JP3045567B2 - 移動***置測定装置 - Google Patents
移動***置測定装置Info
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- JP3045567B2 JP3045567B2 JP3149041A JP14904191A JP3045567B2 JP 3045567 B2 JP3045567 B2 JP 3045567B2 JP 3149041 A JP3149041 A JP 3149041A JP 14904191 A JP14904191 A JP 14904191A JP 3045567 B2 JP3045567 B2 JP 3045567B2
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- Japan
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- light
- reflected
- detecting
- moving object
- moving body
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、工作機械や光学機械や
測定機械などのように、直線運動をするテーブル機器の
位置を制御するステージ装置において、特にレーザーを
利用して被測定物の位置を測定する装置に関するもので
ある。
測定機械などのように、直線運動をするテーブル機器の
位置を制御するステージ装置において、特にレーザーを
利用して被測定物の位置を測定する装置に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術とその課題】図４に示すように、直線運動
をするステージ上の移動体Ｍが例えばｘ軸に沿って移動
した場合、ｘ軸方向の位置決め誤差ｅxの他に、ｙ軸方
向の動きに伴うｙ軸変位誤差ｅy、ｚ軸方向の動きに伴
うｅzの３成分からなる変位誤差と、ｘ軸回りのローリ
ングによるローリング誤差α、ｙ軸回りのピッチングに
よるピッチング誤差β、ｚ軸回りによるヨーイングによ
るヨーイング誤差γからなる３成分の角度誤差との６成
分の誤差が発生することが知られている。
をするステージ上の移動体Ｍが例えばｘ軸に沿って移動
した場合、ｘ軸方向の位置決め誤差ｅxの他に、ｙ軸方
向の動きに伴うｙ軸変位誤差ｅy、ｚ軸方向の動きに伴
うｅzの３成分からなる変位誤差と、ｘ軸回りのローリ
ングによるローリング誤差α、ｙ軸回りのピッチングに
よるピッチング誤差β、ｚ軸回りによるヨーイングによ
るヨーイング誤差γからなる３成分の角度誤差との６成
分の誤差が発生することが知られている。
【０００３】従来の測定器としては、例えば特開昭６２
−２２３６０号に開示されるレーザー干渉測長器が知ら
れている。この測長器では、測長の場合に被測定物体に
二枚の反射鏡が必要となる。また傾き成分（ヨーイン
グ、ピッチング）の測定には二枚のバイプリズムが必要
である上に、同時に二成分を測定することができない。
また、上記の三成分を一つの測定器で同時に測ることが
できない。
−２２３６０号に開示されるレーザー干渉測長器が知ら
れている。この測長器では、測長の場合に被測定物体に
二枚の反射鏡が必要となる。また傾き成分（ヨーイン
グ、ピッチング）の測定には二枚のバイプリズムが必要
である上に、同時に二成分を測定することができない。
また、上記の三成分を一つの測定器で同時に測ることが
できない。
【０００４】一般に直線運動をする機器にはｘステー
ジ、ｘｙステージ、ｘｙｚステージが用いられている
が、これら移動ステージの直線運動精度を高精度に測定
するには軸変位の測定にはレーザー干渉測長システム、
角度変位にはオートコリメータが普及している。
ジ、ｘｙステージ、ｘｙｚステージが用いられている
が、これら移動ステージの直線運動精度を高精度に測定
するには軸変位の測定にはレーザー干渉測長システム、
角度変位にはオートコリメータが普及している。
【０００５】例えば、ｘｙ平面内を移動するｘｙステー
ジ等においては、図５に示すように、二つのレーザー測
長器１００，１０２と二つのオートコリメータ１０４，
１０６と直交ミラー１０８を用いて、レーザー干渉測長
器１０２を用いてｘ変位を、レーザー干渉測長器１０４
を用いてｙ変位を測定し、これと同時にオートコリメー
タ１０４を用いて角度誤差αとγを、オートコリメータ
１０６を用いて角度誤差βとγを測定する構成が知られ
ている。この構成では、二個のレーザー干渉測長器１０
０，１０２と二個のオートコリメータ１０４，１０６を
用いて５成分の変位を同時に測定することができる。
ジ等においては、図５に示すように、二つのレーザー測
長器１００，１０２と二つのオートコリメータ１０４，
１０６と直交ミラー１０８を用いて、レーザー干渉測長
器１０２を用いてｘ変位を、レーザー干渉測長器１０４
を用いてｙ変位を測定し、これと同時にオートコリメー
タ１０４を用いて角度誤差αとγを、オートコリメータ
１０６を用いて角度誤差βとγを測定する構成が知られ
ている。この構成では、二個のレーザー干渉測長器１０
０，１０２と二個のオートコリメータ１０４，１０６を
用いて５成分の変位を同時に測定することができる。
【０００６】しかし、このような測定システムは構成が
複雑になる上に、その測定に必要なスペースも大きくな
る。逆に、同一サイズのステージでは、測定系にスペー
スが取られ過ぎて動作範囲が小さくなる。また測定点も
多くなり、測定誤差の要因にもなる。
複雑になる上に、その測定に必要なスペースも大きくな
る。逆に、同一サイズのステージでは、測定系にスペー
スが取られ過ぎて動作範囲が小さくなる。また測定点も
多くなり、測定誤差の要因にもなる。
【０００７】本発明は、ステージなどの移動体の直線運
動を高精度に制御するためのコンパクトな構成の測定光
学系を提供することを目的とする。
動を高精度に制御するためのコンパクトな構成の測定光
学系を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】 このような課題を解決
するために、本発明は、反射面を有する移動体の位置を
測定する移動***置測定装置において、光ビームを発射
する手段と、この光ビームを、前記移動体の反射面に向
けて照射される物体光と、前記反射面により反射した前
記物体光と干渉する参照光とからなる、二本の光ビーム
に分離するビームスプリット手段と、前記反射した物体
光と参照光が干渉することにより生じる干渉信号に基づ
いて、前記移動体までの距離を検出する手段と、前記反
射した物体光の光軸に対する傾きを検出することによっ
て、前記移動体の角度変位を検出する手段とを備えたも
のである。
するために、本発明は、反射面を有する移動体の位置を
測定する移動***置測定装置において、光ビームを発射
する手段と、この光ビームを、前記移動体の反射面に向
けて照射される物体光と、前記反射面により反射した前
記物体光と干渉する参照光とからなる、二本の光ビーム
に分離するビームスプリット手段と、前記反射した物体
光と参照光が干渉することにより生じる干渉信号に基づ
いて、前記移動体までの距離を検出する手段と、前記反
射した物体光の光軸に対する傾きを検出することによっ
て、前記移動体の角度変位を検出する手段とを備えたも
のである。
【０００９】 さらに、前記ビームスプリット手段は、
互いのビームスプリット面が直交する二個の偏光ビーム
スプリッターと、それらの間に配置された１／２波長板
とからなることを特徴とするものである。また、前記角
度変位検出手段は、前記反射面により反射した前記物体
光を受光し、その受光位置を検出する位置検出素子から
なることを特徴とするものである。
互いのビームスプリット面が直交する二個の偏光ビーム
スプリッターと、それらの間に配置された１／２波長板
とからなることを特徴とするものである。また、前記角
度変位検出手段は、前記反射面により反射した前記物体
光を受光し、その受光位置を検出する位置検出素子から
なることを特徴とするものである。
【００１０】
【作用】 ビームスプリット手段に入射した光ビーム
は、移動体の反射面に向けて照射される物体光と、前記
移動体の反射面により反射した前記物体光と干渉する参
照光とからなる、二本の光ビームに分離される。前記移
動体の反射面で反射された物体光と、この物体光と異な
る光路を通過した前記参照光が干渉することにより干渉
信号が発生する。この干渉信号の強度に基づいて前記移
動体までの距離が検出される。
は、移動体の反射面に向けて照射される物体光と、前記
移動体の反射面により反射した前記物体光と干渉する参
照光とからなる、二本の光ビームに分離される。前記移
動体の反射面で反射された物体光と、この物体光と異な
る光路を通過した前記参照光が干渉することにより干渉
信号が発生する。この干渉信号の強度に基づいて前記移
動体までの距離が検出される。
【００１１】一方、前記移動体の反射面で反射された物
体光は前記移動体の角度変位を検出する手段にも照射さ
れ、その照射位置に基づいて、前記移動体の角度変位が
検出される。
体光は前記移動体の角度変位を検出する手段にも照射さ
れ、その照射位置に基づいて、前記移動体の角度変位が
検出される。
【００１２】
【実施例】本発明の測定光学系の実施例を図１に示す。
光源１２はレーザーダイオード１４とコリメートレンズ
１６を含み、レーザーダイオード１４から射出されたレ
ーザー光はコリメートレンズ１６で平行ビームに整形さ
れて光源１２から射出される。光源１２から射出された
平行ビームはアイソレータ１８を通過し、紙面に対して
４５度傾いた直線偏光となり、ミラー２０で反射された
後に、偏光ビームスプリッター２２に入射する。偏光ビ
ームスプリッター２２は紙面に平行な偏光成分を通過さ
せ、紙面に垂直な偏光成分を反射する。
光源１２はレーザーダイオード１４とコリメートレンズ
１６を含み、レーザーダイオード１４から射出されたレ
ーザー光はコリメートレンズ１６で平行ビームに整形さ
れて光源１２から射出される。光源１２から射出された
平行ビームはアイソレータ１８を通過し、紙面に対して
４５度傾いた直線偏光となり、ミラー２０で反射された
後に、偏光ビームスプリッター２２に入射する。偏光ビ
ームスプリッター２２は紙面に平行な偏光成分を通過さ
せ、紙面に垂直な偏光成分を反射する。
【００１３】偏光ビームスプリッター２２で反射された
光ビーム（物体光）は、λ／４板２４を通過して、移動
体２６の平面ミラー２６ａに達する。ここで光ビームは
反射され、λ／４板２４を再度通過し、紙面に平行な直
線偏光となり、偏光ビームスプリッター２２を通過し
て、レンズ２８に入射する。レンズ２８に入射した光ビ
ームは集束されつつ、偏光ビームスプリッター３０に入
射する。偏光ビームスプリッター３０は左面にハーフミ
ラー３０ａが、下面に全反射ミラー３０ｂが設けられて
いて、これらはレンズ２８の焦平面に位置している。偏
光ビームスプリッター３０に入射した光はハーフミラー
３０ａ上で集束し、その一部はハーフミラー３０ａを透
過して二次元位置検出素子３２に入射し、残りの光はハ
ーフミラー３０ａで反射される。ハーフミラー３０ａで
反射された光はレンズ２８に入射して平行ビームとな
り、偏光ビームスプリッター３４とλ／４板３６を通過
して、移動体２６の平面ミラー２６ａに到達し反射され
る。平面ミラー２６ａで反射された光ビームは再びλ／
４板３６を通過して紙面に垂直な直線偏光となり、偏光
ビームスプリッター３４で反射され、λ／４板４０に入
射する。
光ビーム（物体光）は、λ／４板２４を通過して、移動
体２６の平面ミラー２６ａに達する。ここで光ビームは
反射され、λ／４板２４を再度通過し、紙面に平行な直
線偏光となり、偏光ビームスプリッター２２を通過し
て、レンズ２８に入射する。レンズ２８に入射した光ビ
ームは集束されつつ、偏光ビームスプリッター３０に入
射する。偏光ビームスプリッター３０は左面にハーフミ
ラー３０ａが、下面に全反射ミラー３０ｂが設けられて
いて、これらはレンズ２８の焦平面に位置している。偏
光ビームスプリッター３０に入射した光はハーフミラー
３０ａ上で集束し、その一部はハーフミラー３０ａを透
過して二次元位置検出素子３２に入射し、残りの光はハ
ーフミラー３０ａで反射される。ハーフミラー３０ａで
反射された光はレンズ２８に入射して平行ビームとな
り、偏光ビームスプリッター３４とλ／４板３６を通過
して、移動体２６の平面ミラー２６ａに到達し反射され
る。平面ミラー２６ａで反射された光ビームは再びλ／
４板３６を通過して紙面に垂直な直線偏光となり、偏光
ビームスプリッター３４で反射され、λ／４板４０に入
射する。
【００１４】一方、偏光ビームスプリッター２２を透過
した紙面に平行な直線偏光の光ビーム（参照光）は、λ
／２板３８を通過して紙面に垂直な直線偏光となり、偏
光ビームスプリッター３４で反射される。偏光ビームス
プリッター３４で反射された光ビームは、レンズ２８に
入射して集束されつつ、偏光ビームスプリッター３０に
入射する。偏光ビームスプリッター３０に入射した光は
ビームスプリット面３０ｃで反射され、全反射ミラー３
０ｂ上に集束し反射される。全反射ミラー３０ｂで反射
された光はビームスプリット面３０ｃで反射され、レン
ズ２８に入射して平行ビームとなり、偏光ビームスプリ
ッター２２に入射し反射される。偏光ビームスプリッタ
ー２２で反射された光ビームはλ／２板３８を通過する
際に紙面に平行な直線偏光となり、偏光ビームスプリッ
ター３４を通過し、λ／４板４０に入射する。
した紙面に平行な直線偏光の光ビーム（参照光）は、λ
／２板３８を通過して紙面に垂直な直線偏光となり、偏
光ビームスプリッター３４で反射される。偏光ビームス
プリッター３４で反射された光ビームは、レンズ２８に
入射して集束されつつ、偏光ビームスプリッター３０に
入射する。偏光ビームスプリッター３０に入射した光は
ビームスプリット面３０ｃで反射され、全反射ミラー３
０ｂ上に集束し反射される。全反射ミラー３０ｂで反射
された光はビームスプリット面３０ｃで反射され、レン
ズ２８に入射して平行ビームとなり、偏光ビームスプリ
ッター２２に入射し反射される。偏光ビームスプリッタ
ー２２で反射された光ビームはλ／２板３８を通過する
際に紙面に平行な直線偏光となり、偏光ビームスプリッ
ター３４を通過し、λ／４板４０に入射する。
【００１５】λ／４板４０を通過した二本の光ビームは
共に円偏光となるとともに合成された後、偏光ビームス
プリッター４２で二本のビームに分けられる。偏光ビー
ムスプリッター４２を通過したビームは、λ／４板４４
を通過して偏光ビームスプリッター４６に入射して更に
二本のビームに分割され、偏光ビームスプリッター４６
を通過したビームはフォトダイオードＰＤ１に入射し、
偏光ビームスプリッター４６で反射されたビームはフォ
トダイオードＰＤ３に入射する。偏光ビームスプリッタ
ー４２で反射されたビームはλ／４板４８を通過して偏
光ビームスプリッター５０に入射し、更に二本のビーム
に分割され、偏光ビームスプリッター５０で反射された
ビームはフォトダイオードＰＤ２に入射し、偏光ビーム
スプリッター５０を透過したビームはフォトダイオード
ＰＤ４に入射する。
共に円偏光となるとともに合成された後、偏光ビームス
プリッター４２で二本のビームに分けられる。偏光ビー
ムスプリッター４２を通過したビームは、λ／４板４４
を通過して偏光ビームスプリッター４６に入射して更に
二本のビームに分割され、偏光ビームスプリッター４６
を通過したビームはフォトダイオードＰＤ１に入射し、
偏光ビームスプリッター４６で反射されたビームはフォ
トダイオードＰＤ３に入射する。偏光ビームスプリッタ
ー４２で反射されたビームはλ／４板４８を通過して偏
光ビームスプリッター５０に入射し、更に二本のビーム
に分割され、偏光ビームスプリッター５０で反射された
ビームはフォトダイオードＰＤ２に入射し、偏光ビーム
スプリッター５０を透過したビームはフォトダイオード
ＰＤ４に入射する。
【００１６】フォトダイオードＰＤ１〜ＰＤ４で検出さ
れる干渉信号の強度Ｓ1〜Ｓ4はそれぞれ次のようにな
る。
れる干渉信号の強度Ｓ1〜Ｓ4はそれぞれ次のようにな
る。
【００１７】 ＰＤ１： Ｓ1＝ａ1＋ｂ1ｃｏｓ（２π／λ・ｎ・Δ
Ｌ） ＰＤ２： Ｓ2＝ａ2＋ｂ2ｓｉｎ（２π／λ・ｎ・Δ
Ｌ） ＰＤ３： Ｓ3＝ａ3＋ｂ3ｃｏｓ（２π／λ・ｎ・Δ
Ｌ） ＰＤ４： Ｓ4＝ａ4＋ｂ4ｓｉｎ（２π／λ・ｎ・Δ
Ｌ） ここに、ΔＬは物体光と参照光の光路差、λはレーザー
光の波長である。差動増幅器５２から出力されるＳ1−
Ｓ2がｃｏｓ信号、差動増幅器５４から出力されるＳ2−
Ｓ4がｓｉｎ信号となる。差動増幅器５２と５４の出力
はそれぞれプリアンプで位相補正とオフセット調整が行
なわれ、計数器へ送られて干渉信号が計数され、平面ミ
ラー２６ａの変位が計測される。このとき、物体光は移
動体までの光路を二往復するため、移動体の動きに対し
て二倍の光路差が生じるので測定感度が二倍になる。し
かも、物体光と参照光がほぼ同じ光路を通るので温度環
境等の変動なども強い。
Ｌ） ＰＤ２： Ｓ2＝ａ2＋ｂ2ｓｉｎ（２π／λ・ｎ・Δ
Ｌ） ＰＤ３： Ｓ3＝ａ3＋ｂ3ｃｏｓ（２π／λ・ｎ・Δ
Ｌ） ＰＤ４： Ｓ4＝ａ4＋ｂ4ｓｉｎ（２π／λ・ｎ・Δ
Ｌ） ここに、ΔＬは物体光と参照光の光路差、λはレーザー
光の波長である。差動増幅器５２から出力されるＳ1−
Ｓ2がｃｏｓ信号、差動増幅器５４から出力されるＳ2−
Ｓ4がｓｉｎ信号となる。差動増幅器５２と５４の出力
はそれぞれプリアンプで位相補正とオフセット調整が行
なわれ、計数器へ送られて干渉信号が計数され、平面ミ
ラー２６ａの変位が計測される。このとき、物体光は移
動体までの光路を二往復するため、移動体の動きに対し
て二倍の光路差が生じるので測定感度が二倍になる。し
かも、物体光と参照光がほぼ同じ光路を通るので温度環
境等の変動なども強い。
【００１８】次に移動体２６の平面ミラー２６ａが傾い
たときの様子を図２に示す。図中、移動体が傾いていな
いときの光路を破線で示してある。移動体２６がθ傾く
と、平面ミラー２６ａに入射した光ビームは、入射光に
対して２θの角度を持って反射され、レンズ２８に入射
する。レンズ２８を通過した光ビームは、ハーフミラー
３０ａで反射され、再びレンズ２８に入射する。レンズ
２８から射出される光ビームは、レンズ２８へ入射した
光ビームに平行に射出される。この光ビームは移動体２
６の平面ミラー２６ａで反射され、偏光ビームスプリッ
ター３４で反射される。偏光ビームスプリッター３４か
ら射出されるビームは、偏光ビームスプリッター２２に
入射するビームに平行に射出されるが、その光路は平面
ミラー２６ａが傾いていないときの光路からは僅かにず
れている。偏光ビームスプリッター３４から射出された
光ビームは、上述したように、その干渉信号から移動体
２６の位置が検出される。
たときの様子を図２に示す。図中、移動体が傾いていな
いときの光路を破線で示してある。移動体２６がθ傾く
と、平面ミラー２６ａに入射した光ビームは、入射光に
対して２θの角度を持って反射され、レンズ２８に入射
する。レンズ２８を通過した光ビームは、ハーフミラー
３０ａで反射され、再びレンズ２８に入射する。レンズ
２８から射出される光ビームは、レンズ２８へ入射した
光ビームに平行に射出される。この光ビームは移動体２
６の平面ミラー２６ａで反射され、偏光ビームスプリッ
ター３４で反射される。偏光ビームスプリッター３４か
ら射出されるビームは、偏光ビームスプリッター２２に
入射するビームに平行に射出されるが、その光路は平面
ミラー２６ａが傾いていないときの光路からは僅かにず
れている。偏光ビームスプリッター３４から射出された
光ビームは、上述したように、その干渉信号から移動体
２６の位置が検出される。
【００１９】一方、前記移動体２６の反射ミラー２６ａ
により反射した前記光ビーム（物体光）は、ハーフミラ
ー３０ａを通過して二次元位置検出素子３２に入射す
る。ハーフミラー３０ａ上において、平面ミラー２６ａ
が傾いていないときの前記反射した物体光の照射位置
と、平面ミラー２６ａがθ傾いているときの前記反射し
た物体光の照射位置とのずれｄは、
により反射した前記光ビーム（物体光）は、ハーフミラ
ー３０ａを通過して二次元位置検出素子３２に入射す
る。ハーフミラー３０ａ上において、平面ミラー２６ａ
が傾いていないときの前記反射した物体光の照射位置
と、平面ミラー２６ａがθ傾いているときの前記反射し
た物体光の照射位置とのずれｄは、
【００２０】
【数１】
【００２１】で表される。ここにｆはレンズ２８の焦点
距離である。従って、変位ｄより傾き角θを導き出すこ
とができる。この特性は、図１において、移動体２６の
平面ミラー２６ａが紙面に平行な軸を中心として傾いた
場合も同様である。これにより、移動体２６の平面ミラ
ー２６ａの２方向の角度成分を同時に検出できる。
距離である。従って、変位ｄより傾き角θを導き出すこ
とができる。この特性は、図１において、移動体２６の
平面ミラー２６ａが紙面に平行な軸を中心として傾いた
場合も同様である。これにより、移動体２６の平面ミラ
ー２６ａの２方向の角度成分を同時に検出できる。
【００２２】本発明は上述に実施例に限定されるもので
はなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々多くの変形
が可能である。例えば、図１に示した偏光ビームスプリ
ッターの代わりに、図３に示す偏光ビームスプリッター
を用いることもできる。またλ／４板は二枚である必要
はなく、図３のようにλ／４板は一枚で済ませることも
できる。
はなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々多くの変形
が可能である。例えば、図１に示した偏光ビームスプリ
ッターの代わりに、図３に示す偏光ビームスプリッター
を用いることもできる。またλ／４板は二枚である必要
はなく、図３のようにλ／４板は一枚で済ませることも
できる。
【００２３】本発明によれば、測長と角度変位（ヨーイ
ングとピッチング）を同時に同一箇所を測定して行なえ
るため、ステージなどの移動体の直線運動を高精度に制
御するためのコンパクトな構成の測定光学系を有する移
動***置測定装置が提供される。
ングとピッチング）を同時に同一箇所を測定して行なえ
るため、ステージなどの移動体の直線運動を高精度に制
御するためのコンパクトな構成の測定光学系を有する移
動***置測定装置が提供される。
【図１】本発明の測定光学系の実施例を示す。
【図２】移動体が傾いたときの物体光の光路を示す。
【図３】図１の測定光学系の変形例を示す。
【図４】移動体に発生する６つの誤差を示す。
【図５】従来例に係る移動体の測定装置の構成を示す。
１２…光源、２２，３４，３０…偏光ビームスプリッタ
ー、２４，３６…λ／４板、２６…移動体、２６ａ…平
面ミラー、２８…レンズ、３０ａ…ハーフミラー、３０
ｂ…全反射ミラー、３８…λ／２板。
ー、２４，３６…λ／４板、２６…移動体、２６ａ…平
面ミラー、２８…レンズ、３０ａ…ハーフミラー、３０
ｂ…全反射ミラー、３８…λ／２板。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01B 9/00 - 11/30 102
Claims (2)
- 【請求項１】 反射面を有する移動体の位置を測定する
移動***置測定装置において、 光ビームを発射する手段と、 この光ビームを、前記移動体の反射面に向けて照射され
る物体光と、前記反射面により反射した前記物体光と干
渉する参照光とからなる、二本の光ビームに分離するビ
ームスプリット手段と、 前記反射した物体と参照光が干渉することにより生じる
干渉信号に基づいて、前記移動体までの距離を検出する
手段と、 前記反射した物体光の光軸に対する傾きを検出すること
によって、前記移動体の角度変位を検出する手段とを備
えており、 前記ビームスプリット手段は、互いのビームスプリット
面が直交する二個の偏光ビームスプリッターと、それら
の間に配置された１／２波長板とからなることを特徴と
する移動***置測定装置。 - 【請求項２】 前記角度変位検出手段は、前記反射面に
より反射した前記物体光を受光し、その受光位置を検出
する位置検出素子からなることを特徴とする請求項１記
載の移動***置測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3149041A JP3045567B2 (ja) | 1991-06-21 | 1991-06-21 | 移動***置測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3149041A JP3045567B2 (ja) | 1991-06-21 | 1991-06-21 | 移動***置測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04372804A JPH04372804A (ja) | 1992-12-25 |
| JP3045567B2 true JP3045567B2 (ja) | 2000-05-29 |
Family
ID=15466362
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3149041A Expired - Fee Related JP3045567B2 (ja) | 1991-06-21 | 1991-06-21 | 移動***置測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3045567B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP3540054B2 (ja) * | 1995-06-16 | 2004-07-07 | 株式会社ソキア | 真直度干渉計 |
| CN116086361B (zh) * | 2023-04-11 | 2023-06-30 | 季华实验室 | 用于大行程导轨的直线度测量装置及误差获取方法 |
-
1991
- 1991-06-21 JP JP3149041A patent/JP3045567B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
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