JPH0674463B2 - リ−ドフレ−ム用銅合金 - Google Patents
リ−ドフレ−ム用銅合金Info
- Publication number
- JPH0674463B2 JPH0674463B2 JP1316983A JP1316983A JPH0674463B2 JP H0674463 B2 JPH0674463 B2 JP H0674463B2 JP 1316983 A JP1316983 A JP 1316983A JP 1316983 A JP1316983 A JP 1316983A JP H0674463 B2 JPH0674463 B2 JP H0674463B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alloy
- lead frame
- conductivity
- heat resistance
- copper alloy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Conductive Materials (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は半導体を要素とするIC、LSI等の機器のリード
フレーム用銅合金特に電気(熱)伝導性、耐熱性、曲げ
加工性及びメツキ密着性に優れた銅合金に関するもので
ある。
フレーム用銅合金特に電気(熱)伝導性、耐熱性、曲げ
加工性及びメツキ密着性に優れた銅合金に関するもので
ある。
一般に半導体を要素とするIC、LSI等の機器は何れも半
導体ペレツト、リード、ボンデイングワイヤにより構成
されたものをハーメチツクシール、セラミツクシール或
いはプラスチツクシール技術により封止したものであ
り、種々の型式のものが使用されている。
導体ペレツト、リード、ボンデイングワイヤにより構成
されたものをハーメチツクシール、セラミツクシール或
いはプラスチツクシール技術により封止したものであ
り、種々の型式のものが使用されている。
而して従来これら機器のリードフレーム材としては鉄系
材料としてコバール(Fe−29wt% Ni−17wt%Co合
金)、Fe−42Ni合金、Fe、コバールに金を被覆したクラ
ツド材、Fe−Ni合金にAlを被覆したクラツド材、銅合金
としてリン青銅、アロイ194(Cu−Fe−Zn−P合金)、
アロイ195(Cu−Fe−Co−Sn−P合金)、Cu−Sn−P合
金等が用いられている。しかしながら上記鉄系材料は耐
熱性、強度は優れているがコストが高いとともに導電性
が悪く加工性も悪いため近時コストが安くかつ加工性、
メツキ密着性及び半田付性が良好な銅系合金が主流を占
めつつある。しかしながら上記の如き銅合金は耐熱性及
び曲げ加工性が劣るためリードフレーム材として充分な
特性を発揮することができないものであつた。特に最近
のように高密度、高集積度が強く要求されるところから
高い導電率、強度、曲げ加工性及び耐熱性を有しメツキ
加工され易い表面品質を有する材料が必要となつてき
た。
材料としてコバール(Fe−29wt% Ni−17wt%Co合
金)、Fe−42Ni合金、Fe、コバールに金を被覆したクラ
ツド材、Fe−Ni合金にAlを被覆したクラツド材、銅合金
としてリン青銅、アロイ194(Cu−Fe−Zn−P合金)、
アロイ195(Cu−Fe−Co−Sn−P合金)、Cu−Sn−P合
金等が用いられている。しかしながら上記鉄系材料は耐
熱性、強度は優れているがコストが高いとともに導電性
が悪く加工性も悪いため近時コストが安くかつ加工性、
メツキ密着性及び半田付性が良好な銅系合金が主流を占
めつつある。しかしながら上記の如き銅合金は耐熱性及
び曲げ加工性が劣るためリードフレーム材として充分な
特性を発揮することができないものであつた。特に最近
のように高密度、高集積度が強く要求されるところから
高い導電率、強度、曲げ加工性及び耐熱性を有しメツキ
加工され易い表面品質を有する材料が必要となつてき
た。
メツキ加工され易い表面品質とは、半導体ペレツトとリ
ードフレーム並びにボンデイングワイヤとリードフレー
ムの接続性を向上し、リードフレームの耐酸化性、耐腐
食性、半田付け性等を向上維持するために行なう銀、
金、ニツケル、スズ等のメツキ被覆性が優れていること
で、このようなメツキ加工はリードフレームの加工コス
ト中大きな比重を占め品質信頼性に大きく影響する。
ードフレーム並びにボンデイングワイヤとリードフレー
ムの接続性を向上し、リードフレームの耐酸化性、耐腐
食性、半田付け性等を向上維持するために行なう銀、
金、ニツケル、スズ等のメツキ被覆性が優れていること
で、このようなメツキ加工はリードフレームの加工コス
ト中大きな比重を占め品質信頼性に大きく影響する。
コバール、Fe−42Ni合金等の鉄系材料は、導電性、熱伝
導性が劣るばかりかメツキ加工が困難で特別の工夫を必
要とする。例えばこれ等基材の表面にニツケル層とSn−
Ni合金層とを順次被着した後、該Sn−Ni合金層上に銀層
を被着するか、或は基材の表面に銀及び銅を含むシアン
アルカリ性メツキ液にメツキを施し、その表面にメツキ
を行なつている。一般にリードフレーム材用銅合金とし
て次の7項目を満足する材料が強く要望されている。
導性が劣るばかりかメツキ加工が困難で特別の工夫を必
要とする。例えばこれ等基材の表面にニツケル層とSn−
Ni合金層とを順次被着した後、該Sn−Ni合金層上に銀層
を被着するか、或は基材の表面に銀及び銅を含むシアン
アルカリ性メツキ液にメツキを施し、その表面にメツキ
を行なつている。一般にリードフレーム材用銅合金とし
て次の7項目を満足する材料が強く要望されている。
(1)電気及び熱の伝導性が良いこと (2)耐熱性が良いこと (3)曲げ加工性が良いこと (4)強度が大きいこと (5)メツキ密着性が良いこと (6)半田付け性が良いこと (7)熱膨張係数がモールド材の熱膨張係数に近いこと 本発明はこれに鑑み種々研究の結果従来のリードフレー
ム用銅合金よりも耐熱性、曲げ加工性に優れ充分な強度
と電気(熱)伝導性及びメツキ密着性を有する半導体機
器のリードフレーム用銅合金を開発したものでCr0.03〜
0.40wt%(以下wt%を単に%に略記する)、Ni0.03〜0.
40%、P0.005〜0.03%を含み残部Cuからなる合金に係
る。
ム用銅合金よりも耐熱性、曲げ加工性に優れ充分な強度
と電気(熱)伝導性及びメツキ密着性を有する半導体機
器のリードフレーム用銅合金を開発したものでCr0.03〜
0.40wt%(以下wt%を単に%に略記する)、Ni0.03〜0.
40%、P0.005〜0.03%を含み残部Cuからなる合金に係
る。
即ち本発明合金はCuを基材としこれにCr、Ni、Pを添加
するものであり、CrNi3、NixPy等の金属間化合物及びC
r、NiをCu基中に微小析出物として析出させ、またPに
よる脱酸効果とにより銅合金としての従来の常識を超え
る強度、耐熱性及び導電性を有し、良好なメツキ密着
性、半田付け性を有するものである。
するものであり、CrNi3、NixPy等の金属間化合物及びC
r、NiをCu基中に微小析出物として析出させ、またPに
よる脱酸効果とにより銅合金としての従来の常識を超え
る強度、耐熱性及び導電性を有し、良好なメツキ密着
性、半田付け性を有するものである。
しかして本発明合金においてCr0.03〜0.40%、Ni0.03〜
0.40%、P0.005〜0.03%と限定した理由はCr0.03%、Ni
0.03%、P0.005%未満では必要とする強度、耐熱性が得
られず、Cr0.40%、Ni0.40%、P0.03%を超えると強
度、耐熱性において優れた性能が得られるが電気及び熱
伝導性が低下し、曲げ加工性、メツキ密着性及び半田付
け性も劣化するからである。
0.40%、P0.005〜0.03%と限定した理由はCr0.03%、Ni
0.03%、P0.005%未満では必要とする強度、耐熱性が得
られず、Cr0.40%、Ni0.40%、P0.03%を超えると強
度、耐熱性において優れた性能が得られるが電気及び熱
伝導性が低下し、曲げ加工性、メツキ密着性及び半田付
け性も劣化するからである。
以下本発明合金を実施例について説明する。
黒鉛るつぼを使用してCuを溶解し、その湯面を木炭粉末
にて覆い十分溶解した後、Cu−Cr母合金、Ni、Pの順に
添加しこれを鋳造し第1表に示す組成の幅150mm、長さ2
00mm、厚さ25mmの鋳塊を得た。
にて覆い十分溶解した後、Cu−Cr母合金、Ni、Pの順に
添加しこれを鋳造し第1表に示す組成の幅150mm、長さ2
00mm、厚さ25mmの鋳塊を得た。
次にこの鋳塊の表面を一面あたり2.5mm面削した後、熱
間圧延を行ない幅150mm、厚さ8mmの板とし、しかる後こ
の板に冷間圧延と焼鈍を繰り返し加え最終圧延率40%に
て厚さ0.45mmの冷間圧延上がり材を得た。
間圧延を行ない幅150mm、厚さ8mmの板とし、しかる後こ
の板に冷間圧延と焼鈍を繰り返し加え最終圧延率40%に
て厚さ0.45mmの冷間圧延上がり材を得た。
これらの板について曲げ加工性、導電率、引張り強さ、
耐熱性、メツキ密着性、半田付け性及び熱膨張係数を測
定した。これらの結果を第1表に示す。なお比較のため
に第1表に示す従来のリードフレーム用銅合金について
も同様な測定を行ない、その結果を第1表に併記した。
耐熱性、メツキ密着性、半田付け性及び熱膨張係数を測
定した。これらの結果を第1表に示す。なお比較のため
に第1表に示す従来のリードフレーム用銅合金について
も同様な測定を行ない、その結果を第1表に併記した。
曲げ加工性は板材より幅5mm、長さ50mmの短冊型試験片
を切り出しその中央部で180°密着曲げを行ない、該曲
げ部の表面状態を観察し割れ、しわの発生がなく平滑な
ものを曲げ加工性が良いということで○印、割れが明ら
かに発生しているものを曲げ加工性不良ということで×
印、その中間で割れ、しわがわずかに発生していること
を△印で表わした。
を切り出しその中央部で180°密着曲げを行ない、該曲
げ部の表面状態を観察し割れ、しわの発生がなく平滑な
ものを曲げ加工性が良いということで○印、割れが明ら
かに発生しているものを曲げ加工性不良ということで×
印、その中間で割れ、しわがわずかに発生していること
を△印で表わした。
導電率及び引張り強さの測定はJIS−H0505及びJIS−Z22
41に基づいて行なつた。
41に基づいて行なつた。
メツキ密着性は上記鈍し材についてリードフレームのメ
ツキ工程と同様アルカリ脱脂(1分間)−20%硝酸エツ
チング(30秒)−水洗−シアン化ストライクメツキ(10
A/dm2、10秒間)−シアン化銀メツキ(1A/dm2)により
厚さ7μの銀メツキを行ない。これを大気中で加熱して
銀メツキ層に発生する膨れを観察し、その結果550℃、
5分間加熱で全く膨れの見られないものを○印、450
℃、5分間加熱では膨れが見られないが、550℃、5分
間加熱で膨れが発生するものを△印、450℃、5分間で
すでに膨れが発生したものを×印で示した。
ツキ工程と同様アルカリ脱脂(1分間)−20%硝酸エツ
チング(30秒)−水洗−シアン化ストライクメツキ(10
A/dm2、10秒間)−シアン化銀メツキ(1A/dm2)により
厚さ7μの銀メツキを行ない。これを大気中で加熱して
銀メツキ層に発生する膨れを観察し、その結果550℃、
5分間加熱で全く膨れの見られないものを○印、450
℃、5分間加熱では膨れが見られないが、550℃、5分
間加熱で膨れが発生するものを△印、450℃、5分間で
すでに膨れが発生したものを×印で示した。
半田付け性は垂直式浸漬法により、230℃のSn−40%Pb
共晶半田浴に10秒間浸漬したものの表面を観察し、その
結果表面が滑らかなものを○印、表面に少し凹凸が見え
るものを△印、表面に凹凸が生じ半田が濡れていない部
分を生じているものを×印で示した。
共晶半田浴に10秒間浸漬したものの表面を観察し、その
結果表面が滑らかなものを○印、表面に少し凹凸が見え
るものを△印、表面に凹凸が生じ半田が濡れていない部
分を生じているものを×印で示した。
また耐熱性は前記圧延材よりJIS−Z2201に規定する引張
り試験片を切り出し、これをアルゴン雰囲気中で350
℃、5分間加熱焼鈍した後、引張り試験を行ない、その
引張り強さを焼鈍前と比較し強さの低下率が30%以下の
ものを耐熱性良好として○印、30%を超えるものを耐熱
性不良として×印で表わした。
り試験片を切り出し、これをアルゴン雰囲気中で350
℃、5分間加熱焼鈍した後、引張り試験を行ない、その
引張り強さを焼鈍前と比較し強さの低下率が30%以下の
ものを耐熱性良好として○印、30%を超えるものを耐熱
性不良として×印で表わした。
熱膨張係数は圧縮荷重法を用いて測定し、試 料への荷重は天秤の非平衡を利用し、試料の変位を検出
し行なつた。
し行なつた。
第1表から明らかな如く本発明合金は導電率90〜93%IA
CS、引張り強さ39〜42kg/mm2の特性を示し良好な曲げ加
工性と耐熱性を有しておりCu−Fe−Zn−P合金に匹敵す
る引張り強度とはるかに優れた耐熱性、電気伝導性(熱
伝導性)を有していることがわかる。さらにメツキ密着
性、半田付け性もCu−Fe−Zn−P合金に比べ十分優れて
いるのがわかる。尚熱膨張係数は従来品のCu−Fe−Zn−
P合金、Cu−Sn−P合金とほぼ同様な値を示し問題はな
い。
CS、引張り強さ39〜42kg/mm2の特性を示し良好な曲げ加
工性と耐熱性を有しておりCu−Fe−Zn−P合金に匹敵す
る引張り強度とはるかに優れた耐熱性、電気伝導性(熱
伝導性)を有していることがわかる。さらにメツキ密着
性、半田付け性もCu−Fe−Zn−P合金に比べ十分優れて
いるのがわかる。尚熱膨張係数は従来品のCu−Fe−Zn−
P合金、Cu−Sn−P合金とほぼ同様な値を示し問題はな
い。
これに対しCr、Ni、Pの含有量が本発明合金の組成範囲
より少ない比較合金No.7,8,9ではいずれも耐熱性が改善
されず、Cr、Niの含有量が本発明合金の組成範囲より多
い比較合金No.10Cr、Ni、Pの含有量が本発明合金の組
成範囲より多い比較合金No.11,12,13では引張り強さ、
耐熱性は十分であるが導電率の低下が著しく、曲げ加工
性、メツキ密着性、半田付け性が劣ることがわかる。
より少ない比較合金No.7,8,9ではいずれも耐熱性が改善
されず、Cr、Niの含有量が本発明合金の組成範囲より多
い比較合金No.10Cr、Ni、Pの含有量が本発明合金の組
成範囲より多い比較合金No.11,12,13では引張り強さ、
耐熱性は十分であるが導電率の低下が著しく、曲げ加工
性、メツキ密着性、半田付け性が劣ることがわかる。
以上詳述したように本発明合金は優れた強度、耐熱性と
十分な導電性を併せ持ち、かつ曲げ加工性、メツキ密着
性、半田付け性も良好な銅合金であり、熱膨張係数も従
来の銅合金とほぼ同様な値を示し、半導体機器のリード
フレーム材として顕著な効果を奏するものである。
十分な導電性を併せ持ち、かつ曲げ加工性、メツキ密着
性、半田付け性も良好な銅合金であり、熱膨張係数も従
来の銅合金とほぼ同様な値を示し、半導体機器のリード
フレーム材として顕著な効果を奏するものである。
Claims (1)
- 【請求項1】Cr0.03〜0.40wt%、Ni0.03〜0.40wt%、P
0.005〜0.03wt%を含み残部がCuよりなることを特徴と
するリードフレーム用銅合金。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1316983A JPH0674463B2 (ja) | 1983-01-29 | 1983-01-29 | リ−ドフレ−ム用銅合金 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1316983A JPH0674463B2 (ja) | 1983-01-29 | 1983-01-29 | リ−ドフレ−ム用銅合金 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59140338A JPS59140338A (ja) | 1984-08-11 |
JPH0674463B2 true JPH0674463B2 (ja) | 1994-09-21 |
Family
ID=11825669
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1316983A Expired - Lifetime JPH0674463B2 (ja) | 1983-01-29 | 1983-01-29 | リ−ドフレ−ム用銅合金 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0674463B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62120450A (ja) * | 1985-11-19 | 1987-06-01 | Nakasato Kk | 電気・電子機器用電気機械的接続ばね材料の製造法 |
KR890004860B1 (ko) * | 1986-06-19 | 1989-11-30 | 풍산금속공업 주식회사 | 전기, 전자 부품용 동합금 및 동합금판의 제조방법 |
FR2751990B1 (fr) * | 1996-07-30 | 1998-10-02 | Griset Ets | Alliage a base de cuivre a conductivite electrique et a temperature d'adoucissement elevees pour des applications dans l'electronique |
-
1983
- 1983-01-29 JP JP1316983A patent/JPH0674463B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59140338A (ja) | 1984-08-11 |
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