JP3152298U - 研磨スラリーの分布を調整するための化学的機械研磨パッド - Google Patents
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Abstract
Description
ここでFc=mv2/rであり、mはその通路におけるスラリーの質量、vはスラリーの速度、rは研磨パッドにわたる斜め状外側部分の平均半径方向距離であり、かつ、
Fo=mr(dθ/dt)2cos(α−(π/2))であり、ここで、dθ/dtは研磨パッドの角速度、αは放射直線状主通路と斜め状外側部分との間の角度である。
Claims (18)
- 化学的機械研磨パッドであって、
(a)ある半径、中心領域および周辺領域を有する研磨表面を備える本体を備え、この研磨表面が、
(i)中心領域から周辺領域へ放射状に外側へ延びている複数の放射直線状主通路(main radial-line channel)であって、それぞれの放射直線状主通路が周辺領域に斜め状外側部分を有する複数の放射直線状主通路と、
(ii)それぞれが斜め状遷移部分によって1つの放射直線状主通路に接続されている複数の放射直線状一次従通路(primary tributary radial-line channels)であって、放射直線状主通路から間隔を置いて配置されている複数の放射直線状一次従通路と、
を備える化学的機械研磨パッド。 - 放射直線状一次従通路が、放射直線状主通路に実質的に平行である、請求項1に記載の研磨パッド。
- それぞれが第2の斜め状遷移部分(second angled transition)によって1つの放射直線状一次従通路に接続されている複数の放射直線状二次従通路(secondary tributary radial-line channels)をさらに備える、請求項1に記載の研磨パッド。
- 一次および二次の放射直線状従通路の長さおよび分岐点が、研磨パッド表面にわたって研磨スラリーの均一な分布がもたらされるように、研磨パッドの使用の速度に関して選択されている、請求項1に記載の研磨パッド。
- 斜め状外側部分が、約5度から約60度までの平均接線角を備える接線弧を形成している、請求項1に記載の研磨パッド。
- 放射直線状主通路が、互いに対して約2度から約45度までの角度を備える複数の斜め状内側部分を備える、請求項1に記載の研磨パッド。
- 研磨表面の10度の弧のそれぞれにわたる1本から10本までの放射直線状主通路を備える、請求項1に記載の研磨パッド。
- 研磨表面の10度の弧のそれぞれにわたる1本から10本までの放射直線状一次従通路を備える、請求項7に記載の研磨パッド。
- 研磨表面の10度の弧のそれぞれにわたる1本から10本までの放射直線状二次従通路を備える、請求項8に記載の研磨パッド。
- 請求項1の研磨パッドを備える化学的機械装置であって、さらに
(i)研磨パッドを保持するプラテンと基板を研磨パッドに保持する支持体とを備える研磨ステーションと、
(ii)研磨パッドの上にスラリーを計量分配するスラリー計量分配装置と、
(iii)研磨パッドと基板とを互いに対して往復動させるためにプラテンと支持体とのうちの少なくとも一方を駆動する研磨モータと、
を備える化学的機械装置。 - 請求項1の研磨パッドを製造する方法であって、
(a)前記の放射直線状の主通路および従通路を形成するために研磨表面から材料を切除するステップであって、その材料が、放射直線状の主通路および従通路の中における材料をその材料が溶融してそれらの通路の底部が実質的に密封される温度まで加熱するために、充分に高い切除速度で切除されるステップを備える方法。 - 化学的機械研磨パッドであって、
(a)本体を備え、この本体が、
(i)ある半径、中心領域および周辺領域を有する研磨表面であって、中心領域から周辺領域へ放射状に外側へ延びている複数の放射直線状主通路であり、周辺領域に研磨表面の半径に対してある角度で向けられた斜め状外側部分を有する複数の放射直線状主通路、および、それぞれが斜め状遷移部分によって1つの放射直線状主通路に接続されている複数の放射直線状一次従通路を備える研磨表面と、
(ii)研磨表面とは反対側である底部表面であって、圧力負荷受入特徴部のパターンを備え、この特徴部が複数の凸部および凹部を備え、これらの凹部が、研磨表面に圧力が適用されたときに凸部の横膨出を受け入れるような大きさおよび形状にされている底部表面と、
を備える化学的機械研磨パッド。 - 特徴部のパターンが、複数の垂直および水平な線状凹部によって隔てられた凸部の格子を備える、請求項12に記載の研磨パッド。
- 特徴部のパターンが、穴と交互に並ぶ複数の***凸部を備える、請求項12に記載の研磨パッド。
- 請求項12の研磨パッドを備える化学的機械装置であって、さらに
(i)研磨パッドを保持するプラテンと基板を研磨パッドに保持する支持体とを備える研磨ステーションと、
(ii)研磨パッドの上にスラリーを計量分配するスラリー計量分配装置と、
(iii)研磨パッドと基板とを互いに対して往復動させるためにプラテンと支持体とのうちの少なくとも一方を駆動する研磨モータと、
を備える化学的機械装置。 - 化学的機械研磨パッドであって、
(a)ある半径、中心領域および周辺領域を有する研磨表面を備える本体を備え、この研磨表面が、
(i)研磨表面の中心領域から周辺領域へ放射状に外側へ延びている複数の放射直線状主通路であり、それぞれが周辺領域に研磨表面の半径に対してある角度で向けられた斜め状外側部分を有する複数の放射直線状主通路を備え、
放射直線状主通路と斜め状外側部分とはそれらを通して研磨スラリーを流すように適合され、放射直線状主通路の長さL1、斜め状外側部分の長さL2、および斜め状外側部分と放射直線状主通路との間に形成された角度αが、基板表面にわたる研磨スラリーの均一な分布をもたらすように選択されている、
化学的機械研磨パッド。 - 化学的機械研磨パッドであって、
(a)ある半径、中心領域および周辺領域を有する研磨表面を備える本体を備え、この研磨表面が、
(i)研磨表面の中心領域から周辺領域へ放射状に外側へ延びている複数の放射直線状主通路であって、それぞれが周辺領域に研磨表面の半径に対してある角度で向けられた斜め状外側部分を有する複数の放射直線状主通路を備え、
放射直線状主通路の長さL1、斜め状外側部分の長さL2、および斜め状外側部分と放射直線状主通路との間に形成された角度αが、斜め状外側部分における研磨スラリーに作用する向心力Fcがその通路を通るスラリーの所望の流速をもたらすべく調整されるように選択されており、
ここでFc=mv2/rであり、mがその通路におけるスラリーの質量、vがスラリーの速度、rが研磨パッドにわたる斜め状外側部分の平均半径方向距離である、化学的機械研磨パッド。 - 化学的機械研磨パッドであって、
(a)ある半径、中心領域および周辺領域を有する研磨表面を備える本体を備え、この研磨表面が、
(i)研磨表面の中心領域から周辺領域へ放射状に外側へ延びている複数の放射直線状主通路であって、それぞれが周辺領域に研磨表面の半径に対してある角度で向けられた斜め状外側部分を有する複数の放射直線状主通路を備え、
放射直線状主通路の長さL1、斜め状外側部分の長さL2、および斜め状外側部分と放射直線状主通路との間に形成された角度αが、斜め状外側部分における研磨スラリーに作用する向心力Fcがその通路の斜め状外側部分におけるスラリーに作用する対抗力Foと釣り合ってその通路を通るスラリーの所望の流速をもたらすように選択されており、
ここでFc=mv2/rであり、mがその通路におけるスラリーの質量、vがスラリーの速度、rが研磨パッドにわたる斜め状外側部分の平均半径方向距離であり、かつ、
Fo=mr(dθ/dt)2cos(α−(π/2))であり、ここで、dθ/dtが研磨パッドの角速度、αが放射直線状主通路と斜め状外側部分との間の角度である、
化学的機械研磨パッド。
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