JP3066798B2 - 摺動部材の表面処理方法 - Google Patents

摺動部材の表面処理方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ロータリー型コン
プレッサー用ベーン又はデファレンシャル、トランスミ
ッション用ワッシャ等の片当り又は局部荷重が加わるよ
うな高負荷で使用される部位に使用されるアルミニウム
合金からなる素材に摺動特性の向上を目的とする表面処
理を施す方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】上記したコンプレッサーなどでは軽量化
のために相手材がアルミのことが多く、アルミどうしの
摺動となるために次のような表面処理がベーンに施され
ている。その一つでは、例えばベーン表面に耐摩耗性に
優れた無電解Ni−Pめっきもしくは無電解Ni−Bめ
っきを施すことである。次に、無電解Ni−Pめっき皮
膜に硬質物、固体潤滑剤を分散させることにより摺動特
性を向上することも行われている。また、無電解Ni−
Pめっきを300℃以下に加熱することにより硬化させ
耐摩耗性を向上させることも行われている。
【0003】一般に摺動部材の表面処理に使用されてい
る無電解Ni−PめっきはP含有量が6〜10%の中・
高P型であって、めっき後のHv450〜500の硬度
が熱処理によりHv700〜800という極めて高い硬
度まで上昇する。例えば特開昭64−32087号公報
によるとベーンにNi含有量が8〜10%の無電解Ni
−Pめっき皮膜を形成し、熱処理によりHv700〜8
00程度まで硬度を上昇させている。しかしアルミニウ
ム合金の場合、高い熱処理温度では材料強度を低下させ
るため、熱処理温度に限界があり、実質的にHv500
〜600程度の硬度をもつ皮膜しか得られない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来、摺動部材の表面
に施されるNi−Pめっき皮膜は熱処理により高い硬度
が得られる中・高P型のものが使用されていたが、耐摩
耗性は期待されたレベルには達しなかった。特に、ベー
ンの相手材であるロータ、ハウジングのAl−Si合金
中の初晶Siが50μm以上に粗大になりかつ/または
Si粒子個数が300個/mm2 以上と多くなると高P
型無電解めっき皮膜に異常摩耗が発生した。また荷重が
増大したときベーンの面圧が増大し同様に異常摩耗が発
生した。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者は、無電解Ni
−Pめっき皮膜が施されたアルミニウム合金からなる素
材の摺動特性を改良するべく鋭意研究したところ、意外
にも熱処理温度が低い場合の硬度が高い低P型無電解め
っき皮膜に特定の表面硬化処理を施すことが有効である
ことを見出した。この知見により完成した、本発明の第
一の方法は、アルミニウム合金からなる素材の摺動面に
形成されたP含有量が0.1〜5重量%の無電解Ni−
Pめっき皮膜にバレル研摩処理を施す方法であり、本発
明の第二の方法は、アルミニウム合金からなる素材の摺
動面に形成されたP含有量が0.1〜5重量%の無電解
Ni−Pめっき皮膜にショットブラスト処理を施す方法
であり、本発明の第三の方法は、アルミニウム合金から
なる素材の摺動面に形成されたP含有量が0.1〜5重
量%の無電解Ni−Pめっき皮膜にレーザービームを照
射する方法である。本発明の第四の方法は、アルミニウ
ム合金からなる素材の摺動面に形成されたP含有量が
0.1〜5重量%の無電解Ni−Pめっき皮膜に高周波
誘導熱処理を施す方法である。以下、本発明を詳細に説
明する。
【0006】本発明において無電解Ni−Pめっき皮膜
として、P含有量が0.1〜5重量%の低P型を選んで
いるのは、P含有量が少ないためにNiの結晶格子の歪
が少ない結晶質に近く、これにバレル研摩処理、ショッ
トブラスト処理、レーザービーム処理及び高周波誘導熱
処理を施しても結晶が大きく歪まず変形や溶融が一様に
進行するために、摺動特性の上で好ましい結晶構造や高
い皮膜硬さ等の表面状態が得られからである。例えば、
めっき後表面には結晶粒界が認められるが、例えばバレ
ル研摩やショットブラスト処理により表面が押しつぶさ
れるに伴い表面近傍で結晶粒界がなくなり、より平滑で
硬質な状態が得られる。無電解Ni−Pめっき皮膜のP
含有量が0.1%未満であると無電解めっき自体が困難
であり、また耐焼付性の面で摺動特性は優れない。一方
P含有量が5重量%を超えると、組織がNi3 Pと非晶
質構造の複合組織となり易い。この組織ではNi3 P析
出界面、結晶粒界などの変形し易い場所が多いために外
力が加わると不均一変形が起こり易い。またレーザービ
ームによる高密度エネルギーが加えられると、融液の液
相線と固相線の差が大きいために凝固後の偏析が大きく
なり、また融液の流動が激しく結晶歪みが大きくなる。
なお、好ましいP含有量は1〜3重量%である。無電解
Ni−Pめっき皮膜の厚さは5〜40μmが一般的であ
り、より好ましくは10〜20μmである。
【0007】本発明の第一で採用されるバレル研摩は、
ベーン、研摩媒体としてのポリエステル系メディア材等
のバレル材及び水を回転容器の中に入れて回転もしくは
振動を行い、めっき皮膜表面を平滑にしかつ硬化する処
理である。研摩条件としては、回転数240rpm,時
間5minを好ましく採用することができる。低P無電
解めっき皮膜をバレル研摩した後の組織を、走査型電子
顕微鏡により観察したところ、高P無電解めっき皮膜と
は均一性に本質的に差があった。
【0008】本発明の第二で採用されるショットブラス
ト処理は鋼などの粒子を高速で無電解めっき面に衝突さ
せ、表面に圧縮応力を発生させる処理である。より好ま
しくは、ショットにより無電解Ni−P皮膜の温度を再
結晶温度以上に高めるとともに、めっき表面においてあ
る程度の塑性変形を招いて、めっき直後とは異なる結晶
形態の微細組織を発生させる条件を設定する。具体的に
はショット粒子は、硬度がHv600以上のスチール又
はAl23 等の硬質ビーズ、又はカーボン等を使用
し、粒径は0.03〜0.4mmの範囲とし、投射速度
は80m/sec以上とする。低P無電解めっき皮膜の
組織を光学顕微鏡により観察した写真(倍率1000
倍)を図1に示し、高P無電解めっき皮膜の写真(倍率
1000倍)を図4に示す。この比較より低Pの無電解
めっき皮膜では組織が微細かつ緻密になっていることが
分かる。また、ショットブラスト処理した後の写真(倍
率1000倍)及びバレル研磨した後の写真(倍率10
00倍)を各々図2、3に示す。これら処理をすること
により、組織がさらに微細・緻密になっている。
【0009】本発明の第三で採用されるレーザー照射処
理は、無電解Ni−Pめっき皮膜を瞬間的かつ局部的に
溶融させる処理であって、この結果融液は周囲のNi−
P及び基材に熱を奪われて凝固する。この場合溶融を、
局部的に行うので、融液からの奪熱量が非常に多くなり
急冷凝固となり、PがNi結晶中に強制的に固溶されて
硬化が起こりかつ結晶粒も微細になる。レーザーの種類
としては、特に制限はないが、100〜400W/cm
2 (ビーム面積)程度の出力を有するYAGパルスレー
ザーを好ましく使用することができる。レーザー照射の
操作はレーザーガンと摺動部材を相対移動させ、後者の
全面に順次前者のスポットが照射されるように適宜治具
を使用して行う。
【0010】次に、レーザー照射による硬化の一例を示
す。レーザー照射条件は下記のとおりである。なお表1
よりP=1.0〜4.5%範囲で極めて大きな硬化が起
こることが分かる。 レーザー種類:YAGパルス レーザー出力:100〜400W/cm2 レーザービーム直径:2cm レーザー走査速度:10cm/sec 無電解Ni−P皮膜:厚さ0.02mm
【0011】
【表1】 めっき皮膜硬度(Hv) P含有量(wt%) レーザー照射前 レーザー照射後 0.2 480 490 1.0 640 860 2.0 650 910 3.0 620 870 4.5 580 840 6 550 830
【0012】本発明の第四で採用される高周波熱処理は
上記したPの強制固溶を高周波誘導加熱により行うもの
である。高周波加熱は母材であるアルミ合金の温度が好
ましくは220℃以下に保たれるようにNiのキュリー
点(631K)をめっき皮膜の温度が超えず、渦電流が
めっき皮膜に集中し母材にはできるだけ流れないように
する必要がある。高周波の周波数は70kHz以上が好
ましい。
【0013】次に、高周波熱処理による硬化の一例を示
す。高周波熱処理条件は下記のとおりである。なお、表
2によりP=1.0〜4.5%の範囲で極めて大きな硬
化が起こることが分かる。 周波数:100kHz 高周波出力:80KW 無電解Ni−P皮膜:厚さ0.02mm
【0014】
【表2】 めっき皮膜硬度(Hv) P含有量(wt%) 高周波熱処理前 高周波熱処理後 0.2 480 490 1.0 640 880 2.0 650 920 3.0 620 860 4.5 580 850 6 550 830
【0015】上記した本発明の第一〜第四の処理を施さ
れる低P無電解Ni−Pめっき皮膜の素材に対する密着
性を高めるために下地として中・高P無電解Ni−Pめ
っき皮膜を施すことが好ましい。後者の中・高P皮膜
は、優れた密着性を利用するために下地として利用し、
また上記硬化処理による欠点が現れないように低P無電
解Ni−Pめっき皮膜の下地として使用している。高P
無電解Ni−Pめっき皮膜のP含有量は5〜15重量%
が好ましい。より好ましいP含有量は5〜8重量%であ
る。
【0016】上記した本発明の第一〜第四の処理を施さ
れる低P無電解Ni−Pめっき皮膜を熱処理により表面
硬化させ、耐摩耗性を向上させることも可能である。図
5は1.9重量%Pを含有する無電解Ni−Pめっき皮
膜の熱処理温度(1時間保持)と表面硬度の関係を示す
グラフであり、図6はアルミニウム合金基材の硬さと熱
処理温度の関係を示すグラフである。ここで、表面硬度
はビッカース硬度計(荷重0.1kg)を使用し、硬さ
はロックウェルB硬度計を使用し、それぞれ試料の表面
硬度を測定することにより求めたものである。すなわち
測定荷重の大小により圧痕深さが異なることを利用して
測定部位を変えたものである。また、図中の符号は3個
の試料を指す。これら図5、6より熱処理は表面硬度を
僅かに増大させるが、220℃以下の熱処理温度ではア
ルミニウム合金基材の硬さをほとんど変化させないこと
が分かる。
【0017】図7は無電解Ni−Pめっき皮膜のP含有
量、表面硬度及び200℃での熱処理時間との関係を示
すグラフである。このグラフより2.8%とP含有量が
低い無電解Ni−Pめっき皮膜の表面硬度は20時間以
上の長時間保持でHv1000程度まで上昇することが
分かる。一方、アルミニウム合金はほとんどの種類が2
20℃で20時間以上熱処理されると、過時効になるの
で適正時効時間が長い2000番系中でも2218合金
を素材として選択することが必要になる。なお、熱処理
時間を10時間未満とすると、ほとんどの熱処理型アル
ミニウム合金が過時効にならない。その中には2214
などの高強度合金もその中に含まれる。素材となるアル
ミニウム合金に対する無電解Ni−Pめっき皮膜の密着
性を高めるために、以下に例示される前処理を行うこと
が好ましい。
【0018】アルカリ脱脂(50℃×5分、アルカリ脱
脂材使用) アルカリエッチング(50℃×40秒、NaOH浴) スマット除去(27℃×40秒、硝酸を主成分とする洗
浄浴) 亜鉛置換めっき処理(1)(27℃×25秒、ジンケー
ト浴) 亜鉛剥離(27℃×60秒、50%硝酸) 亜鉛置換めっき処理(2)(27℃×25秒、ジンケー
ト浴)
【0019】ショットブラスト、バレル処理、レーザー
ビーム照射などの表面処理後は、処理された面をそのま
ま摺動面として使用するが、高周波熱処理の場合は研磨
処理などを行ってもよい。以上の如く処理された材料は
ロータリーコンプレッサーのベーン、ラジアルプレーン
ベアリング、スラストプレーンベアリングなどとして使
用することができる。続いて本発明の方法で処理された
アルミニウム合金素材が片当りが発生するような高負荷
条件を再現する試験の結果を説明する。
【0020】
【実施例】
実施例1 図8は本実施例における試験方法を説明する概念図であ
って、図中10は本発明の方法または比較方法で処理さ
れたアルミニウム合金素材(AHS−3−T7)、11
はブロック(A390アルミニウム合金、初晶Si平均
粒径30μm)である。素材の寸法は35×14×3m
mである。さらに図8において、θは角度=1°、荷重
Pは150kgf(15.3N),試験時間は5時間、
往復摺動周波数は10Hz,ストロークは6mm,給油
は30mL/hであった。素材は前述の予備表面処理を
行った後、P含有量が1.9重量%の無電解めっきを奥
野製薬工業(株)製めっき液(商品名トップニコロンY
M)を用いて行い、厚さが15μmのめっきを素材の全
面に形成した。めっき後の表面硬度はHv645であっ
た。
【0021】試験に供した表面処理は以下のとおりであ
った。 1.バレル研摩処理 研摩媒体種類:ポリエステル樹脂+ジルコン 研摩媒体量 :1.5kg 液体量 :1.0kg(水) 素材個数 :20個 回転容器体積:0.01m3 回転容器回転数:200rpm 処理時間 :5min 2.ショットブラスト処理 ショット粒材質:Al23 、硬度Hv1000 ショット粒径:200μm平均 ショット投射速度:150m/sec 投射量:50kg/m2 /sec 3.レーザー照射処理 レーザー種類:YAGパルス(東芝社製) レーザー出力:10KW ビーム径当り出力:100〜400W/m2 4.熱処理 200℃、60分の熱処理を行い、その後1の処理を行
った。 5.熱処理 200℃、60分の熱処理を行い、その後2の処理を行
った。 6.熱処理 200℃、60分の熱処理を行い、その後3の処理を行
った。
【0022】前記した無電解Ni−Pめっきの前の摺動
面に形成された含有量が6重量%の無電解めっきを奥野
製薬工業(株)製めっき液(商品名トップニコロンTO
M)を用いて行い、厚さが2μmの中間めっき素材の全
面に形成した。その後以下の表面処理を行った。 7:1の処理 8:2の処理 9:3の処理 10:4の処理 11:5の処理 12:6の処理
【0023】比較例として次の処理も行った。 (a)上記した低P無電解めっき (b)高P無電解めっき(P含有量=10重量%) (c)上記(b)の高P無電解めっき後低P無電解めっ
き (d)上記(c)の後4の熱処理 試験の結果を表1に示す。
【0024】
【表1】 処理方法 処理後 供試材 ブロック 備考 の表面 比摩耗量 比摩耗量 硬度(Hv)(10-9mm2 kg-1) (10-9mm2 kg-1 1 680 6.0 1.0 本発明 2 690 5.0 1.0 本発明 3 910 2.2 0.7 本発明 4 810 3.2 0.7 本発明 5 820 2.4 0.6 本発明 6 990 1.9 0.6 本発明 7 680 4.1 0.9 本発明 8 690 3.9 0.8 本発明 9 910 1.7 0.6 本発明 10 750 2.4 0.7 本発明 11 760 3.8 0.9 本発明 12 770 2.9 0.8 本発明 a 650 8.0 1.2 比較例 b 560 12.0 3.0 比較例 c 660 7.6 1.0 比較例 d 740 6.5 0.8 比較例
【0025】表1に示すように本発明の処理方法による
供試財は比較例のものと比較して供試材及びブロックの
摩耗が少ない。
【図面の簡単な説明】
【図1】 低P無電解めっき皮膜の組織を光学顕微鏡に
より観察した写真(倍率1000倍)である。
【図2】 低P無電解めっき皮膜をショットブラスト処
理した後の組織を光学顕微鏡により観察した写真(倍率
1000倍)である。
【図3】 低P、無電解めっき皮膜をバレル研摩した後
の組織を光学顕微鏡により観察した写真(倍率1000
倍)である。
【図4】 高P無電解めっき皮膜の写真(倍率1000
倍)である。
【図5】 P含有量が10重量%の無電解めっき皮膜の
表面硬度と熱処理温度の関係を示すグラフである。
【図6】 アルミニウム合金基材硬さと熱処理温度の関
係を示すグラフである。
【図7】 P含有量が2.4,6.5,7.1,12重
量%の無電解めっき皮膜の表面硬度と熱処理時間の関係
を示すグラフである。
【図8】 摩耗試験の説明図である。
フロントページの続き (72)発明者 近藤 賢一 愛知県豊田市緑ケ丘3丁目65番地 大豊 工業株式会社内 (56)参考文献 特開 平7−285032(JP,A) 特開 平5−306650(JP,A) 特開 平8−158058(JP,A) 特開 平5−71525(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C23C 18/00 - 18/54

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 アルミニウム合金からなる素材の摺動面
    に形成されたP含有量が1〜3重量%の無電解Ni−P
    めっき皮膜にバレル研摩処理を施すことを特徴とする摺
    動部材の表面処理方法。
  2. 【請求項2】 アルミニウム合金からなる素材の摺動面
    に形成されたP含有量が0.1〜5重量%の無電解Ni
    −Pめっき皮膜にショットブラスト処理を施すことを特
    徴とする摺動部材の表面処理方法。
  3. 【請求項3】 前記ショットブラスト処理を、前記無電
    解Ni−Pめっき皮膜の硬度とほぼ同等以上の硬度を有
    する粒子を80m/sec以上の速度で投射することに
    より行う請求項2記載の摺動部材の表面処理方法。
  4. 【請求項4】 前記P含有量が0.1〜5重量%の無電
    解Ni−Pめっき皮膜の形成に先立って、P含有量が5
    重量%を超え15重量%の無電解Ni‐Pめっき皮膜を
    施すことを特徴とする請求項1から3までのいずれか1
    項記載の摺動部材の表面処理方法。
  5. 【請求項5】 前記無電解Ni−Pめっき皮膜に100
    〜220℃の熱処理を施すことを特徴とする請求項1か
    ら4までのいずれか1項記載の摺動部材の表面処理方
    法。
  6. 【請求項6】 熱処理時間が0.3〜5時間であること
    を特徴とする請求項5記載の摺動部材の表面処理方法。
  7. 【請求項7】 アルミニウム合金が熱処理型である請求
    項1から6までのいずれか1項記載の摺動部材の表面処
    理方法。
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