JP2991818B2 - 縮合2員環状ジシラニレン−アセチレン化合物およびその製法 - Google Patents
縮合2員環状ジシラニレン−アセチレン化合物およびその製法Info
- Publication number
- JP2991818B2 JP2991818B2 JP3156659A JP15665991A JP2991818B2 JP 2991818 B2 JP2991818 B2 JP 2991818B2 JP 3156659 A JP3156659 A JP 3156659A JP 15665991 A JP15665991 A JP 15665991A JP 2991818 B2 JP2991818 B2 JP 2991818B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- general formula
- compound
- group
- phenyl
- reagent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 title claims description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 40
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 27
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 23
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 18
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 16
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 13
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 12
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 9
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 claims description 7
- XRYUKJRFDMJUJL-UHFFFAOYSA-N dichloro(dichlorosilylidene)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)=[Si](Cl)Cl XRYUKJRFDMJUJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 claims description 7
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 7
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 6
- ZKTNAXGYIXDEMA-UHFFFAOYSA-N ethynyl(ethynylsilyl)silane Chemical compound C#C[SiH2][SiH2]C#C ZKTNAXGYIXDEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 claims description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 6
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 6
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001923 cyclic compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- -1 cyclic silane compound Chemical class 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- NWHZKVYOVXUZIJ-UHFFFAOYSA-N chloro-diphenyl-propan-2-ylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(C(C)C)C1=CC=CC=C1 NWHZKVYOVXUZIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018287 SbF 5 Inorganic materials 0.000 description 2
- XHIFTAJQQADTGC-UHFFFAOYSA-N [diphenyl(propan-2-yl)silyl]-diphenyl-propan-2-ylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si]([Si](C(C)C)(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)(C(C)C)C1=CC=CC=C1 XHIFTAJQQADTGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 2
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 2
- 230000021615 conjugation Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 2
- NVXWZFVXUGJZBC-UHFFFAOYSA-N dichloro-[dichloro(propan-2-yl)silyl]-propan-2-ylsilane Chemical compound CC(C)[Si](Cl)(Cl)[Si](Cl)(Cl)C(C)C NVXWZFVXUGJZBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 2
- QUXHCILOWRXCEO-UHFFFAOYSA-M magnesium;butane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].CCC[CH2-] QUXHCILOWRXCEO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FRIJBUGBVQZNTB-UHFFFAOYSA-M magnesium;ethane;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].[CH2-]C FRIJBUGBVQZNTB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- IUYHWZFSGMZEOG-UHFFFAOYSA-M magnesium;propane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].C[CH-]C IUYHWZFSGMZEOG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920003257 polycarbosilane Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- VYFXMIAQVGXIIN-UHFFFAOYSA-N trichloro(chlorosilyl)silane Chemical compound Cl[SiH2][Si](Cl)(Cl)Cl VYFXMIAQVGXIIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDTMFDGELKWGFT-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropan-2-olate Chemical compound CC(C)(C)[O-] SDTMFDGELKWGFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910008045 Si-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006411 Si—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000004791 alkyl magnesium halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000004792 aryl magnesium halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N chloro(methyl)silane Chemical class C[SiH2]Cl YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFAZXBAPWCPIER-UHFFFAOYSA-N chloro-[chloro(dimethyl)silyl]-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)[Si](C)(C)Cl SFAZXBAPWCPIER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- VWWMOACCGFHMEV-UHFFFAOYSA-N dicarbide(2-) Chemical compound [C-]#[C-] VWWMOACCGFHMEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTBAMRDUGCDKMS-UHFFFAOYSA-N dichloro-[dichloro(methyl)silyl]-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)[Si](C)(Cl)Cl JTBAMRDUGCDKMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCUWFZGKVXWJAY-UHFFFAOYSA-N dichloro-[dichloro(phenyl)silyl]-phenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 HCUWFZGKVXWJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N ethoxide Chemical compound CC[O-] HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTCJUOILHSZCFT-UHFFFAOYSA-N ethynyl-[ethynyl(dimethyl)silyl]-dimethylsilane Chemical compound C#C[Si](C)(C)[Si](C)(C)C#C MTCJUOILHSZCFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004896 high resolution mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- AFRJJFRNGGLMDW-UHFFFAOYSA-N lithium amide Chemical compound [Li+].[NH2-] AFRJJFRNGGLMDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQRPUKWAZPZXTO-UHFFFAOYSA-M magnesium;2-methylpropane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].C[C-](C)C CQRPUKWAZPZXTO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IWCVDCOJSPWGRW-UHFFFAOYSA-M magnesium;benzene;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].C1=CC=[C-]C=C1 IWCVDCOJSPWGRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NXPHGHWWQRMDIA-UHFFFAOYSA-M magnesium;carbanide;bromide Chemical compound [CH3-].[Mg+2].[Br-] NXPHGHWWQRMDIA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VXWPONVCMVLXBW-UHFFFAOYSA-M magnesium;carbanide;iodide Chemical compound [CH3-].[Mg+2].[I-] VXWPONVCMVLXBW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LROBJRRFCPYLIT-UHFFFAOYSA-M magnesium;ethyne;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].[C-]#C LROBJRRFCPYLIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000013212 metal-organic material Substances 0.000 description 1
- NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N methoxide Chemical compound [O-]C NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKUUVVYMPUDTGJ-UHFFFAOYSA-N methyl 5-hydroxy-4-methoxy-2-nitrobenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC(O)=C(OC)C=C1[N+]([O-])=O ZKUUVVYMPUDTGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N sodium amide Chemical compound [NH2-].[Na+] ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910000299 transition metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIPCDVWYAADTGR-UHFFFAOYSA-N trimethyl(methylsilyl)silane Chemical compound C[SiH2][Si](C)(C)C VIPCDVWYAADTGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002371 ultraviolet--visible spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は環状構造化合物およびそ
の製法に関する。さらに詳しくは、新規な縮合2員環状
ジシラニレン- アセチレン化合物およびその製法に関す
る。
の製法に関する。さらに詳しくは、新規な縮合2員環状
ジシラニレン- アセチレン化合物およびその製法に関す
る。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】異方
性が著しく高く、潜在的に有用な電気的性質、光学的性
質および/または磁気的性質を有する様々な種類の有機
材料、金属有機材料および無機材料が知られている。か
かる材料は、電気伝導材料、半導体、電子素子および電
磁または音響センサーを製造するのに有用であることが
知られている。これらの材料のいくつかの有用性は、重
量、機械的もろさ、製造上の問題、腐食、入手困難性お
よび高コストなどの要因によりしばしば制限されてい
る。
性が著しく高く、潜在的に有用な電気的性質、光学的性
質および/または磁気的性質を有する様々な種類の有機
材料、金属有機材料および無機材料が知られている。か
かる材料は、電気伝導材料、半導体、電子素子および電
磁または音響センサーを製造するのに有用であることが
知られている。これらの材料のいくつかの有用性は、重
量、機械的もろさ、製造上の問題、腐食、入手困難性お
よび高コストなどの要因によりしばしば制限されてい
る。
【0003】電気伝導性有機材料は、そのような問題を
解決または減少しうる特徴を有し、フィルム、フィラメ
ントおよびその他の形状に容易に製造されうるものであ
る。これらの材料のいくつかは単に金属やグラファイト
などの導電材料を含有している有機材料である。またそ
の他のものは電子受容体および/または電子供与体ドー
パントによる化学的ドーピングによってその電気伝導率
が高められた有機材料からなるものである。一般に、か
かる電気伝導率を高めることのできる前記材料は、ほと
んどの環状化合物にみられるような著しく非局在化され
たπ電子共役によってまたはときにはSi-C複素環式化合
物と同様にポリシランに見られるようなσ電子非局在化
によって特徴づけられる。Si-Si のσ結合とπ系との間
の電子の非局在化は、不飽和基または芳香族基を含有す
る共役ポリシリル化合物に対して立証されている。かか
るσ- π電子非局在化は、220 〜270nm 付近の強い紫外
線吸収として現われる。式(IV)で示される歪みのある環
状ジシラニレン- アセチレン化合物では250nm にとくに
強い紫外線吸収が見出されている。
解決または減少しうる特徴を有し、フィルム、フィラメ
ントおよびその他の形状に容易に製造されうるものであ
る。これらの材料のいくつかは単に金属やグラファイト
などの導電材料を含有している有機材料である。またそ
の他のものは電子受容体および/または電子供与体ドー
パントによる化学的ドーピングによってその電気伝導率
が高められた有機材料からなるものである。一般に、か
かる電気伝導率を高めることのできる前記材料は、ほと
んどの環状化合物にみられるような著しく非局在化され
たπ電子共役によってまたはときにはSi-C複素環式化合
物と同様にポリシランに見られるようなσ電子非局在化
によって特徴づけられる。Si-Si のσ結合とπ系との間
の電子の非局在化は、不飽和基または芳香族基を含有す
る共役ポリシリル化合物に対して立証されている。かか
るσ- π電子非局在化は、220 〜270nm 付近の強い紫外
線吸収として現われる。式(IV)で示される歪みのある環
状ジシラニレン- アセチレン化合物では250nm にとくに
強い紫外線吸収が見出されている。
【0004】
【化8】
【0005】かかる式(IV)で示される化合物は、下記に
示される9員環化合物を加熱するか光を照射することに
よりえられている。
示される9員環化合物を加熱するか光を照射することに
よりえられている。
【0006】
【化9】
【0007】式(IV)で表わされる化合物は、波長250nm
付近に強い吸収を有するので、高度のσ- π電子非局在
化を有していると思われ、したがって光学材料や電気伝
導性材料として使用できる可能性が高い。また、かかる
環状分子はNa、K 、メトキサイド、エトキサイド、t-ブ
トキサイド、リチウムアミド、ナトリウムアミド、アセ
チリド、ブチルリチウム、BF3 、 BCl3 、AlCl3 、TiCl
4 、トリエチルアルミニウム、アゾビスイソブチロニト
リル、ベンゾイルパーオキサイドなどのアニオン性、カ
チオン性およびラジカル性試剤を使用することにより開
環され、開環された分子は重合する可能性がある。さら
に、ポリシランやポリカルボシランと同様、式(IV)で表
わされる化合物は、高温に加熱されたばあい、炭化ケイ
素に変化しうる。
付近に強い吸収を有するので、高度のσ- π電子非局在
化を有していると思われ、したがって光学材料や電気伝
導性材料として使用できる可能性が高い。また、かかる
環状分子はNa、K 、メトキサイド、エトキサイド、t-ブ
トキサイド、リチウムアミド、ナトリウムアミド、アセ
チリド、ブチルリチウム、BF3 、 BCl3 、AlCl3 、TiCl
4 、トリエチルアルミニウム、アゾビスイソブチロニト
リル、ベンゾイルパーオキサイドなどのアニオン性、カ
チオン性およびラジカル性試剤を使用することにより開
環され、開環された分子は重合する可能性がある。さら
に、ポリシランやポリカルボシランと同様、式(IV)で表
わされる化合物は、高温に加熱されたばあい、炭化ケイ
素に変化しうる。
【0008】本発明の目的は、σ- π電子共役を有する
新たな種類の環状シラン化合物、とくに縮合2員環状シ
ラン化合物およびその製法の提供にある。
新たな種類の環状シラン化合物、とくに縮合2員環状シ
ラン化合物およびその製法の提供にある。
【0009】本発明のさらに目的とするところは、新規
な縮合2員環状ジシラニレン- アセチレン化合物および
その製法の提供にある。
な縮合2員環状ジシラニレン- アセチレン化合物および
その製法の提供にある。
【0010】本発明のこれらおよびその他の目的は以下
の記述から明らかになるであろう。
の記述から明らかになるであろう。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式(I) :
【0012】
【化10】
【0013】(式中、RおよびR′は炭素原子数1〜20
個の1価の炭化水素基を表わし、RおよびR′は互いに
同じであっても異なっていてもよい)で表わされる縮合
2員環状ジシラニレン- アセチレン化合物を提供する。
個の1価の炭化水素基を表わし、RおよびR′は互いに
同じであっても異なっていてもよい)で表わされる縮合
2員環状ジシラニレン- アセチレン化合物を提供する。
【0014】本発明はさらに、(a) 一般式(II):
【0015】
【化11】
【0016】(式中、Rは炭素原子数1〜20個の1価の
炭化水素基を表わす)で表わされる1,2-ジエチニルジシ
ランをグリニャール試薬と反応させることによりジグリ
ニャール試薬を生成させる工程、 (b) 前記ジグリニャール試薬を一般式(III) :
炭化水素基を表わす)で表わされる1,2-ジエチニルジシ
ランをグリニャール試薬と反応させることによりジグリ
ニャール試薬を生成させる工程、 (b) 前記ジグリニャール試薬を一般式(III) :
【0017】
【化12】
【0018】(式中、R′は炭素原子数1〜20個の1価
の炭化水素基を表わす)で表わされる1,1,2,2-テトラク
ロロジシランと反応させる工程、および (c) 生成した縮合2員環状ジシラニレン- アセチレン化
合物を単離する工程からなることを特徴とする一般式
(I) :
の炭化水素基を表わす)で表わされる1,1,2,2-テトラク
ロロジシランと反応させる工程、および (c) 生成した縮合2員環状ジシラニレン- アセチレン化
合物を単離する工程からなることを特徴とする一般式
(I) :
【0019】
【化13】
【0020】(式中、RおよびR′は前記に同じ)で表
わされる縮合2員環状ジシラニレン-アセチレン化合物
の製法を提供する。
わされる縮合2員環状ジシラニレン-アセチレン化合物
の製法を提供する。
【0021】
【実施例】本発明の目的化合物は一般式(I) で表わされ
る縮合2員環状ジシラニレン- アセチレン化合物であ
る。
る縮合2員環状ジシラニレン- アセチレン化合物であ
る。
【0022】一般式(I) 中の置換基RおよびR′として
は炭素原子数1〜20個、とくに1〜8個のアルキル基お
よび炭素原子数6〜20個、とくに6〜12個のアリール基
が好ましい。アルキル基の例としててはCH3 、 C2 H
5 、 n-C3 H 7 、 i-C3 H 7 、n-C4 H 9 、i- C4 H
9 、 t-C4 H 9 、 n-C5 H 11、 n-C6 H 13、 n-C7 H
15および n-C8 H 17があげられる。アリール基の例とし
てはフェニル、およびトリル、キシリルなどの置換フェ
ニルがあげられる。好ましい置換基RはCH3 、C2 H
5 、 n-C3 H 7 、 i-C3 H 7 、 n-C4 H 9 およびフェ
ニルであり、とくにCH3 が好ましい。好ましい置換基
R′は i-C3 H 7 およびフェニルである。
は炭素原子数1〜20個、とくに1〜8個のアルキル基お
よび炭素原子数6〜20個、とくに6〜12個のアリール基
が好ましい。アルキル基の例としててはCH3 、 C2 H
5 、 n-C3 H 7 、 i-C3 H 7 、n-C4 H 9 、i- C4 H
9 、 t-C4 H 9 、 n-C5 H 11、 n-C6 H 13、 n-C7 H
15および n-C8 H 17があげられる。アリール基の例とし
てはフェニル、およびトリル、キシリルなどの置換フェ
ニルがあげられる。好ましい置換基RはCH3 、C2 H
5 、 n-C3 H 7 、 i-C3 H 7 、 n-C4 H 9 およびフェ
ニルであり、とくにCH3 が好ましい。好ましい置換基
R′は i-C3 H 7 およびフェニルである。
【0023】一般式(I) で表わされる化合物で好ましい
ものは、RがCH3 で、R′がi-C3 H 7 のもの、および
RがCH3 で、R′がフェニルのものである。
ものは、RがCH3 で、R′がi-C3 H 7 のもの、および
RがCH3 で、R′がフェニルのものである。
【0024】一般式(I) の化合物は、異なるケイ素原子
に結合している2つの置換基R′に関して、シス配置で
あってもよく、トランス配置であってもよい。本発明の
化合物(I) にはこのようなシス異性体、トランス異性体
およびシス異性体とトランス異性体の混合物が含まれ
る。
に結合している2つの置換基R′に関して、シス配置で
あってもよく、トランス配置であってもよい。本発明の
化合物(I) にはこのようなシス異性体、トランス異性体
およびシス異性体とトランス異性体の混合物が含まれ
る。
【0025】本発明の目的化合物はつぎの方法によって
製造される。
製造される。
【0026】本発明の縮合2員環状ジシラニレン- アセ
チレン化合物(I) の合成においては、まずジグリニャー
ル試薬の製造を行なう。一般式(II)の1,2-ジエチニルジ
シランを、テトラヒドロフラン(THF) などの不活性溶媒
中で、グリニャール試薬、たとえばエチルマグネシウム
ブロマイドなどのハロゲン化アルキルマグネシウムある
いはハロゲン化アリールマグネシウムと反応させる。こ
の他にも、たとえばメチルマグネシウムブロマイド、メ
チルマグネシウムアイオダイド、n-プロピルマグネシウ
ムクロライド、n-ブチルマグネシウムクロライド、sec-
ブチルマグネシウムクロライド、t-ブチルマグネシウム
クロライド、フェニルマグネシウムクロライドなどのグ
リニャール試薬もまた使用できる。
チレン化合物(I) の合成においては、まずジグリニャー
ル試薬の製造を行なう。一般式(II)の1,2-ジエチニルジ
シランを、テトラヒドロフラン(THF) などの不活性溶媒
中で、グリニャール試薬、たとえばエチルマグネシウム
ブロマイドなどのハロゲン化アルキルマグネシウムある
いはハロゲン化アリールマグネシウムと反応させる。こ
の他にも、たとえばメチルマグネシウムブロマイド、メ
チルマグネシウムアイオダイド、n-プロピルマグネシウ
ムクロライド、n-ブチルマグネシウムクロライド、sec-
ブチルマグネシウムクロライド、t-ブチルマグネシウム
クロライド、フェニルマグネシウムクロライドなどのグ
リニャール試薬もまた使用できる。
【0027】ついで生成するジグリニャール試薬を一般
式(III) で表わされる1,1,2,2-テトラクロロジシランと
THF などの不活性溶媒中で反応させる。該反応は1時間
〜1週間の間室温〜還流温度の範囲の温度で反応するこ
とにより行ない、かくして一般式(I) で表わされる縮合
2員環状ジシラニレン- アセチレン化合物が生成され
る。前記反応は通常反応混合物を還流するか、あるいは
反応混合物を室温に放置しておく(撹拌してもよい)こ
とによって行なう。あるいはこれら操作を交互に繰返し
てもよい。
式(III) で表わされる1,1,2,2-テトラクロロジシランと
THF などの不活性溶媒中で反応させる。該反応は1時間
〜1週間の間室温〜還流温度の範囲の温度で反応するこ
とにより行ない、かくして一般式(I) で表わされる縮合
2員環状ジシラニレン- アセチレン化合物が生成され
る。前記反応は通常反応混合物を還流するか、あるいは
反応混合物を室温に放置しておく(撹拌してもよい)こ
とによって行なう。あるいはこれら操作を交互に繰返し
てもよい。
【0028】本発明の方法におけるそれぞれの反応で
は、通常テトラヒドロフランが溶媒として使用される。
しかしながら、当該技術分野において知られているよう
に、たとえばジエチルエーテル、ジ-n- ブチルエーテ
ル、ジメトキシエタン、ジオキサンなどの他のエーテル
系溶媒もまた使用できる。
は、通常テトラヒドロフランが溶媒として使用される。
しかしながら、当該技術分野において知られているよう
に、たとえばジエチルエーテル、ジ-n- ブチルエーテ
ル、ジメトキシエタン、ジオキサンなどの他のエーテル
系溶媒もまた使用できる。
【0029】ジグリニャール試薬と化合物(III) の反応
のばあい、鎖延長重合が優位になる可能性を避けるため
に、反応溶液中の試剤の濃度を低くすることが重要であ
る。各試剤の濃度は好ましくは約0.5 Mあるいはそれ以
下である。重合は希薄溶液中でさえも観察されるが、ジ
グリニャール試薬の希薄溶液と1,1,2,2-テトラクロロジ
シランの希薄溶液を反応容器中のTHF に同時に添加する
と環化反応が優勢となる。
のばあい、鎖延長重合が優位になる可能性を避けるため
に、反応溶液中の試剤の濃度を低くすることが重要であ
る。各試剤の濃度は好ましくは約0.5 Mあるいはそれ以
下である。重合は希薄溶液中でさえも観察されるが、ジ
グリニャール試薬の希薄溶液と1,1,2,2-テトラクロロジ
シランの希薄溶液を反応容器中のTHF に同時に添加する
と環化反応が優勢となる。
【0030】グリニャール試薬の量は好ましくは1,2-ジ
エチニルジシランの1モルに対して1.5 〜3.0 モルであ
る。ジグリニャール試薬の量は好ましくはテトラクロロ
ジシランの1モルに対して1.5 〜3.0 モルである。
エチニルジシランの1モルに対して1.5 〜3.0 モルであ
る。ジグリニャール試薬の量は好ましくはテトラクロロ
ジシランの1モルに対して1.5 〜3.0 モルである。
【0031】目的化合物(I) は反応混合物から好ましく
はつぎのように溶剤抽出法によって単離される。反応混
合物を蒸発させて溶媒を除去し、残留物を有機溶剤で抽
出する。有機溶剤としてはヘキサン、ペンタン、シクロ
ヘキサン、エーテル、ベンゼン、トルエン、キシレン、
クロロホルム、メチレンクロライドなどがあげられる。
好ましい溶剤はヘキサン、ペンタン、エーテル、ベンゼ
ンおよびトルエンである。有機層を洗浄、乾燥後蒸発さ
せることによって粗生成物をうる。この粗生成物を再結
晶法、カラムクロマトグラフィーなどの常法により精製
することにより純粋な一般式(I) の化合物がえられる。
はつぎのように溶剤抽出法によって単離される。反応混
合物を蒸発させて溶媒を除去し、残留物を有機溶剤で抽
出する。有機溶剤としてはヘキサン、ペンタン、シクロ
ヘキサン、エーテル、ベンゼン、トルエン、キシレン、
クロロホルム、メチレンクロライドなどがあげられる。
好ましい溶剤はヘキサン、ペンタン、エーテル、ベンゼ
ンおよびトルエンである。有機層を洗浄、乾燥後蒸発さ
せることによって粗生成物をうる。この粗生成物を再結
晶法、カラムクロマトグラフィーなどの常法により精製
することにより純粋な一般式(I) の化合物がえられる。
【0032】本発明の化合物、たとえば実施例1で製造
された化合物(V) は紫外- 可視スペクトル領域において
波長260nm に吸収極大を有し、このことは一般式(IV)で
示される環状化合物にくらべさらに高度なσ- π電子非
局在化を有していることを示している。したがって一般
式(I) で表わされる本発明の縮合2員環状化合物は、化
合物(IV)と同様に光学材料や電気伝導材料として使用で
きる。
された化合物(V) は紫外- 可視スペクトル領域において
波長260nm に吸収極大を有し、このことは一般式(IV)で
示される環状化合物にくらべさらに高度なσ- π電子非
局在化を有していることを示している。したがって一般
式(I) で表わされる本発明の縮合2員環状化合物は、化
合物(IV)と同様に光学材料や電気伝導材料として使用で
きる。
【0033】また本発明の化合物(I) は、化合物(IV)と
同様に種々のアニオン性、カチオン性またはラジカル性
試剤を使用することにより開環され、開環された分子は
重合しうる。さらにポリシランやポリカルボシランと同
様に、本発明の化合物(I) は高温に加熱されたばあい炭
化ケイ素に変化しうる。
同様に種々のアニオン性、カチオン性またはラジカル性
試剤を使用することにより開環され、開環された分子は
重合しうる。さらにポリシランやポリカルボシランと同
様に、本発明の化合物(I) は高温に加熱されたばあい炭
化ケイ素に変化しうる。
【0034】本発明の縮合2員環状化合物の製造におい
て電気伝導性を発揮させるためには、ドーピングと一般
にいわれる処理を利用できる。化合物の電気伝導性を達
成させるために多くの種類のドーピング材料が適宜使用
されうる。本発明の縮合2員環状ジシラニレン- アセチ
レン化合物の電気伝導率を増加させるのに適したドーピ
ング材料は、通常、たとえばI2 、Br2 、ICl 、IBr 、
SbF5 、 AsF5 、Cl2 、HBr 、BF3 、 BCl3 、SO2 、SO
3 、NO2 、HCN 、ICN 、O2 、 SiF4 、NO、C2 H 2 、
遷移金属の炭酸塩、ホスフィンおよびオレフィン誘導体
などを初めとする電子受容体ドーパントである。
て電気伝導性を発揮させるためには、ドーピングと一般
にいわれる処理を利用できる。化合物の電気伝導性を達
成させるために多くの種類のドーピング材料が適宜使用
されうる。本発明の縮合2員環状ジシラニレン- アセチ
レン化合物の電気伝導率を増加させるのに適したドーピ
ング材料は、通常、たとえばI2 、Br2 、ICl 、IBr 、
SbF5 、 AsF5 、Cl2 、HBr 、BF3 、 BCl3 、SO2 、SO
3 、NO2 、HCN 、ICN 、O2 、 SiF4 、NO、C2 H 2 、
遷移金属の炭酸塩、ホスフィンおよびオレフィン誘導体
などを初めとする電子受容体ドーパントである。
【0035】ドーピング処理においては、本発明の製法
により製造された化合物(I) は、気相または蒸気相のあ
るいは液相のドーパントと接触させられる。いずれにし
てもドーピングはドーパント分子が縮合2員環状ジシラ
ニレン- アセチレン化合物(I) にとり込まれることによ
るものであり、ドーパント濃度および接触時間に比例す
る程度に応じて起こるものである。たとえば、固体状の
縮合2員環状ジシラニレン- アセチレン化合物(I) は、
当該技術分野で知られているように、気体AsF5 と減圧
下、たとえば10トールで接触せしめてもよく、あるいは
SbF5 の溶融物中に入れて数分間から24時間をこえる範
囲で接触せしめてもよく、これにより従来技術で知られ
ているように所望の程度のドーピングが達成される。こ
のようにドーピング処理された物質は、従来法によって
測定した室温での電気伝導率で表わして約10-1〜10-10
ohm -1cm-1の範囲の電気伝導率を有するものとなる。
により製造された化合物(I) は、気相または蒸気相のあ
るいは液相のドーパントと接触させられる。いずれにし
てもドーピングはドーパント分子が縮合2員環状ジシラ
ニレン- アセチレン化合物(I) にとり込まれることによ
るものであり、ドーパント濃度および接触時間に比例す
る程度に応じて起こるものである。たとえば、固体状の
縮合2員環状ジシラニレン- アセチレン化合物(I) は、
当該技術分野で知られているように、気体AsF5 と減圧
下、たとえば10トールで接触せしめてもよく、あるいは
SbF5 の溶融物中に入れて数分間から24時間をこえる範
囲で接触せしめてもよく、これにより従来技術で知られ
ているように所望の程度のドーピングが達成される。こ
のようにドーピング処理された物質は、従来法によって
測定した室温での電気伝導率で表わして約10-1〜10-10
ohm -1cm-1の範囲の電気伝導率を有するものとなる。
【0036】かかるドーピング操作はまた、縮合2員環
状ジシラニレン- アセチレン化合物(I) を、たとえばTH
F 、n-ヘキサンまたはトルエンなどのジシラニレン- ア
セチレン化合物(I)に不活性な適当な有機溶媒にドーパ
ントを溶かした溶液中に置くことにより行なってもよ
い。試行錯誤により、所望の程度のドーピングをうるた
めに溶液中にジシラニレン- アセチレン化合物(I) を置
いておく必要な時間が決められる。ドーピングが完了す
ると、ドープされた物質は溶液から取り出し、それに残
っているドーピング溶液を取り除くために追加量の有機
溶媒中で洗浄される。余分な溶媒は真空で減圧除去さ
れ、ジシラニレン- アセチレン化合物(I)の電導率は当
該技術分野で知られているように測定される。
状ジシラニレン- アセチレン化合物(I) を、たとえばTH
F 、n-ヘキサンまたはトルエンなどのジシラニレン- ア
セチレン化合物(I)に不活性な適当な有機溶媒にドーパ
ントを溶かした溶液中に置くことにより行なってもよ
い。試行錯誤により、所望の程度のドーピングをうるた
めに溶液中にジシラニレン- アセチレン化合物(I) を置
いておく必要な時間が決められる。ドーピングが完了す
ると、ドープされた物質は溶液から取り出し、それに残
っているドーピング溶液を取り除くために追加量の有機
溶媒中で洗浄される。余分な溶媒は真空で減圧除去さ
れ、ジシラニレン- アセチレン化合物(I)の電導率は当
該技術分野で知られているように測定される。
【0037】また本発明のジシラニレン- アセチレン化
合物(I) のあるもの、たとえば下記実施例1で製造され
た化合物(IV)はアルゴン雰囲気中にて1100℃またはそれ
以上に加熱されると、それによってSiC に変化される。
合物(I) のあるもの、たとえば下記実施例1で製造され
た化合物(IV)はアルゴン雰囲気中にて1100℃またはそれ
以上に加熱されると、それによってSiC に変化される。
【0038】本発明において出発物質として用いられる
1,1,2,2-テトラクロロジシラン(III)はつぎの方法によ
って製造することができる。
1,1,2,2-テトラクロロジシラン(III)はつぎの方法によ
って製造することができる。
【0039】(1) R′=アルキル基
【0040】
【化14】
【0041】化合物(III) のうちでR′がメチル基であ
る、1,2-ジメチル-1,1,2,2- テトラクロロジシランはつ
ぎの方法によって製造される公知化合物である[桜井、
渡辺および熊田、ジャーナル・オブ・オルガノメタリッ
ク・ケミストリイ、7、15(1967)参照]。
る、1,2-ジメチル-1,1,2,2- テトラクロロジシランはつ
ぎの方法によって製造される公知化合物である[桜井、
渡辺および熊田、ジャーナル・オブ・オルガノメタリッ
ク・ケミストリイ、7、15(1967)参照]。
【0042】
【化15】
【0043】ここで、DPR はメチルクロロシラン類の直
接合成の蒸留残留物からえられる沸点が約150 〜160 ℃
の留分を意味する。
接合成の蒸留残留物からえられる沸点が約150 〜160 ℃
の留分を意味する。
【0044】(2) R′=アリール基 化合物(III) のうちでR′がフェニル基である、1,2-ジ
フェニル-1,1,2,2- テトラクロロジシランはつぎの方法
により製造される公知化合物である[エー・ヘンゲ(E.H
engge)、ゲー・バアウアー(G.Bauer) 、エー・ブラント
シュテッター
フェニル-1,1,2,2- テトラクロロジシランはつぎの方法
により製造される公知化合物である[エー・ヘンゲ(E.H
engge)、ゲー・バアウアー(G.Bauer) 、エー・ブラント
シュテッター
【0045】
【外1】
【0046】およびゲー・コールマン(G.Kollmann)、モ
ーナートシェフテ・フュア・ヘミイ
ーナートシェフテ・フュア・ヘミイ
【0047】
【外2】
【0048】参照]。
【0049】
【化16】
【0050】本発明を参考例および実施例によってさら
に詳細に説明する。参考例および実施例において、とく
にことわらないかぎり反応はチッ素ガス雰囲気下で行な
った。
に詳細に説明する。参考例および実施例において、とく
にことわらないかぎり反応はチッ素ガス雰囲気下で行な
った。
【0051】参考例1(ジフェニルイソプロピルクロロ
シランの合成)ジフェニルジクロロシラン160g(0.63 モ
ル)を乾燥THF200mlに溶解した。これに2.0 Mイソプロ
ピルマグネシウムクロライドTHF 溶液450ml(0.90モル)
を20分間かけて室温で滴下した。おだやかな発熱反応が
観察された。滴下終了後、反応混合物を3日間THF の還
流下に加熱した。反応混合物から生成した塩および溶媒
を除去した。残留物を減圧蒸留することにより、無色透
明な液体130g(沸点116〜118 ℃/0.22トール)をえ
た。
シランの合成)ジフェニルジクロロシラン160g(0.63 モ
ル)を乾燥THF200mlに溶解した。これに2.0 Mイソプロ
ピルマグネシウムクロライドTHF 溶液450ml(0.90モル)
を20分間かけて室温で滴下した。おだやかな発熱反応が
観察された。滴下終了後、反応混合物を3日間THF の還
流下に加熱した。反応混合物から生成した塩および溶媒
を除去した。残留物を減圧蒸留することにより、無色透
明な液体130g(沸点116〜118 ℃/0.22トール)をえ
た。
【0052】この生成物はガスクロマトグラフィ分析よ
りジフェニルイソプロピルクロロシランを94重量%含有
していることがわかった。純度に基づいて計算した収率
は74%であった。
りジフェニルイソプロピルクロロシランを94重量%含有
していることがわかった。純度に基づいて計算した収率
は74%であった。
【0053】 1H NMR(200MHz、CDCl3 )δ: 1.12(d、6H、SiCH(CH3 )2 )、1.69(septe
t 、1H、SiCH(CH3 )2 )、7.30−7.50(m、
6H、フェニル)、7.54−7.72(m、4H、フェニル) 参考例2(1,2-ジイソプロピル-1,1,2,2- テトラフェニ
ルジシランの合成) 1リットルの3口フラスコに乾燥THF200mlを入れ、つい
で金属リチウムを細かくきったもの5.04g(0.73モル)を
手ばやく加えた。これに155gのジフェニルイソプロピル
クロロシラン(純度94重量%、0.56モル)を室温で2時
間かけて滴下した。おだやかな発熱反応が観察された。
滴下終了後3日間室温で撹拌した。反応溶液は赤紫色に
かわった。反応混合物から生成した塩および溶媒を除去
した。残留物にベンゼン約300ml を加えて溶解し、えら
れたベンゼン溶液を飽和塩化アンモニウム水溶液(300ml
×3回)、ついで水(300ml×1回)で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾別したのち濾液を
濃縮することにより淡黄色固体状の粗生成物128gがえら
れた。
t 、1H、SiCH(CH3 )2 )、7.30−7.50(m、
6H、フェニル)、7.54−7.72(m、4H、フェニル) 参考例2(1,2-ジイソプロピル-1,1,2,2- テトラフェニ
ルジシランの合成) 1リットルの3口フラスコに乾燥THF200mlを入れ、つい
で金属リチウムを細かくきったもの5.04g(0.73モル)を
手ばやく加えた。これに155gのジフェニルイソプロピル
クロロシラン(純度94重量%、0.56モル)を室温で2時
間かけて滴下した。おだやかな発熱反応が観察された。
滴下終了後3日間室温で撹拌した。反応溶液は赤紫色に
かわった。反応混合物から生成した塩および溶媒を除去
した。残留物にベンゼン約300ml を加えて溶解し、えら
れたベンゼン溶液を飽和塩化アンモニウム水溶液(300ml
×3回)、ついで水(300ml×1回)で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾別したのち濾液を
濃縮することにより淡黄色固体状の粗生成物128gがえら
れた。
【0054】この粗生成物をヘキサン/THF(10/1容量
比)から再結晶することにより、純度100 %の生成物4
8.5g がえられた。1回目の再結晶時の母液から純度74
%の生成物30.0g がえられた。トータルの収率は57%で
あった。
比)から再結晶することにより、純度100 %の生成物4
8.5g がえられた。1回目の再結晶時の母液から純度74
%の生成物30.0g がえられた。トータルの収率は57%で
あった。
【0055】参考例3(1,2-ジイソプロピル-1,1,2,2-
テトラクロロジシランの合成) 500ml の3口フラスコに乾燥ベンゼン300ml および1,2-
ジイソプロピル-1,1,2,2-テトラフェニルジシラン48.5g
(0.11モル)を入れ、均一に溶解したのち、さらに無水
塩化アルミニウム1.5gを加えた。ついで乾燥塩化水素ガ
スをニードルチューブを通して該溶液中に導入しなが
ら、フラスコを少し加熱して反応を開始させた。反応が
いったん始まると、発熱が20分程度続いた。発熱反応が
おさまったのち塩化水素ガスの導入を止めた。塩化アル
ミニウムを失活させるために乾燥アセトン2mlを加えた
のち、反応混合物より溶媒を留去した。残留物を分別蒸
留することにより1,2-ジイソプロピル-1,1,2,2- テトラ
クロロジシラン27g(0.095gモル、収率86%)が無色透明
液体(沸点55〜57℃/0.45トール)としてえられた。
テトラクロロジシランの合成) 500ml の3口フラスコに乾燥ベンゼン300ml および1,2-
ジイソプロピル-1,1,2,2-テトラフェニルジシラン48.5g
(0.11モル)を入れ、均一に溶解したのち、さらに無水
塩化アルミニウム1.5gを加えた。ついで乾燥塩化水素ガ
スをニードルチューブを通して該溶液中に導入しなが
ら、フラスコを少し加熱して反応を開始させた。反応が
いったん始まると、発熱が20分程度続いた。発熱反応が
おさまったのち塩化水素ガスの導入を止めた。塩化アル
ミニウムを失活させるために乾燥アセトン2mlを加えた
のち、反応混合物より溶媒を留去した。残留物を分別蒸
留することにより1,2-ジイソプロピル-1,1,2,2- テトラ
クロロジシラン27g(0.095gモル、収率86%)が無色透明
液体(沸点55〜57℃/0.45トール)としてえられた。
【0056】 1H NMR(200MHz、CDCl3 )δ: 1.21(d、12H、SiCH(CH3 )2 )、1.50(septe
t 、2H、SiCH(CH3 )2 ) 参考例4(1,2-ジエチニル-1,1,2,2- テトラメチルジシ
ランの合成) 下記文献(1) に記載された方法に従い、1,2-ジクロロ-
1,1,2,2- テトラメチルジシラン(下記文献(2) 参照)
をエチニルマグネシウムブロマイド(下記文献(3)参
照)と反応させることにより、好収率(70〜80%)で1,
2-ジエチニル-1,1,2,2-テトラメチルジシランを合成す
ることができた。
t 、2H、SiCH(CH3 )2 ) 参考例4(1,2-ジエチニル-1,1,2,2- テトラメチルジシ
ランの合成) 下記文献(1) に記載された方法に従い、1,2-ジクロロ-
1,1,2,2- テトラメチルジシラン(下記文献(2) 参照)
をエチニルマグネシウムブロマイド(下記文献(3)参
照)と反応させることにより、好収率(70〜80%)で1,
2-ジエチニル-1,1,2,2-テトラメチルジシランを合成す
ることができた。
【0057】(1) アー・ジーバルト(A.Seabald) 、ペー
・ザァイバーリッヒ(P.Seiberlich)、ベー・ラッカマイ
ア(B.Wrackmeyer)、ジャーナル・オブ・オルガノメタリ
ック・ケミストリイ、303 、73(1986) (2) 桜井、富永、渡辺および熊田、テトラヘドロン・レ
ターズ(TetrahedronLett.) 、1966、45、5493 (3) エル・スカッテボール(L.Skattebol) 、イー・アー
ル・エイチ・ジョーンズ(E.R.H.Jones) 、エム・シイ・
ホワイテング(M.C.Whiting) 、オーガニック・シンセシ
イーズ・コレクティブ・ボリューム(Org.Synth.Coll.)
、4、792(1963) 実施例1(下式(V) で表わされるビシクロ[6,6,0]-1,8-
ジイソプロピル-4,4,5,5,11,11,12,12-オクタメチル-1,
4,5,8,11,12- ヘキサシラテトラデカ-2,6,9,13-テトラ
インの合成)
・ザァイバーリッヒ(P.Seiberlich)、ベー・ラッカマイ
ア(B.Wrackmeyer)、ジャーナル・オブ・オルガノメタリ
ック・ケミストリイ、303 、73(1986) (2) 桜井、富永、渡辺および熊田、テトラヘドロン・レ
ターズ(TetrahedronLett.) 、1966、45、5493 (3) エル・スカッテボール(L.Skattebol) 、イー・アー
ル・エイチ・ジョーンズ(E.R.H.Jones) 、エム・シイ・
ホワイテング(M.C.Whiting) 、オーガニック・シンセシ
イーズ・コレクティブ・ボリューム(Org.Synth.Coll.)
、4、792(1963) 実施例1(下式(V) で表わされるビシクロ[6,6,0]-1,8-
ジイソプロピル-4,4,5,5,11,11,12,12-オクタメチル-1,
4,5,8,11,12- ヘキサシラテトラデカ-2,6,9,13-テトラ
インの合成)
【0058】
【化17】
【0059】1,2-ジエチニル-1,1,2,2- テトラメチルジ
シラン1.66g (10ミリモル)および乾燥THF40ml を100m
l フラスコ内に入れ、これに2.0 Mエチルマグネシウム
ブロマイドTHF 溶液10.3ml(20.6ミリモル)を加えた。
エタンの発生およびおだやかな発熱が観察された。反応
溶液を2時間還流することにより、ジグリニャール試薬
の生成を完結させた。このジグリニャール試薬を含有す
るTHF 溶液および1,2-ジイソプロピル-1,1,2,2- テトラ
クロロジシラン1.42g (5ミリモル)を乾燥THF300mlに
溶解した溶液を反応容器中の乾燥THF100mlに2時間かけ
て同時に滴下した。滴下終了後反応を完結するため、該
反応混合物を3日間連続還流させた。反応混合物からエ
バボレートすることによりTHF を留去した後、残留分に
ヘキサン100ml および飽和塩化アンモニウム水溶液100m
l を加えた。えられた有機層を飽和塩化アンモニウム水
溶液(100ml ×2回)、ついで水(100 ml×1回)で洗
浄したのち、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を
濾別したのち濾液を濃縮して淡黄色固体の粗生成物1.9g
がえられた。粗生成物をエタノールから再結晶すること
により目的化合物(V) 0.51g (1.1 ミリモル、収率22
%)が融点156 〜157 ℃の無色透明の結晶としてえられ
た。
シラン1.66g (10ミリモル)および乾燥THF40ml を100m
l フラスコ内に入れ、これに2.0 Mエチルマグネシウム
ブロマイドTHF 溶液10.3ml(20.6ミリモル)を加えた。
エタンの発生およびおだやかな発熱が観察された。反応
溶液を2時間還流することにより、ジグリニャール試薬
の生成を完結させた。このジグリニャール試薬を含有す
るTHF 溶液および1,2-ジイソプロピル-1,1,2,2- テトラ
クロロジシラン1.42g (5ミリモル)を乾燥THF300mlに
溶解した溶液を反応容器中の乾燥THF100mlに2時間かけ
て同時に滴下した。滴下終了後反応を完結するため、該
反応混合物を3日間連続還流させた。反応混合物からエ
バボレートすることによりTHF を留去した後、残留分に
ヘキサン100ml および飽和塩化アンモニウム水溶液100m
l を加えた。えられた有機層を飽和塩化アンモニウム水
溶液(100ml ×2回)、ついで水(100 ml×1回)で洗
浄したのち、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を
濾別したのち濾液を濃縮して淡黄色固体の粗生成物1.9g
がえられた。粗生成物をエタノールから再結晶すること
により目的化合物(V) 0.51g (1.1 ミリモル、収率22
%)が融点156 〜157 ℃の無色透明の結晶としてえられ
た。
【0060】以下のスペクトルデータおよび分析データ
はすべて式(V) で表わされる構造を支持している。
はすべて式(V) で表わされる構造を支持している。
【0061】IR(KBr 錠剤法)cm-1: 2960(s)、2920(m)、2890(m)、2870(s)、 1470(m)、1410(m)、1250(s)、990 (m) Si−HおよびSi−O−Siに由来する吸収はまった
く認められなかった。
く認められなかった。
【0062】 1H NMR (200MHz、CDCl3)δ: 0.24(s、12H、SiCH(CH3 )2 )、 0.27(s、12H、Si(CH3 )2 )、 1.04〜1.07(m、14H、、SiCH(CH3 )2 )13 C NMR (300MHz、CDCl3 )δ: -3.21 (Si(CH3 )2 )、-3.02 (Si(CH3 )
2 )、 13.49 (SiCH(CH3 )2 )、18.49 (SiCH
(CH3 )2 )、 112.41、123.34(アセチレン炭素)29 Si NMR(300MHz、CDCl3 )δ: -42.87、-33.08 MS(30eV)m/e : 471(M+ +1、4)、470(M+ 、11)、428(23) 、427(1
9) 、113(100) カッコ内の数値は相対強度を示す。
2 )、 13.49 (SiCH(CH3 )2 )、18.49 (SiCH
(CH3 )2 )、 112.41、123.34(アセチレン炭素)29 Si NMR(300MHz、CDCl3 )δ: -42.87、-33.08 MS(30eV)m/e : 471(M+ +1、4)、470(M+ 、11)、428(23) 、427(1
9) 、113(100) カッコ内の数値は相対強度を示す。
【0063】高分解能質量分析: C21 13CH38Si6 としての計算値:471.1623、測定
値:471.1608 C22H38Si6 としての計算値:470.1589、測定値:47
0.1618 UV(ヘキサン溶液中)吸収極大波長(nm): 211 、239 、250(sh) 、260 実施例2 ジグリニャール試薬と1,1,2,2-テトラクロロジシランと
の反応を、反応混合物を10時間還流する操作と14時間室
温に放置する操作を交互にそれぞれ3回繰返して行なっ
た以外は実施例1とまったく同様にして反応を行なっ
た。反応終了後反応混合物を実施例1と同様に処理する
と、白色粒子を含んだ淡黄色の粘稠な液体が粗生成物と
してえられた。この粗生成物をシリカゲルカラムを用い
たカラムクロマトグラフィ(溶離液としてヘキサン/酢
酸エチル=50/1(容量比)使用)により、さらにエタ
ノールからの再結晶により精製することによって無色透
明の結晶0.12g (0.25ミリモル、収率5%)がえられ
た。
値:471.1608 C22H38Si6 としての計算値:470.1589、測定値:47
0.1618 UV(ヘキサン溶液中)吸収極大波長(nm): 211 、239 、250(sh) 、260 実施例2 ジグリニャール試薬と1,1,2,2-テトラクロロジシランと
の反応を、反応混合物を10時間還流する操作と14時間室
温に放置する操作を交互にそれぞれ3回繰返して行なっ
た以外は実施例1とまったく同様にして反応を行なっ
た。反応終了後反応混合物を実施例1と同様に処理する
と、白色粒子を含んだ淡黄色の粘稠な液体が粗生成物と
してえられた。この粗生成物をシリカゲルカラムを用い
たカラムクロマトグラフィ(溶離液としてヘキサン/酢
酸エチル=50/1(容量比)使用)により、さらにエタ
ノールからの再結晶により精製することによって無色透
明の結晶0.12g (0.25ミリモル、収率5%)がえられ
た。
【0064】この結晶は融点測定および各種スペクトル
分析の結果から、実施例1でえられた結晶とまったく同
じものであることが確認された。
分析の結果から、実施例1でえられた結晶とまったく同
じものであることが確認された。
【0065】本発明を好ましい実施態様について説明し
てきたが、本発明の範囲から逸脱することなく様々な変
更をなしうることおよび同等のものを部分的に代用しう
ることは当業者に理解されるであろう。さらに、特殊な
状況または物質を本発明の教示に適用するために、本発
明の本質的範囲を逸脱することなく多くの修正をなしう
るものである。それゆえ、本発明はこの発明を実施する
ための最良の形態として開示された特別な実施態様に限
定されるものではなく、請求の範囲に含まれるすべての
実施態様および同等のものを含むものである。
てきたが、本発明の範囲から逸脱することなく様々な変
更をなしうることおよび同等のものを部分的に代用しう
ることは当業者に理解されるであろう。さらに、特殊な
状況または物質を本発明の教示に適用するために、本発
明の本質的範囲を逸脱することなく多くの修正をなしう
るものである。それゆえ、本発明はこの発明を実施する
ための最良の形態として開示された特別な実施態様に限
定されるものではなく、請求の範囲に含まれるすべての
実施態様および同等のものを含むものである。
【0066】
【発明の効果】本発明の縮合2員環状ジシラニレン- ア
セチレン化合物は高度なσ−π電子非極在化を示し、電
気伝導性有機材料などとして有用である。
セチレン化合物は高度なσ−π電子非極在化を示し、電
気伝導性有機材料などとして有用である。
Claims (21)
- 【請求項1】 一般式(I) : 【化1】 (式中、RおよびR′は炭素原子数1〜20個の1価の炭
化水素基を表わし、RおよびR′は互いに同じであって
も異なっていてもよい)で表わされる縮合2員環状ジシ
ラニレン- アセチレン化合物。 - 【請求項2】 一般式(I) において異なるケイ素原子に
結合している2つの置換基R′に関してシス配置を有す
る請求項1記載の化合物。 - 【請求項3】 一般式(I) において異なるケイ素原子に
結合している2つの置換基R′に関してトランス配置を
有する請求項1記載の化合物。 - 【請求項4】 一般式(I) において、RおよびR′がそ
れぞれCH3 、C2 H 5 、 n-C3 H 7 、 i-C3 H 7 、 n-C
4 H 9 、 i-C4 H 9 、 t-C4 H 9 、n-C5 H 11、 n-C6 H
13、 n-C7 H 15、 n-C8 H 17、フェニルおよびトリル
よりなる群から選ばれたものである請求項1、2または
3記載の化合物。 - 【請求項5】 一般式(I) において、RがCH3 であり、
R′が i-C3 H 7 である請求項1、2または3記載の化
合物。 - 【請求項6】 一般式(I) において、RがCH3 であり、
R′がフェニルである請求項1、2または3記載の化合
物。 - 【請求項7】 (a) 一般式(II): 【化2】 (式中、Rは炭素原子数1〜20個の1価の炭化水素基を
表わす)で表わされる1,2-ジエチニルジシランをグリニ
ャール試薬と反応させることによりジグリニャール試薬
を生成させる工程、 (b) 前記ジグリニャール試薬を一般式(III) : 【化3】 (式中、R′は炭素原子数1〜20個の1価の炭化水素基
を表わす)で表わされる1,1,2,2-テトラクロロジシラン
と反応させる工程、および(c) 生成した縮合2員環状ジ
シラニレン- アセチレン化合物を単離する工程からなる
ことを特徴とする一般式(I) : 【化4】 (式中、RおよびR′は前記に同じ)で表わされる縮合
2員環状ジシラニレン-アセチレン化合物の製法。 - 【請求項8】 一般式(II)中のRがCH3 、 C2 H 5 、 n
-C3 H 7 、 i- C3 H 7 、 n-C4 H 9 およびフェニルよ
りなる群から選ばれたものである請求項7記載の製法。 - 【請求項9】 一般式(III) 中のR′が i-C3 H 7およ
びフェニルよりなる群から選ばれたものである請求項7
記載の製法。 - 【請求項10】 一般式(II)中のRがCH3 で、一般式(I
II) 中のR′がi-C3 H 7 である請求項7記載の製法。 - 【請求項11】 一般式(II)中のRがCH3 で、一般式(I
II) 中のR′がフェニルである請求項7記載の製法。 - 【請求項12】 前記グリニャール試薬が、 C2 H 5 Mg
Br、CH3 MgBr、CH3 MgI 、 n-C3 H 7 MgClおよび C6 H
5 MgClよりなる群から選ばれたものである請求項7記載
の製法。 - 【請求項13】 (a) 一般式(II): 【化5】 (式中、Rは炭素原子数1〜20個の1価の炭化水素基を
表わす)で表わされる1,2-ジエチニルジシランをグリニ
ャール試薬と反応させることによりジグリニャール試薬
を生成させる工程、 (b) 前記ジグリニャール試薬を一般式(III) : 【化6】 (式中、R′は炭素原子数1〜20個の1価の炭化水素基
を表わす)で表わされる1,1,2,2-テトラクロロジシラン
と反応させる工程、および (c) 生成した縮合2員環状ジシラニレン- アセチレン化
合物を反応混合物から溶剤抽出法により単離する工程か
らなることを特徴とする一般式(I) : 【化7】 (式中、RおよびR′は前記に同じ)で表わされる縮合
2員環状ジシラニレン-アセチレン化合物の製法。 - 【請求項14】 一般式(II)中のRがCH3 、 C2 H 5 、
n-C3 H 7 、 i- C3 H 7 、 n-C4 H 9 およびフェニル
よりなる群から選ばれたものである請求項13記載の製
法。 - 【請求項15】 一般式(III) 中のR′が i-C3 H 7 お
よびフェニルよりなる群から選ばれたものである請求項
13記載の製法。 - 【請求項16】 一般式(II)中のRがCH3 で、一般式(I
II) 中のR′が、i-C3 H 7 である請求項13記載の製
法。 - 【請求項17】 一般式(II)中のRがCH3 で、一般式(I
II) 中のR′がフェニルである請求項13記載の製法。 - 【請求項18】 前記グリニャール試薬が、 C2 H 5 Mg
Br、CH3 MgBr、CH3 MgI および C6 H 5 MgClよりなる群
から選ばれたものである請求項13記載の製法。 - 【請求項19】 それぞれの反応をテトラヒドロフラン
の溶液中で行う請求項13記載の製法。 - 【請求項20】 ジグリニャール試薬と1,1,2,2-テトラ
クロロシラン(III)の反応をテトラヒドロフランの希薄
溶液中で行う請求項19記載の製法。 - 【請求項21】 前記抽出用溶剤が、ヘキサン、ペンタ
ン、エーテル、ベンゼン、トルエンおよびクロロホルム
よりなる群から選ばれたものである請求項13記載の製
法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US548,231 | 1990-07-05 | ||
US07/548,231 US4996341A (en) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | Condensed bicyclic disilanylene-acetylene compound and method for preparing the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04235189A JPH04235189A (ja) | 1992-08-24 |
JP2991818B2 true JP2991818B2 (ja) | 1999-12-20 |
Family
ID=24187934
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3156659A Expired - Lifetime JP2991818B2 (ja) | 1990-07-05 | 1991-06-27 | 縮合2員環状ジシラニレン−アセチレン化合物およびその製法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4996341A (ja) |
JP (1) | JP2991818B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5241029A (en) * | 1992-01-07 | 1993-08-31 | Iowa State University Research Foundation, Inc. | Diorganosilacetylene-alt-diorganosilvinylene polymers and a process of preparation |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58152893A (ja) * | 1982-03-05 | 1983-09-10 | Hitachi Ltd | 新規エチニレンポリシラン系化合物およびその製造方法 |
JPS58152892A (ja) * | 1982-03-05 | 1983-09-10 | Hitachi Ltd | 新規エチニレンポリシラン系化合物およびその製造方法 |
JPS58152891A (ja) * | 1982-03-05 | 1983-09-10 | Hitachi Ltd | 新規エチニレンポリシラン系化合物およびその製造方法 |
GB8709296D0 (en) * | 1987-04-16 | 1987-05-20 | Dow Corning Ltd | Silethynyl polymers |
US4845255A (en) * | 1988-08-03 | 1989-07-04 | Kanegafuchi Chemical Industry Co., Ltd. | Method of preparing cyclic disilanylene-acetylenes |
-
1990
- 1990-07-05 US US07/548,231 patent/US4996341A/en not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-06-27 JP JP3156659A patent/JP2991818B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4996341A (en) | 1991-02-26 |
JPH04235189A (ja) | 1992-08-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Iwahara et al. | Synthesis and properties of ethynylene-disilanylene copolymers | |
JP2654075B2 (ja) | 環状シルエチニルポリマーの製造方法 | |
JP2991818B2 (ja) | 縮合2員環状ジシラニレン−アセチレン化合物およびその製法 | |
JP2669702B2 (ja) | 環状ジシラニレン‐アセチレンの製法 | |
JPS63250388A (ja) | モノアルコキシシラン化合物の製造方法 | |
JPH01305094A (ja) | ω−シリルアルキニルシラン化合物およびその製造方法 | |
JP2004256497A (ja) | 多置換多環芳香族化合物およびその製造方法 | |
Crivello et al. | Cyclic silyl pinacole ethers: A new class of multifunctional free radical initiators | |
JP2815548B2 (ja) | ビス(シリルプロピル)アレーン及びその製造方法 | |
US5965762A (en) | Chlorohydrosilane derivatives and their preparation method | |
US5608094A (en) | Benzosilacyclobutenes and methods of making | |
JP2007197347A (ja) | 有機シラン化合物の製造方法 | |
JPH0559070A (ja) | ビニル基含有シロキサン化合物及びその製造方法 | |
EP0864573B1 (en) | Silacyclopentadiene derivatives | |
JP2707764B2 (ja) | ポリシラン化合物、その製造方法および用途 | |
JP4135205B2 (ja) | シラシクロペンタジエン誘導体の多量体 | |
JP3564530B2 (ja) | テトラキス(ジアリールシリル)ベンゼンの製造方法 | |
JP2670583B2 (ja) | ポリシラン化合物、その製造方法及びその用途 | |
JP3609609B2 (ja) | フルオレニル基で置換された有機シラン誘導体およびその製造方法 | |
KR100208478B1 (ko) | 실릴알킬화 페로센 유도체 및 그들의 제조방법 | |
JP2903488B2 (ja) | シクロペンタジエニル基含有ジシロキサン及びその製造方法 | |
JPH03109389A (ja) | ビス(3,4―ジメチルフエニル)ジメチルシランの製造法 | |
JPH06321960A (ja) | 新規な有機ケイ素化合物およびその製造方法 | |
JPH0278688A (ja) | シリルプロピルフェノール化合物 | |
JPH06184169A (ja) | シラン化合物及びその製造方法 |