JP3061090B2 - 電気接点材料の製造方法 - Google Patents

電気接点材料の製造方法

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JP3061090B2
JP3061090B2 JP5032751A JP3275193A JP3061090B2 JP 3061090 B2 JP3061090 B2 JP 3061090B2 JP 5032751 A JP5032751 A JP 5032751A JP 3275193 A JP3275193 A JP 3275193A JP 3061090 B2 JP3061090 B2 JP 3061090B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電気接点材料、特に開
閉接点に適する電気接点材料の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より開閉接点に用いる電気接点材料
としては、Cu−Ni30%のベース材に、Ag又はAg
−Pd60%若しくはAg−Ni10%の接点材をクラッド
したものがある。これらの電気接点材料は、耐環境性の
向上、初期接触抵抗の安定化の為に、接触部表面に薄く
Au−Ag8%、Au−Ag10%をクラッドすることが
多い。
【0003】然し乍ら、このように接触部表面にAu−
Ag8%、Au−Ag10%をクラッドしたものは、開閉
接点としては、耐粘着性に劣り、また超音波洗浄時や搬
送中に接点同志のくっつきが発生する。この為、Au−
Ag8%、Au−Ag10%の硬さを高くして耐粘着性の
向上を図ることが行なわれるが、加工上限界がある。ま
た、その他の元素を添加して硬さを高くすると、接触抵
抗が不安定となる。
【0004】このようなことから硬さが高くて耐粘着
性、耐消耗性に優れ、また接触抵抗が低く安定し、さら
に耐環境性にも優れた電気接点材料として、PdZnの
金属間化合物からなる電気接点材料が提案されている
が、加工が困難で、接点形状に加工することは極めて難
しい。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、接点
形状に近いところで、接触部表面に所要の厚さのPdZ
n金属間化合物層又はPdZn金属間化合物の分散層
(以下PdZn層という)を形成して上記特性を有する
電気接点材料を製造する方法を提供しようとするもので
ある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の電気接点材料の製造方法は、Pd又はPd合
金の接触部表面に、 400〜 900℃の非酸化性雰囲気中で
Znを蒸着して、 0.1〜20μmのPdZn層を形成する
ことを特徴とするものである。
【0007】本発明の電気接点材料の製造方法に於い
て、接触部表面にZnを非酸化性雰囲気中で蒸着する際
の温度を、 400〜 900℃とした理由は、 400℃未満では
Znのベーバーが不十分でPdZn金属間化合物ができ
ず、 900℃を超えるとPdZn金属間化合物が多くなり
過ぎて脆くなり、割れが発生するようになるからであ
る。実質的には 600〜 800℃が接触抵抗が低く安定した
PdZn層を得るのに好適である。
【0008】また、形成するPdZn層の厚さを 0.1〜
20μmとした理由は、 0.1μm未満では初期の目的を達
成できる電気接点材料とならず、20μmを超えると、脆
くなり、割れが発生し、下地のAgリッチ層が露出し、
粘着、消耗、硫化を起こすからである。尚、PdZn層
を形成した後は、加工しないのが好ましいが、必要に応
じて適宜溶接、フォーミング等の加工を行なっても良
い。
【0009】
【作用】上記のように本発明の電気接点材料の製造方法
は、Pd又はPd合金の接点材料の接触部表面に、 400
〜 900℃の非酸化性雰囲気でZnを蒸着して、 0.1〜20
μmのPdZn層を形成するのであるから、温度と時間
の設定によりPdZn層の厚さを 0.1〜20μmの範囲で
適切にコントロールできて所要の厚さの安定したPdZ
n層を有する電気接点材料が容易に得られ、しかも生産
性が良い。また、こうして得られた電気接点材料の 0.1
〜20μmのPdZn層は、硬さが高くて耐粘着性、耐消
耗性に優れ、また接触抵抗が低くて安定しており、さら
に耐環境性に優れていて、PdZnの金属間化合物の特
性が有効に生かされている。
【0010】
【実施例】本発明の電気接点材料の製造方法の一実施例
を説明すると、厚さ 0.4mm、幅1.2mmのCu−Ni30%
のベース材に、厚さ 0.3mm、幅 1.2mmのAg−Pd50%
の接点材をクラッドしてなる長尺の接点材料を、N2
ス雰囲気中、 600℃の管状炉に通し、Ag−Pd50%の
接点材の接触部表面にZnを蒸着した処、図1のグラフ
に示すように3分で2μm、30分で10μm、 120分で20
μmのPdZn層が形成された。
【0011】また、厚さ 0.3mm、幅 1.0mmのCu−Ni
30%のベース材に、厚さ 0.2mm、幅1.0mmのAg−Pd2
0%、Ag−Pd30%、Ag−Pd50%、Ag−Pd60
%の接点材を夫々クラッドして長尺の各接点材料を、N
2 ガス雰囲気の管状炉に通し、 400〜 800℃の範囲内
で、各接点材の接触部表面にZnを蒸着してPdZn層
を形成して得た各電気接点材料に於けるPdZn層の接
触抵抗の変化を接触抵抗6gで測定した処、図2のグラ
フに示すような結果を得た。この図2のグラフに示すよ
うに 600〜 800℃でZnを蒸着してAg−Pd合金の各
接点材の接触部表面に形成したPdZn層の接触抵抗は
著しく低く安定していることが判る。
【0012】
【発明の効果】以上の説明で判るように本発明の電気接
点材料の製造方法によれば、温度と時間の設定によりP
dZn層の厚さを 0.1〜20μmの範囲で適切にコントロ
ールできて所要の安定したPdZn層を有する電気接点
材料が容易に得られ、しかも生産性が良い。またこうし
て得られた電気接点材料の 0.1〜20μmのPdZn層
は、硬さが高くて耐粘着性、耐消耗性に優れ、また接触
抵抗が低くて安定しており、さらに耐環境性に優れてい
て、PdZnの金属間化合物の特性が有効に生かされて
いて、開閉接点に用いる電気接点材料として極めて有用
なものとなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】N2 ガス雰囲気中、 600℃の管状炉に接点材料
を通し、接触部表面にZnを蒸着してPdZn層を形成
した際の蒸着時間と層厚の関係を示すグラフである。
【図2】Ag−Pd合金の接点材料に対するPdZn層
の形成温度と接触抵抗の関係を示すグラフである。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 Pd又はPd合金の接点材料の接触部表
    面に、 400〜 900℃の非酸化性雰囲気中でZnを蒸着し
    て、 0.1〜20μmのPdZn金属間化合物層又はPdZ
    n金属間化合物の分散層を形成することを特徴とする電
    気接点材料の製造方法。
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