JP3140970U - 光感知モジュールのパッケージング - Google Patents
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Abstract
【課題】光感知モジュールの加工ステップを簡略化し、パッケージング時間を短縮することを可能にする光感知モジュールのパッケージングを提供する。
【解決手段】基板20、光感知チップ30、透光ガラス40及びパッケージング層50を備える。そのうちの光感知チップ30は基板20に配置され、作用区32を有する。透光ガラス40は作用区32を遮蔽するように光感知チップ30の表面に貼り付けられる。パッケージング層50は鋳型法によって基板20、光感知チップ30の外周の部分及び透光ガラス40の側縁の部分を被覆し、かつ作用区32を露出させる。
【選択図】図1
【解決手段】基板20、光感知チップ30、透光ガラス40及びパッケージング層50を備える。そのうちの光感知チップ30は基板20に配置され、作用区32を有する。透光ガラス40は作用区32を遮蔽するように光感知チップ30の表面に貼り付けられる。パッケージング層50は鋳型法によって基板20、光感知チップ30の外周の部分及び透光ガラス40の側縁の部分を被覆し、かつ作用区32を露出させる。
【選択図】図1
Description
本考案は光感知モジュール、特に光感知モジュールのパッケージングに関する。
図4に示すように、従来の光感知モジュールのパッケージング1は基板2、光感知チップ3、パッケージング層4及び透光ガラス5を備える。光感知チップ3は基板2の頂面に配置され、かつ数多くの金線6によって基板2に電気的に接続される。パッケージング層4は鋳型法(molding)によって基板2及び光感知チップ3の作用区以外の部分を被覆し、かつパッケージング層4は光感知チップ3の作用区7に対応する穿孔8を有する。透光ガラス5は穿孔8の端縁部に装着される。これにより光感知モジュールをパッケージングし、光感知チップ3を保護する目的を達成することが可能である。
しかし、この方法は透光ガラス5を固着するために先にパッケージング層4の穿孔8の端縁部に切削を行って孔を広げるか接着剤を塗布するような工程を行わなければならない。言い換えれば、従来の光感知モジュールのパッケージングは加工ステップが複雑であるため、手間がかかるという欠点を抱える。
このように、従来の光感知モジュールのパッケージンは上述の欠点を抱えるため、改善の余地がある。
このように、従来の光感知モジュールのパッケージンは上述の欠点を抱えるため、改善の余地がある。
本考案の主な目的は光感知モジュールの加工ステップを簡略化し、光感知モジュールのパッケージング時間を短縮することを可能にする光感知モジュールのパッケージングを提供することである。
上述の目的を達成するために、本考案による光感知モジュールのパッケージングは、基板、光感知チップ、透光ガラス及びパッケージング層を備える。そのうちの光感知チップは基板に配置され、作用区を有する。透光ガラスは作用区を遮蔽するように光感知チップの表面に貼り付けられる。パッケージング層は鋳型法によって基板、光感知チップの外周の部分及び透光ガラスの側縁の部分を被覆し、かつ作用区を露出させる。
これにより、本考案による光感知モジュールのパッケージングは、パッケージング層に切削を行って孔を広げるか接着剤を塗布するようなプロセスを必要とせず、パッケージング層を製作するプロセスにおいて透光ガラスを固着することにより、光感知モジュールの加工ステップを簡略化する目的を達成することが可能なだけでなく、従来のものと比べて光感知モジュールの加工時間を短縮可能である。
以下、本考案の構造、特徴及び効果を説明するため、本考案の実施形態を図面に基づいて説明する。まず図面の説明は次の通りである。
図1は本考案の第1実施形態による光感知モジュールのパッケージングを示す模式図である。
図2は本考案の第2実施形態による光感知モジュールのパッケージングを示す模式図である。
図3は本考案の第3実施形態による光感知モジュールのパッケージングを示す模式図である。
図1は本考案の第1実施形態による光感知モジュールのパッケージングを示す模式図である。
図2は本考案の第2実施形態による光感知モジュールのパッケージングを示す模式図である。
図3は本考案の第3実施形態による光感知モジュールのパッケージングを示す模式図である。
(第1実施形態)
図1に示すように、本考案の第1実施形態による光感知モジュールのパッケージング10は、基板20、光感知チップ30、透光ガラス40及びパッケージング層50を備える。
基板20はセラミックス基板であり、基板20は頂部に光感知チップ30との電気的接続に用いる数多くの接点22を有する。基板20は従来のものと同じであるため、詳細な説明を省略する。
図1に示すように、本考案の第1実施形態による光感知モジュールのパッケージング10は、基板20、光感知チップ30、透光ガラス40及びパッケージング層50を備える。
基板20はセラミックス基板であり、基板20は頂部に光感知チップ30との電気的接続に用いる数多くの接点22を有する。基板20は従来のものと同じであるため、詳細な説明を省略する。
光感知チップ30は基板20に配置され、作用区32と光感知チップ30の頂部に位置する数多くの接点34とを有する。基板20と光感知チップ30とはワイヤボンディング法、とボールゲートアレイ法(ball gate array;BGA)などのいずれか一つによって電気的に接続される。第1実施形態においては、基板20と光感知チップ30とは数多くの金線36によるワイヤボンディング法で基板20の接点22と光感知チップ30の接点34とが電気的に接続される。光感知チップ30はCCD(charge-coupled device)、CMOS(complementary metal oxide semiconductor)、LED(light-emitting diode)などのいずれか一つから構成される。第1実施形態では、光感知チップ30はCCDを例として使用する。
透光ガラス40は作用区32を遮蔽するように光感知チップ30の表面に貼り付けられる。透光ガラス40は特定の光学効果を与えることを可能にする偏光効果を有する。
パッケージング層50は作用区32を露出させるために、鋳型法で基板20、光感知チップ30の外周の部分及び透光ガラス40の側縁の部分を被覆することによって光感知チップ30の作用区32に対応する穿孔52を形成する。穿孔52は外部の光線を通過させて作用区32に投射するために、基板20側から外部の方向へ徐々に拡張される。透光ガラス40の側縁の部分はパッケージング層50によって固着効果を有する。パッケージング層50はエポキシ樹脂(epoxy resin)、熱硬化性材料、光硬化性樹脂などのパッケージング材料のうちの一つから構成される。第1実施形態では、パッケージング層50はエポキシ樹脂を例として使用する。
パッケージング層50は作用区32を露出させるために、鋳型法で基板20、光感知チップ30の外周の部分及び透光ガラス40の側縁の部分を被覆することによって光感知チップ30の作用区32に対応する穿孔52を形成する。穿孔52は外部の光線を通過させて作用区32に投射するために、基板20側から外部の方向へ徐々に拡張される。透光ガラス40の側縁の部分はパッケージング層50によって固着効果を有する。パッケージング層50はエポキシ樹脂(epoxy resin)、熱硬化性材料、光硬化性樹脂などのパッケージング材料のうちの一つから構成される。第1実施形態では、パッケージング層50はエポキシ樹脂を例として使用する。
第1実施形態では、パッケージング層50に切削を行って孔を広げるか接着剤を塗布するようなプロセスを必要とせず、パッケージング層50を製作するプロセスにおいて直接透光ガラス40の側縁の部分を固着することにより光感知モジュールの加工ステップを簡略化する目的を達成することが可能なだけでなく、従来のものと比べて光感知モジュールの加工時間を短縮可能な特性を有する。また透光ガラス40は直接光感知チップ30の作用区32に貼り付けられるため、比較的良好な透光率を与えることが可能である。第1実施形態のテスト結果では、透光率は94%以上まで達した。
(第2実施形態)
図2に示すのは、本考案の第2実施形態による光感知モジュールのパッケージングの模式図である。光感知モジュールのパッケージング12は第1実施形態とほぼ同じで、基板60、光感知チップ70、透光ガラス80及びパッケージング層90を備える。第1実施形態との違いは次の通りである。基板60と光感知チップ70とは数多くの半田ボール72によるボールゲートアレイ法で基板60の接点62と光感知チップ70の接点74とを電気的に接続する。基板60は作用区76を露出させるために光感知チップ70の作用区76に対応する穿孔64を有するため、外部の光線を穿孔64から作用区に投射することが可能である。第2実施形態の目的は本考案がボールゲートアレイ法によって基板60と光感知チップ70とを電気的に接続する場合を説明するためである。これにより、第2実施形態は第1実施形態と同じ効果を達成することが可能なだけでなく、別の実施形態を提供することが可能である。
図2に示すのは、本考案の第2実施形態による光感知モジュールのパッケージングの模式図である。光感知モジュールのパッケージング12は第1実施形態とほぼ同じで、基板60、光感知チップ70、透光ガラス80及びパッケージング層90を備える。第1実施形態との違いは次の通りである。基板60と光感知チップ70とは数多くの半田ボール72によるボールゲートアレイ法で基板60の接点62と光感知チップ70の接点74とを電気的に接続する。基板60は作用区76を露出させるために光感知チップ70の作用区76に対応する穿孔64を有するため、外部の光線を穿孔64から作用区に投射することが可能である。第2実施形態の目的は本考案がボールゲートアレイ法によって基板60と光感知チップ70とを電気的に接続する場合を説明するためである。これにより、第2実施形態は第1実施形態と同じ効果を達成することが可能なだけでなく、別の実施形態を提供することが可能である。
(第3実施形態)
図3に示すの、は本考案の第3実施形態による光感知モジュールのパッケージングの模式図である。光感知モジュールのパッケージング構造14は第1実施形態とほぼ同じで、基板100、光感知チップ110、透光ガラス120及びパッケージング層130を備える。第1実施形態との違いは基板100がリードフレームから構成されることである。第3実施形態の目的は本考案がリードフレームによって光感知チップ110を搭載する場合を説明するためである。これにより、第3実施形態は第1実施形態と同じ効果を達成することが可能なだけでなく、別の実施形態を提供することが可能である。
図3に示すの、は本考案の第3実施形態による光感知モジュールのパッケージングの模式図である。光感知モジュールのパッケージング構造14は第1実施形態とほぼ同じで、基板100、光感知チップ110、透光ガラス120及びパッケージング層130を備える。第1実施形態との違いは基板100がリードフレームから構成されることである。第3実施形態の目的は本考案がリードフレームによって光感知チップ110を搭載する場合を説明するためである。これにより、第3実施形態は第1実施形態と同じ効果を達成することが可能なだけでなく、別の実施形態を提供することが可能である。
本考案の実施形態により提示されたユニットは説明のための一例に過ぎず、本考案の請求範囲を限定することがないため、効果が同等なユニットに取り替えるような変化は本考案の請求範囲に属すべきである。
10:パッケージング、20:基板、22:接点、30:光感知チップ、32:作用区、34:接点、36:金線、40:透光ガラス、50:パッケージング層、52:穿孔、12:パッケージング、60:基板、62:接点、64:穿孔、70:光感知チップ、71:半田ボール、74:接点、76:作用区、80:透光ガラス、90:パッケージング層、14:パッケージング、100:基板、110:光感知チップ、120:透光ガラス、130:パッケージング層
Claims (8)
- 基板と、
前記基板に配置され、作用区を有する光感知チップと、
前記作用区を遮蔽するように前記光感知チップの表面に貼り付けられる透光ガラスと、
鋳型法によって前記基板、前記光感知チップの外周の部分及び前記透光ガラスの側縁の部分を被覆し、かつ前記作用区を露出させるパッケージング層と、
を備えることを特徴とする光感知モジュールのパッケージング。 - 前記基板と前記光感知チップとはワイヤボンディング法又はボールゲートアレイ法のいずれか一つによって電気的に接続されることを特徴とする請求項1に記載の光感知モジュールのパッケージング。
- 前記光感知チップはCCD、CMOS、又はLEDのいずれか一つから構成されることを特徴とする請求項1に記載の光感知モジュールのパッケージング。
- 前記透光ガラスは偏光効果を有することを特徴とする請求項1に記載の光感知モジュールのパッケージング。
- 前記パッケージング層はエポキシ樹脂、熱硬化性材料、又は光硬化性樹脂のパッケージング材料のうちの一つから構成されることを特徴とする請求項1に記載の光感知モジュールのパッケージング。
- 前記パッケージング層は前記作用区に対応する穿孔を有し、前記穿孔は外部の光線を通過させて前記作用区に投射することが可能であることを特徴とする請求項1に記載の光感知モジュールのパッケージング。
- 前記穿孔は前記基板側から外部の方向へ徐々に拡張されることを特徴とする請求項6に記載の光感知モジュールのパッケージング。
- 前記基板は前記作用区に対応する穿孔を有し、前記穿孔は外部の光線を通過させて前記作用区に投射することが可能であることを特徴とする請求項1に記載の光感知モジュールのパッケージング。
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