JP3119240B2 - プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネル及びその製造方法Info
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/10—AC-PDPs with at least one main electrode being out of contact with the plasma
- H01J11/12—AC-PDPs with at least one main electrode being out of contact with the plasma with main electrodes provided on both sides of the discharge space
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- H01J11/44—Optical arrangements or shielding arrangements, e.g. filters, black matrices, light reflecting means or electromagnetic shielding means
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01J2211/20—Constructional details
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
イ及びその製造方法に関し、特に蛍光体を用いて放電発
光を可視光に変換するプラズマディスプレイパネルに関
する。
イ及びその製造方法に関し、特に蛍光体を用いて放電発
光を可視光に変換するプラズマディスプレイパネルに関
する。
【0002】
【従来の技術】従来、一般に用いられているプラズマデ
ィスプレイパネルの構造とその作用とを反射型プラズマ
ディスプレイパネルの例を示す図4を用いて簡単に説明
する。図4は従来構造の反射型プラズマディスプレイパ
ネルの要部断面構造を模式的に示したものである。
ィスプレイパネルの構造とその作用とを反射型プラズマ
ディスプレイパネルの例を示す図4を用いて簡単に説明
する。図4は従来構造の反射型プラズマディスプレイパ
ネルの要部断面構造を模式的に示したものである。
【0003】上記の反射型プラズマディスプレイパネル
では走査側基板1とデータ側基板2とが隔壁3を挟んで
対向するような構造がとられており、その内部は真空紫
外域に発光スペクトルを有するガス、例えばHe−Ne
−Xeペニングガスが放電ガスとして充填されている。
では走査側基板1とデータ側基板2とが隔壁3を挟んで
対向するような構造がとられており、その内部は真空紫
外域に発光スペクトルを有するガス、例えばHe−Ne
−Xeペニングガスが放電ガスとして充填されている。
【0004】走査側基板1においてはガラス基板4上に
透明電極5,6が形成され、その上に導電性を改良する
トレース電極7,8が放電用電極として形成されてお
り、これらは誘電体層9で被われている。また、データ
側基板2においてはガラス基板10上に書込み電極11
が形成されている。
透明電極5,6が形成され、その上に導電性を改良する
トレース電極7,8が放電用電極として形成されてお
り、これらは誘電体層9で被われている。また、データ
側基板2においてはガラス基板10上に書込み電極11
が形成されている。
【0005】上記の反射型プラズマディスプレイパネル
では、まずトレース電極7,8と書込み電極11との間
に高電圧を印可して書込み放電を行った後、トレース電
極7,8間に高電圧の交流を印可すると、壁電荷による
メモリ効果によって放電が継続する。この放電で生じた
真空紫外線によってデータ側基板2上に設けられた蛍光
体12が発光する。
では、まずトレース電極7,8と書込み電極11との間
に高電圧を印可して書込み放電を行った後、トレース電
極7,8間に高電圧の交流を印可すると、壁電荷による
メモリ効果によって放電が継続する。この放電で生じた
真空紫外線によってデータ側基板2上に設けられた蛍光
体12が発光する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のプラズ
マディスプレイパネルでは、プラズマディスプレイパネ
ルの普及に伴って様々な状況での使用が行われるように
なっている。すなわち、従来ではプラズマディスプレイ
パネルが公共表示等の限定された用途に用いられていた
が、今日ではテレビジョン用途への普及が図られてい
る。このテレビジョン用途への普及の場合には家庭環境
との整合が重要な課題であり、発光効率の向上と、その
結果もたらされる消費電力の低減と、排熱の低減とを図
ることが急務となっている。
マディスプレイパネルでは、プラズマディスプレイパネ
ルの普及に伴って様々な状況での使用が行われるように
なっている。すなわち、従来ではプラズマディスプレイ
パネルが公共表示等の限定された用途に用いられていた
が、今日ではテレビジョン用途への普及が図られてい
る。このテレビジョン用途への普及の場合には家庭環境
との整合が重要な課題であり、発光効率の向上と、その
結果もたらされる消費電力の低減と、排熱の低減とを図
ることが急務となっている。
【0007】そこで、本発明の目的は上記の問題点を解
消し、高輝度かつ長寿命のプラズマディスプレイパネル
を提供することにある。
消し、高輝度かつ長寿命のプラズマディスプレイパネル
を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明によるプラディス
プレイパネルは、所定のガス放電空間を隔てて対向配置
した一対のガラス基板の少なくとも一方に蛍光体層を設
け、かつ前記ガラス基板のうちの出射側となるガラス基
板の内表面側に真空紫外線を反射する反射層を設けた構
造のプラズマディスプレイパネルであって、前記真空紫
外線を反射する反射層が、フッ化リチウム、フッ化ベリ
リウム、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリウム、フッ
化カルシウム、ベリリア、マグネシア、アルミナ、シリ
カの中で互いに屈折率の異なる2種以上の物質の交互層
よりなる多層構造で構成されている。
プレイパネルは、所定のガス放電空間を隔てて対向配置
した一対のガラス基板の少なくとも一方に蛍光体層を設
け、かつ前記ガラス基板のうちの出射側となるガラス基
板の内表面側に真空紫外線を反射する反射層を設けた構
造のプラズマディスプレイパネルであって、前記真空紫
外線を反射する反射層が、フッ化リチウム、フッ化ベリ
リウム、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリウム、フッ
化カルシウム、ベリリア、マグネシア、アルミナ、シリ
カの中で互いに屈折率の異なる2種以上の物質の交互層
よりなる多層構造で構成されている。
【0009】本発明によるプラディスプレイパネルの製
造方法は、所定のガス放電空間を隔てて対向配置した一
対のガラス基板の少なくとも一方に蛍光体層を設け、か
つ前記ガラス基板のうちの出射側となるガラス基板の内
表面側に真空紫外線を反射する反射層を設けた構造のプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記真
空紫外線を反射する反射層を、フッ化リチウム、フッ化
ベリリウム、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリウム、
フッ化カルシウム、ベリリア、マグネシア、アルミナ、
シリカの中で互いに屈折率の異なる2種以上の物質の交
互層よりなる多層構造の電子ビーム蒸着により形成する
工程を備えている。
造方法は、所定のガス放電空間を隔てて対向配置した一
対のガラス基板の少なくとも一方に蛍光体層を設け、か
つ前記ガラス基板のうちの出射側となるガラス基板の内
表面側に真空紫外線を反射する反射層を設けた構造のプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記真
空紫外線を反射する反射層を、フッ化リチウム、フッ化
ベリリウム、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリウム、
フッ化カルシウム、ベリリア、マグネシア、アルミナ、
シリカの中で互いに屈折率の異なる2種以上の物質の交
互層よりなる多層構造の電子ビーム蒸着により形成する
工程を備えている。
【0010】すなわち、本発明のプラズマディスプレイ
パネルは、上記の問題点を解決するために、所定のガス
放電空間を隔てて対向配置した一対のガラス基板の少な
くとも一方に蛍光体層を設けた構造のプラズマディスプ
レイパネルにおいて、一対のガラス基板のうちの走査側
基板の他のガラス基板との対向面表面に真空紫外線を反
射する反射層を設けている。
パネルは、上記の問題点を解決するために、所定のガス
放電空間を隔てて対向配置した一対のガラス基板の少な
くとも一方に蛍光体層を設けた構造のプラズマディスプ
レイパネルにおいて、一対のガラス基板のうちの走査側
基板の他のガラス基板との対向面表面に真空紫外線を反
射する反射層を設けている。
【0011】プラズマディスプレイパネルではガス放電
の際に真空紫外線が発生する。この紫外線によって背面
板側に設けられた蛍光体が発光するのであるが、発生し
た真空紫外線は放電部位から背面板側と走査基板側との
両方に向かって進行する。
の際に真空紫外線が発生する。この紫外線によって背面
板側に設けられた蛍光体が発光するのであるが、発生し
た真空紫外線は放電部位から背面板側と走査基板側との
両方に向かって進行する。
【0012】ここで、走査基板側に向かった真空紫外線
はこの波長域でのガラス基板の吸収率が高いために吸収
されてしまい、蛍光体の発光には寄与しない。そこで、
走査側基板内表面に反射層を設けることによって、これ
まで無駄となっていた真空紫外線を有効に発光に寄与さ
せることが可能となる。
はこの波長域でのガラス基板の吸収率が高いために吸収
されてしまい、蛍光体の発光には寄与しない。そこで、
走査側基板内表面に反射層を設けることによって、これ
まで無駄となっていた真空紫外線を有効に発光に寄与さ
せることが可能となる。
【0013】一般的に、反射層材料としては金属薄膜が
用いられるが、プラズマディスプレイの場合には観察面
側に反射層を設ける必要があり、輝度を得るためには可
視光の透過率が高いことが必要となるため、金属薄膜の
場合に極めて薄い膜が必要となる。
用いられるが、プラズマディスプレイの場合には観察面
側に反射層を設ける必要があり、輝度を得るためには可
視光の透過率が高いことが必要となるため、金属薄膜の
場合に極めて薄い膜が必要となる。
【0014】また、放電電極に近接して作り込まれるた
め、導電性のある物質の使用は放電の障害になり好まし
くない。これらの条件を満たす反射層としては、互いに
屈折率の異なる2種以上の物質を交互に積み重ねた多重
構造でできている、いわゆる多層膜反射鏡が知られてお
り、分光装置等に使われている。
め、導電性のある物質の使用は放電の障害になり好まし
くない。これらの条件を満たす反射層としては、互いに
屈折率の異なる2種以上の物質を交互に積み重ねた多重
構造でできている、いわゆる多層膜反射鏡が知られてお
り、分光装置等に使われている。
【0015】さらに、放電管に多層反射層を設けた例と
しては、特開平8−96751号公報や特開平4−13
3004号公報、及び特開平02−201860号や特
開平02−148559号公報に開示された技術があ
る。
しては、特開平8−96751号公報や特開平4−13
3004号公報、及び特開平02−201860号や特
開平02−148559号公報に開示された技術があ
る。
【0016】真空紫外域での反射率は金属以外の殆どの
物質で極めて低く、単層で高い反射率を得ることは困難
であるが、多層膜反射鏡は異種材料の膜境界からの反射
光が干渉によって強めあうため、多層膜全体の反射率が
最大となるような膜厚構成をとることで、高反射率を得
ることが可能になる。
物質で極めて低く、単層で高い反射率を得ることは困難
であるが、多層膜反射鏡は異種材料の膜境界からの反射
光が干渉によって強めあうため、多層膜全体の反射率が
最大となるような膜厚構成をとることで、高反射率を得
ることが可能になる。
【0017】この時の干渉条件は光通過経路長さが当該
物質反射対象波長のn/4倍(nは奇数)で最大とな
り、ブラッグ条件として広範に知られている。当然、当
該物質の真空紫外光透過率が高いことが好ましく、バン
ドギャップエネルギの高い材料が望ましい。
物質反射対象波長のn/4倍(nは奇数)で最大とな
り、ブラッグ条件として広範に知られている。当然、当
該物質の真空紫外光透過率が高いことが好ましく、バン
ドギャップエネルギの高い材料が望ましい。
【0018】例をあげるとすれば、フッ化リチウム(L
iF)、フッ化ベリリウム(BeF)、フッ化マグネシ
ウム(MgF2 )、フッ化ナトリウム(NaF)、フ
ッ化カルシウム(CaF2 )、ベリリア(BeO)、
マグネシア(MgO)、アルミナ(Al2 O3 )、シ
リカ(SiO2 )等の原子番号20以下の軽金属のフ
ッ化合物ないしは酸化物があげられる。
iF)、フッ化ベリリウム(BeF)、フッ化マグネシ
ウム(MgF2 )、フッ化ナトリウム(NaF)、フ
ッ化カルシウム(CaF2 )、ベリリア(BeO)、
マグネシア(MgO)、アルミナ(Al2 O3 )、シ
リカ(SiO2 )等の原子番号20以下の軽金属のフ
ッ化合物ないしは酸化物があげられる。
【0019】これに加えて、プラズマディスプレイに設
けた上記反射層の最内面は高エネルギの放電プラズマに
さらされており、このイオンスパッタに耐えられること
も必要である。さらに、所望の放電特性得るために、2
次電子放出係数が高いことも重要であり、これらに適合
する材料として特にマグネシア(MgO),フッ化マグ
ネシウム(MgF2 )、酸化バリウムストロンチウム
(BaSrO)が知られており、おおむね2次電子放出
係数は0.2を越えることが望ましい。
けた上記反射層の最内面は高エネルギの放電プラズマに
さらされており、このイオンスパッタに耐えられること
も必要である。さらに、所望の放電特性得るために、2
次電子放出係数が高いことも重要であり、これらに適合
する材料として特にマグネシア(MgO),フッ化マグ
ネシウム(MgF2 )、酸化バリウムストロンチウム
(BaSrO)が知られており、おおむね2次電子放出
係数は0.2を越えることが望ましい。
【0020】
【発明の実施の形態】次に、本発明の一実施例について
図面を参照して説明する。図1は本発明の一実施例によ
るプラズマディスプレイパネルの一例の要部断面構造を
模式的に示す断面図である。
図面を参照して説明する。図1は本発明の一実施例によ
るプラズマディスプレイパネルの一例の要部断面構造を
模式的に示す断面図である。
【0021】図において、本発明の一実施例によるプラ
ズマディスプレイパネルは走査側基板1とデータ側基板
2とが隔壁3を挟んで対向するような構造となってお
り、その内部は真空紫外域に発光スペクトルを有するガ
ス、例えばHe−Ne−Xeペニングガスが放電ガスと
して充填されている。
ズマディスプレイパネルは走査側基板1とデータ側基板
2とが隔壁3を挟んで対向するような構造となってお
り、その内部は真空紫外域に発光スペクトルを有するガ
ス、例えばHe−Ne−Xeペニングガスが放電ガスと
して充填されている。
【0022】走査側基板1においてはガラス基板4上に
透明電極5,6が形成され、その上に導電性を改良する
トレース電極7,8が放電用電極として形成されてお
り、これらは誘電体層9で被われている。また、誘電体
層9の上には、つまり最表層には走査基板1側に向かっ
た真空紫外線を反射する反射層13が形成されている。
データ側基板2においてはガラス基板10上に書込み電
極11が形成されている。
透明電極5,6が形成され、その上に導電性を改良する
トレース電極7,8が放電用電極として形成されてお
り、これらは誘電体層9で被われている。また、誘電体
層9の上には、つまり最表層には走査基板1側に向かっ
た真空紫外線を反射する反射層13が形成されている。
データ側基板2においてはガラス基板10上に書込み電
極11が形成されている。
【0023】上記のプラズマディスプレイパネルでは、
まずトレース電極7,8と書込み電極11との間に高電
圧を印可して書込み放電を行った後、トレース電極7,
8間に高電圧の交流を印可すると、壁電荷によるメモリ
効果によって放電が継続する。この放電で生じた真空紫
外線によってデータ側基板2上に設けられた蛍光体12
が発光する。
まずトレース電極7,8と書込み電極11との間に高電
圧を印可して書込み放電を行った後、トレース電極7,
8間に高電圧の交流を印可すると、壁電荷によるメモリ
効果によって放電が継続する。この放電で生じた真空紫
外線によってデータ側基板2上に設けられた蛍光体12
が発光する。
【0024】図2及び図3は本発明の一実施例によるプ
ラズマディスプレイパネルの製造過程を示す断面図であ
る。これら図1〜図3を参照して本発明の一実施例によ
るプラズマディスプレイパネルの製造過程について説明
する。
ラズマディスプレイパネルの製造過程を示す断面図であ
る。これら図1〜図3を参照して本発明の一実施例によ
るプラズマディスプレイパネルの製造過程について説明
する。
【0025】まず、ソーダガラス板(ガラス基板4,1
0)を2枚用意し、1枚にスパッタによってITO(酸
化インジウム)膜を成膜する。このITO膜に対してエ
ッチングを施すことで、透明電極5,6を形成する。そ
の後、この透明電極5,6上にスクリーン印刷によって
トレース電極7,8を銀パターンで形成する[図2
(a)参照]。
0)を2枚用意し、1枚にスパッタによってITO(酸
化インジウム)膜を成膜する。このITO膜に対してエ
ッチングを施すことで、透明電極5,6を形成する。そ
の後、この透明電極5,6上にスクリーン印刷によって
トレース電極7,8を銀パターンで形成する[図2
(a)参照]。
【0026】また、トレース電極7,8上に鉛を含有す
る低融点ガラスフリットによって誘電体層9を形成する
[図2(b)参照]。しかる後に、電子ビーム蒸着によ
って、誘電体層9上に厚さ220Åのフッ化マグネシウ
ム(MgF2 )と厚さ250Åのフッ化リチウム(Li
F)とを交互に30層蒸着し、最上層にマグネシア(M
gO)を蒸着して反射層13を形成し、走査側基板1を
形成する[図2(c)参照]。
る低融点ガラスフリットによって誘電体層9を形成する
[図2(b)参照]。しかる後に、電子ビーム蒸着によ
って、誘電体層9上に厚さ220Åのフッ化マグネシウ
ム(MgF2 )と厚さ250Åのフッ化リチウム(Li
F)とを交互に30層蒸着し、最上層にマグネシア(M
gO)を蒸着して反射層13を形成し、走査側基板1を
形成する[図2(c)参照]。
【0027】また、もう1枚のガラス基板10上にスク
リーン印刷によって書込み電極11を形成した後、ガラ
スフリットによって隔壁3を形成し[図3(a)参
照]、隔壁3間に蛍光体12を印刷焼成してデータ側基
板2を形成する[図3(b)参照]。これら走査側基板
1及びデータ側基板2を封着・排気した後、He−Ne
−Xe(ペニング)ガスを封入することで、プラズマデ
ィスプレイパネルが作成される[図3(c)参照]。
リーン印刷によって書込み電極11を形成した後、ガラ
スフリットによって隔壁3を形成し[図3(a)参
照]、隔壁3間に蛍光体12を印刷焼成してデータ側基
板2を形成する[図3(b)参照]。これら走査側基板
1及びデータ側基板2を封着・排気した後、He−Ne
−Xe(ペニング)ガスを封入することで、プラズマデ
ィスプレイパネルが作成される[図3(c)参照]。
【0028】このプラズマディスプレイパネルの走査側
基板1の半面をマスキングして多層反射層13を設けな
い部分を作り、点灯して輝度比較を行ったところ、8.
5%の輝度向上が得られた。
基板1の半面をマスキングして多層反射層13を設けな
い部分を作り、点灯して輝度比較を行ったところ、8.
5%の輝度向上が得られた。
【0029】この時、反射層13の最上層に塩化ナトリ
ウム(NaCl)を成膜したものも作成したところ、同
様に輝度向上が確認できた。但し、この場合は点灯直後
より輝度低下を示し、徐々に膜が消失、長期間の使用に
は耐えないものであることが判明した。
ウム(NaCl)を成膜したものも作成したところ、同
様に輝度向上が確認できた。但し、この場合は点灯直後
より輝度低下を示し、徐々に膜が消失、長期間の使用に
は耐えないものであることが判明した。
【0030】次に、本発明の他の実施例について説明す
る。本発明の他の実施例では低アルカリガラス板(例え
ば、旭硝子社製PD−200ガラス板)を2枚用意し、
1枚にスパッタによってITO膜を成膜、エッチングに
よって透明電極5,6を形成した後、スクリーン印刷に
よってトレース電極7,8を銀パターンで形成する。
る。本発明の他の実施例では低アルカリガラス板(例え
ば、旭硝子社製PD−200ガラス板)を2枚用意し、
1枚にスパッタによってITO膜を成膜、エッチングに
よって透明電極5,6を形成した後、スクリーン印刷に
よってトレース電極7,8を銀パターンで形成する。
【0031】その後に、ビスマスを含有する低融点ガラ
スフリットによって誘電体層9を形成する。しかる後
に、CVD(Chemical Vapor Depo
sition:化学気相成長法)によって厚さ170Å
のシリカ(SiO2 )と厚さ250Åのフッ化リチウム
(LiF)とを交互に50層蒸着し、最上層にマグネシ
ア(MgO)とフッ化マグネシウム(MgF2 )とを共
蒸着して反射層13を形成し、走査側基板1を形成す
る。
スフリットによって誘電体層9を形成する。しかる後
に、CVD(Chemical Vapor Depo
sition:化学気相成長法)によって厚さ170Å
のシリカ(SiO2 )と厚さ250Åのフッ化リチウム
(LiF)とを交互に50層蒸着し、最上層にマグネシ
ア(MgO)とフッ化マグネシウム(MgF2 )とを共
蒸着して反射層13を形成し、走査側基板1を形成す
る。
【0032】また、もう1枚のガラス基板10上にフォ
ト印刷によって書込み電極11を形成した後、ガラスフ
リットによって隔壁3を形成し、隔壁3間に蛍光体12
を印刷焼成してデータ側基板2を形成する。これら走査
側基板1及びデータ側基板2を封着・排気した後、He
−Ne−Xeガスを封入してプラズマディスプレイパネ
ルを作成する。
ト印刷によって書込み電極11を形成した後、ガラスフ
リットによって隔壁3を形成し、隔壁3間に蛍光体12
を印刷焼成してデータ側基板2を形成する。これら走査
側基板1及びデータ側基板2を封着・排気した後、He
−Ne−Xeガスを封入してプラズマディスプレイパネ
ルを作成する。
【0033】このプラズマディスプレイパネルでも、本
発明の一実施例と同様に走査側基板1の一部にマスキン
グして多層反射層13を設けない部分を作り、点灯して
輝度比較を行ったところ、15%の輝度向上が得られ
た。
発明の一実施例と同様に走査側基板1の一部にマスキン
グして多層反射層13を設けない部分を作り、点灯して
輝度比較を行ったところ、15%の輝度向上が得られ
た。
【0034】また、このプラズマディスプレイパネルを
破壊し、走査側基板1の透過率を多層反射膜13を設け
た部分と設けない部分とで比較したところ、多層反射膜
13を設けた部分は設けない部分より9%透過率が低下
していた。
破壊し、走査側基板1の透過率を多層反射膜13を設け
た部分と設けない部分とで比較したところ、多層反射膜
13を設けた部分は設けない部分より9%透過率が低下
していた。
【0035】このことによって、発生した真空紫外線の
発光に寄与する部分の利用率は24%向上していること
が判明した。同様に、多層反射膜13の層数を100層
に増やしたものを作成して輝度比較を行ったが、輝度は
かえって低下する結果となった。
発光に寄与する部分の利用率は24%向上していること
が判明した。同様に、多層反射膜13の層数を100層
に増やしたものを作成して輝度比較を行ったが、輝度は
かえって低下する結果となった。
【0036】これは反射膜13の層数を増加させること
によって可視光の透過率が低下し、真空紫外線の反射に
よって得られる輝度向上を食い潰してしまったためと考
えられる。反射層13に用いる材料によって可視光透過
率も変化するので、輝度向上のためには反射率とのトレ
ードオフで最適な層数・膜厚の設定が必要である。
によって可視光の透過率が低下し、真空紫外線の反射に
よって得られる輝度向上を食い潰してしまったためと考
えられる。反射層13に用いる材料によって可視光透過
率も変化するので、輝度向上のためには反射率とのトレ
ードオフで最適な層数・膜厚の設定が必要である。
【0037】このように、本発明によれば発光効率の向
上と、その結果もたらされる消費電力の低減と、排熱の
低減とが可能となり、様々な使用環境との整合が図ら
れ、プラズマディスプレイパネルの普及が促進される。
よって、高輝度かつ長寿命のプラズマディスプレイパネ
ルを得ることができる。
上と、その結果もたらされる消費電力の低減と、排熱の
低減とが可能となり、様々な使用環境との整合が図ら
れ、プラズマディスプレイパネルの普及が促進される。
よって、高輝度かつ長寿命のプラズマディスプレイパネ
ルを得ることができる。
【0038】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、所
定のガス放電空間を隔てて対向配置した一対のガラス基
板の少なくとも一方に蛍光体層を設けた構造のプラズマ
ディスプレイパネルにおいて、走査側基板内表面に真空
紫外線を反射する反射層を形成することによって、高輝
度かつ長寿命のプラズマディスプレイパネルを得ること
ができるという効果がある。
定のガス放電空間を隔てて対向配置した一対のガラス基
板の少なくとも一方に蛍光体層を設けた構造のプラズマ
ディスプレイパネルにおいて、走査側基板内表面に真空
紫外線を反射する反射層を形成することによって、高輝
度かつ長寿命のプラズマディスプレイパネルを得ること
ができるという効果がある。
【図1】本発明の一実施例によるプラズマディスプレイ
パネルの一例の要部断面構造を模式的に示す断面図であ
る。
パネルの一例の要部断面構造を模式的に示す断面図であ
る。
【図2】(a)〜(c)は本発明の一実施例によるプラ
ズマディスプレイパネルの製造過程を示す断面図であ
る。
ズマディスプレイパネルの製造過程を示す断面図であ
る。
【図3】(a)〜(c)は本発明の一実施例によるプラ
ズマディスプレイパネルの製造過程を示す断面図であ
る。
ズマディスプレイパネルの製造過程を示す断面図であ
る。
【図4】従来例によるプラズマディスプレイパネルの一
例の要部断面構造を模式的に示す断面図である。
例の要部断面構造を模式的に示す断面図である。
1 走査側基板 2 データ側基板 3 隔壁 4,10 ガラス基板 5,6 透明電極 7,8 トレース電極 9 誘電体層 11 書込み電極 12 蛍光体 13 反射層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01J 11/00 - 11/02 H01J 17/04 H01J 9/02
Claims (7)
- 【請求項1】 所定のガス放電空間を隔てて対向配置し
た一対のガラス基板の少なくとも一方に蛍光体層を設
け、かつ前記ガラス基板のうちの出射側となるガラス基
板の内表面側に真空紫外線を反射する反射層を設けた構
造のプラズマディスプレイパネルであって、 前記真空紫外線を反射する反射層が、フッ化リチウム、
フッ化ベリリウム、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリ
ウム、フッ化カルシウム、ベリリア、マグネシア、アル
ミナ、シリカの中で互いに屈折率の異なる2種以上の物
質の交互層よりなる多層構造で構成されたことを特徴と
するプラズマディスプレイパネル。 - 【請求項2】 前記真空紫外線を反射する反射層が、フ
ッ化マグネシウム層とフッ化リチウム層とを交互に積層
した構造であることを特徴とする請求項1記載のプラズ
マディスプレイパネル。 - 【請求項3】 前記真空紫外線を反射する反射層が、シ
リカ層とフッ化リチウム層とを交互に積層した構造であ
ることを特徴とする請求項1記載のプラズマディスプレ
イパネル。 - 【請求項4】 前記真空紫外線を反射する反射層の最上
層に形成される膜が、2次電子放出係数が高いマグネシ
ア、フッ化マグネシウム、酸化バリウムストロンチウム
のいずれかであることを特徴とする請求項1から請求項
3のいずれか記載のプラズマディスプレイパネル。 - 【請求項5】 前記真空紫外線を反射する反射層の最上
層に、マグネシアとフッ化マグネシウムとを共蒸着した
層を形成したことを特徴とする請求項1から請求項3の
いずれか記載のプラズマディスプレイパネル。 - 【請求項6】 所定のガス放電空間を隔てて対向配置し
た一対のガラス基板の少なくとも一方に蛍光体層を設
け、かつ前記ガラス基板のうちの出射側となるガラス基
板の内表面側に真空紫外線を反射する反射層を設けた構
造のプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、 前記真空紫外線を反射する反射層を、フッ化リチウム、
フッ化ベリリウム、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリ
ウム、フッ化カルシウム、ベリリア、マグネシア、アル
ミナ、シリカの中で互いに屈折率の異なる2種以上の物
質の交互層よりなる多層構造の電子ビーム蒸着により形
成する工程を有することを特徴とするプラズマディスプ
レイパネルの製造方法。 - 【請求項7】 前記真空紫外線を反射する反射層の最上
層に、マグネシアとフッ化マグネシウムとの共蒸着によ
る層を形成する工程を含むことを特徴とする請求項6記
載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
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JP10176486A JP3119240B2 (ja) | 1998-06-24 | 1998-06-24 | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
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-
1998
- 1998-06-24 JP JP10176486A patent/JP3119240B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-06-23 US US09/338,731 patent/US6304032B1/en not_active Expired - Fee Related
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