JP3141513U

JP3141513U - 反射防止と電磁波防止機能付きのコーティング層構造

Info

Publication number: JP3141513U
Application number: JP2008000973U
Authority: JP
Inventors: 正杰張; 秀鳳劉; 璧瑞郭
Original assignee: 智盛全球股▲ふん▼有限公司
Priority date: 2008-02-22
Filing date: 2008-02-22
Publication date: 2008-05-08
Anticipated expiration: 2018-02-22

Abstract

【課題】反射防止と電磁波防止機能付きのコーティング層構造の提供。
【解決手段】反射防止コーティング層構造１と、電磁波防止コーティング層構造２と、第３透明基板３とを備える反射防止と電磁波防止機能付きのコーティング層構造において、前記反射防止コーティング層構造は、第１透明基板１０と、第１透明基板に形成された反射防止コーティング層モジュール１１とを有し、前記電磁波防止コーティング層構造は、第２透明基板２０と、第２透明基板に形成された電磁波防止コーティング層モジュール２１とを有し、前記第３透明基板は、前記反射防止コーティング層構造と前記電磁波防止コーティング層構造との間に設置される。
【選択図】図３

Description

本考案は、コーティング層構造に関し、特に、反射防止と電磁波防止機能付きのコーティング層構造に関する。

光電子原材料生産工業において、重要な原材料である反射防止層パネルの生産とその生産制御方法は、半導体に負けないように、光電子製品に対して、製品収量や生産制御、コストダウン、快速生産等の機能の要求が高くなる。反射防止層パネルの生産技術は、多種類の光電子産業に関連し、例えば、液晶ディスプレーや有機発光ダイオードディスプレー、電界放出ディスプレー及び光学レンズ等である。反射防止層パネルの規格は、各産業の材料に対するニーズに基づいて、反射防止層パネルの制御品質が要求され、特に、大きいサイズであるパネルの場合、従来の反射防止層パネルの量産構造は、アンチグレア処理を利用するため、より優れた基本の原材料を必要とすることを示す。

一般に公知のように、反射防止層パネルの生産技術は、光電子産業において、基材である基礎原材料を生産する技術であり、ほぼ全ての高級パネル工程に、反射防止層パネルが利用され、反射防止層パネルが、他の電子素子とともに一つの光学構造に組み立てられて光学製品になり、これにより、所定の設計機能が達成される。反射防止層パネルに要求される機能は、主として、透過性と反射防止性である。

また、従来の反射防止光学コーティング層の多層構造は、ある一般規則が利用される。この一般規則とは、光学コーティング層の表層は、例えば、屈折率が１．４６であるＳｉＯ₂や屈折率が１．３８であるＭｇＦ₂のような低屈折率を有する物質からなるものである。しかしながら、このような反射防止コーティング層をディスプレー産業に適用する時、例えば、静電気防止効果付きのコンピュータスクリーンや、液晶ディスプレーとプラズマディスプレーに適用される低反射ガラスの場合、光学コーティング層構造の導電層が、絶縁層（例えば、ＳｉＯ₂或いはＭｇＦ₂）から焼成されるため、大量生産の過程に、ボトルネックが存在する。

反射防止コーティング層の基本的な設計規則は、基板表面にレイアウトされた第１層が、高屈折率を有する物質から構成され（Ｈ）、そして、低屈折率である物質から構成される（Ｌ）第２層が接着される。そのため、従来の反射防止コーティング層の多層構造の規則は、ＨＬＨＬやＨＬＨＬＨＬであり、高屈折率（Ｈ）の物質がＩＴＯで、低屈折率（Ｌ）の物質がＳｉＯ₂であるものを例とすると、この４層構造は、それぞれ、Ｇｌａｓｓ／ＩＴＯ／ＳｉＯ₂／ＩＴＯ／ＳｉＯ₂である。ＩＴＯが、透明な導電物質であるため、多層構造であるコーティング層の導電性が、一平方１００オーム（Ω）より低く、また、導電コーティング層が接地される場合、電磁干渉（ＥＭＩ）遮蔽や靜電放電として利用できる。しかしながら、従来の光学多層構造の表面物質がＳｉＯ₂で、且つその厚さが１０００オングストローム（Å）であって、また、ＳｉＯ₂の物質特性が高密度で、不活性で、且つ優れた電気絶縁層であるため、従来の反射防止コーティング層をディスプレー産業の過程に利用するとき、外部のＳｉＯ₂層によって隔離された焼成されたＩＴＯ層に導電性接触することが難しく、金属を、ＩＴＯ層に接触させる接地過程において、はんだボールをＩＴＯ層と良く接触させることを確保するために、超音波ボンディング工程によりＳｉＯ₂層を打破することが必要とされるこの工程は反射防止コーティング層の大量生産に妨害になる。

一方、液態スズや超音波の被曝量により、超音波ボンディング工程において、微細の汚染物が生成し、また、超音波ボンディング工程により各バスラインに、非永続型の接触抵抗が生成してしまう。これは、超音波ボンディング工程が、同じ深さで、均一的に絶縁層を打破して均一的に接触抵抗を生成することができないためである。

上記の問題点により、従来の電磁干渉防止と反射防止コーティング層の工程の収量と信頼性が低下される。

本考案者は、上記の欠点を改善するため、慎重に研究開発し、そして、長年の経験を元として、学理を活用して、設計が合理的で有効に上記の欠点を改善できる本考案を提案する。

本考案の主な目的は、反射防止と電磁波防止機能付きのコーティング層構造を提供する。

本考案は、上記の技術問題を解消するために、反射防止コーティング層構造と、電磁波防止コーティング層構造と、第３透明基板とを備える反射防止と電磁波防止機能付きのコーティング層構造において、前記反射防止コーティング層構造は、第１透明基板と、第１透明基板に形成された反射防止コーティング層モジュールとを有し、前記電磁波防止コーティング層構造は、第２透明基板と、第２透明基板に形成された電磁波防止コーティング層モジュールとを有し、前記第３透明基板は、前記反射防止コーティング層構造と前記電磁波防止コーティング層構造との間に設置されることを特徴とする反射防止と電磁波防止機能付きのコーティング層構造を提供する。

請求項１の考案は、第１透明基板と、第１透明基板に形成される反射防止コーティング層モジュールと、
を有する反射防止コーティング層構造と、
第２透明基板と、第２透明基板に形成される電磁波防止コーティング層モジュールと、を有する電磁波防止コーティング層構造と、
前記反射防止コーティング層構造と前記電磁波防止コーティング層構造の間に設置される第３透明基板と、
を備えることを特徴とする反射防止と電磁波防止機能付きのコーティング層構造としている。
請求項２の考案は、前記第１透明基板と前記第２透明基板は、ともに、ポリエチレンテレフタレートからなり、前記第３透明基板は、ガラスからなり、また、前記第１透明基板の厚さが、１５０μｍ〜２００μｍの範囲にあり、前記第２透明基板の厚さが、１００μｍ〜１５０μｍの範囲にあることを特徴とする請求項１に記載の反射防止と電磁波防止機能付きのコーティング層構造としている。
請求項３の考案は、前記反射防止コーティング層モジュールは、複数層の第１酸化コーティング層と複数層の第２酸化コーティング層が、交互に積層されてなり、また、前記第１酸化層は前記第２酸化層より屈折率が高いことを特徴とする請求項１に記載の反射防止と電磁波防止機能付きのコーティング層構造としている。
請求項４の考案は、前記電磁波防止コーティング層モジュールは、複数層の混合物コーティング層と複数層の金属コーティング層が、交互に積層されてなり、また、前記混合物コーティング層は前記金属コーティング層より屈折率が高いことを特徴とする請求項１に記載の反射防止と電磁波防止機能付きのコーティング層構造としている。
請求項５の考案は、更に、それぞれ反射防止コーティング層構造と第３透明基板との間に、及び第３透明基板と電磁波防止コーティング層構造との間に設けられた２層の粘着層を備えることを特徴とする請求項１に記載の反射防止と電磁波防止機能付きのコーティング層構造としている。

本考案に係るコーティング層構造は、同時に、反射防止機能と電磁波防止機能を有するため、次の利点が得られる。
１．本考案に係るコーティング層構造は、反射防止層を重要視する高級光学パネル原材料として、光電子製品を生産する産業（例えば、液晶ディスプレーや、スクリーンフィルターや、メガネや、高レベルディスプレーや、電界放出ディスプレーや、光センサ等である）に適用でき、また、低コストで高品質の工程生産効果が得られる。
２．本考案に係るコーティング層構造は、高導電性の特性を有するため、プラズマディスプレーの製造に適用される時、電磁干渉遮蔽や光学視野角低反射、高表面硬度耐引っかき性及び適当な光減衰効果等の利点が得られる。
３．本考案に係るコーティング層構造は、表層に優れた導電特性を有するため、接地工程に必要とする作業負荷を低減させ、また、大量生産の収量や信頼性を向上させることができる。

以下、図面を参照しながら、本考案について、その予期の目的を達成するための技術や手段、そして、その効果を詳しく説明する、それは、だだ、参考のためのものであり、本考案は、それによって制限されることがない。

図１乃至図３は、それぞれ、本考案に係る反射防止コーティング層構造の構造概念図と、本考案に係る電磁波防止コーティング層構造の構造概念図と、本考案に係る反射防止と電磁波防止機能付きのコーティング層構造の構造概念図である。

また、図１のように、本考案は、第１透明基板１０と、第１透明基板１０に形成される反射防止コーティング層モジュール１１とを有する反射防止コーティング層構造１と、第２透明基板２０と、第２透明基板に形成される電磁波防止コーティング層モジュール２１とを有する電磁波防止コーティング層構造２とを備える。また、第１透明基板１０は、ポリエチレンテレフタレート（ＰｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅＴｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ、ＰＥＴ）からなり、その厚さが、１５０μｍ〜２００μｍの範囲にある。

また、反射防止コーティング層モジュール１１は、２層の第１酸化コーティング層１１ａと２層の第２酸化コーティング層１１ｂが、交互に積層されてからなり、また、第１酸化層１１ａは、第２酸化層１１ｂより屈折率（ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅｉｎｄｅｘ）が高い。上記の第１酸化コーティング層と第２酸化コーティング層の層数は、制限が無く、本考案は、少なくとも２層（ａｔｌｅａｓｔｔｗｏ）の第１酸化コーティング層と第２酸化コーティング層であってもよく、複数層の第１酸化コーティング層と第２酸化コーティング層であってもよい。

反射防止コーティング層モジュール１１は、次の２種類の実施態様によって実現される。
１．第１の実施態様は、第１酸化コーティング層１１ａが金属酸化物（ｍｅｔａｌｏｘｉｄｅ）からなり、第２酸化コーティング層１１ｂが非金属酸化物（ｎｏｎ−ｍｅｔａｌｏｘｉｄｅ）からなる態様であり、
２．第２の実施態様は、第１酸化コーティング層１１ａがインジウム酸化スズ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ、ＩＴＯ）や五酸化ニオブ（Ｎｂ₂Ｏ₅）や酸化亜鉛（ＺｎＯ）からなり、第２酸化コーティング層１１ｂが、二酸化ケイ素（ＳｉＯ₂）からなる態様である。

また、図２のように、本考案は、電磁波防止コーティング層構造２を提供する。この電磁波防止コーティング層構造２は、第２透明基板２０と、第２透明基板に形成される電磁波防止コーティング層モジュール２１とが備えられる。また、第２透明基板２０は、ポリエチレンテレフタレート（ＰｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅＴｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ、ＰＥＴ）からなり、また、その厚さが、１００μｍ〜１５０μｍの範囲にある。

また、電磁波防止コーティング層モジュール２１は、複数層の混合物コーティング層２１ａと複数層の金属コーティング層２１ｂが、交互に積層されてからなり、また、混合物コーティング層２１ａは金属コーティング層２１ｂより屈折率（ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅｉｎｄｅｘ）が高い。上記の混合物コーティング層と金属コーティング層の層数は、制限が無く、本考案は、少なくとも２層（ａｔｌｅａｓｔｔｗｏ）の混合物コーティング層と金属コーティング層からなっても、複数層の混合物コーティング層と金属コーティング層からなっても、適用できる。

電磁波防止コーティング層モジュール２１は、次の６種類の実施態様によって実現される。
１．第１の実施態様は、前記第２透明基板２０側の混合物コーティング層２１ａが、二酸化チタン（ＴｉＯ₂）で、他の混合物コーティング層２１ａが、ＺｎＯ：Ａｌであり、また、金属コーティング層２１ｂが銀（Ａｇ）であり、
２．第２の実施態様は、前記第２透明基板２０側の混合物コーティング層２１ａが、二酸化チタン（ＴｉＯ₂）で、他の混合物コーティング層２１ａが、ＳｎＯ：Ｓｂであり、また、金属コーティング層２１ｂが、銀（Ａｇ）であり、
３．第３の実施態様は、混合物コーティング層２１ａが炭素シリカ化合物コーティング層であって、この炭素シリカ化合物コーティング層が炭化ケイ素（ＳｉＣ）であり、また、金属コーティング層２１ｂが、銀（Ａｇ）であり、
４．第４の実施態様は、混合物コーティング層２１ａがチタン含有酸化物コーティング層であって、このチタン含有酸化物コーティング層が二酸化チタン（ＴｉＯ₂）であり、また、金属コーティング層２１ｂが、銀（Ａｇ）であり、
５．第５の実施態様は、混合物コーティング層２１ａが炭素シリカ化合物とチタン含有酸化物（Ｔｉ−ｂａｓｅｄｏｘｉｄｅ）からなり、この炭素シリカ化合物が、炭化ケイ素（ＳｉＣ）で、チタン含有酸化物が、二酸化チタン（ＴｉＯ₂）であり、また、金属コーティング層２１ｂが、銀（Ａｇ）であり、
６．第６の実施態様は、混合物コーティング層２１ａが、チタン含有酸化物（Ｔｉ−ｂａｓｅｄｏｘｉｄｅ）と炭素（ｃａｒｂｏｎ）からなり、このチタン含有酸化物が二酸化チタン（ＴｉＯ₂）であり、また、金属コーティング層２１ｂが、銀（Ａｇ）である。

図３のように、本考案は、反射防止と電磁波防止機能付きのコーティング層構造を提供する。この反射防止と電磁波防止機能付きのコーティング層構造は、反射防止コーティング層構造１（図１のように）と、電磁波防止コーティング層構造２（図２のように）と、第３透明基板３と、それぞれ反射防止コーティング層構造１と第３透明基板３との間に、及び第３透明基板３と電磁波防止コーティング層構造２との間に設置された２層の粘着層４が備えられる。

その中、反射防止コーティング層構造１は、第１透明基板１０と第１透明基板１０に形成された反射防止コーティング層モジュール１１が備えられ、また、電磁波防止コーティング層構造２は、第２透明基板２０と第２透明基板に形成された電磁波防止コーティング層モジュール２１が備えられる。また、第３透明基板３は、反射防止コーティング層構造１と電磁波防止コーティング層構造２の間に設置される。また、第１透明基板１０と第２透明基板２０は、ともにポリエチレンテレフタレート（ＰｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅＴｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ、ＰＥＴ）からなり、第３透明基板３は、ガラス（ｇｌａｓｓ）である。また、第１透明基板１０の厚さが、１５０μｍ〜２００μｍの範囲にあり、第２透明基板２０の厚さが、１００μｍ〜１５０μｍの範囲にある。

また、図３の実施例において、反射防止コーティング層構造１の第１透明基板１０が、第３透明基板３に面し、また、電磁波防止コーティング層構造２の電磁波防止コーティング層モジュール２１が、第３透明基板３に面する。本考案は、前記反射防止コーティング層構造１と第３透明基板３と電磁波防止コーティング層構造２の重ね合う方式によって制限されず、例えば、本考案は、次の３種類の重ね合う方式を利用することができ、
その１は、反射防止コーティング層構造１の反射防止コーティング層モジュール１１が、第３透明基板３に面し、また、電磁波防止コーティング層構造２の第２透明基板２０が、第３透明基板３に面する方式であり、
その２は、反射防止コーティング層構造１の第１透明基板１０と電磁波防止コーティング層構造２の第２透明基板２０が、ともに第３透明基板３に面する方式であり、
その３は、反射防止コーティング層構造１の反射防止コーティング層モジュール１１と電磁波防止コーティング層構造２の電磁波防止コーティング層モジュール２１が、ともに、第３透明基板３に面する方式である。

以上のように、本考案に係るコーティング層構造は、同時に、反射防止機能と電磁波防止機能を有するため、本考案に係るコーティング層構造は、次の利点が得られ、
１．本考案に係るコーティング層構造は、反射防止層を重要視する高級光学パネル原材料として、光電子製品を生産する産業（例えば、液晶ディスプレーや、スクリーンフィルターや、メガネや、高レベルディスプレーや、電界放出ディスプレーや、光センサ等である）に適用でき、また、低コストで高品質の工程生産効果が得られ、
２．本考案に係るコーティング層構造は、高導電性の特性を有するため、プラズマディスプレーパネル（ＰｌａｓｍａＤｉｓｐｌａｙＰａｎｅｌ、ＰＤＰ）の製造に適用される時、電磁干渉遮蔽や光学視野角低反射、高表面硬度耐引っかき性及び適当な光減衰効果等の利点が得られ、
３．本考案に係るコーティング層構造は、表層に優れた導電特性を有するため、接地工程に必要とする作業負荷を低減させ、また、大量生産の収量や信頼性を向上させることができる。

以上は、ただ、本考案のより良い実施例であり、本考案は、それによって制限されることが無く、本考案に係わる考案登録請求の範囲や明細書の内容に基づいて行った等価の変更や修正は、全てが、本考案の考案登録請求の範囲内に含まれる。

本考案に係る反射防止コーティング層構造の構造概念図である。本考案に係る電磁波防止コーティング層構造の構造概念図である。本考案に係る反射防止と電磁波防止機能付きのコーティング層構造の構造概念図である。

符号の説明

１反射防止コーティング層構造
１０第１透明基板
１１反射防止コーティング層モジュール
１１ａ第１酸化コーティング層
１１ｂ第２酸化コーティング層
２電磁波防止コーティング層構造
２０第２透明基板
２１電磁波防止コーティング層モジュール
２１ａ混合物コーティング層
２１ｂ金属コーティング層
３第３透明基板
４粘着層

Claims

第１透明基板と、第１透明基板に形成される反射防止コーティング層モジュールと、
を有する反射防止コーティング層構造と、
第２透明基板と、第２透明基板に形成される電磁波防止コーティング層モジュールと、を有する電磁波防止コーティング層構造と、
前記反射防止コーティング層構造と前記電磁波防止コーティング層構造の間に設置される第３透明基板と、
を備えることを特徴とする反射防止と電磁波防止機能付きのコーティング層構造。
前記第１透明基板と前記第２透明基板は、ともに、ポリエチレンテレフタレートからなり、前記第３透明基板は、ガラスからなり、また、前記第１透明基板の厚さが、１５０μｍ〜２００μｍの範囲にあり、前記第２透明基板の厚さが、１００μｍ〜１５０μｍの範囲にあることを特徴とする請求項１に記載の反射防止と電磁波防止機能付きのコーティング層構造。
前記反射防止コーティング層モジュールは、複数層の第１酸化コーティング層と複数層の第２酸化コーティング層が、交互に積層されてなり、また、前記第１酸化層は前記第２酸化層より屈折率が高いことを特徴とする請求項１に記載の反射防止と電磁波防止機能付きのコーティング層構造。
前記電磁波防止コーティング層モジュールは、複数層の混合物コーティング層と複数層の金属コーティング層が、交互に積層されてなり、また、前記混合物コーティング層は前記金属コーティング層より屈折率が高いことを特徴とする請求項１に記載の反射防止と電磁波防止機能付きのコーティング層構造。
更に、それぞれ反射防止コーティング層構造と第３透明基板との間に、及び第３透明基板と電磁波防止コーティング層構造との間に設けられた２層の粘着層を備えることを特徴とする請求項１に記載の反射防止と電磁波防止機能付きのコーティング層構造。