JP3124708U

JP3124708U - 偏光板の構造

Info

Publication number: JP3124708U
Application number: JP2006004649U
Authority: JP
Inventors: 李光榮; 曾盈達; 王丹青; 林宜真; 莊毓▲けい▼
Original assignee: 力特光電科技股▲ふん▼有限公司
Priority date: 2006-01-24
Filing date: 2006-06-15
Publication date: 2006-08-24
Anticipated expiration: 2016-06-15
Also published as: TWM294654U; DE202006010950U1; US20070172686A1

Abstract

【課題】耐熱性に優れており、機械的性質が良好で、低光弾性係数且つ良好な光学性質を備えた偏光板の構造を提供する。
【解決手段】偏光板と、第一光学フィルム及び第二光学フィルムを含み、且つ第一光学フィルムは前記偏光板の上側に形成され、第二光学フィルムは偏光板の下側に形成される。そのうち、第一光学フィルム及び第二光学フィルムの少なくとも一つの光学フィルムはポリメチルメタクリレート（PMMA）の光学フィルムである。光学フィルムは混合溶液により基板の上に分布させた後、偏光板に貼り合わせ熱処理を行い形成され、或いは、光学フィルムは前記混合液により偏光板の表面に分布され熱処理を行い形成される。
【選択図】図1

Description

本考案は光学フィルムとブレンド光学高分子が調整された上記光学フィルムの方法に関し、特にPMMA（ポリメチルメタクリレート）光学フィルム及び溶剤鋳膜技術により調整された上記PMMA光学フィルムの方法である。

伝統的な偏光板の構造が偏光基板の上、下表面にそれぞれ光学フィルムを設置することで構成され、このような光学フィルムの基本材料は一般的にトリアセテート（TAC）、PC（ポリカーボネート）、COPを主とする。典型的なTACフィルムはさらに光学フィルムの保護フィルムとベースフィルムとなっているので、一般的なTACフィルムは必要とされる光学特性を満たさなくてはいけない以外に、光学フィルムの使用需要を達成させ或いは保護TACフィルムの光学フィルムの効果を提供するために一定の強度且つ耐熱性及び耐湿性を有さなくてはならない。（以下の特許を参考にする：日本特許第４３４２２０２号、台湾特許第４９９５７３号、日本特願２０００−３２４０５５、日本特願２００１−２３５６２５、日本特願２００３−１９５０４８、ヨーロッパ特許第１−２８５７４２号、ヨーロッパ特許第１−３３１２４５号）。またアメリカ合衆国特許第６，６５２，９２６B1号で０．０４％乃至０．３％のシリカ粒子をTACに添加すると、TACフィルムの靭性が増し、TACの膜厚を減少させることができると記載されている。

続いて、基板或いは保護フィルムの形成に関し、アメリカ合衆国特許出願第２００４/００８６７２１A1号において、２０％乃至４０％のPVDF（ポリフッ化ビニリデン）、４０乃至６０％のPMMA（ポリメチルメタクリレート）及び５％乃至１８％のアクリルエラストマーを溶融混合方式により基板或いは保護フィルムを形成できると記載されている。ヨーロッパ特許第１１５４００５A1号ではPETフィルム中に５μmより小さい微粒子を混合させ平均粗さが２０nm乃至６００nmのPETフィルムを形成できると記載されている。このほか、日本特開平７−５６０１７号で、ポリカーボネート樹脂を８０重量％、（株）クラレ製ＰＭＭＡ系樹脂Ｌ−１６（メチルメタクリレートとメタクリル酸トリブロモフェニルの共重合体）２０重量％を押し出すことにより厚さ８０μｍの透明フィルムを得ることができ、及びメチルメタクリレート９７重量％およびブチルアクリレート３重量％からなるPMMA共重合体７５重量％にポリエチルアクリレート２５重量％を混合した後、押し出しにより、厚さ５００μmのフィルムを得たとしている。

従来の技術の欠点は、TACフィルムの吸水性と透湿性が高いので、高温高湿環境下で使用した際、外部環境によりフィルムが変形したり、応力が生じるため、光学フィルムの光学特性に影響を及ぼし、ひいては光学フィルムが使えなくなる。またTACのｂ値が高いことは外観上明らかに分かり、視覚障害を引き起こし易くなる。そのほか、COPフィルム（例えばゼオノア（Zeonor）、アートン（Arton））の吸水性と透湿性が低すぎるため、性質が劣り、材料が脆くなり過ぎるという問題がある。ヨーロッパ特許第EP１１５４００５A1号中の微粒子は表面粗さを減少させることができるが、その用いられるPETのガラス転移温度が低く（７５℃）、現在光学フィルムの耐熱性に対する要求に適合できない。日本特開平７−５６０１７号に記載されているポリメチルメタクリレート（PMMA）/PCブレンドの材料性質は脆すぎ、ポリメチルメタクリレート（PMMA）/PEAブレンドの材料厚さは５００μmにまで達し、相対する現在の光学フィルムの適用性は不十分である。

上記の欠点に鑑みて、また溶融混合や熱塑性加工により材料が不安定な状態にならないように、及び光学フィルムの耐熱性、耐湿性と機械的性質を改善し、光学フィルムの安定性に関する問題を有効的に解決するために、本考案は上記欠点を解決することのできる偏光板の構造を提供する。
日本特許第４３４２２０２号台湾特許第４９９５７３号日本特願２０００−３２４０５５日本特願２００１−２３５６２５日本特願２００３−１９５０４８ヨーロッパ特許第１−２８５７４２号ヨーロッパ特許第１−３３１２４５号アメリカ合衆国特許第６，６５２，９２６B1号アメリカ合衆国特許出願第２００４/００８６７２１A1号ヨーロッパ特許第１１５４００５A1号日本特開平７−５６０１７号

本考案の目的は溶剤鋳膜技術を用いてPMMAを混合した偏光板の構造を提供することで、PMMAは毒性を持たない溶剤（例えばトルエン等）中で溶解させ、TACの製造工程で人体及び環境に害となり得るジクロロメタンを大量に使用するのを避けることができる。

本考案の次の目的は最適な吸水性と透湿性を提供することで、偏光板の光学性質の変異に関する問題を有効的に解決できる。

本考案の別の目的は耐熱性に優れており、機械的性質が良好で、低光弾性係数且つ良好な光学性質を備えており、例えば：低霧度、低黄化指数、高アッべ数、可視光の範囲（波長４００乃至７００nm）で高い透過度（＞９０％）を持ち、均一なフィルム面の性質（例えば厚み、表面粗さ等）を備える偏光板の構造を提供することで、溶融混合や熱塑性加工により材料が不安定な状態にならないようにさせることができる。

さらに、本考案における溶剤鋳膜技術を用いてPMMAを混合して調整された偏光板は多くのメリットを持っている。１．耐熱性に優れており、機械的性質が良好で、低光弾性係数且つ良好な光学性質を備えており、例えば：高透明性、低霧度、低黄化指数、高アッべ数、可視光の範囲（波長４００乃至７００nm）で高い透過度（＞９０％）を持ち、均一なフィルム面の性質（例えば厚み、表面粗さ等）を備える光学フィルムである。２．溶融混合や熱塑性加工により材料が不安定な状態にならないようにさせることができる。３．最適な吸水性と最適な透湿性を提供することで、偏光板の光学性質の変異に関する問題を有効的に解決できる。４．製造プロセスの簡易化。５．低光弾性係数。６．レジンの原料は十分であるので、有効的にコストを低下できる。７．高温高圧下のPVAインターシュリンクエージ（inter shrinkage）を有効的に下げる。

本考案が提案する偏光板の構造が、偏光層と、第一光学フィルム及び第二光学フィルムを含み、且つ第一光学フィルムは前記偏光層の上側に形成され、第二光学フィルムは前記偏光層の下側に形成される。そのうち、前記第一光学フィルム及び第二光学フィルムの少なくとも一つの光学フィルムはポリメチルメタクリレート（PMMA）の光学フィルムである。

さらに、前記光学フィルムは前記混合溶液により基板の上に分布させた後、前記偏光フィルムに貼り合わせ熱処理を行い形成され、或いは、前記光学フィルムは前記混合液により前記偏光フィルムの表面に分布され熱処理を行い形成される。そのうち、前記光学フィルムの製造において、PMMA、官能基が置換されたPMMA或いはPMMAブレンドの少なくともいずれか一つの材料を溶剤と混同させ均一な混合溶液を形成させる。上記混合溶液を均一に基板上に分布させ、熱処理を行うと均一な表面の光学フィルムが得られる。

上記官能基はメチル基であり、上記置換されたPMMAはエチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ネオブチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキサン基等の官能基がメチル基を置換したPMMAを含む。上記ブレンドは高分子、小分子、可塑剤、紫外線吸収剤、抗降解剤（antidegradants）、或いはナノ粒子の少なくとも一つの材料を混合する。上記溶剤は芳香族、環状アルキル類、エーテル類、エステル類或いはケトン類の少なくとも一つを含む。上記芳香族はトルエン、オルトキシレン、メタキシレン、パラキシレンを含み、環状アルキル類はシクロヘキサンを含み、エーテル類はジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（THF）を含み、エステル類はメチルアセテート、エチルアセテートを含み、ケトン類はアセトン、メチルエチルケトン（MEK）、１−メチルピロリドン（NMP）を含む。

上記混合液は溶剤鋳膜方式により上記基板上に均一に分布する。上記溶剤鋳膜方式はスクレーパー塗布、纏線棒塗布、逆或いは同方向式ロール塗布、エアーカーテン式塗布、ロール式の塗布、グラビアコーティング、ディップ式塗布、回転塗布、スリット式の塗布、押し出し式塗布或いはシャワー式の塗布を含む。上記基板はガラス基板、プラスチック基板、鏡面鋼板、鏡面鋼テープ或いは表面が均一な状態である合成高分子を含む。上記合成高分子はPET（ポリエチレンテレフタラート）、PEN（ポリエチレンナフタレート）、PES（ポリエーテルサルホン）PI（ポリイミド）、PAR（ポリアリレート）、PC（ポリカーボネート）或いは天然繊維例えばCA（セルロースアセテート）、DAC（セルロース・ジアセテート）、TAC（セルロース・トリアセテート）などを含む。上記混合溶液が均一に上記基板上に分布し、その厚さは１５０μm乃至１２００μmである。上記熱処理では紫外線光により均一に分布している上記基板上の混合溶液を照射する。

また、本考案の光学フィルムに、更にPMMA、官能基が置換されたPMMA及びPMMAブレンドの少なくとも一つにより被覆されたゴム弾性材料が形成しているPMMAゴム粒子を添加し、その上記ゴム弾性材料がブチルアクリレート、メチルメタクリレート、スチレン及びその共重合物から選択することができ、且つ上記ゴム弾性材料の粒径は１０μmよりも小さく、ひいてはナノレベルでもよく、光学フィルムの機械的性質を向上させることができる。

ここで、本考案の詳細な実施例を示す。しかし、注意すべきことは、このような明確な叙述以外に、本考案を広い範囲で実施例を実施することができ、本考案の範囲は上記実施例に限るものではなく、実用新案登録請求の範囲によって決定される。

図１に本考案である偏光板の構造に係る具体的な実施例の立体正投影図を示す。図１に示すように、本考案である偏光板の構造は主に偏光層（１）の上側及び下側にそれぞれ第一光学フィルム（２）及び第二光学フィルム（３）を備え、且つ前記第一光学フィルム（２）及び第二光学フィルム（３）の少なくとも一つの光学フィルムはポリメチルメタクリレート（PMMA）の光学フィルムである。

さらに、前記の前記第一光学フィルム（２）及び第二光学フィルム（３）において、光学フィルムはポリメチルメタクリレート（PMMA）の光学フィルムで、もう一方の光学フィルムはトリアセテート（TAC）、ポリカーボネート(PC)及びシクロオレフィンポリマー(COP)のいずれかの材料から選ばれ、前記偏光層（１）をサポート或いは保護するものである。

本考案で提案しているPMMA光学フィルムは、主にPMMA、官能基が置換されたPMMA或いはPMMAブレンドの材料から構成される。

また、本考案で示しているTACは主にコニカ社の型番KC８U製品及び富士フィルム社の型番TDY-80から選ばれる。

図２に本考案である偏光板の構造に係る具体的な実施例の製造フローチャートを示す。図２に示すように、本考案である偏光板の構造の製作方法は、まず工程１０１でPMMA高分子及び溶剤を選択し、つまり１種類或いは２種類以上のPMMA或いは化学/物理手法により改質されたPMMAを選択し、必要な仕様に応じて任意の比率で均一に上記溶剤中で混合する。最適な状態は、溶液中のPMMAの固体含有量が２０％乃至４０％である。例を挙げれば、上記化学手法は官能基が置換されたPMMAを用いることを含み、例えば、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ネオブチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキサン基等の官能基がメチル基を置換する。例を挙げれば、上記物理手法はPMMAブレンドを含み、上記ブレンドは高分子、小分子、可塑剤、紫外線吸収剤、抗降解剤（antidegradants）、或いはナノ粒子の少なくとも一つの材料を含む。実施例を挙げると、上記溶剤は芳香族、環状アルキル類、エーテル類、エステル類、ケトン類或いはその混合物の少なくとも一つを含む。例を挙げると、上記芳香族はトルエン、オルトキシレン、メタキシレン、パラキシレンを含み、環状アルキル類はシクロヘキサンを含み、エーテル類はジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（THF）を含み、エステル類はメチルアセテート、エチルアセテートを含み、ケトン類はアセトン、メチルエチルケトン（MEK）、１−メチルピロリドン（NMP）を含む。上記の溶剤選択はただの実施例であり、本考案を限定するものではない。

実施例を挙げると、本考案では4組の溶剤鋳膜技術によりPMMA光学フィルムの調整を示している。組成と溶剤は以下のとおりである。
1、Degussa 8N 100 part、Toluene 200 part；
2、Degussa 8N 97.5 part, Kuraray GR00100 2.5 part, Acetone 200part；
3、Degussa 8N 80 part、Degussa zk5BR 2.5 part, Methyl acetate 200part；
4、Degussa 8N 50 part, Kuraray GR049402.5 part, Toluene200part。

前記のKuraray GRシリーズではGR04940、GR04970、GR00100、GR01240、GR01270、GR1000H24、GR1000H42及びGR1000H60を選択することができ、またDegussaのzk3BR、zk4BR、zk5BR、zk6BR、zk4HC、zk5HC、k6HC、zk5HT、zk6HT、zkHF、zk6HF、zk20、zk30、zk40及びzk50の中から任意の材料を用いることができる。

続いて、工程１０２に進むと、上記溶液を溶剤鋳膜方式により、混合溶液を均一に基板上に分布させる。例を挙げれば、上記基板はガラス基板、プラスチック基板、鏡面鋼板、鏡面鋼テープ或いは表面が均一な状態である合成高分子以外のものも含む。合成高分子はPET（ポリエチレンテレフタラート）、PEN（ポリエチレンナフタレート）、PES（ポリエーテルサルホン）PI（ポリイミド）、PAR（ポリアリレート）、PC（ポリカーボネート）或いは天然繊維例えばCA（セルロースアセテート）、DAC（セルロース・ジアセテート）、TAC（セルロース・トリアセテート）などを含む。また、工程１０２において、スクレーパーにより混合溶液をガラス基板上に塗布し、例えば、スクレーパーの間隔（ギャップ）が５５０μm、６５０μm、４００μm以外のものも含む。また、上記溶剤鋳膜方式はバー塗布、逆或いは同方向式ロール塗布、エアーカーテン式塗布、ロール式の塗布、グラビアコーティング、ディップ式塗布、回転塗布、スリットの塗布、押し出し式塗布或いはシャワー式の塗布以外のものも含み、これらはすべて均一な光学フィルムの形成する方式に用いられる。

上記の溶剤鋳膜方式において、各種塗布方法以外に、鏡面ダイの押し出し成形或いは射出成形により、光学フィルムを形成させ、前記第一光学フィルム（２）及び第二光学フィルム（３）を製造することができる。

光学フィルムの形成後、工程１０３に進むと、ポリビニルアルコール（PVA）の偏光基板（polarized substrate）により構成された偏光層（１）に前記工程で形成された光学フィルムを貼り合せる。

塗布後形成された溶剤を含んでいるフィルムは湿膜と呼ばれ、湿膜厚さは需要に応じて決められる。最適な状態では、上記湿膜の厚みは１５０μm乃至１２００μmとなる。従って、貼り合せる工程の後、工程１０４に進むが、この工程では熱処理炉で工程式或いは連続式の昇温（例えば紫外線光を用いて照射する）方式により前記方法で得られた湿膜を乾燥させる。最適な状態では、上記乾燥された溶剤の残留量は１％以下で、第一光学フィルム（２）及び第二光学フィルム（３）に良好な光学特性及び均一なフィルム面を有する光学フィルム（湿膜に対して乾膜と呼ばれる）を形成することができる。上記第一光学フィルム（２）及び第二光学フィルム（３）の厚みは溶剤の比率と加熱時間及び加熱温度によりコントロールされる。また上記乾膜は表面化学処理により、溶液中の分散性を高めることができる。その目的は形成されるフィルムの耐熱レベルを向上させるためで、乾膜の光学均一性には影響しない。

前記工程中の工程式昇温方式において、実例を挙げると、上記PMMA光学フィルムの調合組成を溶剤に加え、90度まで加熱しながら、激しく攪拌する。この温度状態で1時間攪拌し、粒子が完全に溶解したら加熱源を移動させ室温になるまで攪拌を続ける。続いて３５μmのフィルターで濾過した後しばらく静置させる。この混合溶液を傾けながらガラス基板上に流し込み、５５０μm間隔のスクレーパーで余分な塗布液を取り除く。その後、熱処理炉に10分間静置した後、80℃まで加熱し20分間その状態を維持し、引き続き20度毎に昇温しその状態を20分間維持する工程方式で昇温していき、160℃なったら30分間加熱する。最後に180℃まで加熱しその状態を2時間維持する。結果、得られたフィルムの溶剤残留量は０．１％、フィルム厚は９４μmであり、並びに光学測定と機械強度測定を行う。光学測定とは透過度、ヘイズ（HAZE）、b値等であり、機械強度とは伸び率（％）、引っ張り強度（MPa）、引っ張り弾性率（MPa）等である。

それから、上記のPMMAフィルムを加熱延伸処理により、円を描いている状態の液晶等の材料を塗布し、ロール摩擦或いはUV感光などの方法により配向させ、位相差を有する位相差光学フィルムを得ることができる。

また、上記方法を用いて得られた光学フィルム（乾膜）が、良好な光学特性を有するため、例えば、低霧度、低黄化指数、可視光の範囲（波長４００乃至７００nm）で高い透過度（＞９０％）、及び高アッべ数（波長依存性が小さい）を持つ。

図３に従来の偏光板の構造と本考案における偏光板の構造との単体透過率の変化量の比較図を示し、図４に従来の偏光板の構造と本考案における偏光板の構造との偏光度の変化量の比較図を示し、図５に従来の偏光板の構造と本考案における偏光板の構造とのPVAインターシュリンクエージレート（inter shrinkage rate）の比較図を示す。そのうち、図中のTACは主にコニカ社の型番KC８U製品及び富士フィルム社の型番TDY-80から選ばれる。前記本考案の第一光学フィルム（２）及び第二光学フィルム（３）において、更にPMMA、官能基が置換されたPMMA及びPMMAブレンドの少なくとも一つにより被覆されたゴム弾性材料が形成しているPMMAゴム粒子を添加し、その上記ゴム弾性材料がブチルアクリレート、メチルメタクリレート、スチレン及びその共重合物から選択することができ、且つ上記ゴム弾性材料の粒径は１０μmよりも小さく、ひいてはナノレベルでもよい。また、上記PMMAゴム粒子の添加量が２．５％乃至５０％である。従って、前記のような光学フィルムの単体透過率の変化量、偏光度の変化量及びPVAインターシュリンクエージレート（inter shrinkage rate）はそれぞれ８０℃、６０℃且つ９０％RH、４００W、−３０℃、及び−３０℃乃至８０℃の冷熱衝撃における様々な条件下で延伸性等の性質を高めることも含め、光学フィルムの機械的性質を向上させることができる。図３、図４及び図５に比較結果を示す。

続いて、前述のこのような光学フィルムの混合技術によって、このような光学フィルムのPVAインターシュリンクエージレート（inter shrinkage rate）変化率を２％よりも小さくさせることができ、且つ最適なPVAインターシュリンクエージレート（inter shrinkage rate）変化率が１．２％よりも小さい。

また、前記本考案の第一光学フィルム（２）及び第二光学フィルム（３）において、さらにシリカを添加でき、且つシリカは光学フィルムの製造工程で加えられる。比較的便利な方法は前記溶剤とシリカを先に混合し、それからPMMAブレンドの順序で行う。また、シリカを加える手順について、PMMA粒子を混合する際にシリカとPMMAをいっしょに加えてもよい。あるいは、PMMAを混合した後で前記シリカを混ぜてもよい。前記添加するシリカの割合は光学フィルムの重量百分率に対し０．５％乃至１５％が最適な範囲である。

前記光学フィルム形成の工程と光学フィルムを貼り合せる工程において、偏光層（１）を直接第一光学フィルム（２）及び第二光学フィルム（３）の基板としてもよく、直接PMMAブレンドを含んだ溶液を偏光層（１）表面に塗布し、湿膜を乾燥させる工程を経て、偏光層（１）表面に第一光学フィルム（２）及び第二光学フィルム（３）の構造を形成させることができる。

本考案では最適な実施例の説明を上記に示したが、本考案の主張する実用新案登録請求の範囲はこれに限られるものではない。その保護範囲は前記に示す実用新案登録請求の範囲と同等の領域で定められる。この領域を熟知している技術者が、本考案の主旨と範囲内から外れることなく、手を加え、本考案が示している主旨の下で変更或いは設計されているものも、上記実用新案登録登録請求の範囲内に含まれるべきである。

以下の詳細な説明を参照することにより、以上の観点と本考案の利点をより早く理解できると共に、以下の説明と添付図面により本考案の精神を容易に理解できる。

本考案である偏光板の構造に係る具体的な実施例を示す立体正投影図である。本考案である偏光板の構造に係る具体的な実施例を示す製造フローチャートである。従来の偏光板の構造と本考案における偏光板の構造との単体透過率の変化量を示す比較図。従来の偏光板の構造と本考案における偏光板の構造との偏光度の変化量を示す比較図。従来の偏光板の構造と本考案における偏光板の構造とのPVAインターシュリンクエージレートを示す比較図。

符号の説明

１偏光層
２第一光学フィルム
３第二光学フィルム
１０１、１０２、１０３、１０４工程のフローチャート

Claims

偏光板の構造であって、偏光板と、前記偏光板の上側に形成される第一光学フィルムと、前記偏光板の下側に形成される第二光学フィルムとを含み、前記第一光学フィルム及び第二光学フィルムの少なくとも一つの光学フィルムはポリメチルメタクリレート（PMMA）の光学フィルムであることを特徴とする偏光板の構造。
前記第一光学フィルムはポリメチルメタクリレート（PMMA）で、前記第二光学フィルムはトリアセテート（triacetate）、ポリカーボネート(polycarbonate,PC)及びシクロオレフィンポリマー(cycloolefin polymer,COP)のいずれかの材料から選ばれ、光学フィルムで採用されるポリメチルメタクリレート（PMMA）の光学フィルムはポリメチルメタクリレート（PMMA）、官能基が置換されたPMMA及びポリメチルメタクリレート（PMMA）ブレンドのいずれか一つの材料から少なくとも選択され、前記ポリメチルメタクリレート（PMMA）、前記官能基が置換されたポリメチルメタクリレート（PMMA）及び前記ポリメチルメタクリレート（PMMA）ブレンドのいずれか一つの材料に対応する溶剤を選択し、その性質に応じて任意の割合で均一に前記溶剤中で混合し混合溶剤を形成させ、前記混合溶剤が熱処理により光学フィルムを形成することを特徴とする請求項１に記載の偏光板の構造。
前記ポリメチルメタクリレート（PMMA）と官能基が置換されたポリメチルメタクリレート（PMMA）及びポリメチルメタクリレート（PMMA）ブレンドのいずれか一つの材料は重量百分率20％乃至40％の比率により前記溶剤に混合されることを特徴とする請求項2に記載の偏光板の構造。
前記光学フィルムはさらに製造プロセスにおいて、シリカ粒子（silica particle）を添加し、かつ前記シリカ粒子の添加量が光学フィルムの重量百分率の０.５％乃至１５％のいずれかの比率を占めるように選択することを特徴とする請求項2に記載の偏光板の構造。
前記光学フィルムはさらにポリメチルメタクリレート（PMMA）が含まれる材料、官能基が置換されたPMMAが含まれる材料及び前述の各種のポリメチルメタクリレート（PMMA）が含まれる材料を選択し添加することにより、ゴム弾性材料により形成される粒子を被覆する。前記光学フィルムの製造方法はさらに前記ゴム弾性材料がブチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート（PMMA）、スチレン及びその共重合物中の任意の材料から選択され、2.5％乃至50％の添加量により、ポリメチルメタクリレート（PMMA）、官能基が置換されたポリメチルメタクリレート（PMMA）及び各種のポリメチルメタクリレート（PMMA）ブレンドのいずれかの材料で前記ゴム弾性材料を被覆することを特徴とする請求項1に記載の偏光板の構造。