JP3471547B2 - 現像装置および現像方法 - Google Patents
現像装置および現像方法Info
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Description
に現像液を供給して現像処理を行う現像装置に関する。
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の
基板上に形成された感光性膜に現像処理を行うために現
像装置が用いられる。
保持して鉛直軸の周りで回転させる回転保持部と、基板
の表面に現像液を供給する現像液吐出ノズルとを備え
る。現像液吐出ノズルは、水平面内で回動自在に設けら
れたノズルアームの先端に取り付けられており、基板の
上方位置と待機位置との間を移動することができる。
位置から基板の上方に移動した後、基板上の感光性膜に
現像液を供給する。供給された現像液は、基板の回転に
よって基板の全面に塗り広げられ、感光性膜と接触す
る。表面張力により基板上に現像液を保持した状態(液
盛り)で一定時間基板を静止させることにより感光性膜
の現像が行われる。現像液の供給が終了すると、現像液
吐出ノズルはノズルアームの回動により基板の上方から
退いた待機位置に移動する。
大気に晒されると、現像液中の水分が蒸発して現像液の
濃度の変化や空気と接触することで変質が起こる。その
ため、現像処理を行う前に、予め待機位置で現像液吐出
ノズルの吐出口付近の現像液を吐出することにより(プ
リディスペンス処理)、現像液吐出ノズル内に供給され
ている現像液を均一化させている。
従来の回転式現像装置では、回転する基板に吐出開始時
の現像液が当たることにより基板上の感光性膜が大きな
衝撃を受ける。その衝撃で現像液中に気泡が生じ、感光
性膜の表面に残留する微小な気泡が現像欠陥となる場合
がある。また、吐出開始時の現像液による衝撃で感光性
膜が損傷するおそれもある。
吐出ノズルが待機位置から基板の上方へ移動する間に、
現像液吐出ノズルの吐出口付近の現像液が空気と接触す
ることになる。そのため、吐出開始直後に基板上に供給
される現像液は、その後連続的に供給される現像液に比
べて多少変質している可能性がある。それにより、吐出
開始直後の現像液が接触する基板上に現像欠陥が発生す
るおそれがある。また、現像液が空気との接触により乾
燥し、乾燥した現像液がパーティクルとなって基板上に
付着するおそれもある。
力により基板の全面に塗り広げられる過程で現像液にむ
らが生じるため、基板上の現像液が均一になるまで多量
の現像液を供給する必要がある。
の現像液で均一な現像処理を行うことができる現像装置
を提供することである。
発明に係る現像装置においては、基板を水平姿勢で保持
する基板保持手段と、現像液を吐出するためのスリット
状吐出口を有する現像液吐出ノズルと、基板保持手段に
静止状態で保持された基板外の一方側の移動開始位置か
ら基板上を通過して基板外の他方側の停止位置まで現像
液吐出ノズルを移動させる移動手段と、現像液吐出ノズ
ルの移動開始後、現像液吐出ノズルが基板保持手段に保
持された基板の一方側の端縁に到達するまでにスリット
状吐出口から現像液が帯状に垂下するように現像液吐出
ノズルによる現像液の吐出を開始させる制御手段とを備
えたものである。
像液吐出ノズルの移動開始後、現像液吐出ノズルが基板
保持手段に保持された基板の一方側の端縁に到達するま
でにスリット状吐出口から現像液が帯状に垂下するよう
に現像液の吐出が開始される。そのため、吐出開始時の
現像液が基板に衝撃を与えることが回避される。それに
より、現像液中の気泡の発生が抑制されて現像欠陥の発
生が防止されるとともに、衝撃による基板上の感光性膜
の損傷が防止される。また、現像液吐出ノズルが基板の
一方側の端縁に到達するまでにスリット状吐出口に連続
的な帯状の現像液が形成されるので、現像液吐出ノズル
が基板上に到達した時点で基板上に現像液がむらなく供
給される。
接触する吐出口付近の現像液が基板外に廃棄され、現像
液吐出ノズルが基板上に到達した時点で現像液吐出ノズ
ルから新しい現像液が静止した基板上に供給される。そ
れにより、変質した現像液により現像欠陥が発生するこ
とが防止されるとともに、乾燥した現像液によるパーテ
ィクルが基板表面に付着することが防止される。
する間、新しい現像液が連続的に供給されるので、基板
上に現像液が均一に供給される。
かつ基板上への到達前に現像液の吐出が開始されるの
で、現像液の無駄な消費量が少なくなり、少量の現像液
で基板上の感光性膜に均一な現像処理が行われる。
に係る現像装置の構成において、現像液吐出ノズルが基
板保持手段に保持された基板上を通過した後に基板の上
記他方側の端縁と停止位置との間で制御手段が、現像液
吐出ノズルによる現像液の吐出を停止させるものであ
る。
り過ぎた後に現像液の吐出が停止されるので、吐出停止
時の現像液の液だれにより基板表面に衝撃が加わること
が防止されるとともに、吐出停止時の衝撃により液盛り
中の現像液へ悪影響が与えられることが防止される。そ
れにより、現像欠陥の発生および現像後の感光性膜パタ
ーンの線幅均一性の劣化が防止される。
第2の発明に係る現像装置の構成において、現像液吐出
ノズルによる現像液の吐出方向が鉛直下向きから現像液
吐出ノズルの移動方向と反対方向に傾けられたものであ
る。
ズルの移動方向への現像液の流動が抑制されるととも
に、移動方向とは逆方向への現像液の流動が誘起され
る。移動方向への現像液の流動が抑制されることによ
り、現像液が現像液吐出ノズルよりも移動方向側へ先行
して流れることが防止され、現像液の均一性が向上す
る。また、移動方向とは逆方向への現像液の流動が誘起
されることにより、マイクロバブルと呼ばれる現像液中
の微小な泡が基板表面に付着することが防止され、微小
な泡の付着による現像欠陥の発生が抑制される。
または第3の発明に係る現像装置の構成において、スリ
ット状吐出口は水平方向に配置され、移動手段が、現像
液吐出ノズルをスリット状吐出口とほぼ垂直な方向に直
線状に移動させるものである。
吐出口が基板上を直線状に走査されるので、現像液が基
板上の広い面積に均一に供給される。
に係る現像装置の構成において、現像液吐出ノズルが、
基板保持手段に保持された基板の上面とスリット状吐出
口との間を5mm以下の一定の距離に保ちながら基板上
を通過するものである。
板上をスリット状吐出口と基板の上面とが近接した状態
で水平方向に移動する。それにより、スリット状吐出口
に形成された帯状の現像液が基板表面に連続的に接触す
ることになり、基板表面に衝撃が加わることなく基板の
全面に現像液が均一に供給される。
第5の発明に係る現像装置の構成において、現像液吐出
ノズルのスリット状吐出口の長さが、基板保持手段に保
持される基板の直径以上に設定されたものである。
部から他端部へ移動することにより、スリット状吐出口
から帯状に垂下した現像液が基板の全面に連続的に接触
する。したがって、現像液吐出ノズルの1回の走査によ
り基板の全面に現像液が均一に供給され、基板上の感光
性膜に少量の現像液により均一な現像処理が行われる。
段に保持された基板上にスリット状吐出口を有する現像
液吐出ノズルから現像液を吐出供給するようにした現像
方法であって、静止状態の基板の一方端外から現像液吐
出ノズルの移動を開始する工程と、移動開始後、基板の
一方端に到達する前にスリット状吐出口から現像液が帯
状に垂下するように現像液吐出ノズルから現像液の吐出
を開始する工程とを備えたものである。
像液吐出ノズルの移動開始後、スリット状吐出口から現
像液が帯状に垂下するように現像液の吐出が開始され
る。そのため、吐出開始時の現像液が基板に衝撃を与え
ることが回避される。それにより、現像液中の気泡の発
生が抑制されるとともに、衝撃による基板上の感光性膜
の損傷が防止される。また、現像液吐出ノズルが基板の
一方側の端縁に到達するまでにスリット状吐出口に連続
的な帯状の現像液が形成されるので、現像液吐出ノズル
が基板上に到達した時点で基板上に現像液がむらなく供
給される。
現像装置の平面図、図2は図1の現像装置の主要部のX
−X線断面図、図3は図1の現像装置の主要部のY−Y
線断面図である。
は、基板100を水平姿勢で吸引保持する基板保持部1
を備える。基板保持部1は、モータ2の回転軸3の先端
部に固定され、鉛直方向の軸の周りで回転可能に構成さ
れている。基板保持部1の周囲には、基板100を取り
囲むように円形の内側カップ4が上下動自在に設けられ
ている。また、内側カップ4の周囲には、正方形の外側
カップ5が設けられている。
はそれぞれ待機ポット6,7が配置され、外側カップ5
の一方の側部側にはガイドレール8が配設されている。
また、ノズルアーム9がアーム駆動部10によりガイド
レール8に沿って走査方向Aおよびその逆方向に移動可
能に設けられている。外側カップ5の他方の側部側に
は、純水を吐出する純水吐出ノズル12が矢印Rの方向
に回動可能に設けられている。
吐出口15を有する現像液吐出ノズル11がガイドレー
ル8と垂直に取り付けられている。これにより、現像液
吐出ノズル11は、待機ポット6の位置から基板100
上を通過して待機ポット7の位置まで走査方向Aに沿っ
て直線状に平行移動可能となっている。図3に示すよう
に、現像液吐出ノズル11は矢印Qの方向に回動可能に
構成されている。
には、現像液供給系12により現像液が供給される。制
御部13は、モータ2の回転動作、アーム駆動部10に
よる現像液吐出ノズル11の走査および現像液吐出ノズ
ル11からの現像液の吐出を制御する。
段に相当し、アーム駆動部10が移動手段に相当し、制
御部13が制御手段に相当する。
吐出口15を示す図である。スリット状吐出口15のス
リット幅tは0.02〜0.5mmであり、本実施例で
は0.1mmである。また、スリット状吐出口15の吐
出幅Lは処理対象となる基板100の直径と同じかまた
はそれよりも大きく設定されている。このスリット状吐
出口15は現像液吐出ノズル11の走査方向Aと垂直に
配置される。
の吐出方向を示す側面図である。図5に示すように、現
像処理時には、現像液吐出ノズル11は、現像液の吐出
方向Bが基板の法線方向(鉛直下向き)から走査方向A
と反対側に角度α傾斜するように傾けられる。傾斜角度
αは0〜30°の範囲内であり、本実施例では20°に
設定される。
状吐出口15が基板100の上面に対して0.2〜5m
m、より好ましくは0.2〜1.0mmの間隔を保つよ
うに走査される。本実施例では、現像液吐出ノズル11
のスリット状吐出口15と基板100の上面との間隔が
0.3±0.1mmに設定される。
動作を説明する。現像処理時には、基板100は基板保
持部1により静止状態で保持されている。
機ポット6内の位置P0に待機している。現像処理時に
は、現像液吐出ノズル11が上昇した後、走査方向Aに
移動し、外側カップ5内の走査開始位置P1で下降す
る。
始位置P1から所定の走査速度で走査を開始する。この
時点では、現像液吐出ノズル11からまだ現像液の吐出
は行わない。本実施例では、走査速度は10〜500m
m/秒とする。
液吐出ノズル11のスリット状吐出口15が基板100
上に到達する前に、吐出開始位置P2にて所定の流量で
現像液吐出ノズル11による現像液の吐出を開始する。
本実施例では、現像液の流量は1.5L/分とする。
ながら吐出開始位置P2から基板100上を走査方向A
に直線状に移動する。これにより、基板100の全面に
現像液が連続的に供給される。供給された現像液は、表
面張力により基板100上に保持される。
過した後、基板100上から外れた吐出停止位置P3で
現像液吐出ノズル11による現像液の吐出を停止させ
る。そして、現像液吐出ノズル11が外側カップ5内の
走査停止位置P4に到達した時点で現像液吐出ノズル1
1の走査を停止させる。
止位置P4で上昇した後、他方の待機ポット7の位置P
5まで移動し、待機ポット7内に下降する。
一定時間維持し、現像を進行させる。このとき、モータ
2により基板保持部1を回転駆動し、基板100を回転
させてもよい。その後、純水吐出ノズル12により純水
を基板100上に供給しながら基板100を高速回転さ
せることにより基板100上の現像液を振り切り、基板
100を乾燥させて現像処理を終了する。
の吐出状態を示す正面図である。現像液の吐出直後に
は、図7(a)に示すように、現像液がスリット状吐出
口15から滴状に滲み出る。現像液の吐出から一定時間
が経過すると、図7(b)に示すように、滴状の現像液
がつながってスリット状吐出口15に沿って現像液が帯
状に形成される。
ズル11が走査開始から基板100の端縁に到達するま
でに走査速度が所定の速度に達し、かつ図7(b)に示
すようにスリット状吐出口15の現像液が帯状になるた
めの時間が確保されるように設定する。例えば、走査開
始位置P1は、基板100の端縁から走査方向Aと反対
方向に10〜100mm程度離れた位置に設定する。本
実施例では、走査開始位置P1は基板100の端縁から
50mm離れた位置に設定する。
ズル11の走査速度および現像液の吐出流量に応じて、
現像液吐出ノズル11が基板100の端縁に到達するま
でに現像液の吐出状態が帯状になるための時間が確保さ
れるように設定する。
11が走査開始位置P1から基板100の端縁に到達す
るまでの時間が短くなるため、吐出開始位置P2を走査
開始位置P1に近づける。例えば、走査速度が100m
m/秒の場合には走査開始時点から0.3秒後に現像液
の吐出を開始し、走査速度が30mm/秒の場合には走
査開始時点から1.3秒後に現像液の吐出を開始する。
現像液の吐出状態が短時間で帯状になるので、吐出開始
位置P2を基板100の端縁に近づける。例えば、現像
液の吐出流量が1.5L/分であり、走査速度が70m
m/秒のときには、現像液吐出ノズル11が基板100
の端縁に到達する0.1〜1.0秒(例えば0.2秒)
前に現像液の吐出を開始する。
めには、現像液吐出ノズル11が基板100の端縁に達
するまでに現像液の吐出状態が帯状になる範囲で、吐出
開始位置P2を基板100の端縁に近づけることが望ま
しい。
11の走査を示す側面図である。上記のように現像液の
吐出方向が鉛直下向きから走査方向Aと反対方向に傾け
られているので、基板100の表面において走査方向A
への現像液の流動が抑制されるとともに、走査方向Aと
は逆方向への現像液の流動が誘起される。走査方向Aへ
の現像液の流動が抑制されることにより、現像液が現像
液吐出ノズル11よりも走査方向Aの側へ先行して流れ
ることが防止され、現像の均一性が向上する。走査方向
Aとは逆方向への現像液の流動が誘起されることによ
り、マイクロバブルと呼ばれる現像液中の微小な泡が基
板100上の感光性膜の表面に付着することが防止さ
れ、現像欠陥の発生が抑制される。
ル11が静止した基板100上に到達する前に現像液の
吐出が開始されるので、吐出開始時の現像液が基板10
0に衝撃を与えることが回避される。それにより、現像
液中の気泡の発生が抑制され、現像欠陥の発生が防止さ
れる。
気に接触するスリット状吐出口15付近の現像液が基板
100外に廃棄され、現像液吐出ノズル11が基板10
0上に到達した時点で現像液吐出ノズル11から新しい
現像液が静止した基板100上に供給される。それによ
り、変質した現像液により現像欠陥が発生することが防
止されるとともに、乾燥した現像液によるパーティクル
が基板100上の感光性膜の表面に付着することが防止
される。
基板100上をスリット状吐出口15と基板100の上
面とが近接した状態で水平方向に直線状に平行移動し、
スリット状吐出口15に形成された帯状の現像液が基板
100の表面に連続的に接触するので、基板100の表
面に衝撃が加わることなく基板100の全面に現像液が
均一に供給される。
上を通過するまで現像液の供給が続けられるので、吐出
停止時の衝撃による液盛り中の現像液への悪影響が防止
される。その結果、現像欠陥の発生が抑制されるととも
に、現像後の感光性膜パターンの線幅均一性が向上す
る。
上を通り過ぎた後に現像液の吐出が停止されるので、吐
出停止時の現像液の液だれにより基板100上の感光性
膜に衝撃が加わることが防止される。したがって、現像
欠陥の発生や感光性膜パターンの線幅均一性の劣化が防
止される。
反対方向に傾けられているので、基板100の表面での
走査方向Aへの現像液の流動が抑制されるとともに、走
査方向Aとは逆方向への現像液の流動が誘起される。そ
れにより、現像の均一性が向上し、かつ現像欠陥の発生
が防止される。
ある。
る。
る。
である。
す側面図である。
る。
す正面図である。
図である。
Claims (7)
- 【請求項1】 基板を水平姿勢で保持する基板保持手段
と、 現像液を吐出するためのスリット状吐出口を有する現像
液吐出ノズルと、 前記基板保持手段に静止状態で保持された基板外の一方
側の移動開始位置から前記基板上を通過して前記基板外
の他方側の停止位置まで前記現像液吐出ノズルを移動さ
せる移動手段と、 前記現像液吐出ノズルの移動開始後、前記現像液吐出ノ
ズルが前記基板保持手段に保持された基板の前記一方側
の端縁に到達するまでに前記スリット状吐出口から現像
液が帯状に垂下するように前記現像液吐出ノズルによる
現像液の吐出を開始させる制御手段とを備えたことを特
徴とする現像装置。 - 【請求項2】 前記制御手段は、前記現像液吐出ノズル
が前記基板保持手段に保持された基板上を通過した後に
前記基板の前記他方側の端縁と前記停止位置との間で前
記現像液吐出ノズルによる現像液の吐出を停止させるこ
とを特徴とする請求項1記載の現像装置。 - 【請求項3】 前記現像液吐出ノズルによる現像液の吐
出方向が鉛直下向きから前記現像液吐出ノズルの移動方
向と反対方向に傾けられたことを特徴とする請求項1ま
たは2記載の現像装置。 - 【請求項4】 前記スリット状吐出口は水平方向に配置
され、前記移動手段は、前記現像液吐出ノズルを前記ス
リット状吐出口とほぼ垂直な方向に直線状に移動させる
ことを特徴とする請求項1、2または3記載の現像装
置。 - 【請求項5】 前記現像液吐出ノズルは、前記基板保持
手段に保持された基板の上面と前記スリット状吐出口と
の間を5mm以下の一定の距離に保ちながら前記基板上
を通過することを特徴とする請求項4記載の現像装置。 - 【請求項6】 前記現像液吐出ノズルの前記スリット状
吐出口の長さは、前記基板保持手段に保持される基板の
直径以上に設定されたことを特徴とする請求項4または
5記載の現像装置。 - 【請求項7】 基板保持手段に保持された基板上にスリ
ット状吐出口を有する現像液吐出ノズルから現像液を吐
出供給するようにした現像方法であって、 静止状態の基板の一方端外から前記現像液吐出ノズルの
移動を開始する工程と、 移動開始後、前記基板の一方端に到達する前に前記スリ
ット状吐出口から現像液が帯状に垂下するように前記現
像液吐出ノズルから現像液の吐出を開始する工程とを備
える現像方法。
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- 1996-12-26 JP JP34877196A patent/JP3471547B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP4352084B2 (ja) | 現像装置 |
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