JP3471547B2 - 現像装置および現像方法 - Google Patents
現像装置および現像方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板上の感光性膜
に現像液を供給して現像処理を行う現像装置に関する。
に現像液を供給して現像処理を行う現像装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の
基板上に形成された感光性膜に現像処理を行うために現
像装置が用いられる。
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の
基板上に形成された感光性膜に現像処理を行うために現
像装置が用いられる。
【０００３】例えば、回転式現像装置は、基板を水平に
保持して鉛直軸の周りで回転させる回転保持部と、基板
の表面に現像液を供給する現像液吐出ノズルとを備え
る。現像液吐出ノズルは、水平面内で回動自在に設けら
れたノズルアームの先端に取り付けられており、基板の
上方位置と待機位置との間を移動することができる。
保持して鉛直軸の周りで回転させる回転保持部と、基板
の表面に現像液を供給する現像液吐出ノズルとを備え
る。現像液吐出ノズルは、水平面内で回動自在に設けら
れたノズルアームの先端に取り付けられており、基板の
上方位置と待機位置との間を移動することができる。
【０００４】現像処理時には、現像液吐出ノズルが待機
位置から基板の上方に移動した後、基板上の感光性膜に
現像液を供給する。供給された現像液は、基板の回転に
よって基板の全面に塗り広げられ、感光性膜と接触す
る。表面張力により基板上に現像液を保持した状態（液
盛り）で一定時間基板を静止させることにより感光性膜
の現像が行われる。現像液の供給が終了すると、現像液
吐出ノズルはノズルアームの回動により基板の上方から
退いた待機位置に移動する。
位置から基板の上方に移動した後、基板上の感光性膜に
現像液を供給する。供給された現像液は、基板の回転に
よって基板の全面に塗り広げられ、感光性膜と接触す
る。表面張力により基板上に現像液を保持した状態（液
盛り）で一定時間基板を静止させることにより感光性膜
の現像が行われる。現像液の供給が終了すると、現像液
吐出ノズルはノズルアームの回動により基板の上方から
退いた待機位置に移動する。
【０００５】現像液吐出ノズルの吐出口付近の現像液が
大気に晒されると、現像液中の水分が蒸発して現像液の
濃度の変化や空気と接触することで変質が起こる。その
ため、現像処理を行う前に、予め待機位置で現像液吐出
ノズルの吐出口付近の現像液を吐出することにより（プ
リディスペンス処理）、現像液吐出ノズル内に供給され
ている現像液を均一化させている。
大気に晒されると、現像液中の水分が蒸発して現像液の
濃度の変化や空気と接触することで変質が起こる。その
ため、現像処理を行う前に、予め待機位置で現像液吐出
ノズルの吐出口付近の現像液を吐出することにより（プ
リディスペンス処理）、現像液吐出ノズル内に供給され
ている現像液を均一化させている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来の回転式現像装置では、回転する基板に吐出開始時
の現像液が当たることにより基板上の感光性膜が大きな
衝撃を受ける。その衝撃で現像液中に気泡が生じ、感光
性膜の表面に残留する微小な気泡が現像欠陥となる場合
がある。また、吐出開始時の現像液による衝撃で感光性
膜が損傷するおそれもある。
従来の回転式現像装置では、回転する基板に吐出開始時
の現像液が当たることにより基板上の感光性膜が大きな
衝撃を受ける。その衝撃で現像液中に気泡が生じ、感光
性膜の表面に残留する微小な気泡が現像欠陥となる場合
がある。また、吐出開始時の現像液による衝撃で感光性
膜が損傷するおそれもある。
【０００７】また、プリディスペンス処理の後、現像液
吐出ノズルが待機位置から基板の上方へ移動する間に、
現像液吐出ノズルの吐出口付近の現像液が空気と接触す
ることになる。そのため、吐出開始直後に基板上に供給
される現像液は、その後連続的に供給される現像液に比
べて多少変質している可能性がある。それにより、吐出
開始直後の現像液が接触する基板上に現像欠陥が発生す
るおそれがある。また、現像液が空気との接触により乾
燥し、乾燥した現像液がパーティクルとなって基板上に
付着するおそれもある。
吐出ノズルが待機位置から基板の上方へ移動する間に、
現像液吐出ノズルの吐出口付近の現像液が空気と接触す
ることになる。そのため、吐出開始直後に基板上に供給
される現像液は、その後連続的に供給される現像液に比
べて多少変質している可能性がある。それにより、吐出
開始直後の現像液が接触する基板上に現像欠陥が発生す
るおそれがある。また、現像液が空気との接触により乾
燥し、乾燥した現像液がパーティクルとなって基板上に
付着するおそれもある。
【０００８】さらに、基板上に滴下された現像液が遠心
力により基板の全面に塗り広げられる過程で現像液にむ
らが生じるため、基板上の現像液が均一になるまで多量
の現像液を供給する必要がある。
力により基板の全面に塗り広げられる過程で現像液にむ
らが生じるため、基板上の現像液が均一になるまで多量
の現像液を供給する必要がある。
【０００９】本発明の目的は、基板上の感光性膜に少量
の現像液で均一な現像処理を行うことができる現像装置
を提供することである。
の現像液で均一な現像処理を行うことができる現像装置
を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る現像装置においては、基板を水平姿勢で保持
する基板保持手段と、現像液を吐出するためのスリット
状吐出口を有する現像液吐出ノズルと、基板保持手段に
静止状態で保持された基板外の一方側の移動開始位置か
ら基板上を通過して基板外の他方側の停止位置まで現像
液吐出ノズルを移動させる移動手段と、現像液吐出ノズ
ルの移動開始後、現像液吐出ノズルが基板保持手段に保
持された基板の一方側の端縁に到達するまでにスリット
状吐出口から現像液が帯状に垂下するように現像液吐出
ノズルによる現像液の吐出を開始させる制御手段とを備
えたものである。
発明に係る現像装置においては、基板を水平姿勢で保持
する基板保持手段と、現像液を吐出するためのスリット
状吐出口を有する現像液吐出ノズルと、基板保持手段に
静止状態で保持された基板外の一方側の移動開始位置か
ら基板上を通過して基板外の他方側の停止位置まで現像
液吐出ノズルを移動させる移動手段と、現像液吐出ノズ
ルの移動開始後、現像液吐出ノズルが基板保持手段に保
持された基板の一方側の端縁に到達するまでにスリット
状吐出口から現像液が帯状に垂下するように現像液吐出
ノズルによる現像液の吐出を開始させる制御手段とを備
えたものである。
【００１１】第１の発明に係る現像装置においては、現
像液吐出ノズルの移動開始後、現像液吐出ノズルが基板
保持手段に保持された基板の一方側の端縁に到達するま
でにスリット状吐出口から現像液が帯状に垂下するよう
に現像液の吐出が開始される。そのため、吐出開始時の
現像液が基板に衝撃を与えることが回避される。それに
より、現像液中の気泡の発生が抑制されて現像欠陥の発
生が防止されるとともに、衝撃による基板上の感光性膜
の損傷が防止される。また、現像液吐出ノズルが基板の
一方側の端縁に到達するまでにスリット状吐出口に連続
的な帯状の現像液が形成されるので、現像液吐出ノズル
が基板上に到達した時点で基板上に現像液がむらなく供
給される。
像液吐出ノズルの移動開始後、現像液吐出ノズルが基板
保持手段に保持された基板の一方側の端縁に到達するま
でにスリット状吐出口から現像液が帯状に垂下するよう
に現像液の吐出が開始される。そのため、吐出開始時の
現像液が基板に衝撃を与えることが回避される。それに
より、現像液中の気泡の発生が抑制されて現像欠陥の発
生が防止されるとともに、衝撃による基板上の感光性膜
の損傷が防止される。また、現像液吐出ノズルが基板の
一方側の端縁に到達するまでにスリット状吐出口に連続
的な帯状の現像液が形成されるので、現像液吐出ノズル
が基板上に到達した時点で基板上に現像液がむらなく供
給される。
【００１２】また、現像液吐出ノズルの移動中に空気に
接触する吐出口付近の現像液が基板外に廃棄され、現像
液吐出ノズルが基板上に到達した時点で現像液吐出ノズ
ルから新しい現像液が静止した基板上に供給される。そ
れにより、変質した現像液により現像欠陥が発生するこ
とが防止されるとともに、乾燥した現像液によるパーテ
ィクルが基板表面に付着することが防止される。
接触する吐出口付近の現像液が基板外に廃棄され、現像
液吐出ノズルが基板上に到達した時点で現像液吐出ノズ
ルから新しい現像液が静止した基板上に供給される。そ
れにより、変質した現像液により現像欠陥が発生するこ
とが防止されるとともに、乾燥した現像液によるパーテ
ィクルが基板表面に付着することが防止される。
【００１３】さらに、現像液吐出ノズルが基板上を通過
する間、新しい現像液が連続的に供給されるので、基板
上に現像液が均一に供給される。
する間、新しい現像液が連続的に供給されるので、基板
上に現像液が均一に供給される。
【００１４】しかも、現像液吐出ノズルの移動開始後で
かつ基板上への到達前に現像液の吐出が開始されるの
で、現像液の無駄な消費量が少なくなり、少量の現像液
で基板上の感光性膜に均一な現像処理が行われる。
かつ基板上への到達前に現像液の吐出が開始されるの
で、現像液の無駄な消費量が少なくなり、少量の現像液
で基板上の感光性膜に均一な現像処理が行われる。
【００１５】第２の発明に係る現像装置は、第１の発明
に係る現像装置の構成において、現像液吐出ノズルが基
板保持手段に保持された基板上を通過した後に基板の上
記他方側の端縁と停止位置との間で制御手段が、現像液
吐出ノズルによる現像液の吐出を停止させるものであ
る。
に係る現像装置の構成において、現像液吐出ノズルが基
板保持手段に保持された基板上を通過した後に基板の上
記他方側の端縁と停止位置との間で制御手段が、現像液
吐出ノズルによる現像液の吐出を停止させるものであ
る。
【００１６】この場合、現像液吐出ノズルが基板上を通
り過ぎた後に現像液の吐出が停止されるので、吐出停止
時の現像液の液だれにより基板表面に衝撃が加わること
が防止されるとともに、吐出停止時の衝撃により液盛り
中の現像液へ悪影響が与えられることが防止される。そ
れにより、現像欠陥の発生および現像後の感光性膜パタ
ーンの線幅均一性の劣化が防止される。
り過ぎた後に現像液の吐出が停止されるので、吐出停止
時の現像液の液だれにより基板表面に衝撃が加わること
が防止されるとともに、吐出停止時の衝撃により液盛り
中の現像液へ悪影響が与えられることが防止される。そ
れにより、現像欠陥の発生および現像後の感光性膜パタ
ーンの線幅均一性の劣化が防止される。
【００１７】第３の発明に係る現像装置は、第１または
第２の発明に係る現像装置の構成において、現像液吐出
ノズルによる現像液の吐出方向が鉛直下向きから現像液
吐出ノズルの移動方向と反対方向に傾けられたものであ
る。
第２の発明に係る現像装置の構成において、現像液吐出
ノズルによる現像液の吐出方向が鉛直下向きから現像液
吐出ノズルの移動方向と反対方向に傾けられたものであ
る。
【００１８】この場合、基板表面において現像液吐出ノ
ズルの移動方向への現像液の流動が抑制されるととも
に、移動方向とは逆方向への現像液の流動が誘起され
る。移動方向への現像液の流動が抑制されることによ
り、現像液が現像液吐出ノズルよりも移動方向側へ先行
して流れることが防止され、現像液の均一性が向上す
る。また、移動方向とは逆方向への現像液の流動が誘起
されることにより、マイクロバブルと呼ばれる現像液中
の微小な泡が基板表面に付着することが防止され、微小
な泡の付着による現像欠陥の発生が抑制される。
ズルの移動方向への現像液の流動が抑制されるととも
に、移動方向とは逆方向への現像液の流動が誘起され
る。移動方向への現像液の流動が抑制されることによ
り、現像液が現像液吐出ノズルよりも移動方向側へ先行
して流れることが防止され、現像液の均一性が向上す
る。また、移動方向とは逆方向への現像液の流動が誘起
されることにより、マイクロバブルと呼ばれる現像液中
の微小な泡が基板表面に付着することが防止され、微小
な泡の付着による現像欠陥の発生が抑制される。
【００１９】第４の発明に係る現像装置は、第１、第２
または第３の発明に係る現像装置の構成において、スリ
ット状吐出口は水平方向に配置され、移動手段が、現像
液吐出ノズルをスリット状吐出口とほぼ垂直な方向に直
線状に移動させるものである。
または第３の発明に係る現像装置の構成において、スリ
ット状吐出口は水平方向に配置され、移動手段が、現像
液吐出ノズルをスリット状吐出口とほぼ垂直な方向に直
線状に移動させるものである。
【００２０】この場合、現像液吐出ノズルのスリット状
吐出口が基板上を直線状に走査されるので、現像液が基
板上の広い面積に均一に供給される。
吐出口が基板上を直線状に走査されるので、現像液が基
板上の広い面積に均一に供給される。
【００２１】第５の発明に係る現像装置は、第４の発明
に係る現像装置の構成において、現像液吐出ノズルが、
基板保持手段に保持された基板の上面とスリット状吐出
口との間を５ｍｍ以下の一定の距離に保ちながら基板上
を通過するものである。
に係る現像装置の構成において、現像液吐出ノズルが、
基板保持手段に保持された基板の上面とスリット状吐出
口との間を５ｍｍ以下の一定の距離に保ちながら基板上
を通過するものである。
【００２２】この場合、現像液吐出ノズルが静止した基
板上をスリット状吐出口と基板の上面とが近接した状態
で水平方向に移動する。それにより、スリット状吐出口
に形成された帯状の現像液が基板表面に連続的に接触す
ることになり、基板表面に衝撃が加わることなく基板の
全面に現像液が均一に供給される。
板上をスリット状吐出口と基板の上面とが近接した状態
で水平方向に移動する。それにより、スリット状吐出口
に形成された帯状の現像液が基板表面に連続的に接触す
ることになり、基板表面に衝撃が加わることなく基板の
全面に現像液が均一に供給される。
【００２３】第６の発明に係る現像装置は、第４または
第５の発明に係る現像装置の構成において、現像液吐出
ノズルのスリット状吐出口の長さが、基板保持手段に保
持される基板の直径以上に設定されたものである。
第５の発明に係る現像装置の構成において、現像液吐出
ノズルのスリット状吐出口の長さが、基板保持手段に保
持される基板の直径以上に設定されたものである。
【００２４】この場合、現像液吐出ノズルが基板の一端
部から他端部へ移動することにより、スリット状吐出口
から帯状に垂下した現像液が基板の全面に連続的に接触
する。したがって、現像液吐出ノズルの１回の走査によ
り基板の全面に現像液が均一に供給され、基板上の感光
性膜に少量の現像液により均一な現像処理が行われる。
部から他端部へ移動することにより、スリット状吐出口
から帯状に垂下した現像液が基板の全面に連続的に接触
する。したがって、現像液吐出ノズルの１回の走査によ
り基板の全面に現像液が均一に供給され、基板上の感光
性膜に少量の現像液により均一な現像処理が行われる。
【００２５】
【００２６】
【００２７】第７の発明に係る現像方法は、基板保持手
段に保持された基板上にスリット状吐出口を有する現像
液吐出ノズルから現像液を吐出供給するようにした現像
方法であって、静止状態の基板の一方端外から現像液吐
出ノズルの移動を開始する工程と、移動開始後、基板の
一方端に到達する前にスリット状吐出口から現像液が帯
状に垂下するように現像液吐出ノズルから現像液の吐出
を開始する工程とを備えたものである。
段に保持された基板上にスリット状吐出口を有する現像
液吐出ノズルから現像液を吐出供給するようにした現像
方法であって、静止状態の基板の一方端外から現像液吐
出ノズルの移動を開始する工程と、移動開始後、基板の
一方端に到達する前にスリット状吐出口から現像液が帯
状に垂下するように現像液吐出ノズルから現像液の吐出
を開始する工程とを備えたものである。
【００２８】第７の発明に係る現像方法においては、現
像液吐出ノズルの移動開始後、スリット状吐出口から現
像液が帯状に垂下するように現像液の吐出が開始され
る。そのため、吐出開始時の現像液が基板に衝撃を与え
ることが回避される。それにより、現像液中の気泡の発
生が抑制されるとともに、衝撃による基板上の感光性膜
の損傷が防止される。また、現像液吐出ノズルが基板の
一方側の端縁に到達するまでにスリット状吐出口に連続
的な帯状の現像液が形成されるので、現像液吐出ノズル
が基板上に到達した時点で基板上に現像液がむらなく供
給される。
像液吐出ノズルの移動開始後、スリット状吐出口から現
像液が帯状に垂下するように現像液の吐出が開始され
る。そのため、吐出開始時の現像液が基板に衝撃を与え
ることが回避される。それにより、現像液中の気泡の発
生が抑制されるとともに、衝撃による基板上の感光性膜
の損傷が防止される。また、現像液吐出ノズルが基板の
一方側の端縁に到達するまでにスリット状吐出口に連続
的な帯状の現像液が形成されるので、現像液吐出ノズル
が基板上に到達した時点で基板上に現像液がむらなく供
給される。
【００２９】
【発明の実施の形態】図１は本発明の一実施例における
現像装置の平面図、図２は図１の現像装置の主要部のＸ
−Ｘ線断面図、図３は図１の現像装置の主要部のＹ−Ｙ
線断面図である。
現像装置の平面図、図２は図１の現像装置の主要部のＸ
−Ｘ線断面図、図３は図１の現像装置の主要部のＹ−Ｙ
線断面図である。
【００３０】図２および図３に示すように、現像装置
は、基板１００を水平姿勢で吸引保持する基板保持部１
を備える。基板保持部１は、モータ２の回転軸３の先端
部に固定され、鉛直方向の軸の周りで回転可能に構成さ
れている。基板保持部１の周囲には、基板１００を取り
囲むように円形の内側カップ４が上下動自在に設けられ
ている。また、内側カップ４の周囲には、正方形の外側
カップ５が設けられている。
は、基板１００を水平姿勢で吸引保持する基板保持部１
を備える。基板保持部１は、モータ２の回転軸３の先端
部に固定され、鉛直方向の軸の周りで回転可能に構成さ
れている。基板保持部１の周囲には、基板１００を取り
囲むように円形の内側カップ４が上下動自在に設けられ
ている。また、内側カップ４の周囲には、正方形の外側
カップ５が設けられている。
【００３１】図１に示すように、外側カップ５の両側に
はそれぞれ待機ポット６，７が配置され、外側カップ５
の一方の側部側にはガイドレール８が配設されている。
また、ノズルアーム９がアーム駆動部１０によりガイド
レール８に沿って走査方向Ａおよびその逆方向に移動可
能に設けられている。外側カップ５の他方の側部側に
は、純水を吐出する純水吐出ノズル１２が矢印Ｒの方向
に回動可能に設けられている。
はそれぞれ待機ポット６，７が配置され、外側カップ５
の一方の側部側にはガイドレール８が配設されている。
また、ノズルアーム９がアーム駆動部１０によりガイド
レール８に沿って走査方向Ａおよびその逆方向に移動可
能に設けられている。外側カップ５の他方の側部側に
は、純水を吐出する純水吐出ノズル１２が矢印Ｒの方向
に回動可能に設けられている。
【００３２】ノズルアーム９には、下端部にスリット状
吐出口１５を有する現像液吐出ノズル１１がガイドレー
ル８と垂直に取り付けられている。これにより、現像液
吐出ノズル１１は、待機ポット６の位置から基板１００
上を通過して待機ポット７の位置まで走査方向Ａに沿っ
て直線状に平行移動可能となっている。図３に示すよう
に、現像液吐出ノズル１１は矢印Ｑの方向に回動可能に
構成されている。
吐出口１５を有する現像液吐出ノズル１１がガイドレー
ル８と垂直に取り付けられている。これにより、現像液
吐出ノズル１１は、待機ポット６の位置から基板１００
上を通過して待機ポット７の位置まで走査方向Ａに沿っ
て直線状に平行移動可能となっている。図３に示すよう
に、現像液吐出ノズル１１は矢印Ｑの方向に回動可能に
構成されている。
【００３３】図２に示すように、現像液吐出ノズル１１
には、現像液供給系１２により現像液が供給される。制
御部１３は、モータ２の回転動作、アーム駆動部１０に
よる現像液吐出ノズル１１の走査および現像液吐出ノズ
ル１１からの現像液の吐出を制御する。
には、現像液供給系１２により現像液が供給される。制
御部１３は、モータ２の回転動作、アーム駆動部１０に
よる現像液吐出ノズル１１の走査および現像液吐出ノズ
ル１１からの現像液の吐出を制御する。
【００３４】本実施例では、基板保持部１が基板保持手
段に相当し、アーム駆動部１０が移動手段に相当し、制
御部１３が制御手段に相当する。
段に相当し、アーム駆動部１０が移動手段に相当し、制
御部１３が制御手段に相当する。
【００３５】図４は現像液吐出ノズル１１のスリット状
吐出口１５を示す図である。スリット状吐出口１５のス
リット幅ｔは０．０２〜０．５ｍｍであり、本実施例で
は０．１ｍｍである。また、スリット状吐出口１５の吐
出幅Ｌは処理対象となる基板１００の直径と同じかまた
はそれよりも大きく設定されている。このスリット状吐
出口１５は現像液吐出ノズル１１の走査方向Ａと垂直に
配置される。
吐出口１５を示す図である。スリット状吐出口１５のス
リット幅ｔは０．０２〜０．５ｍｍであり、本実施例で
は０．１ｍｍである。また、スリット状吐出口１５の吐
出幅Ｌは処理対象となる基板１００の直径と同じかまた
はそれよりも大きく設定されている。このスリット状吐
出口１５は現像液吐出ノズル１１の走査方向Ａと垂直に
配置される。
【００３６】図５は現像液吐出ノズル１１による現像液
の吐出方向を示す側面図である。図５に示すように、現
像処理時には、現像液吐出ノズル１１は、現像液の吐出
方向Ｂが基板の法線方向（鉛直下向き）から走査方向Ａ
と反対側に角度α傾斜するように傾けられる。傾斜角度
αは０〜３０°の範囲内であり、本実施例では２０°に
設定される。
の吐出方向を示す側面図である。図５に示すように、現
像処理時には、現像液吐出ノズル１１は、現像液の吐出
方向Ｂが基板の法線方向（鉛直下向き）から走査方向Ａ
と反対側に角度α傾斜するように傾けられる。傾斜角度
αは０〜３０°の範囲内であり、本実施例では２０°に
設定される。
【００３７】また、現像液吐出ノズル１１は、スリット
状吐出口１５が基板１００の上面に対して０．２〜５ｍ
ｍ、より好ましくは０．２〜１．０ｍｍの間隔を保つよ
うに走査される。本実施例では、現像液吐出ノズル１１
のスリット状吐出口１５と基板１００の上面との間隔が
０．３±０．１ｍｍに設定される。
状吐出口１５が基板１００の上面に対して０．２〜５ｍ
ｍ、より好ましくは０．２〜１．０ｍｍの間隔を保つよ
うに走査される。本実施例では、現像液吐出ノズル１１
のスリット状吐出口１５と基板１００の上面との間隔が
０．３±０．１ｍｍに設定される。
【００３８】次に図６を参照しながら図１の現像装置の
動作を説明する。現像処理時には、基板１００は基板保
持部１により静止状態で保持されている。
動作を説明する。現像処理時には、基板１００は基板保
持部１により静止状態で保持されている。
【００３９】待機時には、現像液吐出ノズル１１は、待
機ポット６内の位置Ｐ０に待機している。現像処理時に
は、現像液吐出ノズル１１が上昇した後、走査方向Ａに
移動し、外側カップ５内の走査開始位置Ｐ１で下降す
る。
機ポット６内の位置Ｐ０に待機している。現像処理時に
は、現像液吐出ノズル１１が上昇した後、走査方向Ａに
移動し、外側カップ５内の走査開始位置Ｐ１で下降す
る。
【００４０】その後、現像液吐出ノズル１１は、走査開
始位置Ｐ１から所定の走査速度で走査を開始する。この
時点では、現像液吐出ノズル１１からまだ現像液の吐出
は行わない。本実施例では、走査速度は１０〜５００ｍ
ｍ／秒とする。
始位置Ｐ１から所定の走査速度で走査を開始する。この
時点では、現像液吐出ノズル１１からまだ現像液の吐出
は行わない。本実施例では、走査速度は１０〜５００ｍ
ｍ／秒とする。
【００４１】現像液吐出ノズル１１の走査開始後、現像
液吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５が基板１００
上に到達する前に、吐出開始位置Ｐ２にて所定の流量で
現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を開始する。
本実施例では、現像液の流量は１．５Ｌ／分とする。
液吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５が基板１００
上に到達する前に、吐出開始位置Ｐ２にて所定の流量で
現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を開始する。
本実施例では、現像液の流量は１．５Ｌ／分とする。
【００４２】現像液吐出ノズル１１は、現像液を吐出し
ながら吐出開始位置Ｐ２から基板１００上を走査方向Ａ
に直線状に移動する。これにより、基板１００の全面に
現像液が連続的に供給される。供給された現像液は、表
面張力により基板１００上に保持される。
ながら吐出開始位置Ｐ２から基板１００上を走査方向Ａ
に直線状に移動する。これにより、基板１００の全面に
現像液が連続的に供給される。供給された現像液は、表
面張力により基板１００上に保持される。
【００４３】現像液吐出ノズル１１が基板１００上を通
過した後、基板１００上から外れた吐出停止位置Ｐ３で
現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を停止させ
る。そして、現像液吐出ノズル１１が外側カップ５内の
走査停止位置Ｐ４に到達した時点で現像液吐出ノズル１
１の走査を停止させる。
過した後、基板１００上から外れた吐出停止位置Ｐ３で
現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を停止させ
る。そして、現像液吐出ノズル１１が外側カップ５内の
走査停止位置Ｐ４に到達した時点で現像液吐出ノズル１
１の走査を停止させる。
【００４４】その後、現像液吐出ノズル１１は、走査停
止位置Ｐ４で上昇した後、他方の待機ポット７の位置Ｐ
５まで移動し、待機ポット７内に下降する。
止位置Ｐ４で上昇した後、他方の待機ポット７の位置Ｐ
５まで移動し、待機ポット７内に下降する。
【００４５】基板１００上に現像液が供給された状態を
一定時間維持し、現像を進行させる。このとき、モータ
２により基板保持部１を回転駆動し、基板１００を回転
させてもよい。その後、純水吐出ノズル１２により純水
を基板１００上に供給しながら基板１００を高速回転さ
せることにより基板１００上の現像液を振り切り、基板
１００を乾燥させて現像処理を終了する。
一定時間維持し、現像を進行させる。このとき、モータ
２により基板保持部１を回転駆動し、基板１００を回転
させてもよい。その後、純水吐出ノズル１２により純水
を基板１００上に供給しながら基板１００を高速回転さ
せることにより基板１００上の現像液を振り切り、基板
１００を乾燥させて現像処理を終了する。
【００４６】図７は現像液吐出ノズル１１からの現像液
の吐出状態を示す正面図である。現像液の吐出直後に
は、図７（ａ）に示すように、現像液がスリット状吐出
口１５から滴状に滲み出る。現像液の吐出から一定時間
が経過すると、図７（ｂ）に示すように、滴状の現像液
がつながってスリット状吐出口１５に沿って現像液が帯
状に形成される。
の吐出状態を示す正面図である。現像液の吐出直後に
は、図７（ａ）に示すように、現像液がスリット状吐出
口１５から滴状に滲み出る。現像液の吐出から一定時間
が経過すると、図７（ｂ）に示すように、滴状の現像液
がつながってスリット状吐出口１５に沿って現像液が帯
状に形成される。
【００４７】上記の走査開始位置Ｐ１は、現像液吐出ノ
ズル１１が走査開始から基板１００の端縁に到達するま
でに走査速度が所定の速度に達し、かつ図７（ｂ）に示
すようにスリット状吐出口１５の現像液が帯状になるた
めの時間が確保されるように設定する。例えば、走査開
始位置Ｐ１は、基板１００の端縁から走査方向Ａと反対
方向に１０〜１００ｍｍ程度離れた位置に設定する。本
実施例では、走査開始位置Ｐ１は基板１００の端縁から
５０ｍｍ離れた位置に設定する。
ズル１１が走査開始から基板１００の端縁に到達するま
でに走査速度が所定の速度に達し、かつ図７（ｂ）に示
すようにスリット状吐出口１５の現像液が帯状になるた
めの時間が確保されるように設定する。例えば、走査開
始位置Ｐ１は、基板１００の端縁から走査方向Ａと反対
方向に１０〜１００ｍｍ程度離れた位置に設定する。本
実施例では、走査開始位置Ｐ１は基板１００の端縁から
５０ｍｍ離れた位置に設定する。
【００４８】また、吐出開始位置Ｐ２は、現像液吐出ノ
ズル１１の走査速度および現像液の吐出流量に応じて、
現像液吐出ノズル１１が基板１００の端縁に到達するま
でに現像液の吐出状態が帯状になるための時間が確保さ
れるように設定する。
ズル１１の走査速度および現像液の吐出流量に応じて、
現像液吐出ノズル１１が基板１００の端縁に到達するま
でに現像液の吐出状態が帯状になるための時間が確保さ
れるように設定する。
【００４９】走査速度が速くなれば、現像液吐出ノズル
１１が走査開始位置Ｐ１から基板１００の端縁に到達す
るまでの時間が短くなるため、吐出開始位置Ｐ２を走査
開始位置Ｐ１に近づける。例えば、走査速度が１００ｍ
ｍ／秒の場合には走査開始時点から０．３秒後に現像液
の吐出を開始し、走査速度が３０ｍｍ／秒の場合には走
査開始時点から１．３秒後に現像液の吐出を開始する。
１１が走査開始位置Ｐ１から基板１００の端縁に到達す
るまでの時間が短くなるため、吐出開始位置Ｐ２を走査
開始位置Ｐ１に近づける。例えば、走査速度が１００ｍ
ｍ／秒の場合には走査開始時点から０．３秒後に現像液
の吐出を開始し、走査速度が３０ｍｍ／秒の場合には走
査開始時点から１．３秒後に現像液の吐出を開始する。
【００５０】また、現像液の吐出流量が多い場合には、
現像液の吐出状態が短時間で帯状になるので、吐出開始
位置Ｐ２を基板１００の端縁に近づける。例えば、現像
液の吐出流量が１．５Ｌ／分であり、走査速度が７０ｍ
ｍ／秒のときには、現像液吐出ノズル１１が基板１００
の端縁に到達する０．１〜１．０秒（例えば０．２秒）
前に現像液の吐出を開始する。
現像液の吐出状態が短時間で帯状になるので、吐出開始
位置Ｐ２を基板１００の端縁に近づける。例えば、現像
液の吐出流量が１．５Ｌ／分であり、走査速度が７０ｍ
ｍ／秒のときには、現像液吐出ノズル１１が基板１００
の端縁に到達する０．１〜１．０秒（例えば０．２秒）
前に現像液の吐出を開始する。
【００５１】なお、現像液の無駄な消費量を低減するた
めには、現像液吐出ノズル１１が基板１００の端縁に達
するまでに現像液の吐出状態が帯状になる範囲で、吐出
開始位置Ｐ２を基板１００の端縁に近づけることが望ま
しい。
めには、現像液吐出ノズル１１が基板１００の端縁に達
するまでに現像液の吐出状態が帯状になる範囲で、吐出
開始位置Ｐ２を基板１００の端縁に近づけることが望ま
しい。
【００５２】図８は基板１００上での現像液吐出ノズル
１１の走査を示す側面図である。上記のように現像液の
吐出方向が鉛直下向きから走査方向Ａと反対方向に傾け
られているので、基板１００の表面において走査方向Ａ
への現像液の流動が抑制されるとともに、走査方向Ａと
は逆方向への現像液の流動が誘起される。走査方向Ａへ
の現像液の流動が抑制されることにより、現像液が現像
液吐出ノズル１１よりも走査方向Ａの側へ先行して流れ
ることが防止され、現像の均一性が向上する。走査方向
Ａとは逆方向への現像液の流動が誘起されることによ
り、マイクロバブルと呼ばれる現像液中の微小な泡が基
板１００上の感光性膜の表面に付着することが防止さ
れ、現像欠陥の発生が抑制される。
１１の走査を示す側面図である。上記のように現像液の
吐出方向が鉛直下向きから走査方向Ａと反対方向に傾け
られているので、基板１００の表面において走査方向Ａ
への現像液の流動が抑制されるとともに、走査方向Ａと
は逆方向への現像液の流動が誘起される。走査方向Ａへ
の現像液の流動が抑制されることにより、現像液が現像
液吐出ノズル１１よりも走査方向Ａの側へ先行して流れ
ることが防止され、現像の均一性が向上する。走査方向
Ａとは逆方向への現像液の流動が誘起されることによ
り、マイクロバブルと呼ばれる現像液中の微小な泡が基
板１００上の感光性膜の表面に付着することが防止さ
れ、現像欠陥の発生が抑制される。
【００５３】本実施例の現像装置では、現像液吐出ノズ
ル１１が静止した基板１００上に到達する前に現像液の
吐出が開始されるので、吐出開始時の現像液が基板１０
０に衝撃を与えることが回避される。それにより、現像
液中の気泡の発生が抑制され、現像欠陥の発生が防止さ
れる。
ル１１が静止した基板１００上に到達する前に現像液の
吐出が開始されるので、吐出開始時の現像液が基板１０
０に衝撃を与えることが回避される。それにより、現像
液中の気泡の発生が抑制され、現像欠陥の発生が防止さ
れる。
【００５４】また、現像液吐出ノズル１１の移動中に空
気に接触するスリット状吐出口１５付近の現像液が基板
１００外に廃棄され、現像液吐出ノズル１１が基板１０
０上に到達した時点で現像液吐出ノズル１１から新しい
現像液が静止した基板１００上に供給される。それによ
り、変質した現像液により現像欠陥が発生することが防
止されるとともに、乾燥した現像液によるパーティクル
が基板１００上の感光性膜の表面に付着することが防止
される。
気に接触するスリット状吐出口１５付近の現像液が基板
１００外に廃棄され、現像液吐出ノズル１１が基板１０
０上に到達した時点で現像液吐出ノズル１１から新しい
現像液が静止した基板１００上に供給される。それによ
り、変質した現像液により現像欠陥が発生することが防
止されるとともに、乾燥した現像液によるパーティクル
が基板１００上の感光性膜の表面に付着することが防止
される。
【００５５】さらに、現像液吐出ノズル１１が静止した
基板１００上をスリット状吐出口１５と基板１００の上
面とが近接した状態で水平方向に直線状に平行移動し、
スリット状吐出口１５に形成された帯状の現像液が基板
１００の表面に連続的に接触するので、基板１００の表
面に衝撃が加わることなく基板１００の全面に現像液が
均一に供給される。
基板１００上をスリット状吐出口１５と基板１００の上
面とが近接した状態で水平方向に直線状に平行移動し、
スリット状吐出口１５に形成された帯状の現像液が基板
１００の表面に連続的に接触するので、基板１００の表
面に衝撃が加わることなく基板１００の全面に現像液が
均一に供給される。
【００５６】また、現像液吐出ノズル１１が基板１００
上を通過するまで現像液の供給が続けられるので、吐出
停止時の衝撃による液盛り中の現像液への悪影響が防止
される。その結果、現像欠陥の発生が抑制されるととも
に、現像後の感光性膜パターンの線幅均一性が向上す
る。
上を通過するまで現像液の供給が続けられるので、吐出
停止時の衝撃による液盛り中の現像液への悪影響が防止
される。その結果、現像欠陥の発生が抑制されるととも
に、現像後の感光性膜パターンの線幅均一性が向上す
る。
【００５７】また、現像液吐出ノズル１１が基板１００
上を通り過ぎた後に現像液の吐出が停止されるので、吐
出停止時の現像液の液だれにより基板１００上の感光性
膜に衝撃が加わることが防止される。したがって、現像
欠陥の発生や感光性膜パターンの線幅均一性の劣化が防
止される。
上を通り過ぎた後に現像液の吐出が停止されるので、吐
出停止時の現像液の液だれにより基板１００上の感光性
膜に衝撃が加わることが防止される。したがって、現像
欠陥の発生や感光性膜パターンの線幅均一性の劣化が防
止される。
【００５８】さらに、現像液の吐出方向が走査方向Ａと
反対方向に傾けられているので、基板１００の表面での
走査方向Ａへの現像液の流動が抑制されるとともに、走
査方向Ａとは逆方向への現像液の流動が誘起される。そ
れにより、現像の均一性が向上し、かつ現像欠陥の発生
が防止される。
反対方向に傾けられているので、基板１００の表面での
走査方向Ａへの現像液の流動が抑制されるとともに、走
査方向Ａとは逆方向への現像液の流動が誘起される。そ
れにより、現像の均一性が向上し、かつ現像欠陥の発生
が防止される。
【図１】本発明の一実施例における現像装置の平面図で
ある。
ある。
【図２】図１の現像装置の主要部のＸ−Ｘ線断面図であ
る。
る。
【図３】図１の現像装置の主要部のＹ−Ｙ線断面図であ
る。
る。
【図４】現像液吐出ノズルのスリット状吐出口を示す図
である。
である。
【図５】現像液吐出ノズルによる現像液の吐出方向を示
す側面図である。
す側面図である。
【図６】図１の現像装置の動作を説明するための図であ
る。
る。
【図７】現像液吐出ノズルからの現像液の吐出状態を示
す正面図である。
す正面図である。
【図８】基板上での現像液吐出ノズルの走査を示す側面
図である。
図である。
１ 基板保持部
４ 内側カップ
５ 外側カップ
６，７ 待機スポット
８ ガイドレール
９ ノズルアーム
１０ ノズル駆動部
１１ 現像液吐出ノズル
１２ 現像液供給系
１３ 制御部
１５ スリット状吐出口
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 田中 晶子
京都市伏見区羽束師古川町322番地 大
日本スクリーン製造株式会社 洛西事業
所内
(56)参考文献 特開 昭57−192955（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−36195（ＪＰ，Ａ)
特開 昭63−18627（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−55133（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01L 21/027
G03F 7/30 501
Claims (7)
- 【請求項１】 基板を水平姿勢で保持する基板保持手段
と、 現像液を吐出するためのスリット状吐出口を有する現像
液吐出ノズルと、 前記基板保持手段に静止状態で保持された基板外の一方
側の移動開始位置から前記基板上を通過して前記基板外
の他方側の停止位置まで前記現像液吐出ノズルを移動さ
せる移動手段と、 前記現像液吐出ノズルの移動開始後、前記現像液吐出ノ
ズルが前記基板保持手段に保持された基板の前記一方側
の端縁に到達するまでに前記スリット状吐出口から現像
液が帯状に垂下するように前記現像液吐出ノズルによる
現像液の吐出を開始させる制御手段とを備えたことを特
徴とする現像装置。 - 【請求項２】 前記制御手段は、前記現像液吐出ノズル
が前記基板保持手段に保持された基板上を通過した後に
前記基板の前記他方側の端縁と前記停止位置との間で前
記現像液吐出ノズルによる現像液の吐出を停止させるこ
とを特徴とする請求項１記載の現像装置。 - 【請求項３】 前記現像液吐出ノズルによる現像液の吐
出方向が鉛直下向きから前記現像液吐出ノズルの移動方
向と反対方向に傾けられたことを特徴とする請求項１ま
たは２記載の現像装置。 - 【請求項４】 前記スリット状吐出口は水平方向に配置
され、前記移動手段は、前記現像液吐出ノズルを前記ス
リット状吐出口とほぼ垂直な方向に直線状に移動させる
ことを特徴とする請求項１、２または３記載の現像装
置。 - 【請求項５】 前記現像液吐出ノズルは、前記基板保持
手段に保持された基板の上面と前記スリット状吐出口と
の間を５ｍｍ以下の一定の距離に保ちながら前記基板上
を通過することを特徴とする請求項４記載の現像装置。 - 【請求項６】 前記現像液吐出ノズルの前記スリット状
吐出口の長さは、前記基板保持手段に保持される基板の
直径以上に設定されたことを特徴とする請求項４または
５記載の現像装置。 - 【請求項７】 基板保持手段に保持された基板上にスリ
ット状吐出口を有する現像液吐出ノズルから現像液を吐
出供給するようにした現像方法であって、 静止状態の基板の一方端外から前記現像液吐出ノズルの
移動を開始する工程と、 移動開始後、前記基板の一方端に到達する前に前記スリ
ット状吐出口から現像液が帯状に垂下するように前記現
像液吐出ノズルから現像液の吐出を開始する工程とを備
える現像方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34877196A JP3471547B2 (ja) | 1996-12-26 | 1996-12-26 | 現像装置および現像方法 |
| KR1019970067468A KR100283442B1 (ko) | 1996-12-26 | 1997-12-10 | 현상장치및현상방법 |
| US08/997,083 US5984540A (en) | 1996-12-26 | 1997-12-23 | Developing apparatus and developing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34877196A JP3471547B2 (ja) | 1996-12-26 | 1996-12-26 | 現像装置および現像方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10189419A JPH10189419A (ja) | 1998-07-21 |
| JP3471547B2 true JP3471547B2 (ja) | 2003-12-02 |
Family
ID=18399259
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34877196A Expired - Fee Related JP3471547B2 (ja) | 1996-12-26 | 1996-12-26 | 現像装置および現像方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3471547B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6076979A (en) * | 1997-07-25 | 2000-06-20 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Method of and apparatus for supplying developing solution onto substrate |
| JP4934892B2 (ja) * | 2000-07-28 | 2012-05-23 | 大日本印刷株式会社 | 塗布装置および塗布方法 |
| JP4015823B2 (ja) | 2001-05-14 | 2007-11-28 | 株式会社東芝 | アルカリ現像液の製造方法，アルカリ現像液，パターン形成方法，レジスト膜の剥離方法，及び薬液塗布装置 |
-
1996
- 1996-12-26 JP JP34877196A patent/JP3471547B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10189419A (ja) | 1998-07-21 |
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