＶ
カメラ２５で光電変換することにより二次元のパターン
を検出し、Ａ／Ｄ変換器１３でデジタル化した二次元の
検出画像１６とし、得られた検出画像は画像メモリ部１
４に記憶する。検出画像１６と画像メモリ部１４に記憶
しておいた比較画像１７とから、マッチング部１８でマ
ッチング値を求める。マッチング値を求める動作は、第
１の実施の形態で説明したものと同じであり、前出の数
１式を用いて行う。

【００４２】演算部１９では、第１の実施の形態と同様
に、数１式でのＳ１(Δｉ,Δｊ)の最小値Ｓ_minと、その
最小値をとる（Δｉ,Δｊ）の組である最良位置合わせ
位置（Δｉ_m，Δｊ_m）を求める。次に、前出の数２式を
満足する（Δｉ,Δｊ）の組として複数の位置合わせ候
補シフト（Δｉ_s,Δｊ_s)，ｓ＝１，２，…を求める。

【００４３】ずれ量抽出部２６では、Ｓ１(Δｉ,Δｊ）
の小さい方から順番をつけて出力する。

【００４４】本実施の形態によると、テグなどの情報を
用いないで、重なった位置ずれ量の違う複数のパターン
のずれや変形量などのパターンの性質を認識できるとい
う効果がある。

【００４５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る欠陥
検出装置及びその方法においては、誤差を持った正常部
パターンと欠陥との識別を容易に行うことができ、また
パターンのずれや変形量などのパターンの性質を認識す
ることができるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の欠陥検出装置及びその方法の原理図で
ある。

【図２】一般的なパターン比較方式によるパターン欠陥
検出方法の原理図である。(ａ)は記憶パターン、(ｂ)は
欠陥を有する検出パターン、(ｃ)は(ａ)と(ｂ)との差を
とったパターンを示す。

【図３】パターン例で、(ａ)は許容寸法の誤差を持った
正常部、(ｂ)は欠陥部であり、(ｃ)は(ａ)の差画像、
(ｄ)は(ｂ)の差画像を示す。

【図４】位置合わせ候補のシフト位置での差画像であ
る。

【図５】本発明の第１の実施の形態の構成図である。

【図６】マッチング部を説明するためのシフト位置での
差画像である。

【図７】本発明の第２の実施の形態の構成図である。

【符号の説明】

１…ウエハ２…検出手段２Ａ、２Ｂ…検出部３…記憶手段４…位置合わせ手段５…位置合わせ候補選択手
段６…誤差画像抽出手段７…欠陥認識手段８…Ｘ−Ｙステージ９…照明光源１０…照明光学系１１…対物レンズ１２…一次元イメージセンサ１３…Ａ／Ｄ変換器１４…画像メモリ部１５ …画像入力部１６…検出画像１７…比較画像１８…マッチング部１９…演算部２０…誤差画像２１…誤差画像抽出部２２…欠陥判定部２３、２３Ａ…画像処理部２４…全体制御部２５…ＴＶカメラ２６…ずれ量抽出部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者窪田仁志神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式会社日立製作所生産技術研究所内 (56)参考文献特開昭63−32666（ＪＰ，Ａ) 特開昭61−65444（ＪＰ，Ａ) 特開平３−290843（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/66 G01N 21/956 G06T 7/00

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】試料を載置するテーブルを少なくとも一軸
方向に連続的に移動させる駆動部を備えたテーブル手段
と、該テーブル手段で前記テーブルに載置した試料を前
記一軸方向に連続的に移動させながら前記試料上に形成
されたパターンを撮像して前記パターンの画像を得る画
像取得手段と、該画像取得手段で得た前記試料上に形成
された第１のパターンの画像を記憶する記憶手段と、該
記憶手段に記憶された前記第１のパターンの画像と本来
該第１のパターンと同じ形状になるように前記試料上に
形成された第２のパターンを前記画像取得手段で撮像し
て得た第２のパターンの画像との情報に基づいて前記第
１のパターンの画像と前記第２のパターンの画像との位
置合わせするための相対的なずらし量の範囲を求める演
算手段と、該演算手段で求めて相対的なずらし量の範囲
で前記第１のパターンの画像と前記第２のパターンの画
像とを相対的に順次ずらして両画像の差画像を求め該求
めた差画像から前記パターンの欠陥を検出する欠陥検出
手段とを備えたことを特徴とする欠陥検出装置。
【請求項２】前記画像取得手段は、前記試料上に形成さ
れたパターンの拡大光学像を形成する光学系と、該光学
系で拡大された前記パターンの光学像を検出するイメー
ジセンサとを備えていることを特徴とする請求項１記載
の欠陥検出装置。
【請求項３】本来同一形状である複数のパターンが形成
された基板の前記パターンの欠陥を検出する欠陥検出方
法において、前記複数のパターンのうちの第１のパター
ンを撮像して第１の画像を得、該第１の画像を記憶し、
前記複数のパターンのうちの第２のパターンを撮像して
第２の画像を得、前記第１の画像と前記第２の画像との
ずれ量を求め、該求めたずれ量に基づいて前記第１の画
像と前記第２の画像とのずれを補正し、該ずれを補正し
た前記第１の画像と前記第２の画像とを前記ずれ量より
も狭い範囲で相対的にずらして前記第１の画像と前記第
２の画像との差画像を複数求め、該複数求めた差画像か
ら前記パターンの欠陥を検出することを特徴とする欠陥
検出方法。
【請求項４】前記検出する欠陥が、前記パターンの許容
誤差よりも小さい欠陥を含むことを特徴とする請求項３
に記載の欠陥検出方法。
【請求項５】前記第１のパターンの撮像と前記第２のパ
ターンの撮像とを、前記基板を連続的に移動させながら
行うことを特徴とする請求項３に記載の欠陥検出方法。