JP3168642B2 - 被膜除去方法およびその装置 - Google Patents
被膜除去方法およびその装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は基板の表面に形成され
た不要な被膜を除去する被膜除去方法およびその装置に
関する。
た不要な被膜を除去する被膜除去方法およびその装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】ガラスまたは半導体ウエハなどの基板の
表面にフォトレジスト膜などの被膜を形成する方法とし
て、一般に、回転塗布方法が知られている。この回転塗
布方法は、ターンテーブルに基板を真空吸着などで固定
し、この基板の回転中心に被膜液をノズルで所定量滴下
するとともに、モータなどの駆動手段でターンテーブル
を回転させて基板を回転させることにより、その遠心力
で被膜液を基板の表面に流動させて塗布している。
表面にフォトレジスト膜などの被膜を形成する方法とし
て、一般に、回転塗布方法が知られている。この回転塗
布方法は、ターンテーブルに基板を真空吸着などで固定
し、この基板の回転中心に被膜液をノズルで所定量滴下
するとともに、モータなどの駆動手段でターンテーブル
を回転させて基板を回転させることにより、その遠心力
で被膜液を基板の表面に流動させて塗布している。
【０００３】このような回転塗布方法では、基板の回転
による遠心力で被膜液が基板の表面全体に塗布されるた
め、基板の端部に設けられたアライメントマーク（位置
合わせマーク）や外部接続電極などのような被膜を必要
としない部分にも被膜が施されてしまうとともに、被膜
液の表面張力により基板の縁部に被膜液溜りが盛り上が
って形成されてしまう。このため、従来では、被膜を溶
解する溶解液を拭き取り部材に染み込まさせて、人手に
より不要な被膜および被膜液溜りを拭き取っている。
による遠心力で被膜液が基板の表面全体に塗布されるた
め、基板の端部に設けられたアライメントマーク（位置
合わせマーク）や外部接続電極などのような被膜を必要
としない部分にも被膜が施されてしまうとともに、被膜
液の表面張力により基板の縁部に被膜液溜りが盛り上が
って形成されてしまう。このため、従来では、被膜を溶
解する溶解液を拭き取り部材に染み込まさせて、人手に
より不要な被膜および被膜液溜りを拭き取っている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、溶解液
を染み込ました拭き取り部材を用いて、人手によって不
要な被膜および被膜液溜りを拭き取る被膜除去方法で
は、その作業が非能率的で、生産性が悪く、しかも確実
かつ良好に被膜を除去することが困難であるという問題
がある。この発明は上記事情に鑑みてなされたもので、
その目的とするところは、被膜の除去作業が能率的にで
き、生産性が良く、かつ確実に被膜を除去することので
きる被膜除去方法およびその装置を提供することであ
る。
を染み込ました拭き取り部材を用いて、人手によって不
要な被膜および被膜液溜りを拭き取る被膜除去方法で
は、その作業が非能率的で、生産性が悪く、しかも確実
かつ良好に被膜を除去することが困難であるという問題
がある。この発明は上記事情に鑑みてなされたもので、
その目的とするところは、被膜の除去作業が能率的にで
き、生産性が良く、かつ確実に被膜を除去することので
きる被膜除去方法およびその装置を提供することであ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明の被膜除去方法
は、表面に被膜が形成された基板を低速回転させなが
ら、被膜の所定箇所に溶解液を基板の外側に向けて斜め
に吹き付け、この溶解液で被膜の所定箇所を溶解した
後、前記基板を前記低速回転より高速度で回転させるこ
とにより、この溶解した被膜を基板の高速回転による遠
心力で飛散させることを特徴とする。また、この発明の
被膜除去装置は、表面に被膜が形成された基板を固定し
て回転するターンテーブルと、先端部が基板の外側に向
いて傾斜して配置され、かつ被膜の所定箇所に溶解液を
斜めに吹き付ける溶解液供給ノズルとを備え、上記ター
ンテーブルは、上記基板に上記溶解液供給ノズルから溶
解液を吹き付けるときは所定の低速度で回転し、上記溶
解液の吹き付けにより溶解された被膜を飛散させるとき
は上記低速度回転より高速度で回転することを特徴とす
る。
は、表面に被膜が形成された基板を低速回転させなが
ら、被膜の所定箇所に溶解液を基板の外側に向けて斜め
に吹き付け、この溶解液で被膜の所定箇所を溶解した
後、前記基板を前記低速回転より高速度で回転させるこ
とにより、この溶解した被膜を基板の高速回転による遠
心力で飛散させることを特徴とする。また、この発明の
被膜除去装置は、表面に被膜が形成された基板を固定し
て回転するターンテーブルと、先端部が基板の外側に向
いて傾斜して配置され、かつ被膜の所定箇所に溶解液を
斜めに吹き付ける溶解液供給ノズルとを備え、上記ター
ンテーブルは、上記基板に上記溶解液供給ノズルから溶
解液を吹き付けるときは所定の低速度で回転し、上記溶
解液の吹き付けにより溶解された被膜を飛散させるとき
は上記低速度回転より高速度で回転することを特徴とす
る。
【０００６】
【作用】この発明によれば、ターンテーブルに基板を固
定し、ターンテーブルと共に基板を回転させながら、表
面の被膜の所定個所に基板の外側に向けて傾いた溶解液
供給ノズルにより溶解液を斜めに吹き付け、この溶解液
で被膜の所定個所を溶解し、この溶解した被膜を基板の
回転による遠心力で飛散させることにより、不要な部分
の被膜を除去することができる。
定し、ターンテーブルと共に基板を回転させながら、表
面の被膜の所定個所に基板の外側に向けて傾いた溶解液
供給ノズルにより溶解液を斜めに吹き付け、この溶解液
で被膜の所定個所を溶解し、この溶解した被膜を基板の
回転による遠心力で飛散させることにより、不要な部分
の被膜を除去することができる。
【０００７】
【実施例】以下、図１〜図３を参照して、この発明の第
１実施例を説明する。図１はこの発明の被膜除去方法に
適した被膜除去装置の概略構成図を示している。この図
において、１はターンテーブルである。このターンテー
ブル１は、下面中央が図示しないモータなどの駆動源に
よって回転する回転軸２の上端に水平に取り付けられて
おり、外周部および底部がカップ状のカバー部材３によ
り囲われている。ターンテーブル１の上面には、基板４
が真空吸着により固定されるようになっている。基板４
はガラスや半導体ウエハなどであり、その上面全体には
被膜５が設けられている。ターンテーブル１の端部側に
おける上方には、基板４の端部付近の被膜５に溶解液容
器６内の溶解液７を吹き付ける溶解液供給ノズル８がそ
の先端部を基板４の外側に向けて４０°〜５０°程度の
角度傾いて配置されている。溶解液７は、被膜５を溶解
する有機溶剤であり、溶解液容器６内に収容されてお
り、溶解液容器６内にチューブ９から空気、窒素、ヘリ
ウムなどの加圧ガスが送り込まれて加圧されると、チュ
ーブ１０を介して溶解液供給ノズル８に送り出されるよ
うになっている。
１実施例を説明する。図１はこの発明の被膜除去方法に
適した被膜除去装置の概略構成図を示している。この図
において、１はターンテーブルである。このターンテー
ブル１は、下面中央が図示しないモータなどの駆動源に
よって回転する回転軸２の上端に水平に取り付けられて
おり、外周部および底部がカップ状のカバー部材３によ
り囲われている。ターンテーブル１の上面には、基板４
が真空吸着により固定されるようになっている。基板４
はガラスや半導体ウエハなどであり、その上面全体には
被膜５が設けられている。ターンテーブル１の端部側に
おける上方には、基板４の端部付近の被膜５に溶解液容
器６内の溶解液７を吹き付ける溶解液供給ノズル８がそ
の先端部を基板４の外側に向けて４０°〜５０°程度の
角度傾いて配置されている。溶解液７は、被膜５を溶解
する有機溶剤であり、溶解液容器６内に収容されてお
り、溶解液容器６内にチューブ９から空気、窒素、ヘリ
ウムなどの加圧ガスが送り込まれて加圧されると、チュ
ーブ１０を介して溶解液供給ノズル８に送り出されるよ
うになっている。
【０００８】つぎに、このような被膜除去装置を用いた
被膜除去方法について説明する。まず、ターンテーブル
１の上面に基板４を配置して真空吸着により固定する。
次いで、ターンテーブル１を停止させた状態または低速
回転（例えば、２００〜５００ｒｐｍ）の状態にして、
溶解液容器６内にチューブ９から加圧ガスを送り込んで
溶解液容器６内を加圧する。すると、溶解液容器６内の
溶解液７がチューブ１０を介して溶解液供給ノズル８に
送られ、この溶解液供給ノズル８から溶解液７が基板４
の外側に向けて斜めに基板４の周辺部の被膜５に吹き付
けられ、この溶解液７により基板４の縁部に設けられた
被膜５が溶解される。この状態で、ターンテーブル１を
高速回転（例えば、１５００〜２５００ｒｐｍ）させる
と、溶解された被膜５が基板４の高速回転による遠心力
により飛散して除去されることになる。なお、このとき
には、基板４からの飛散材がカップ状のカバー部材３に
より受け止めるられるので、その周辺部における装置が
汚れることはない。このような被膜除去方法では、例え
ば、基板４が図２に示すように円形状に形成されている
場合には、その周辺部に設けられた被膜５が円形状に除
去されることになり、また基板４が図３に示すように四
角形状に形成されている場合には、その周辺部に設けら
れた被膜５のうち、４隅に設けられた被膜５のみが除去
されることになる。なお、溶解液供給ノズル８の先端部
の位置および溶解液供給ノズル８の傾きを調節すること
により、基板４の周辺部の被膜５の除去範囲を適宜変え
ることがができる。
被膜除去方法について説明する。まず、ターンテーブル
１の上面に基板４を配置して真空吸着により固定する。
次いで、ターンテーブル１を停止させた状態または低速
回転（例えば、２００〜５００ｒｐｍ）の状態にして、
溶解液容器６内にチューブ９から加圧ガスを送り込んで
溶解液容器６内を加圧する。すると、溶解液容器６内の
溶解液７がチューブ１０を介して溶解液供給ノズル８に
送られ、この溶解液供給ノズル８から溶解液７が基板４
の外側に向けて斜めに基板４の周辺部の被膜５に吹き付
けられ、この溶解液７により基板４の縁部に設けられた
被膜５が溶解される。この状態で、ターンテーブル１を
高速回転（例えば、１５００〜２５００ｒｐｍ）させる
と、溶解された被膜５が基板４の高速回転による遠心力
により飛散して除去されることになる。なお、このとき
には、基板４からの飛散材がカップ状のカバー部材３に
より受け止めるられるので、その周辺部における装置が
汚れることはない。このような被膜除去方法では、例え
ば、基板４が図２に示すように円形状に形成されている
場合には、その周辺部に設けられた被膜５が円形状に除
去されることになり、また基板４が図３に示すように四
角形状に形成されている場合には、その周辺部に設けら
れた被膜５のうち、４隅に設けられた被膜５のみが除去
されることになる。なお、溶解液供給ノズル８の先端部
の位置および溶解液供給ノズル８の傾きを調節すること
により、基板４の周辺部の被膜５の除去範囲を適宜変え
ることがができる。
【０００９】このように、この第１実施例では、被膜５
が基板４の上面全体に設けられていることにより、例え
ば基板４の端部に設けられたアライメントマークや外部
接続電極などのような被膜を必要としない部分に被膜５
が形成されていたり、あるいは基板４の端部に被膜液溜
りが盛り上がって形成されていたりしても、不要な部分
の被膜５および被膜液溜りに溶解液７を溶解液供給ノズ
ル１３により吹き付けて溶解し、この溶解した被膜５を
基板４の高速回転による遠心力で飛散させることによ
り、不要な被膜５を除去することができる。このため、
従来のように溶解液７を染み込ました拭き取り部材を用
いて、人手により不要な部分の被膜５および被膜液溜り
を拭き取る必要がないため、被膜５の除去作業が能率的
にでき、生産性が良く、しかも確実かつ良好に被膜５を
除去することができる。
が基板４の上面全体に設けられていることにより、例え
ば基板４の端部に設けられたアライメントマークや外部
接続電極などのような被膜を必要としない部分に被膜５
が形成されていたり、あるいは基板４の端部に被膜液溜
りが盛り上がって形成されていたりしても、不要な部分
の被膜５および被膜液溜りに溶解液７を溶解液供給ノズ
ル１３により吹き付けて溶解し、この溶解した被膜５を
基板４の高速回転による遠心力で飛散させることによ
り、不要な被膜５を除去することができる。このため、
従来のように溶解液７を染み込ました拭き取り部材を用
いて、人手により不要な部分の被膜５および被膜液溜り
を拭き取る必要がないため、被膜５の除去作業が能率的
にでき、生産性が良く、しかも確実かつ良好に被膜５を
除去することができる。
【００１０】つぎに、図４を参照して、この発明の第２
実施例を説明する。図４は上述した被膜除去装置と回転
塗布装置とを組み合わせた装置の概略構成図を示してい
る。なお、ここでは、図１と同一部分には同一符号を付
し、その説明を適宜省略する。回転軸２の上端に水平に
取り付けられたターンテーブル１の上面には、基板４が
真空吸着により固定されるようになっている。ターンテ
ーブル１の回転中心と対応する上方には、被膜液容器２
０内の被膜液２１を基板４の回転中心上に滴下する被膜
液供給ノズル２２が配置されている。被膜液２１は、ポ
リイミド、酸化シリコンなどの絶縁材またはフォトレジ
ストなどであり、被膜液容器２０内に収容されており、
被膜液容器２０内にチューブ２３から空気、窒素、ヘリ
ウムなどの加圧ガスが送り込まれて加圧されると、チュ
ーブ２４を介して被膜液供給ノズル２２に送り出され
る。また、このターンテーブル１の端部側における上方
には、第１実施例と同様に、溶解液容器６内の溶解液７
を基板４の端部付近に設けられた被膜５に吹き付ける溶
解液供給ノズル８がその先端部を基板４の外側に向けて
４０°〜５０°程度の角度傾いて配置されている。この
場合の溶解液７は、被膜５を溶解するアルコール類やア
セトンなどの有機溶剤である。
実施例を説明する。図４は上述した被膜除去装置と回転
塗布装置とを組み合わせた装置の概略構成図を示してい
る。なお、ここでは、図１と同一部分には同一符号を付
し、その説明を適宜省略する。回転軸２の上端に水平に
取り付けられたターンテーブル１の上面には、基板４が
真空吸着により固定されるようになっている。ターンテ
ーブル１の回転中心と対応する上方には、被膜液容器２
０内の被膜液２１を基板４の回転中心上に滴下する被膜
液供給ノズル２２が配置されている。被膜液２１は、ポ
リイミド、酸化シリコンなどの絶縁材またはフォトレジ
ストなどであり、被膜液容器２０内に収容されており、
被膜液容器２０内にチューブ２３から空気、窒素、ヘリ
ウムなどの加圧ガスが送り込まれて加圧されると、チュ
ーブ２４を介して被膜液供給ノズル２２に送り出され
る。また、このターンテーブル１の端部側における上方
には、第１実施例と同様に、溶解液容器６内の溶解液７
を基板４の端部付近に設けられた被膜５に吹き付ける溶
解液供給ノズル８がその先端部を基板４の外側に向けて
４０°〜５０°程度の角度傾いて配置されている。この
場合の溶解液７は、被膜５を溶解するアルコール類やア
セトンなどの有機溶剤である。
【００１１】つぎに、上述した装置を用いて、基板４に
被膜５を形成し、不要な部分の被膜５を除去する方法に
ついて説明する。まず、ターンテーブル１の上面に基板
４を配置して真空吸着により固定し、このターンテーブ
ル１を停止させた状態または低速回転（例えば、２００
〜５００ｒｐｍ）の状態にして、被膜液容器２０内にチ
ューブ２３から加圧ガスを送り込んで被膜液容器２０内
を加圧する。すると、被膜液容器２０内の被膜液２１が
チューブ２４を介して被膜液供給ノズル２２から基板４
の回転中心上に滴下される。このようにして、被膜液２
１が所定量滴下した後は、ターンテーブル１を高速回転
（例えば、１５００〜２５００ｒｐｍ）の状態にする。
すると、基板４上に滴下した被膜液２１は基板４の回転
に伴う遠心力により基板４の上面を流動して基板４の上
面全体に塗布されることになる。この後、ターンテーブ
ル１を低速回転に落して、第１実施例と同様に、溶解液
容器６内にチューブ９から加圧ガスを送り込んで溶解液
容器１１内を加圧し、溶解液容器６内の溶解液７をチュ
ーブ１０を介して溶解液供給ノズル２２から基板４の縁
部に吹き付けるとともに、ターンテーブル１を高速回転
させる。すると、溶解液供給ノズル２２から噴射された
溶解液２１により、基板４の縁部の被膜液２１が溶解さ
れて、基板４の高速回転による遠心力により飛散して除
去されることになる。
被膜５を形成し、不要な部分の被膜５を除去する方法に
ついて説明する。まず、ターンテーブル１の上面に基板
４を配置して真空吸着により固定し、このターンテーブ
ル１を停止させた状態または低速回転（例えば、２００
〜５００ｒｐｍ）の状態にして、被膜液容器２０内にチ
ューブ２３から加圧ガスを送り込んで被膜液容器２０内
を加圧する。すると、被膜液容器２０内の被膜液２１が
チューブ２４を介して被膜液供給ノズル２２から基板４
の回転中心上に滴下される。このようにして、被膜液２
１が所定量滴下した後は、ターンテーブル１を高速回転
（例えば、１５００〜２５００ｒｐｍ）の状態にする。
すると、基板４上に滴下した被膜液２１は基板４の回転
に伴う遠心力により基板４の上面を流動して基板４の上
面全体に塗布されることになる。この後、ターンテーブ
ル１を低速回転に落して、第１実施例と同様に、溶解液
容器６内にチューブ９から加圧ガスを送り込んで溶解液
容器１１内を加圧し、溶解液容器６内の溶解液７をチュ
ーブ１０を介して溶解液供給ノズル２２から基板４の縁
部に吹き付けるとともに、ターンテーブル１を高速回転
させる。すると、溶解液供給ノズル２２から噴射された
溶解液２１により、基板４の縁部の被膜液２１が溶解さ
れて、基板４の高速回転による遠心力により飛散して除
去されることになる。
【００１２】このように、この第２実施例では、被膜除
去装置と回転塗布装置とを組み合わせたので、被膜液供
給ノズル２２により被膜液２１を基板４上に滴下して基
板４を高速回転させることにより、基板４の上面全体に
被膜液２１を塗布することができるとともに、基板４の
上面全体に塗布された被膜液２１のうち、例えば基板４
の端部に設けられたアライメントマークや外部接続電極
などのような被膜を必要としない部分に塗布された被膜
液２１、および基板４の端部に盛り上がって形成された
被膜液溜りなどを溶解液供給ノズル８から噴射された溶
解液７で溶解して除去することができる。特に、基板４
に被膜液２１を塗布した後、基板４を移動させることな
く、ターンテーブル１上に固定したままの状態で、基板
４に塗布された不要な部分の被膜液２１を連続して除去
することができるので、被膜の形成作業および除去作業
を極めて能率的に行うことができる。
去装置と回転塗布装置とを組み合わせたので、被膜液供
給ノズル２２により被膜液２１を基板４上に滴下して基
板４を高速回転させることにより、基板４の上面全体に
被膜液２１を塗布することができるとともに、基板４の
上面全体に塗布された被膜液２１のうち、例えば基板４
の端部に設けられたアライメントマークや外部接続電極
などのような被膜を必要としない部分に塗布された被膜
液２１、および基板４の端部に盛り上がって形成された
被膜液溜りなどを溶解液供給ノズル８から噴射された溶
解液７で溶解して除去することができる。特に、基板４
に被膜液２１を塗布した後、基板４を移動させることな
く、ターンテーブル１上に固定したままの状態で、基板
４に塗布された不要な部分の被膜液２１を連続して除去
することができるので、被膜の形成作業および除去作業
を極めて能率的に行うことができる。
【００１３】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、ターンテーブルに基板を固定し、ターンテーブルと
共に基板を低速回転させながら、表面の被膜の所定箇所
に基板の外側に向けて傾いた溶解液供給ノズルにより溶
解液を斜めに吹き付け、この溶解液で被膜の所定箇所を
溶解した後、上記基板を上記低速回転より高速度で回転
させることにより、この溶解した被膜を基板の高速回転
による遠心力で飛散させ、不要な部分の被膜を除去する
ようにしたので、従来のように溶解液を染み込ました拭
き取り部材を用いて、人手により不要な部分の被膜およ
び被膜液溜りを拭き取る必要がないため、被膜の除去作
業が能率的にでき、生産性が良く、かつ確実に被膜を除
去することができる。
ば、ターンテーブルに基板を固定し、ターンテーブルと
共に基板を低速回転させながら、表面の被膜の所定箇所
に基板の外側に向けて傾いた溶解液供給ノズルにより溶
解液を斜めに吹き付け、この溶解液で被膜の所定箇所を
溶解した後、上記基板を上記低速回転より高速度で回転
させることにより、この溶解した被膜を基板の高速回転
による遠心力で飛散させ、不要な部分の被膜を除去する
ようにしたので、従来のように溶解液を染み込ました拭
き取り部材を用いて、人手により不要な部分の被膜およ
び被膜液溜りを拭き取る必要がないため、被膜の除去作
業が能率的にでき、生産性が良く、かつ確実に被膜を除
去することができる。
【図１】この発明の被膜除去方法に適した第１実施例の
概略構成図。
概略構成図。
【図２】円形状の基板の周辺部の被膜を除去した状態を
示す平面図。
示す平面図。
【図３】四角形状の基板の縁部の被膜を除去した状態を
示す平面図。
示す平面図。
【図４】この発明の被膜除去装置と回転塗布装置とを組
み合わせた第２実施例の概略構成図。
み合わせた第２実施例の概略構成図。
１ ターンテーブル ４ 基板 ５ 被膜 ７ 溶解液 ８ 溶解液供給ノズル ２１ 被膜液
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−296341（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−289250（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−272454（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−96319（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−130716（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−13322（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−124887（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−96224（ＪＰ，Ａ) 実開 平４−202227（ＪＰ，Ｕ) 実開 平４−111729（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027
Claims (2)
- 【請求項１】表面に被膜が形成された基板を低速回転さ
せながら、前記被膜の所定箇所に溶解液を前記基板の外
側に向けて斜めに吹き付け、この溶解液で前記被膜の所
定箇所を溶解した後、前記基板を前記低速回転より高速
度で回転させることにより、この溶解した被膜を前記基
板の高速回転による遠心力で飛散させることを特徴とす
る被膜除去方法。 - 【請求項２】表面に被膜が形成された基板を固定して回
転するターンテーブルと、 先端部が前記基板の外側に向いて傾斜して配置され、か
つ前記被膜の所定箇所に溶解液を斜めに吹き付ける溶解
液供給ノズルと、を備え、 前記ターンテーブルは、前記基板に前記溶解液供給ノズ
ルから溶解液を吹き付けるときは所定の低速度で回転
し、前記溶解液の吹き付けにより溶解された被膜を飛散
させるときは前記低速度回転より高速度で回転する こと
を特徴とする被膜除去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30711691A JP3168642B2 (ja) | 1991-10-28 | 1991-10-28 | 被膜除去方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30711691A JP3168642B2 (ja) | 1991-10-28 | 1991-10-28 | 被膜除去方法およびその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05121307A JPH05121307A (ja) | 1993-05-18 |
| JP3168642B2 true JP3168642B2 (ja) | 2001-05-21 |
Family
ID=17965224
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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