JP3081930B2 - エンボス加工ホイル - Google Patents
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、一般的にはエンボス加
工ホイルに関し、より詳しくは熱エンボス加工ホイルに
関するが、それに限定するものではない。
工ホイルに関し、より詳しくは熱エンボス加工ホイルに
関するが、それに限定するものではない。
【0002】
【従来の技術】支持フイルム、およびその支持フイルム
から取り外すことができ、その支持フイルムと反対側に
接着層を有する装飾性ラッカー層、および場合により支
持フイルムと装飾性ラッカー層との間の剥離層、装飾性
ラッカー層と接着層との間の反射層、および/または装
飾性ラッカー層と支持フイルムとの間の結合層からなる
エンボス加工ホイルの一形態では、支持フイルムがその
装飾性ラッカー層を支えている表面上に三次元図形を備
えているか、あるいは装飾性ラッカー層が支持フイルム
に面した少なくとも一つの透明カバーラッカー層を有
し、その透明カバーラッカー層が支持フイルムと反対側
の表面上に三次元図形を備えている。
から取り外すことができ、その支持フイルムと反対側に
接着層を有する装飾性ラッカー層、および場合により支
持フイルムと装飾性ラッカー層との間の剥離層、装飾性
ラッカー層と接着層との間の反射層、および/または装
飾性ラッカー層と支持フイルムとの間の結合層からなる
エンボス加工ホイルの一形態では、支持フイルムがその
装飾性ラッカー層を支えている表面上に三次元図形を備
えているか、あるいは装飾性ラッカー層が支持フイルム
に面した少なくとも一つの透明カバーラッカー層を有
し、その透明カバーラッカー層が支持フイルムと反対側
の表面上に三次元図形を備えている。
【0003】これまで、実際には、ホイルで装飾すべき
基材の表面全体に渡って本質的に同じ画像構造を形成す
る場合にのみ、エンボス加工ホイルの表面に三次元図形
を与えている。その目的に使用する方法では、装飾性ラ
ッカーを支える支持フイルムの表面をブラシがけその他
の方法で粗くしてから、装飾性ラッカー層をつけてい
る。その場合、その様なエンボス加工ホイルで装飾する
基材との関係で、その表面全体に渡って粗くした、例え
ばブラシがけした金属の外観が結果として得られる。
基材の表面全体に渡って本質的に同じ画像構造を形成す
る場合にのみ、エンボス加工ホイルの表面に三次元図形
を与えている。その目的に使用する方法では、装飾性ラ
ッカーを支える支持フイルムの表面をブラシがけその他
の方法で粗くしてから、装飾性ラッカー層をつけてい
る。その場合、その様なエンボス加工ホイルで装飾する
基材との関係で、その表面全体に渡って粗くした、例え
ばブラシがけした金属の外観が結果として得られる。
【0004】この点に関して別の方法では、エンボス加
工ホイルの装飾性ラッカー層として透明なカバーラッカ
ー層を設けている。そのカバーラッカー層は、その支持
フイルムと反対側の表面全体に渡って、上記の様な三次
元的または空間的図形効果を備えている。その様な形態
のエンボス加工ホイルを使用する場合、それによって装
飾する基材は、平滑な表面を有する。それにも関わら
ず、与えられる印象は、相当する三次元的図形またはつ
や消し仕上げの印象である。
工ホイルの装飾性ラッカー層として透明なカバーラッカ
ー層を設けている。そのカバーラッカー層は、その支持
フイルムと反対側の表面全体に渡って、上記の様な三次
元的または空間的図形効果を備えている。その様な形態
のエンボス加工ホイルを使用する場合、それによって装
飾する基材は、平滑な表面を有する。それにも関わら
ず、与えられる印象は、相当する三次元的図形またはつ
や消し仕上げの印象である。
【0005】しかし、すでに上に述べた様に、その様な
すべてのエンボス加工ホイルに関連する一般的な特徴
は、表面全体が本質的に一様に、等しく図形化されてい
るので、例えば、その全体に渡ってブラシ効果が見られ
ることである。
すべてのエンボス加工ホイルに関連する一般的な特徴
は、表面全体が本質的に一様に、等しく図形化されてい
るので、例えば、その全体に渡ってブラシ効果が見られ
ることである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、一様
な図形化の制限を避けることができるエンボス加工ホイ
ルを提供することである。
な図形化の制限を避けることができるエンボス加工ホイ
ルを提供することである。
【0007】本発明のもう一つの目的は、三次元的図形
形成に関して、形態をより広く選択することができるエ
ンボス加工ホイルを提供することである。
形成に関して、形態をより広く選択することができるエ
ンボス加工ホイルを提供することである。
【0008】本発明のさらに別の目的は、その図形形成
効果を容易に変化させることができる熱エンボス加工ホ
イルを提供することである。
効果を容易に変化させることができる熱エンボス加工ホ
イルを提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記の、および他の目的
は、ここに記載する本発明により達成される。
は、ここに記載する本発明により達成される。
【0010】従来のエンボス加工ホイル、より詳しくは
上記の熱エンボス加工ホイルと対照的に、本発明に係わ
るホイルには、その表面全体に渡る本質的に一様な三次
元的図形形成効果が無い。反対に、このエンボス加工ホ
イルの表面、およびそのホイルで装飾する基材の表面
も、異なった区域、より詳しくは、通常の方法で三次元
的図形形成効果を備えた区域、およびさらに別の、その
様な図形形成効果は無いが、例えば本質的に平滑である
区域を有する。したがって、その表面は、エンボス加工
ホイルの、またはそれで装飾する基材の三次元図形形成
した表面において、事実上、陰性の図形形成効果を与え
る。例えば、その表面の一部だけがブラシがけしてあ
り、その表面の他の区域はブラシがけ作業をしていない
かの様な印象を受ける。その様な表面形態は、従来の方
法、すなわち、例えば表面を実際にブラシがけする方法
では、大規模な工業的製法では得られない。その様な図
形形成効果は、手作業によってのみ得られようが、これ
は原価が高くなるので、ほとんどの場合実用的な解決策
にはならない。反対に、本発明に係わるホイルを使用す
れば、従来のエンボス加工方法、より詳しくは熱エンボ
ス加工方法を使用して、特殊な工程を採らずに、特殊な
機械を必要とせずに、簡単にこの図形形成効果を得るこ
とができる。ある区域にのみ三次元的図形形成効果を備
えたその様なエンボス加工ホイルは、全体に三次元的図
形形成効果を有するエンボス加工ホイルの支持フイルム
の表面を、三次元的図形形成効果を持たない区域を作る
ために、それらの区域で、平滑な表面を形成し、エンボ
ス加工工程において支持フイルムからではなく、装飾性
ラッカー層から剥離することができるカバーラッカー層
で覆うことにより、製造することができる。これは、本
発明に係わるエンボス加工ホイルの第一の実施形態であ
る。支持フイルムの三次元的図形形成した表面を部分的
にマスクするためのラッカー層は、例えば印刷により簡
単に付けることができる。但しこの第一の実施形態は本
発明の請求項1乃至8には対応していない。
上記の熱エンボス加工ホイルと対照的に、本発明に係わ
るホイルには、その表面全体に渡る本質的に一様な三次
元的図形形成効果が無い。反対に、このエンボス加工ホ
イルの表面、およびそのホイルで装飾する基材の表面
も、異なった区域、より詳しくは、通常の方法で三次元
的図形形成効果を備えた区域、およびさらに別の、その
様な図形形成効果は無いが、例えば本質的に平滑である
区域を有する。したがって、その表面は、エンボス加工
ホイルの、またはそれで装飾する基材の三次元図形形成
した表面において、事実上、陰性の図形形成効果を与え
る。例えば、その表面の一部だけがブラシがけしてあ
り、その表面の他の区域はブラシがけ作業をしていない
かの様な印象を受ける。その様な表面形態は、従来の方
法、すなわち、例えば表面を実際にブラシがけする方法
では、大規模な工業的製法では得られない。その様な図
形形成効果は、手作業によってのみ得られようが、これ
は原価が高くなるので、ほとんどの場合実用的な解決策
にはならない。反対に、本発明に係わるホイルを使用す
れば、従来のエンボス加工方法、より詳しくは熱エンボ
ス加工方法を使用して、特殊な工程を採らずに、特殊な
機械を必要とせずに、簡単にこの図形形成効果を得るこ
とができる。ある区域にのみ三次元的図形形成効果を備
えたその様なエンボス加工ホイルは、全体に三次元的図
形形成効果を有するエンボス加工ホイルの支持フイルム
の表面を、三次元的図形形成効果を持たない区域を作る
ために、それらの区域で、平滑な表面を形成し、エンボ
ス加工工程において支持フイルムからではなく、装飾性
ラッカー層から剥離することができるカバーラッカー層
で覆うことにより、製造することができる。これは、本
発明に係わるエンボス加工ホイルの第一の実施形態であ
る。支持フイルムの三次元的図形形成した表面を部分的
にマスクするためのラッカー層は、例えば印刷により簡
単に付けることができる。但しこの第一の実施形態は本
発明の請求項1乃至8には対応していない。
【0011】その上、その種のエンボス加工ホイルに関
しては、カバーラッカー層がある区域で、そのカバーラ
ッカー層と装飾性ラッカー層との間に剥離層を置くこと
ができる。カバーラッカー層と装飾性ラッカー層との間
に剥離層があれば、図形形成した支持フイルムに非常に
強く密着していないカバーラッカー層に対しても、エン
ボス加工ホイルを転写する際にカバーラッカー層が支持
フイルムに密着したまま残り、装飾性ラッカー層だけが
剥離される。むろん、剥離層は、カバーラッカー層のあ
る区域だけではなく、一般的にホイルの全表面に渡っ
て、すなわち装飾性ラッカー層と直接接触する支持フイ
ルムの表面区域にも施される。その上、剥離層を使用す
る場合、基材上に転写した後、エンボス加工ホイルの自
由表面の外観および特徴、例えばその光沢に影響を及ぼ
す様に剥離層を選択することができる。尚、このカバー
ラッカー層と装飾性ラッカー層との間に剥離層を置く構
成も本発明の請求項1乃至8に対応していない。
しては、カバーラッカー層がある区域で、そのカバーラ
ッカー層と装飾性ラッカー層との間に剥離層を置くこと
ができる。カバーラッカー層と装飾性ラッカー層との間
に剥離層があれば、図形形成した支持フイルムに非常に
強く密着していないカバーラッカー層に対しても、エン
ボス加工ホイルを転写する際にカバーラッカー層が支持
フイルムに密着したまま残り、装飾性ラッカー層だけが
剥離される。むろん、剥離層は、カバーラッカー層のあ
る区域だけではなく、一般的にホイルの全表面に渡っ
て、すなわち装飾性ラッカー層と直接接触する支持フイ
ルムの表面区域にも施される。その上、剥離層を使用す
る場合、基材上に転写した後、エンボス加工ホイルの自
由表面の外観および特徴、例えばその光沢に影響を及ぼ
す様に剥離層を選択することができる。尚、このカバー
ラッカー層と装飾性ラッカー層との間に剥離層を置く構
成も本発明の請求項1乃至8に対応していない。
【0012】本発明に係わる第二の基本的な形態では、
透明カバーラッカー層の支持フイルムと反対側の表面
に、そのある区域にのみ熱変形により三次元的図形を施
す。即ち、本発明のエンボス加工ホイルは、支持フイル
ム、この支持フイルム上に取り外しできる様に配置され
た装飾性ラッカー層、および装飾性ラッカー層の支持フ
イルムから遠く離れた方の側に配置された接着層からな
り、装飾性ラッカー層が、支持フイルムの方を向いた少
なくとも一つの透明なカバーラッカー層を含み、カバー
ラッカー層が、支持フイルムから遠く離れた方の表面に
三次元的図形を備え、三次元的図形が、透明カバーラッ
カー層の支持フイルムから遠く離れた方の表面に部分的
にのみ与えられていることを特徴とする。その種のエン
ボス加工ホイルは、ある区域にだけ図形形成した、例え
ば食刻したプレスまたはエンボス加工ローラーを使用
し、透明な熱可塑性カバーラッカー層を適切に変形させ
るだけで、非常に簡単に製造することができる。
透明カバーラッカー層の支持フイルムと反対側の表面
に、そのある区域にのみ熱変形により三次元的図形を施
す。即ち、本発明のエンボス加工ホイルは、支持フイル
ム、この支持フイルム上に取り外しできる様に配置され
た装飾性ラッカー層、および装飾性ラッカー層の支持フ
イルムから遠く離れた方の側に配置された接着層からな
り、装飾性ラッカー層が、支持フイルムの方を向いた少
なくとも一つの透明なカバーラッカー層を含み、カバー
ラッカー層が、支持フイルムから遠く離れた方の表面に
三次元的図形を備え、三次元的図形が、透明カバーラッ
カー層の支持フイルムから遠く離れた方の表面に部分的
にのみ与えられていることを特徴とする。その種のエン
ボス加工ホイルは、ある区域にだけ図形形成した、例え
ば食刻したプレスまたはエンボス加工ローラーを使用
し、透明な熱可塑性カバーラッカー層を適切に変形させ
るだけで、非常に簡単に製造することができる。
【0013】この第二の種類のエンボス加工ホイルにお
ける三次元的図形形成効果の印象をさらに強調するため
に、ある区域にのみ三次元的図形を有する透明カバーラ
ッカー層の表面に反射層、好ましくは例えば金属層を施
すことができる。
ける三次元的図形形成効果の印象をさらに強調するため
に、ある区域にのみ三次元的図形を有する透明カバーラ
ッカー層の表面に反射層、好ましくは例えば金属層を施
すことができる。
【0014】本発明の他の好ましい特徴によれば、支持
フイルムに面した装飾性ラッカー層の表面を、エンボス
加工ホイルを基材に付けた後、装飾性ラッカー層の損傷
を防ぐための、好ましくは透明な保護ラッカー層により
形成することができる。この保護層は別個の層でよく、
また、例えば同時に透明カバーラッカー層として機能す
ることもできる。
フイルムに面した装飾性ラッカー層の表面を、エンボス
加工ホイルを基材に付けた後、装飾性ラッカー層の損傷
を防ぐための、好ましくは透明な保護ラッカー層により
形成することができる。この保護層は別個の層でよく、
また、例えば同時に透明カバーラッカー層として機能す
ることもできる。
【0015】まず、図1に関して、そこに示す本発明に
係わる熱エンボス加工ホイルは、下記の層からなる。な
お、図1乃至図4、及びそれについての説明は本発明の
請求項1乃至8には対応していない。
係わる熱エンボス加工ホイルは、下記の層からなる。な
お、図1乃至図4、及びそれについての説明は本発明の
請求項1乃至8には対応していない。
【0016】
【実施例】まず、図1に関して、そこに示す本発明に係
わる熱エンボス加工ホイルは、下記の層からなる。
わる熱エンボス加工ホイルは、下記の層からなる。
【0017】番号1:厚さ12〜100 μm 、好ましくは19
〜38μm のポリエステルフイルムからなる支持フイル
ム。
〜38μm のポリエステルフイルムからなる支持フイル
ム。
【0018】番号2:最終的に装飾した基材が三次元的
図形形成効果を持たない区域にのみ施したカバーラッカ
ー層。カバーラッカー層は、厚さ5〜15μm 好ましくは
10μm のラッカーの層であり、その層の厚さは望ましい
効果に応じて異なる。この層に使用するラッカーは特別
な特性、主として支持フイルムに対する非常に良好な密
着性、ケトンおよび芳香族化合物を含む溶剤に対する非
常に良好な耐性、および一般的に180 ℃を超える非常に
良好な耐熱性を示す必要がある。このラッカーは、従来
の方法、例えばスクリーン印刷あるいは凹版印刷により
塗布する。
図形形成効果を持たない区域にのみ施したカバーラッカ
ー層。カバーラッカー層は、厚さ5〜15μm 好ましくは
10μm のラッカーの層であり、その層の厚さは望ましい
効果に応じて異なる。この層に使用するラッカーは特別
な特性、主として支持フイルムに対する非常に良好な密
着性、ケトンおよび芳香族化合物を含む溶剤に対する非
常に良好な耐性、および一般的に180 ℃を超える非常に
良好な耐熱性を示す必要がある。このラッカーは、従来
の方法、例えばスクリーン印刷あるいは凹版印刷により
塗布する。
【0019】番号3:厚さ0.5 〜2.5 μm 、好ましくは
約1.5 μm の保護ラッカー層。保護ラッカー層はエンボ
ス加工ホイルで装飾する基材の自由表面を保護する。そ
の目的のために、良好な硬度、化学薬品に対する良好な
耐性、および引っ掻きおよび摩耗に対する良好な耐性を
示す必要があり、支持フイルムから容易に剥離できる。
この保護層は通常透明である。
約1.5 μm の保護ラッカー層。保護ラッカー層はエンボ
ス加工ホイルで装飾する基材の自由表面を保護する。そ
の目的のために、良好な硬度、化学薬品に対する良好な
耐性、および引っ掻きおよび摩耗に対する良好な耐性を
示す必要があり、支持フイルムから容易に剥離できる。
この保護層は通常透明である。
【0020】番号4:装飾層。この層は、従来の方法に
より塗布される着色ラッカーであり、厚さは2〜20μm
、好ましくは約6μm である。層4は、エンボス加工
ホイルで装飾した時に基材の表面を着色する。装飾層
は、良好な被覆能力を有し、保護ラッカー層3に対して
良好な密着性を有し、良好な強度および耐性を備えてい
なければならない。
より塗布される着色ラッカーであり、厚さは2〜20μm
、好ましくは約6μm である。層4は、エンボス加工
ホイルで装飾した時に基材の表面を着色する。装飾層
は、良好な被覆能力を有し、保護ラッカー層3に対して
良好な密着性を有し、良好な強度および耐性を備えてい
なければならない。
【0021】番号5:接着層。各種の接着材料を使用で
きる。この層の厚さは1〜10μm、好ましくは約4μm
である。使用する接着剤は、エンボス加工温度で良好
な接着性を示し、装飾層4に対する良好な密着性を示
し、エンボス加工の後、基材に対する良好な密着性も示
さなければならない。
きる。この層の厚さは1〜10μm、好ましくは約4μm
である。使用する接着剤は、エンボス加工温度で良好
な接着性を示し、装飾層4に対する良好な密着性を示
し、エンボス加工の後、基材に対する良好な密着性も示
さなければならない。
【0022】図2は、6で示す、例えば板などの基材上
でのエンボス加工作業を図式的に示す。この方法では、
エンボス加工ホイルは一般的に、圧力ローラー7により
象徴的に示す様に、熱および圧力の作用により基材6に
押し付けられる。その結果、接着層5が粘着性になり、
保護ラッカー層3および着色ラッカー層4が基材6に確
実に接続される。温度がある程度低下すると、これら2
つの層3および4が接着層5により基材6に非常に固く
付着するので、支持フイルム1およびそれと共にカバー
ラッカー層2の部分が剥離される。後に残るのは、基材
6上で番号8で示す、エンボス加工ホイルで装飾された
表面であり、この表面8は、番号9で示す区域で、支持
フイルム1の全面に渡って形成された三次元的図形10
に相当する三次元的図形を備えている。しかし、支持フ
イルム1がカバーラッカー層2を備えている区域では、
図1が明確に示す様に、カバーラッカー層2は支持フイ
ルム1と反対側に面した表面11で本質的に平らなの
で、装飾された基材6の表面8も平らになる。
でのエンボス加工作業を図式的に示す。この方法では、
エンボス加工ホイルは一般的に、圧力ローラー7により
象徴的に示す様に、熱および圧力の作用により基材6に
押し付けられる。その結果、接着層5が粘着性になり、
保護ラッカー層3および着色ラッカー層4が基材6に確
実に接続される。温度がある程度低下すると、これら2
つの層3および4が接着層5により基材6に非常に固く
付着するので、支持フイルム1およびそれと共にカバー
ラッカー層2の部分が剥離される。後に残るのは、基材
6上で番号8で示す、エンボス加工ホイルで装飾された
表面であり、この表面8は、番号9で示す区域で、支持
フイルム1の全面に渡って形成された三次元的図形10
に相当する三次元的図形を備えている。しかし、支持フ
イルム1がカバーラッカー層2を備えている区域では、
図1が明確に示す様に、カバーラッカー層2は支持フイ
ルム1と反対側に面した表面11で本質的に平らなの
で、装飾された基材6の表面8も平らになる。
【0023】図1に示す、上記のホイルの各種の層に
は、例として、下記の材料を使用することができる。
は、例として、下記の材料を使用することができる。
【0024】支持フイルム1:上記の様にポリエステル
フイルム。
フイルム。
【0025】 カバーラッカー層2:下記の組成のラッカー: 枝分れ水酸基含有ポリエステル(OH-含有量約8%) 35部 多官能性脂肪族イソシアネート(BuAc/キシレン1:1 中75% 、 NCO-含有量約17%) 30部 メチルエチルケトン 20部 酢酸ブチル 15部 保護ラッカー層3:下記の組成のラッカー: 高軟化点を有する低分子量メタクリル酸メチル (ガラス化温度(tg)約105 ℃) 25部 メチルエチルケトン 50部 シクロヘキサノン 10部 ワックス分散物 15部 装飾性ラッカー層4:下記の組成のラッカー: 中分子量メタクリル酸メチル(tg約85℃) 20部 メチルエチルケトン 18部 酢酸エチル 18部 酢酸ブチル 10部 顔料(すす) 30部 分散添加剤(塩基性、高分子量重合体、BuAc/酢酸メトキシ プロピル/ブタノール3:2:1 中40%) 4部 接着層5:下記の組成物: 中分子量スチレン樹脂(固着点120-150 ℃) 15部 メチルエチルケトン 35部 酢酸ブチル 15部 トルエン 25部 顔料(すす) 4部 TiO2 4部 充填材(SiO2 ) 2部 次に、図1および2のエンボス加工ホイルの変形を示す
図3および4に関して、この変形は、さらに剥離層つま
り分離層12を備えている。層12は、支持フイルム1
の方を向き、ホイルを基材6にエンボス加工した後は自
由表面を形成する保護ラッカー層3の表面8の区域に配
置されている。したがって、剥離層12は、一方で、カ
バーラッカー層2の支持フイルム1と反対側の表面11
を覆い、他方、カバーラッカー層2が無い所では、支持
フイルム1の三次元的図形を有する表面10に直接接し
ている。
図3および4に関して、この変形は、さらに剥離層つま
り分離層12を備えている。層12は、支持フイルム1
の方を向き、ホイルを基材6にエンボス加工した後は自
由表面を形成する保護ラッカー層3の表面8の区域に配
置されている。したがって、剥離層12は、一方で、カ
バーラッカー層2の支持フイルム1と反対側の表面11
を覆い、他方、カバーラッカー層2が無い所では、支持
フイルム1の三次元的図形を有する表面10に直接接し
ている。
【0026】剥離層12は、関与するそれぞれの機能に
応じて、複数の特性を示す。例えば、剥離層12の目的
は、エンボス加工ホイルを基材6上に転写した後、カバ
ーラッカー層2を載せた支持フイルム1をエンボス加工
ホイルの残りの部分から特に簡単に分離できる様にする
だけの場合もある。しかし、エンボス加工した後はホイ
ルの自由表面になる保護ラッカー層3の表面8の光沢特
性がカバーラッカー層2により影響を受けること、すな
わち、特に保護ラッカー層3の表面8はエンボス加工の
際に一方でカバーラッカー層2により、他方支持フイル
ム1の表面により形成されるが、表面8は一様なつや消
し状態になることが必要な場合もある。これを達成する
には、剥離層12は、支持フイルム1およびカバーラッ
カー層2に対して非常に良い密着性を示す必要がある。
その上、エンボス加工ホイルの満足した製造を行うに
は、剥離層12が非常に良好な耐溶剤性を示すことが重
要である。さらに、この目的を達成するためには、支持
フイルム1の表面10の三次元的図形を確保するため
に、非常に良い流動特性が必要である。また、剥離層1
2はその表面が一様なつや消しになる様に乾燥しなけれ
ばならない。非常に良好な耐熱性も重要である。
応じて、複数の特性を示す。例えば、剥離層12の目的
は、エンボス加工ホイルを基材6上に転写した後、カバ
ーラッカー層2を載せた支持フイルム1をエンボス加工
ホイルの残りの部分から特に簡単に分離できる様にする
だけの場合もある。しかし、エンボス加工した後はホイ
ルの自由表面になる保護ラッカー層3の表面8の光沢特
性がカバーラッカー層2により影響を受けること、すな
わち、特に保護ラッカー層3の表面8はエンボス加工の
際に一方でカバーラッカー層2により、他方支持フイル
ム1の表面により形成されるが、表面8は一様なつや消
し状態になることが必要な場合もある。これを達成する
には、剥離層12は、支持フイルム1およびカバーラッ
カー層2に対して非常に良い密着性を示す必要がある。
その上、エンボス加工ホイルの満足した製造を行うに
は、剥離層12が非常に良好な耐溶剤性を示すことが重
要である。さらに、この目的を達成するためには、支持
フイルム1の表面10の三次元的図形を確保するため
に、非常に良い流動特性が必要である。また、剥離層1
2はその表面が一様なつや消しになる様に乾燥しなけれ
ばならない。非常に良好な耐熱性も重要である。
【0027】剥離層の厚さは好ましくは0.5-3 μm 、よ
り好ましくは約1μm である。
り好ましくは約1μm である。
【0028】剥離層は、例えば、下記の組成のラッカー
により形成される。
により形成される。
【0029】 剥離ラッカー12: ヒドロキシル官能性アクリル樹脂(OH含有量約8%) 12部 ヘキサメトキシメチルメラミン樹脂(当量約150 g/ml OH) 12部 キシレン 12部 酢酸エチル 20部 ブタノール 20部 ジアセトンアルコール 20部 酸触媒(p-トルエンスルホン酸、イソプロパノール中40%) 4部 つや消し剤:所望のつや消し程度に応じて、ラッカー全
体に対して1-10% 次に、熱エンボス加工ホイルを基材上に転写した後、三
次元的図形が装飾された基材の表面を形成しない様に配
置されている点において、図1〜4に示すホイルと異な
った熱エンボス加工ホイルの、別の形態を示す図5およ
び6について説明する。対照的に、図5に示す熱エンボ
ス加工ホイルを使用する場合、その表面は平滑である。
体に対して1-10% 次に、熱エンボス加工ホイルを基材上に転写した後、三
次元的図形が装飾された基材の表面を形成しない様に配
置されている点において、図1〜4に示すホイルと異な
った熱エンボス加工ホイルの、別の形態を示す図5およ
び6について説明する。対照的に、図5に示す熱エンボ
ス加工ホイルを使用する場合、その表面は平滑である。
【0030】図5に示す熱エンボス加工ホイルは下記の
層を含む。
層を含む。
【0031】21:両側に平滑な表面を備えた支持フイ
ルム。これは例えば厚さが6〜100μm 、好ましくは19
〜38μm のポリエステルフイルムでよい。
ルム。これは例えば厚さが6〜100μm 、好ましくは19
〜38μm のポリエステルフイルムでよい。
【0032】22:剥離層。剥離層の機能は、エンボス
加工の後、エンボス加工ホイルで装飾した基材の露出し
た表面に損傷を与えることなく、支持フイルムと熱エン
ボス加工ホイルのラッカー層を確実に分離することであ
る。一般的に、剥離層の厚さは1μm 未満である。
加工の後、エンボス加工ホイルで装飾した基材の露出し
た表面に損傷を与えることなく、支持フイルムと熱エン
ボス加工ホイルのラッカー層を確実に分離することであ
る。一般的に、剥離層の厚さは1μm 未満である。
【0033】23:保護ラッカー層。これは厚さが0.5
〜3μm 、好ましくは1.0 〜1.5 μm のラッカー層であ
り、その目的は、エンボス加工ホイルで装飾した基材の
表面を、その外観を著しく損なうことなく、保護するこ
とである。その目的には、保護ラッカー層は、良好な化
学的および物理的耐性、並びに非常に良好な透明性を備
えていなければならない。
〜3μm 、好ましくは1.0 〜1.5 μm のラッカー層であ
り、その目的は、エンボス加工ホイルで装飾した基材の
表面を、その外観を著しく損なうことなく、保護するこ
とである。その目的には、保護ラッカー層は、良好な化
学的および物理的耐性、並びに非常に良好な透明性を備
えていなければならない。
【0034】24:熱の作用により変形し得る層。この
層も通常は厚さが0.3 〜2.0 μm 、好ましくは約1μm
のラッカー層である。この層は、いずれの場合も透明
で、熱および圧力の作用により、例えば適当な図形を形
成したローラーを使用して、望ましいデザインの三次元
的図形を与えることができる。熱可塑性層24の支持フ
イルム21と反対側の表面に三次元的図形を付けた後
は、それがエンボス加工中に変形したり失われたりする
のを確実に防ぐために、この層の温度に対する感度をエ
ンボス加工に使用する温度に正確に合わせておく必要が
ある。通常は、100〜180 ℃、好ましくは約140 ℃で熱
的に変形し得る層を使用する。
層も通常は厚さが0.3 〜2.0 μm 、好ましくは約1μm
のラッカー層である。この層は、いずれの場合も透明
で、熱および圧力の作用により、例えば適当な図形を形
成したローラーを使用して、望ましいデザインの三次元
的図形を与えることができる。熱可塑性層24の支持フ
イルム21と反対側の表面に三次元的図形を付けた後
は、それがエンボス加工中に変形したり失われたりする
のを確実に防ぐために、この層の温度に対する感度をエ
ンボス加工に使用する温度に正確に合わせておく必要が
ある。通常は、100〜180 ℃、好ましくは約140 ℃で熱
的に変形し得る層を使用する。
【0035】25:反射層。この層の機能は、透明層2
3および24を通過する入射光が屈折および反射され、
熱的に変形し得る層24の構造が特に光学的に鮮明にな
る様にすることである。反射層は一般的に金属または金
属酸化物層、好ましくは例えば厚さが0.001 〜1μm 、
より好ましくは約0.005 〜0.05μm のアルミニウム層で
ある。この層は、好ましくは高真空条件下で蒸着により
施すが、層24の熱的変形の前または後に金属層を付け
ることができる。
3および24を通過する入射光が屈折および反射され、
熱的に変形し得る層24の構造が特に光学的に鮮明にな
る様にすることである。反射層は一般的に金属または金
属酸化物層、好ましくは例えば厚さが0.001 〜1μm 、
より好ましくは約0.005 〜0.05μm のアルミニウム層で
ある。この層は、好ましくは高真空条件下で蒸着により
施すが、層24の熱的変形の前または後に金属層を付け
ることができる。
【0036】26:特性および機能において、図1〜4
に示す熱エンボス加工ホイルの接着層5と本質的に同じ
接着層。図5の実施形態では、層26の厚さは2〜10。
好ましくは3〜4μm である。
に示す熱エンボス加工ホイルの接着層5と本質的に同じ
接着層。図5の実施形態では、層26の厚さは2〜10。
好ましくは3〜4μm である。
【0037】剥離層22、保護ラッカー層23、熱的に
変形し得る層24および接着層26は、下記の組成を有
することができる。
変形し得る層24および接着層26は、下記の組成を有
することができる。
【0038】 剥離層22: ワックス(エステルワックス、滴点90℃) 0.05部 トルエン 95部 エタノール 5部 保護ラッカー層23: 高分子量メタクリル酸メチル、軟化点180 ℃ 18部 メチルエチルケトン 35部 トルエン 40部 ジアセトンアルコール 7部 熱変形性層24: メタクリル酸メチル、軟化点約180 ℃ 30部 スチレン共重合体、軟化点約100 ℃ 2部 トルエン 20部 酢酸エチル 35部 酢酸ブチル 13部 接着層26: メタクリル酸メチル/ブチル(軟化点約100-120 ℃) 8部 ポリ酢酸ビニル、単独重合体(エタノール中50%) 7部 メタクリル酸ブチル/メタクリル酸メチル共重合体 キシレン中40% (軟化点80-100℃) 12部 アセトン 18部 トルエン 12部 エタノール 30部 顔料(TiO2 ) 10部 充填材(SiO2 ) 3部 図5に示す熱エンボス加工ホイルの製造においては、剥
離層22、保護ラッカー層23および熱可塑的に変形し
得るラッカー層24を、両面が平滑な支持フイルム21
に順次付ける。保護ラッカー層23および熱可塑的に変
形し得るラッカー層24は透明でなければならない。2
つの層23、24の代わりに、単一のラッカー層を付け
ることも可能である。
離層22、保護ラッカー層23および熱可塑的に変形し
得るラッカー層24を、両面が平滑な支持フイルム21
に順次付ける。保護ラッカー層23および熱可塑的に変
形し得るラッカー層24は透明でなければならない。2
つの層23、24の代わりに、単一のラッカー層を付け
ることも可能である。
【0039】層22〜24を支持フイルム21に付けた
後、熱可塑的に変形し得るラッカー層24の支持フイル
ム21と反対側の面に、適切に構造化したローラーまた
は他の類似の好適な方法により、部分的な三次元的図形
形成効果を与えることができる。その様にして変形させ
た後、表面27に反射層25を蒸着により施し、その
後、接着層26を通常の方法により付ける。
後、熱可塑的に変形し得るラッカー層24の支持フイル
ム21と反対側の面に、適切に構造化したローラーまた
は他の類似の好適な方法により、部分的な三次元的図形
形成効果を与えることができる。その様にして変形させ
た後、表面27に反射層25を蒸着により施し、その
後、接着層26を通常の方法により付ける。
【0040】すでに述べた様に、表面27の構造化は反
射層25を付けた後に行ってもよい。また、接着層26
またはエンボス加工ホイルで装飾すべき基材28と、熱
可塑的に変形し得るラッカー層24との間に十分な光学
的な差があれば、反射層25を取り止め、反射層25が
無くても表面27の区域で三次元的図形を知覚し得る様
にすることができる。
射層25を付けた後に行ってもよい。また、接着層26
またはエンボス加工ホイルで装飾すべき基材28と、熱
可塑的に変形し得るラッカー層24との間に十分な光学
的な差があれば、反射層25を取り止め、反射層25が
無くても表面27の区域で三次元的図形を知覚し得る様
にすることができる。
【0041】図6に示す様に、このエンボス加工ホイル
を基材28に付けると、保護ラッカー層23の、エンボ
ス加工ホイル中では支持フイルム21の方を向いている
平滑な表面29により自由表面が形成される。したがっ
て、図5に示す様なエンボス加工ホイルを使用すると、
自由表面29が平滑な、装飾された基材28が得られ
る。
を基材28に付けると、保護ラッカー層23の、エンボ
ス加工ホイル中では支持フイルム21の方を向いている
平滑な表面29により自由表面が形成される。したがっ
て、図5に示す様なエンボス加工ホイルを使用すると、
自由表面29が平滑な、装飾された基材28が得られ
る。
【0042】最後に、ここに図示し、説明した本発明の
実施形態に非常に多様な変形を行うことができる。特
に、その様な可能な変形は、ラッカーの各種の層の着色
に関し、また、ラッカー層がその全面に渡って一様では
無い様にすることもできる。例えば、ラッカー層の色
を、例えば三次元的図形に応じて変化させ、部分的な三
次元的図形形成効果をさらに強調することも可能であ
る。さらに、図1〜4の実施形態で、例えば着色ラッカ
ー層4を反射層で置き換えることもできる。
実施形態に非常に多様な変形を行うことができる。特
に、その様な可能な変形は、ラッカーの各種の層の着色
に関し、また、ラッカー層がその全面に渡って一様では
無い様にすることもできる。例えば、ラッカー層の色
を、例えば三次元的図形に応じて変化させ、部分的な三
次元的図形形成効果をさらに強調することも可能であ
る。さらに、図1〜4の実施形態で、例えば着色ラッカ
ー層4を反射層で置き換えることもできる。
【図1】本発明に係わる熱エンボス加工ホイルの第一の
実施形態の断面図
実施形態の断面図
【図2】エンボス加工の際の、基材およびその上に載せ
た熱エンボス加工ホイルの断面図
た熱エンボス加工ホイルの断面図
【図3】本発明に係わる熱エンボス加工ホイルの第二の
実施形態の部分を示す、図2に対応する断面図
実施形態の部分を示す、図2に対応する断面図
【図4】基材およびその基材に付けた図3の熱エンボス
加工ホイルの断面図
加工ホイルの断面図
【図5】本発明に係わる熱エンボス加工ホイルの第三の
実施形態の、図1および3に対応する断面図
実施形態の、図1および3に対応する断面図
【図6】支持フイルムをすでに取り去ってある、基材お
よびその基材に図5に示す様に付けた熱エンボス加工ホ
イルの断面図
よびその基材に図5に示す様に付けた熱エンボス加工ホ
イルの断面図
21 支持フイルム 22 剥離層 23 保護ラッカー層 24 熱可塑的に変形し得る層(ラッカー層) 25 反射層 26 接着層 27 表面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI B44C 3/02 B44C 3/02 A (72)発明者 エトヴィン タフェルマイヤー ドイツ連邦共和国 ディー−8510 フュ ルス カルロ−シュミット−シュトラー セ 8 (56)参考文献 特開 昭63−280699(JP,A) 特開 昭63−106779(JP,A) 特開 昭63−272596(JP,A) 実開 昭60−150098(JP,U) 特公 平2−51759(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B32B 33/00 B32B 7/06 B44C 1/165
Claims (8)
- 【請求項1】 支持フイルム、該支持フイルム上に取り
外しできる様に配置された装飾性ラッカー層、および該
装飾性ラッカー層の前記支持フイルムから遠く離れた方
の側に配置された接着層からなり、前記装飾性ラッカー
層が、前記支持フイルムの方を向いた少なくとも一つの
透明なカバーラッカー層を含み、該カバーラッカー層
が、前記支持フイルムから遠く離れた方の表面に三次元
的図形を備え、該三次元的図形が、前記透明カバーラッ
カー層の前記支持フイルムから遠く離れた方の表面に部
分的にのみ与えられていることを特徴とするエンボス加
工ホイル。 - 【請求項2】 前記透明カバーラッカー層の、前記支持
フイルムから遠く離れた方の前記表面が、熱変形により
形成された前記図形をある区域にのみ備えていることを
特徴とする請求項1記載のエンボス加工ホイル。 - 【請求項3】 前記透明カバーラッカー層の、前記図形
をある区域にのみ備えた前記表面が、反射層を備えてい
ることを特徴とする請求項1記載のエンボス加工ホイ
ル。 - 【請求項4】 前記反射層が金属層であることを特徴と
する請求項3記載のエンボス加工ホイル。 - 【請求項5】 前記支持フイルムと前記装飾性ラッカー
層との間に剥離層を含むことを特徴とする請求項1記載
のエンボス加工ホイル。 - 【請求項6】 前記装飾性ラッカー層と前記支持フイル
ムとの間に結合層を含むことを特徴とする請求項1記載
のエンボス加工ホイル。 - 【請求項7】 前記装飾性ラッカー層の、前記支持フイ
ルムの方を向いた表面が、保護ラッカー層により形成さ
れていることを特徴とする請求項1記載のエンボス加工
ホイル。 - 【請求項8】 前記保護ラッカー層が透明であることを
特徴とする請求項7記載のエンボス加工ホイル。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE9110511.0 | 1991-08-24 | ||
DE9110511U DE9110511U1 (de) | 1991-08-24 | 1991-08-24 | Prägefolie, insbesondere Heißprägefolie |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05208479A JPH05208479A (ja) | 1993-08-20 |
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Family
ID=6870589
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP03307331A Expired - Fee Related JP3081930B2 (ja) | 1991-08-24 | 1991-11-22 | エンボス加工ホイル |
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---|---|
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JP (1) | JP3081930B2 (ja) |
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EP1304235A1 (de) * | 2001-10-19 | 2003-04-23 | MZE Engineering GmbH | Verfahren zum Erzeugen einer strukturierten Lackschicht mittels Träger-Folie |
DE10236810A1 (de) * | 2002-08-10 | 2004-02-26 | Leonhard Kurz Gmbh & Co. Kg | Teilstrukturierte IMD-fähige Mehrschichtfolie |
DE102005006074B4 (de) * | 2005-02-10 | 2009-12-10 | Leonhard Kurz Gmbh & Co. Kg | Dekorierter Spritzgussartikel und Verfahren zur Herstellung des dekorierten Spritzgussartikels |
EP2047960B1 (en) | 2007-10-08 | 2014-12-03 | Teikoku Printing Inks Mfg. Co., Ltd | Decorated sheet and molded article integrated with the same |
CN101524942B (zh) * | 2008-03-06 | 2012-10-10 | 华硕电脑股份有限公司 | 一种薄膜结构及薄膜结构的形成方法 |
US9675996B2 (en) * | 2014-11-12 | 2017-06-13 | Illinois Tool Works Inc. | Embossed heat transfer labels |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US4330352A (en) * | 1977-08-19 | 1982-05-18 | Stauffer Chemical Company | Method of forming a metallized decorative film laminate |
DE3422910C1 (de) * | 1984-06-20 | 1985-09-05 | Leonhard Kurz GmbH & Co, 8510 Fürth | Praegefolie,insbesondere Heisspraegefolie mit einer Magnetschicht |
US4759968A (en) * | 1986-04-01 | 1988-07-26 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Transfer graphic article |
DE8616114U1 (de) * | 1986-06-14 | 1986-08-21 | Leonhard Kurz GmbH & Co, 8510 Fürth | Prägefolie, insbesondere Heißprägefolie |
US4892602A (en) * | 1986-08-19 | 1990-01-09 | Oike Industrial Co., Ltd. | Heat-sensitive transfer medium |
DE3926578C1 (ja) * | 1989-08-11 | 1990-07-26 | Leonhard Kurz Gmbh & Co, 8510 Fuerth, De |
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- 1991-08-24 DE DE9110511U patent/DE9110511U1/de not_active Expired - Lifetime
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-
1992
- 1992-07-13 US US07/912,555 patent/US5635282A/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
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