JP3078538B1

JP3078538B1 - 反射型液晶表示装置の製法

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Publication number: JP3078538B1
Application number: JP11150654A
Authority: JP
Inventors: 健剛青木; 康成永田; 敏郎本村
Original assignee: Kyocera Corp
Current assignee: Kyocera Corp
Priority date: 1999-05-28
Filing date: 1999-05-28
Publication date: 2000-08-21
Anticipated expiration: 2019-05-28
Also published as: JP2000338480A

Abstract

【要約】【課題】凸部による光散乱性を向上させ、視野角を広く
する。【解決手段】ガラス基板２上に凸部１７を多数配列した
凸状配列群を形成し、その上に光反射層４を被覆する。
隣り合う各凸部１７は接続されている。さらに光反射層
４上に配向膜５を被覆する。また、ガラス基板６上にカ
ラーフィルタ７とオーバーコート層８と透明電極９と配
向膜１０を形成している。そして、双方の基板を液晶１
１を介してシール部材１２により貼り合わせる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は反射型液晶表示装置
の製法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶表示装置は小型もしくは中型
の携帯情報端末やノートパソコンの他に、大型かつ高精
細のモニターにまで使用されている。さらにバックライ
トを使用しない反射型液晶表示装置の技術も開発されて
おり、薄型、軽量および低消費電力化に優れている。

【０００３】反射型液晶表示装置には、後方に配設した
基板の面上に鏡面にした光反射層を設け、前方に配設し
た基板の外側に散乱板を設けた機能分離型と、後方に配
設した基板に対し凹凸形状の光反射層を形成した散乱反
射型とがあるが、双方の型ともにバックライトを用いな
いことで、周囲の光を有効に利用している。

【０００４】散乱反射型液晶表示装置を図１３に示す
（特開平４−２４３２２６号参照）。液晶表示装置１に
おいて、ガラス基板２の上にフォトリソ工程により樹脂
からなるほぼ半球状の凸部３を多数ランダムに並べるこ
とで凸状配列群を形成し、凸状配列群上に金属からなる
光反射層４を被覆し、光反射層４上に配向膜５を被覆
し、また、ガラス基板６上にカラーフィルタ７を形成
し、カラーフィルタ７の上にオーバーコート層８を被覆
し、オーバーコート層８上にＩＴＯなどからなる透明電
極９を帯状に複数配列し、さらに配向膜１０を被覆す
る。そして、双方の基板を液晶１１を介して対向配設
し、液晶１１はシール部材１２により囲まれた領域内に
充填され、ガラス基板６の外面に第１位相差フィルム１
３と第２位相差フィルム１４と偏光板１５とを順次形成
する。

【０００５】上記光反射層４については、凸状配列群上
にＡｌなどの金属膜をスパッタリングにより被覆する。
このＡｌ膜は多数の帯を平行に配列したものであり、各
帯状膜が個々の電極（光反射層４）に相当する。

【０００６】上記構成の液晶表示装置１においては、偏
光板１５、第２位相差フィルム１４、ガラス基板６およ
び液晶１１を通して光入射されると、入射光が光反射層
４にて光反射され、その反射光がふたたび液晶１１を通
して出射されることで散乱反射型の装置構成となる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成の液晶表示装置１においては、フォトリソ工程により
凸状配列群を形成するに際し、再現性と量産性を高める
ために各凸部３を隔離させるが、その反面、各凸部３の
間に平坦部Ｈが存在し、この平坦部Ｈ上にも光反射層４
としてＡｌ膜が被覆され、これにより、凸状配列群の平
坦度が上がり、正反射成分が増大し、その結果、光散乱
性が低下していた。

【０００８】この課題を解消するために、ふたたびフォ
トリソ工程でもって平坦部Ｈ上に凸部を設けたり、ある
いは凸状配列群上に樹脂を被覆して滑らかにする技術が
提案されているが、そのような工程を加えることで生産
コストが上がっていた。

【０００９】したがって本発明の目的は凸状配列群によ
る光散乱性を向上させることで、視野角を広くし、これ
によって良好な表示特性をもつ高性能かつ高信頼性の反
射型液晶表示装置の製法を提供することにある。

【００１０】また、本発明の他の目的は生産コストを下
げて、かかる高性能かつ高信頼性の反射型液晶表示装置
の製法を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の反射型液晶表示
装置の製法は、基板の一方主面上に多数の樹脂製凸部を
ランダムに並べた凸状配列群を形成し、この凸状配列群
上に光反射性電極を被覆し、光反射性電極上に配向層を
積層してなる一方部材と、透明基板上に透明電極と配向
層とを順次積層してなる他方部材との間にネマチック型
液晶を介在させてマトリックス状に画素を配列せしめて
なる構成において、順次下記（ａ）〜（ｆ）の各工程も
しくは順次下記（ａ）〜（ｄ），（ｆ）の各工程を経て
前記凸状配列群における隣り合う各凸部を接続せしめた
ことを特徴とする。（ａ）工程：基板上に光感光性樹脂を塗布形成する。（ｂ）工程：上記塗布基板をプリベークする。（ｃ）工程：上記プリベークした基板に対し、多数のス
ポットを間隔０．１〜２０μｍにてランダム状態に配置
したフォトリソ用マスクを用いて露光をおこなう。（ｄ）工程：隣り合う各凸部間にて双方の端部が接続さ
れ連続的に繋がるまで現像をおこなう。（ｅ）工程：各凸部の表面形状が大きく変化しない程度
に熱溶融させる。（ｆ）工程：各凸部を加熱硬化する。

【００１２】本発明の他の反射型液晶表示装置の製法
は、基板の一方主面上に多数の樹脂製凸部をランダムに
並べた凸状配列群を形成し、この凸状配列群上に光反射
膜を被覆し、光反射膜上に透明電極と配向層とを順次積
層してなる一方部材と、透明基板上に透明電極と配向層
とを順次積層してなる他方部材との間にネマチック型液
晶を介在させてマトリックス状に画素を配列せしめてな
る構成において、順次下記（ａ）〜（ｆ）の各工程もし
くは順次下記（ａ）〜（ｄ），（ｆ）の各工程を経て前
記凸状配列群における隣り合う各凸部を接続せしめたこ
とを特徴とする。（ａ）工程：基板上に光感光性樹脂を塗布形成する。（ｂ）工程：上記塗布基板をプリベークする。（ｃ）工程：上記プリベークした基板に対し、多数のス
ポットを間隔０．１〜２０μｍにてランダム状態に配置
したフォトリソ用マスクを用いて露光をおこなう。（ｄ）工程：隣り合う各凸部間にて双方の端部が接続さ
れ連続的に繋がるまで現像をおこなう。（ｅ）工程：各凸部の表面形状が大きく変化しない程度
に熱溶融させる。（ｆ）工程：各凸部を加熱硬化する。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明を図１〜図１２によ
って詳述する。図１は反射型液晶表示装置の断面概略
図、図２は凸状配列群の形成工程図、図３は凸状配列群
を形成するためのフォトマスクの平面図、図４は他のフ
ォトマスクの平面図である。また、図５は現像時間と凸
状配列群の凹凸高低差との関係を示し、図６は現像時間
の違いによる光感光性樹脂層の形状変化を示す。図７は
凸状配列群の拡大図、図８は凸状配列群の写真図であっ
て、図９は他の凸状配列群の拡大図である。さらに図１
０は本発明の他の反射型液晶表示装置の断面概略図、図
１１は反射特性を測定するための仮想部材の断面概略図
である。図１２は仮想部材の散乱特性を示す。なお、図
１３に示す従来の液晶表示装置１と同一箇所には同一符
号を付す。

【００１４】反射型液晶表示装置図１によりカラー表示用の反射型液晶表示装置１６を説
明する。２はセグメント側のガラス基板（０．７ｍｍ
厚）、６はコモン側のガラス基板（０．７ｍｍ厚）であ
って、前記一方部材については、ガラス基板２の一方主
面上に樹脂からなるほぼ半球状の凸部１７（径：１０〜
１５μｍ）を多数配列することで凸状配列群を形成し、
凸状配列群上にクロムやアルミニウム、銀などの金属か
らなる光反射層４を膜厚１０００Åで被覆している。光
反射層４は多数の帯を平行に配列したものであり、各帯
状膜が個々の電極１８に相当する。

【００１５】そして、光反射層４上に一定方向にラビン
グしたポリイミド樹脂からなる配向膜５を被覆する。光
反射層４を被覆した凸状配列群と配向膜５との間に樹脂
やＳｉＯ₂からなる平滑膜をスパッタリング法やディッ
プ法、印刷法、スピンナー法等でもって形成してもよ
い。

【００１６】前記他方部材については、ガラス基板６上
に画素ごとに配したカラーフィルタ７を形成している。
カラーフィルタ７は顔料分散方式、すなわちあらかじめ
顔料（赤、緑、青）により調合された感光性レジストを
基板上に塗布し、フォトリソグラフィにより形成してい
る。その上にアクリル系樹脂からなるオーバーコート層
８と、多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極９と
を形成している。透明電極９は上記電極１８と直交して
いる。ただし、オーバーコート層８は必須不可欠ではな
く、カラーフィルタ７上に直に透明電極９を形成するこ
とで、オーバーコート層８を除外してもよい。さらに透
明電極９上に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂か
らなる配向膜１０を形成している。なお、配向膜１０は
透明電極９上に直に成膜形成しているが、配向膜１０と
透明電極９との間に樹脂やＳｉＯ₂などからなる絶縁膜
を介在させてもよい。

【００１７】そして、上記構成の一方部材および他方部
材を、たとえば２００〜２６０°の角度でツイストされ
たカイラルネマチック液晶からなる液晶１１を介してシ
ール部材１２により貼り合わせる。また、両部材間には
液晶１１の厚みを一定にするためにスペーサを多数個配
している。

【００１８】さらにガラス基板６の外側にポリカーボネ
イトなどからなる第１位相差フィルム１３と第２位相差
フィルム１４とヨウ素系の偏光板１５とを順次形成す
る。これらの配設については、アクリル系の材料からな
る粘着材を塗布することで貼り付ける。

【００１９】上記構成の液晶表示装置１６においては、
太陽光、蛍光灯などの外部照明による入射光は偏光板１
５、第２位相差フィルム１４、第１位相差フィルム１３
を通して、さらにガラス基板６を通過し、カラーフィル
タ７、液晶１１を通して光反射層４に到達し、光反射層
４にて光反射され、その反射光が出射される。

【００２０】〔凸状配列群の形成方法〕ガラス基板２上の凸状配列群は、図２に示すように
（ａ）〜（ｇ）の各工程を経て形成する。

【００２１】（ａ）工程ジエチレングリコールメチルエチルエーテルを溶媒とす
る光感光性樹脂（商品：ＰＣ３３９Ｈ・ＪＳＲ株式会社
製）をスピンコート塗布する。この樹脂の膜厚はスピン
ナ回転数により制御でき、本例ではスピンナ回転数を１
０００ｒｐｍにして２μｍ程度の厚さのポジ型光感光性
樹脂を塗布した。

【００２２】（ｂ）工程上記のように塗布された基板を、たとえば９０℃の温度
で２分間、ホットプレートによりプリベークした。

【００２３】（ｃ）工程つぎにフォトリソ用マスクを用いて露光をおこなう。こ
の露光は基板の法線方向にＵＶを用いて全面露光する。

【００２４】このフォトリソ用マスクを図３または図４
に示す。フォトマスク１９はガラス基板２０上にＣｒ金
属や酸化鉄などからなる多数の円状スポット２１（たと
えば１５μｍ径）をランダム状態に配置したものであ
り、画像表示面が５．７インチサイズである場合、一表
示面に対応するガラス基板２０上には約１０００万個の
スポットが配置される。

【００２５】また、スポットは円状以外に、図４に示す
フォトマスク２２のように、たとえば四角形、五角形、
六角形、さらにそれ以上の多角形スポット２３であって
もよいが、見る方向によって散乱特性に違いが生じない
ように円形にするのがよい。そして、このスポット形状
とほぼ同一形状の凸部１７を形成される。

【００２６】さらにスポット径およびスポット間隔を規
定するのが望ましい。すなわちスポット径を１〜５０μ
ｍに、好適には３〜１５μｍにすることで、同じレジス
ト膜厚で多くの凹凸を形成でき、良好な散乱特性が得ら
れる。しかも、各スポットの間隔を０．１〜２０μｍ、
好適には４〜７μｍにすることで、露光および現像の後
に凹凸性状が連続的につながり、これによって良好な散
乱特性が得られる。

【００２７】（ｄ）工程（ｃ）工程を経た後、現像をおこなう。現像液として
は、たとえばＪＳＲ株式会社製のＰＤ５２３ＡＤ（濃度
０．０５％）を使用する。そして、現像時間を変えるこ
とで現像の進行を加減することができるが、現像を適度
に止めることで、隣り合う各凸部間にて双方の端部が接
続され、連続的に繋がる。

【００２８】図５および図６により現像の進行程度によ
る凸部の状態を示す。図５において、現像時間による凹
凸高低差を示し、横軸は現像時間（秒）であり、縦軸は
凹凸高低差（μｍ）であり、黒点は測定データである。
現像時間が約２５秒までは時間の増大するにしたがって
凹凸高低差が大きくなるが、現像時間が約２５秒を超え
ると、ガラス基板２が露出され、現像による深度が一定
になることで凹凸高低差の変動が非常に小さくなってい
る。

【００２９】図６においては、測定データである黒点の
うち（ａ）と（ｂ）と（ｃ）について、それぞれのガラ
ス基板２上の凸状配列群の断面形状を示す。

【００３０】たとえば、現像時間を２０秒にすればよい
が、この現像時間もレジスト塗布量、現像液濃度、プリ
ベーク条件等により適宜変えればよい。

【００３１】なお、（ｃ）工程の露光においては、ＵＶ
がフォトマスク１９、２２を通過することで干渉が生じ
ることで、これらマスクの直ぐ下の部分の樹脂もわずか
に光分解反応しているので、その後の現像工程（ｄ）に
より凸部の角部が丸くなる。

【００３２】（ｅ）工程この加熱処理でもって、たとえば低温（１３０℃、２
分）にて表面形状が大きく変化しない程度に熱溶融させ
る。

【００３３】（ｆ）工程つぎのポストべークでもって、たとえば高温（２００
℃、３０分）にて全体を硬化させる。

【００３４】このように（ｅ）工程によって若干溶解さ
せて表面形状をなめらかにして、凹凸形状に対し微調整
をおこない、ついで（ｆ）工程により硬化させる。

【００３５】（ｇ）工程最後に凸状配列群上にスパッタリングや蒸着法でもって
クロムやアルミニウム、銀などの金属からなる光反射層
４を、たとえば膜厚１０００Åで被覆する。

【００３６】以上の各工程（ａ）〜（ｇ）を経て得られ
た光反射層４が被覆された凸状配列群に対し、その表面
性状をスキャニングしたり、写真撮影をおこなった。

【００３７】図７はキーエンス製表面形状測定顕微鏡を
用いて、その形状をスキャニングしたものであって、横
軸（Ｘ）はスキャニング方向であり、縦軸（Ｚ）は高さ
を示し、各単位はμｍである。

【００３８】また、図８は光学式顕微鏡（オリンパス製
ＢＨ３ＭＪＬ）を用いて５００倍にて写真撮影した撮影
図である。

【００３９】これらの図から明らかなとおり、熱溶融に
より凸部が滑らかな形状になり、さらに隣り合う各凸部
が接続されている。

【００４０】かくして本発明の液晶表示装置１６によれ
ば、凸状配列群の隣り合う各凸部１７が接続されている
ので、各凸部１７の間に前述したような平坦部Ｈが存在
しなくなり、これにより、凸状配列群の平坦度が低下
し、正反射成分が減少し、光散乱性が改善され、その結
果、視野角が広くなった。

【００４１】なお、写真にて確認した限りでは、凸状配
列群における隣り合う各凸部１７がほぼ全面的に接続さ
れているが、部分的にわずかに非接続部分があっても光
散乱性が改善されることから本発明の技術範囲内であ
る。

【００４２】また、凸状配列群を形成するに当たり、
（ｅ）工程の加熱処理（表面形状が大きく変化しない程
度の熱溶融工程）を除外して、その他の各工程（ａ）〜
（ｄ）、（ｆ）、（ｇ）でもって形成してもよい。

【００４３】このように（ｅ）工程が除かれた形成方法
によって光反射層４が被覆された凸状配列群を設け、そ
の表面性状をスキャニングしたところ、図９に示すよう
な結果が得られた。

【００４４】熱溶融しない場合には、凸部形状は上面に
若干の平坦部が存在することがわかるが、同様に正反射
成分が減少し、光散乱性が改善され、視野角が広くなっ
た。

【００４５】他の反射型液晶表示装置つぎに他の反射型液晶表示装置を説明する。ただし、凸
部１７に対する好適な数値範囲については、以下の各種
反射型液晶表示装置に対しても適用される。

【００４６】図１０に示すカラー表示用の反射型液晶表
示装置２５においては、２６はコモン側のガラス基板
（０．７ｍｍ厚）、２７はセグメント側のガラス基板
（０．７ｍｍ厚）であって、前記一方部材については、
ガラス基板２６の一方主面上に樹脂からなるほぼ半球状
の凸部１７を多数配列することで、前記液晶表示装置１
６と同じようなランダム性の凸状配列群を形成し、この
凸状配列群上にクロムやアルミニウム、銀などの金属か
らなる光反射層４（膜厚１０００Å）を被覆している。
そして、凸状配列群上に画素ごとに配したカラーフィル
タ７を形成している。さらにアクリル系樹脂からなるオ
ーバーコート層８と、多数平行に配列したＩＴＯからな
る透明電極２８とを形成している。この透明電極２８上
に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向
膜２９を形成している。

【００４７】前記光反射層４には上記金属層に代えて、
金属層と低屈折率層と高屈折率層とを順次積層したもの
であってもよい。かかる高屈折率層と低屈折率層につい
ては、双方間にて屈折率に差があればよく、さまざまな
材料でもって構成できる。たとえば、高屈折率層の屈折
率は２．０〜２．７の範囲にするよく、そのためにＴｉ
Ｏ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂などで構成するとよく、低屈折
率層の屈折率は１．３〜１．７の範囲にするよく、その
ためにＳｉＯ₂、ＡｌＦ₃、ＣａＦ₂、ＭｇＦ₂などで構成
するとよい。

【００４８】なお、配向膜２９は透明電極２８上に直に
成膜形成しているが、配向膜２９と透明電極２８との間
に樹脂やＳｉＯ₂などからなる絶縁膜を介在させてもよ
く、しかも、オーバーコート層８は設けなくてもよい。
さらに凸状配列群上に樹脂やＳｉＯ₂からなる平滑膜を
形成し、この平滑膜上に画素ごとに配したカラーフィル
タ７を形成してもよい。

【００４９】他方部材については、ガラス基板２７上に
多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極３０と、一
定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜３
１とを順次形成している。透明電極３０と配向膜３１と
の間に樹脂やＳｉＯ₂からなる絶縁層を介在させてもよ
い。

【００５０】そして、上記構成の一方部材および他方部
材を液晶１１を介してシール部材１２により貼り合わせ
る。さらにガラス基板２７の外側にポリカーボネイトな
どからなる第１位相差フィルム１３と第２位相差フィル
ム１４とヨウ素系の偏光板１５とを順次形成する。

【００５１】上記構成の液晶表示装置２５においては、
太陽光、蛍光灯などの外部照明による入射光はガラス基
板２７を通過し、液晶１１、カラーフィルタ７などを通
して光反射層４に到達し、光反射層４にて光反射され、
その反射光が出射される。

【００５２】かくして本発明の液晶表示装置２５におい
ても、凸状配列群の隣り合う各凸部１７を上述のように
接続形成することで、各凸部１７の間に平坦部Ｈが存在
しなくなり、これにより、凸状配列群の平坦度が低下
し、正反射成分が減少し、光散乱性が改善され、その結
果、視野角が広くなった。

【００５３】上記液晶表示装置２５においては、ガラス
基板２６上に凸部１７を多数配列してランダム性の凸状
配列群を形成し、この凸状配列群上に光反射層４を被覆
した構成であるが、これに代えてガラス基板２７上に凸
部を多数配列した凸状配列群を形成し、この凸状配列群
上に光反射層を被覆し、そして、樹脂やＳｉＯ₂などか
らなる平滑膜を形成し、その上に多数平行に配列したＩ
ＴＯからなる透明電極３０と、一定方向にラビングした
ポリイミド樹脂からなる配向膜３１とを順次形成し、第
１位相差フィルム１３と第２位相差フィルム１４と偏光
板１５をガラス基板２６の外面に配設し、ガラス基板２
６側より光入射するように構成してもよい。

【００５４】光散乱性の測定つぎに図１１に示すような液晶表示装置１６の仮想構造
である反射部材３２を作成した。

【００５５】反射部材３２はガラス基板２の上に前述と
おりに隣り合う各凸部１７間にて接続された凸状配列群
を形成し、この凸状配列群上に光反射層４（膜厚１００
０Å）を被覆し、その上にアクリル系の樹脂から成る透
明樹脂層３３（屈折率：１．５３）を５０μｍ程度の厚
みでもって形成し、さらにガラス基板６を配設したもの
である。

【００５６】そして、反射部材３２に対する法線から３
０°の角度でもって入射光（光源：ハロゲンランプ）を
投光し、その反射光の輝度を、その法線からの角度を変
えることで測定し、その反射率を測定したところ、図１
２に示すような結果が得られた。なお、反射率は標準白
色板基準（ＪＩＳ）に基づいてＭｇＯに光を照射し、そ
の反射率を１００％として、その相対値でもって表す。

【００５７】このように形成した凸状配列群において、
図２に示すように（ａ）〜（ｇ）の各工程すべてを経て
凸状配列群を形成した場合を（イ）、（ｅ）工程の熱溶
融処理を除外して形成した場合を（ロ）とした。

【００５８】また、上記反射部材３２において、隣り合
う各凸部１７間にて接続された凸状配列群に代えて、従
来の液晶表示装置１に形成したような各凸部１７が離隔
した凸状配列群を設けて、同じ評価実験をおこなったと
ころ、（ハ）の結果が得られた。

【００５９】図１２から明らかなとおり、本発明の
（イ）および（ロ）については、従来の構成に係る
（ハ）に比べ、凸部による光散乱性を向上し、これによ
り、視野角が広くなった。とくに（イ）は凸部に対する
滑らかさに優れていることで、（ロ）に比べて視野角が
広くなった。

【００６０】また、本発明の反射型液晶表示装置１６
（散乱反射型）と、従来の機能分離型の反射型液晶表示
装置について、コントラストおよび反射率を測定したと
ころ、下記のような結果が得られた。

【００６１】散乱反射型の反射型液晶表示装置コントラスト：１１．５白表示時の反射率（％）：１３．４黒表示時の反射率（％）：１．１７機能分離型の反射型液晶表示装置コントラスト：５．５白表示時の反射率（％）：１３．７黒表示時の反射率（％）：２．４７この結果から明らかなとおり、本発明の反射型液晶表示
装置１６は従来の機能分離型の反射型液晶表示装置に比
べてコントラストが約２倍に向上し、光散乱性について
も散乱反射型の方が向上した。

【００６２】なお、本発明は上記実施形態例に限定され
るものでなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々
の変更や改善などは何ら差し支えない。

【００６３】たとえば、上記の実施形態においては、Ｓ
ＴＮ型単純マトリックスタイプのカラー液晶表示装置で
もって説明しているが、その他にモノクロのＳＴＮ型単
純マトリックスタイプの液晶表示装置であっても、ある
いはＴＮ型単純マトリックスタイプの液晶表示装置やＴ
Ｎ型アクティブマトリックスタイプなどのツイストネマ
チック型液晶表示装置であっても、さらに双安定型の液
晶表示装置でも同様な作用効果が得られる。

【００６４】

【発明の効果】以上のとおり、本発明の反射型液晶表示
装置の製法によれば、散乱反射型にて設けた凸状配列群
を構成する各凸部において、隣り合う各凸部が接続され
ていることで、光散乱性能が向上し、視野角が広くな
り、これによって良好な表示特性をもつ高性能かつ高信
頼性の反射型液晶表示装置が提供できた。

【００６５】しかも、発明においては、凸状配列群を形
成するに際し、現像の進行を適度に止めることで、隣り
合う各凸部間にて双方の端部が接続され、連続的に繋が
ることから生産コストを低減できた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の反射型液晶表示装置の断面概略図であ
る。

【図２】（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ），（ｅ），
（ｆ），（ｇ）は凸状配列群を形成するための各工程図
である。

【図３】本発明に係る凸状配列群のランダム性を示すフ
ォトマスクの平面図である。

【図４】本発明に係る凸状配列群のランダム性を示す他
のフォトマスクの平面図である。

【図５】凸状配列群の形成に係る現像時間と凸状配列群
の凹凸高低差との関係を示す線図である。

【図６】（ａ），（ｂ），（ｃ）は凸状配列群の形成に
係る現像時間に違いによる光感光性樹脂層の形状変化を
示す概略図である。

【図７】本発明に係る凸状配列群の断面拡大図である。

【図８】本発明に係る凸状配列群の写真図である。

【図９】本発明に係る他の凸状配列群の断面拡大図であ
る。

【図１０】本発明の他の反射型液晶表示装置の断面概略
図である。

【図１１】反射特性を測定するための仮想部材の断面概
略図である。

【図１２】反射型液晶表示装置の散乱特性を示す図であ
る。

【図１３】従来の反射型液晶表示装置の断面概略図であ
る。

【符号の説明】

１液晶表示装置２、６、２６、２７ガラス基板３凸部４光反射層５、１０、２９、３１配向膜７カラーフィルタ９、２８、３０透明電極１１液晶１６、２５反射型液晶表示装置１７凸部１８電極１９、２２フォトマスクＨ平坦部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G02F 1/1335 520 G02B 5/02 G02B 5/08

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】基板の一方主面上に多数の樹脂製凸部をラ
ンダムに並べた凸状配列群を形成し、該凸状配列群上に
ストライプ状光反射性電極群を被覆し、このストライプ
状光反射性電極群上に配向層を積層してなる一方部材
と、透明基板上にストライプ状透明電極群と配向層とを
順次積層してなる他方部材とを、これらストライプ状光
反射性電極群とストライプ状透明電極群とが交差するよ
うにネマチック型液晶を介して貼り合わせて、マトリッ
クス状に画素を配列せしめてなる反射型液晶表示装置の
製法であって、順次下記（ａ）〜（ｆ）の各工程もしく
は順次下記（ａ）〜（ｄ），（ｆ）の各工程を経て前記
凸状配列群における隣り合う各凸部を接続せしめたこと
を特徴とする反射型液晶表示装置の製法。（ａ）工程：基板上に光感光性樹脂を塗布形成する。（ｂ）工程：上記塗布基板をプリベークする。（ｃ）工程：上記プリベークした基板に対し、多数のス
ポットを間隔０．１〜２０μｍにてランダム状態に配置
したフォトリソ用マスクを用いて露光をおこなう。（ｄ）工程：隣り合う各凸部間にて双方の端部が接続さ
れ連続的に繋がるまで現像をおこなう。（ｅ）工程：各凸部の表面形状が大きく変化しない程度
に熱溶融させる。（ｆ）工程：各凸部を加熱硬化する。
【請求項２】基板の一方主面上に多数の樹脂製凸部をラ
ンダムに並べた凸状配列群を形成し、該凸状配列群上に
光反射膜を被覆し、この光反射膜上に透明電極と配向層
とを順次積層してなる一方部材と、透明基板上に透明電
極と配向層とを順次積層してなる他方部材との間にネマ
チック型液晶を介在させてマトリックス状に画素を配列
せしめてなる反射型液晶表示装置の製法であって、順次
下記（ａ）〜（ｆ）の各工程もしくは順次下記（ａ）〜
（ｄ），（ｆ）の各工程を経て前記凸状配列群における
隣り合う各凸部を接続せしめたことを特徴とする反射型
液晶表示装置の製法。（ａ）工程：基板上に光感光性樹脂を塗布形成する。（ｂ）工程：上記塗布基板をプリベークする。（ｃ）工程：上記プリベークした基板に対し、多数のス
ポットを間隔０．１〜２０μｍにてランダム状態に配置
したフォトリソ用マスクを用いて露光をおこなう。（ｄ）工程：隣り合う各凸部間にて双方の端部が接続さ
れ連続的に繋がるまで現像をおこなう。（ｅ）工程：各凸部の表面形状が大きく変化しない程度
に熱溶融させる。（ｆ）工程：各凸部を加熱硬化する。