JP2948662B2 - 放射線像拡大観察装置 - Google Patents
放射線像拡大観察装置Info
- Publication number
- JP2948662B2 JP2948662B2 JP40063290A JP40063290A JP2948662B2 JP 2948662 B2 JP2948662 B2 JP 2948662B2 JP 40063290 A JP40063290 A JP 40063290A JP 40063290 A JP40063290 A JP 40063290A JP 2948662 B2 JP2948662 B2 JP 2948662B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- radiation
- image
- sample setting
- ray
- setting position
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光軸調整が簡単で、X
線及びその他の放射線で試料を観察することが可能な放
射線像拡大観察装置に関する。
線及びその他の放射線で試料を観察することが可能な放
射線像拡大観察装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図2は、従来の放射線像拡大観察装置の
一例を示した図である。
一例を示した図である。
【0003】放射線源1からの放射線のうちX線のみが
フィルタ2を通過して試料セット部材3に固定された試
料4に入射する。試料4を通過したX線像は、入射窓5
を介して放射線像拡大部6内に入射し、斜入射反射鏡7
で拡大され、光電面9上に結像する。ここで、ストッパ
8は不要な放射線が光電面9上に入射するのを防止して
いる。光電面9で生じた光電子は、コイル13a、13
b、マイクロチャンネルプレート(MCP)14及び蛍
光面15をへて光学像に変換される。この光学像はカメ
ラ17に取り込まれた後にフレームメモリ18に一時蓄
えられ、その後にCRTを備えたモニタ19に与えられ
る。可視光その他の放射線による観察時には、フィルタ
2を交換し、支持棒11の先端に設けられた反射鏡10
を仮想線の位置に移動させる。この場合、フィルタ2を
通過した可視光その他の放射線像が光検出器12の受光
面に結像され、この像はモニタ19に与えられる。
フィルタ2を通過して試料セット部材3に固定された試
料4に入射する。試料4を通過したX線像は、入射窓5
を介して放射線像拡大部6内に入射し、斜入射反射鏡7
で拡大され、光電面9上に結像する。ここで、ストッパ
8は不要な放射線が光電面9上に入射するのを防止して
いる。光電面9で生じた光電子は、コイル13a、13
b、マイクロチャンネルプレート(MCP)14及び蛍
光面15をへて光学像に変換される。この光学像はカメ
ラ17に取り込まれた後にフレームメモリ18に一時蓄
えられ、その後にCRTを備えたモニタ19に与えられ
る。可視光その他の放射線による観察時には、フィルタ
2を交換し、支持棒11の先端に設けられた反射鏡10
を仮想線の位置に移動させる。この場合、フィルタ2を
通過した可視光その他の放射線像が光検出器12の受光
面に結像され、この像はモニタ19に与えられる。
【0004】この放射線像拡大観察装置の場合、斜入射
反射鏡7の光軸を可視光線で調整するため、試料セット
部材3に適当なスケール等を配置し、光検出器12に結
像する可視光線像によってスケール等の結像位置を観察
していた。
反射鏡7の光軸を可視光線で調整するため、試料セット
部材3に適当なスケール等を配置し、光検出器12に結
像する可視光線像によってスケール等の結像位置を観察
していた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の放射線
像拡大観察装置においては、X線及び可視光その他の放
射線で試料像を観察することができ、或いは斜入射反射
鏡7の光軸調整のために放射線源等を交換する必要がな
いものの、X線及び可視光線を含む広帯域の放射線を発
生する単一の放射線源を使用しなければならず、特定波
長の放射線のみを使用する用途においては無駄が多かっ
た。さらに、光軸調整の精度に一定の限界があった。つ
まり、試料セット部材3の位置にスケールを配置するた
め、試料セット部材3の放射線像拡大部6に対するアラ
イメントが十分でない場合、斜入射反射鏡7の光軸調整
の精度が確保できなくなるといった問題が生じていた。
像拡大観察装置においては、X線及び可視光その他の放
射線で試料像を観察することができ、或いは斜入射反射
鏡7の光軸調整のために放射線源等を交換する必要がな
いものの、X線及び可視光線を含む広帯域の放射線を発
生する単一の放射線源を使用しなければならず、特定波
長の放射線のみを使用する用途においては無駄が多かっ
た。さらに、光軸調整の精度に一定の限界があった。つ
まり、試料セット部材3の位置にスケールを配置するた
め、試料セット部材3の放射線像拡大部6に対するアラ
イメントが十分でない場合、斜入射反射鏡7の光軸調整
の精度が確保できなくなるといった問題が生じていた。
【0006】そこで、上述の事情に鑑み、本発明は、X
線及び可視光その他の放射線の観察が可能な放射線像拡
大観察装置であって、かつ、簡易に高精度の光軸調整が
可能な放射線像拡大観察装置を提供することを目的とし
ている。
線及び可視光その他の放射線の観察が可能な放射線像拡
大観察装置であって、かつ、簡易に高精度の光軸調整が
可能な放射線像拡大観察装置を提供することを目的とし
ている。
【0007】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
め、本発明による第1の放射線像拡大観察装置は、試料
セット位置に向けてX線を出射するX線源と、試料セッ
ト位置を透過することにより形成されたX線像を拡大す
る略円筒状の斜入射反射鏡と、斜入射反射鏡の円筒内壁
の鏡面に入射するX線を遮らず、かつ、斜入射反射鏡の
円筒洞内に入射するX線を遮るX線遮蔽手段と、斜入射
反射鏡によって拡大されたX線像を検出する検出手段と
を有する。ここに、放射線像拡大観察装置は、X線以外
の所定の放射線を出射する放射線源を更に備える。ま
た、前述のX線遮蔽手段は、放射線源からの所定の放射
線を透過させるとともに、所定の放射線を試料セット位
置に照射させる。さらに、前述の斜入射反射鏡は、試料
セット位置からの所定の放射線の像を拡大する。
め、本発明による第1の放射線像拡大観察装置は、試料
セット位置に向けてX線を出射するX線源と、試料セッ
ト位置を透過することにより形成されたX線像を拡大す
る略円筒状の斜入射反射鏡と、斜入射反射鏡の円筒内壁
の鏡面に入射するX線を遮らず、かつ、斜入射反射鏡の
円筒洞内に入射するX線を遮るX線遮蔽手段と、斜入射
反射鏡によって拡大されたX線像を検出する検出手段と
を有する。ここに、放射線像拡大観察装置は、X線以外
の所定の放射線を出射する放射線源を更に備える。ま
た、前述のX線遮蔽手段は、放射線源からの所定の放射
線を透過させるとともに、所定の放射線を試料セット位
置に照射させる。さらに、前述の斜入射反射鏡は、試料
セット位置からの所定の放射線の像を拡大する。
【0008】上述の目的を達成するため、本発明による
第2の放射線像拡大観察装置は、試料セット位置に向け
てX線を出射するX線源と、試料セット位置を透過する
ことにより形成されたX線像を拡大する略円筒状の斜入
射反射鏡と、斜入射反射鏡の円筒内壁の鏡面に入射する
X線を遮らず、かつ、斜入射反射鏡の円筒洞内に入射す
るX線を遮るX線遮蔽手段と、斜入射反射鏡によって拡
大されたX線像を検出する検出手段とを有する。ここ
に、放射線像拡大観察装置は、X線以外の所定の放射線
を出射する放射線源を更に備える。また、前述のX線遮
蔽手段は、放射線源からの所定の放射線を透過させて試
料セット位置に集光させるとともに、試料セット位置か
らの所定の放射線の像を拡大する。
第2の放射線像拡大観察装置は、試料セット位置に向け
てX線を出射するX線源と、試料セット位置を透過する
ことにより形成されたX線像を拡大する略円筒状の斜入
射反射鏡と、斜入射反射鏡の円筒内壁の鏡面に入射する
X線を遮らず、かつ、斜入射反射鏡の円筒洞内に入射す
るX線を遮るX線遮蔽手段と、斜入射反射鏡によって拡
大されたX線像を検出する検出手段とを有する。ここ
に、放射線像拡大観察装置は、X線以外の所定の放射線
を出射する放射線源を更に備える。また、前述のX線遮
蔽手段は、放射線源からの所定の放射線を透過させて試
料セット位置に集光させるとともに、試料セット位置か
らの所定の放射線の像を拡大する。
【0009】
【作用】本発明の第1の放射線像拡大観察装置におい
て、X線遮蔽手段は、この斜入射反射鏡の円筒洞内に入
射する放射線のうち所定の放射線を透過させる。このた
め、放射線源からの所定の放射線はこのX線遮蔽手段を
介して試料セット位置に照射される。試料セット位置に
配置された試料等の所定の放射線の像は、斜入射反射鏡
によってX線と同倍率で拡大される。この拡大像は目視
その他の適当な手段で観察することができる。
て、X線遮蔽手段は、この斜入射反射鏡の円筒洞内に入
射する放射線のうち所定の放射線を透過させる。このた
め、放射線源からの所定の放射線はこのX線遮蔽手段を
介して試料セット位置に照射される。試料セット位置に
配置された試料等の所定の放射線の像は、斜入射反射鏡
によってX線と同倍率で拡大される。この拡大像は目視
その他の適当な手段で観察することができる。
【0010】ここで、例えば試料セット位置に適当なス
ケールその他の適当なマークを配置すれば、斜入射反射
鏡の光軸調整も可能になる。つまり、このマークの像が
斜入射反射鏡によって所定の位置に結像されるので、結
像されたマーク像を適当な手段で観察し、このマーク像
が適当な位置に結像するように斜入射反射鏡を調整する
ならば、斜入射反射鏡の簡易な光軸調整が可能になる。
ケールその他の適当なマークを配置すれば、斜入射反射
鏡の光軸調整も可能になる。つまり、このマークの像が
斜入射反射鏡によって所定の位置に結像されるので、結
像されたマーク像を適当な手段で観察し、このマーク像
が適当な位置に結像するように斜入射反射鏡を調整する
ならば、斜入射反射鏡の簡易な光軸調整が可能になる。
【0011】本発明の第2の放射線像拡大観察装置にお
いて、X線遮蔽手段は、この斜入射反射鏡の円筒洞内に
入射する放射線のうち所定の放射線を透過させるだけで
なく、放射線源からの所定の放射線を試料セット位置に
集光させる。試料セット位置に配置された試料等からも
どってきた所定の放射線の像は、X線遮蔽手段によって
拡大される。この拡大像は目視その他の適当な手段で観
察することができる。
いて、X線遮蔽手段は、この斜入射反射鏡の円筒洞内に
入射する放射線のうち所定の放射線を透過させるだけで
なく、放射線源からの所定の放射線を試料セット位置に
集光させる。試料セット位置に配置された試料等からも
どってきた所定の放射線の像は、X線遮蔽手段によって
拡大される。この拡大像は目視その他の適当な手段で観
察することができる。
【0012】この場合、試料等を配置すべき試料台その
他の試料セット部材の位置調節が可能になる。例えば試
料セット位置にある試料セット部材に適当なマークを配
置する。このマークの像がX線遮蔽手段によって所定の
位置に結像される。結像されたマーク像を適当な手段で
観察し、このマーク像が適当な位置に結像するように試
料セット部材を調整するならば、試料セット部材の簡易
な位置調整が可能になる。
他の試料セット部材の位置調節が可能になる。例えば試
料セット位置にある試料セット部材に適当なマークを配
置する。このマークの像がX線遮蔽手段によって所定の
位置に結像される。結像されたマーク像を適当な手段で
観察し、このマーク像が適当な位置に結像するように試
料セット部材を調整するならば、試料セット部材の簡易
な位置調整が可能になる。
【0013】
【実施例】以下、本発明の実施例について図1を参照し
つつ説明する。
つつ説明する。
【0014】X線源51は例えばガスプラズマX線発生
装置で構成される。このX線源51からのX線は退出可
能な反射拡散板52に入射するが、この反射拡散板52
に遮られて試料54上に到達しない。反射拡散板52が
X線源1と試料セット部材53との間から退出した場
合、X線源1からのX線は試料セット部材53に固定さ
れた試料54上に照射される。X線が試料54を通過す
るとX線像が形成される。このようなX線像を含むX線
はポリプロピレン膜等からなる入射窓55を透過して放
射線像拡大部56に入射する。入射したX線は斜入射反
射鏡7で反射され、光電面9上に拡大されたX線像が結
像される。一方、斜入射反射鏡7の円筒洞内に向けて出
射するX線はレンズ58a上に投影され、これによって
遮蔽される。このレンズ58aの材料としては、X線を
透過させない材料で、かつ、可視光線等の所定の放射線
を透過させうるものが用いられ、例えば石英ガラス等を
使用することができる。
装置で構成される。このX線源51からのX線は退出可
能な反射拡散板52に入射するが、この反射拡散板52
に遮られて試料54上に到達しない。反射拡散板52が
X線源1と試料セット部材53との間から退出した場
合、X線源1からのX線は試料セット部材53に固定さ
れた試料54上に照射される。X線が試料54を通過す
るとX線像が形成される。このようなX線像を含むX線
はポリプロピレン膜等からなる入射窓55を透過して放
射線像拡大部56に入射する。入射したX線は斜入射反
射鏡7で反射され、光電面9上に拡大されたX線像が結
像される。一方、斜入射反射鏡7の円筒洞内に向けて出
射するX線はレンズ58a上に投影され、これによって
遮蔽される。このレンズ58aの材料としては、X線を
透過させない材料で、かつ、可視光線等の所定の放射線
を透過させうるものが用いられ、例えば石英ガラス等を
使用することができる。
【0015】斜入射反射鏡7で拡大されたX線像が光電
面9に結像されると、これに対応した光電子が光電面9
から放出され、これによる電子像はコイル13a、13
bによって拡大される。そして、拡大された電子像はM
CP14で増倍された後、蛍光面15に結像されて光学
像を形成する。コイル13、MCP14、蛍光面15等
は電子像拡大部16を構成する。そして、この電子像拡
大部16は本体の放射線像拡大部56に付設された構造
となっている。蛍光面15に形成された光学像はカメラ
17で取り込まれた後にフレームメモリ18に一時蓄え
られ、その後にCRT等を備えたモニタ19に与えられ
る。
面9に結像されると、これに対応した光電子が光電面9
から放出され、これによる電子像はコイル13a、13
bによって拡大される。そして、拡大された電子像はM
CP14で増倍された後、蛍光面15に結像されて光学
像を形成する。コイル13、MCP14、蛍光面15等
は電子像拡大部16を構成する。そして、この電子像拡
大部16は本体の放射線像拡大部56に付設された構造
となっている。蛍光面15に形成された光学像はカメラ
17で取り込まれた後にフレームメモリ18に一時蓄え
られ、その後にCRT等を備えたモニタ19に与えられ
る。
【0016】まず、実際の試料の観察について簡単に説
明する。試料は可視光像としても観察できるが、ここで
はまずX線像の観察について説明する。
明する。試料は可視光像としても観察できるが、ここで
はまずX線像の観察について説明する。
【0017】観察すべき試料54を試料セット部材53
上に固定し、これらを図示の位置に配置する。次に、反
射拡散板52をX線の光路から退出させて、試料54上
にX線を照射する。試料からの透過X線像は、放射線像
拡大部56で拡大されて光電面9上に拡大X線像として
結像される。この拡大X線像をさらに拡大した光学像は
カメラ17で検出され、フレームメモリ18を介してモ
ニタ19で観察される。次に、斜入射反射鏡7の光軸調
整のための光学系について説明する。
上に固定し、これらを図示の位置に配置する。次に、反
射拡散板52をX線の光路から退出させて、試料54上
にX線を照射する。試料からの透過X線像は、放射線像
拡大部56で拡大されて光電面9上に拡大X線像として
結像される。この拡大X線像をさらに拡大した光学像は
カメラ17で検出され、フレームメモリ18を介してモ
ニタ19で観察される。次に、斜入射反射鏡7の光軸調
整のための光学系について説明する。
【0018】可視光を発生する光源71は、試料54の
位置に配置した散乱体を照明する。つまり、光源71か
ら射出した可視光ビームは、ハーフミラー73を通って
ミラー58bに入射し、ここで光路を直角に曲げられ
て、レンズ58aに入射する。レンズ58aを通過した
可視光ビームは、放射線像拡大部56外に出射して試料
54の位置に極めて小さな点像として集光する。この点
像の集光位置は、放射線像拡大部56自体の光軸と、試
料54があるべき面との交点に一致させてある。一方、
試料54の位置に形成された点像は、放射線像拡大部5
6内の斜入射反射鏡7で拡大され、光電面9に投影され
る。放射線像拡大部56内に設けられた反射鏡10は、
支持棒11を操作することにより、図1の点線の位置に
進入させることができる。したがって、反射鏡10を図
示の点線のように進入させた場合、斜入射反射鏡7で拡
大された点像は第1光検出器12で検出される。
位置に配置した散乱体を照明する。つまり、光源71か
ら射出した可視光ビームは、ハーフミラー73を通って
ミラー58bに入射し、ここで光路を直角に曲げられ
て、レンズ58aに入射する。レンズ58aを通過した
可視光ビームは、放射線像拡大部56外に出射して試料
54の位置に極めて小さな点像として集光する。この点
像の集光位置は、放射線像拡大部56自体の光軸と、試
料54があるべき面との交点に一致させてある。一方、
試料54の位置に形成された点像は、放射線像拡大部5
6内の斜入射反射鏡7で拡大され、光電面9に投影され
る。放射線像拡大部56内に設けられた反射鏡10は、
支持棒11を操作することにより、図1の点線の位置に
進入させることができる。したがって、反射鏡10を図
示の点線のように進入させた場合、斜入射反射鏡7で拡
大された点像は第1光検出器12で検出される。
【0019】以下に、斜入射反射鏡7の第1の光軸調整
方法について説明する。
方法について説明する。
【0020】まず、反射拡散板52をX線源51と試料
セット部材53との間に進入させて、試料に照射される
X線を遮る。さらに、試料54の位置に適当な散乱体を
配置し、反射鏡10を斜入射反射鏡7と光電面9との間
に進入させる。斜入射反射鏡7の光軸が本来の光軸から
大きく外れていなければ、散乱体上に形成された点像が
モニタ19のCRTのいずれかの位置で検出される。
セット部材53との間に進入させて、試料に照射される
X線を遮る。さらに、試料54の位置に適当な散乱体を
配置し、反射鏡10を斜入射反射鏡7と光電面9との間
に進入させる。斜入射反射鏡7の光軸が本来の光軸から
大きく外れていなければ、散乱体上に形成された点像が
モニタ19のCRTのいずれかの位置で検出される。
【0021】次に、試料セット部材53を光軸方向に前
後に移動させてCRT画面上の点像が最小になるように
する。また、斜入射反射鏡7を光軸方向に前後に微動さ
せてCRT画面上の点像が最小になるようにする。これ
を繰り返せば、斜入射反射鏡7の光軸方向の位置をほぼ
調節できる。その次に、斜入射反射鏡7を光軸に垂直な
方向に微動させて、CRT画面上の点像が画面中央に移
動するように調節する。これを繰り返すならばさらに正
確に光軸を調節することができる。ここで、斜入射反射
鏡7のあおり角を変えてもよい。その場合、CRT画面
上の点像が完全な点又は円状になるようにし、コマ状に
ならないようにすればよい。
後に移動させてCRT画面上の点像が最小になるように
する。また、斜入射反射鏡7を光軸方向に前後に微動さ
せてCRT画面上の点像が最小になるようにする。これ
を繰り返せば、斜入射反射鏡7の光軸方向の位置をほぼ
調節できる。その次に、斜入射反射鏡7を光軸に垂直な
方向に微動させて、CRT画面上の点像が画面中央に移
動するように調節する。これを繰り返すならばさらに正
確に光軸を調節することができる。ここで、斜入射反射
鏡7のあおり角を変えてもよい。その場合、CRT画面
上の点像が完全な点又は円状になるようにし、コマ状に
ならないようにすればよい。
【0022】以下に、斜入射反射鏡7の第2の光軸調整
方法について説明する。
方法について説明する。
【0023】この場合も、反射拡散板52をX線源51
と試料セット部材53との間に進入させて、試料に照射
されるX線を遮る。また、試料54の位置に適当なスケ
ールを配置し、反射鏡10を斜入射反射鏡7と光電面9
との間に進入させる。さらに、ハーフミラ73と光源7
1との間に凹レンズ72を進入させる。
と試料セット部材53との間に進入させて、試料に照射
されるX線を遮る。また、試料54の位置に適当なスケ
ールを配置し、反射鏡10を斜入射反射鏡7と光電面9
との間に進入させる。さらに、ハーフミラ73と光源7
1との間に凹レンズ72を進入させる。
【0024】光源71からの可視光ビームは、スケール
上で点像とならず、試料54の位置のスケールを透過し
て反射拡散板52に集光される。この集光された可視光
ビームは反射拡散板52で後方に乱反射されてスケール
を照明する。
上で点像とならず、試料54の位置のスケールを透過し
て反射拡散板52に集光される。この集光された可視光
ビームは反射拡散板52で後方に乱反射されてスケール
を照明する。
【0025】予め試料セット部材53の放射線像拡大部
56に対する位置合せが完了し或いは不要な場合には、
斜入射反射鏡7を光軸方向に前後に微動させてCRT上
の点像が最小になるようにする。これにより、斜入射反
射鏡7の光軸方向の位置をほぼ調節できる。その次に、
斜入射反射鏡7を光軸に垂直な面内で微動させて、CR
T上の点像が画面中央に移動するように調節する。これ
により、斜入射反射鏡7の光軸調整が可能になる。
56に対する位置合せが完了し或いは不要な場合には、
斜入射反射鏡7を光軸方向に前後に微動させてCRT上
の点像が最小になるようにする。これにより、斜入射反
射鏡7の光軸方向の位置をほぼ調節できる。その次に、
斜入射反射鏡7を光軸に垂直な面内で微動させて、CR
T上の点像が画面中央に移動するように調節する。これ
により、斜入射反射鏡7の光軸調整が可能になる。
【0026】一方、試料セット部材53の放射線像拡大
部56に対する位置合せが完了していない場合には、第
2光検出器70を使用する。第2光検出器70で検出さ
れるスケール像をモニタ19で観察しながら、スケール
を載せた試料セット部材53を光軸方向に前後に微動さ
せて、スケール像のピントを合わせる。次に、試料セッ
ト部材53を光軸に垂直な面内で微動させてスケール像
の中心をモニタ19のCRT画面の中央に一致させる。
さらに、必要に応じてこれを繰り返す。これにより、試
料セット部材53及びスケールの放射線像拡大部56に
対する位置合せが完了する。
部56に対する位置合せが完了していない場合には、第
2光検出器70を使用する。第2光検出器70で検出さ
れるスケール像をモニタ19で観察しながら、スケール
を載せた試料セット部材53を光軸方向に前後に微動さ
せて、スケール像のピントを合わせる。次に、試料セッ
ト部材53を光軸に垂直な面内で微動させてスケール像
の中心をモニタ19のCRT画面の中央に一致させる。
さらに、必要に応じてこれを繰り返す。これにより、試
料セット部材53及びスケールの放射線像拡大部56に
対する位置合せが完了する。
【0027】ここまで斜入射反射鏡7の光軸調整方法に
ついて説明してきたが、光軸調整のための光学系等をそ
のまま用いて試料の可視光像を観察することもできる。
すなわち、反射拡散板52をX線源51と試料セット部
材53との間に進入させ、試料に照射されるX線を遮
る。また、試料54の位置に適当な観察すべき試料を配
置し、反射鏡10を斜入射反射鏡7と光電面9との間に
進入させる。さらに、ハーフミラ73と光源71との間
に凹レンズ72を進入させる。
ついて説明してきたが、光軸調整のための光学系等をそ
のまま用いて試料の可視光像を観察することもできる。
すなわち、反射拡散板52をX線源51と試料セット部
材53との間に進入させ、試料に照射されるX線を遮
る。また、試料54の位置に適当な観察すべき試料を配
置し、反射鏡10を斜入射反射鏡7と光電面9との間に
進入させる。さらに、ハーフミラ73と光源71との間
に凹レンズ72を進入させる。
【0028】光源71からの可視光ビームは、観察すべ
き試料54を透過して反射拡散板52に集光される。こ
の集光された可視光ビームは反射拡散板52で後方に散
乱されて試料54を照明する。試料で形成された可視光
像は斜入射反射鏡7で拡大されて、第1光検出器12上
に投影される。この拡大像はモニタ19で観察される。
また、反射拡散板52を後退させ、反射鏡10を後退さ
せるだけで、簡単に光電面上に試料54の拡大X線像を
形成することもできる。
き試料54を透過して反射拡散板52に集光される。こ
の集光された可視光ビームは反射拡散板52で後方に散
乱されて試料54を照明する。試料で形成された可視光
像は斜入射反射鏡7で拡大されて、第1光検出器12上
に投影される。この拡大像はモニタ19で観察される。
また、反射拡散板52を後退させ、反射鏡10を後退さ
せるだけで、簡単に光電面上に試料54の拡大X線像を
形成することもできる。
【0029】この場合、試料で形成された可視光像を第
2の光検出器71で観察することも可能である。この可
視光像はレンズ58aで拡大され、ミラー58b及びハ
ーフミラー73をへて第2光検出器71上に投影され
る。この拡大像はモニタ19で観察される。
2の光検出器71で観察することも可能である。この可
視光像はレンズ58aで拡大され、ミラー58b及びハ
ーフミラー73をへて第2光検出器71上に投影され
る。この拡大像はモニタ19で観察される。
【0030】なお、本発明は上記実施例に限定されるこ
となく、種々の変形が可能である。例えば、X線源51
としてレーザプラズマ光源その他の線源を使用すること
ができる。また、第1光検出器12を用いないで、斜入
射反射鏡7および反射鏡10によって形成される像をレ
ンズ等を用いて肉眼で観察しても良い。この場合、光源
71として、赤外光源、紫外光源等の非可視光源を使用
することはできない。さらに、X線遮蔽手段としてレン
ズ58aを使用したが、レンズ58aの位置にガラスそ
の他の平板を配置し、ミラー58bの位置に凹面鏡等を
配置してもよい。さらに、レンズ58aの位置にガラス
その他の平板を配置し、ミラー58bの位置にレーザそ
の他の光源を直接配置してもよい。さらに、レンズ58
aの位置にガラスその他の平板を配置し、光源71から
細径の発散しないビームを発生させてもよい。
となく、種々の変形が可能である。例えば、X線源51
としてレーザプラズマ光源その他の線源を使用すること
ができる。また、第1光検出器12を用いないで、斜入
射反射鏡7および反射鏡10によって形成される像をレ
ンズ等を用いて肉眼で観察しても良い。この場合、光源
71として、赤外光源、紫外光源等の非可視光源を使用
することはできない。さらに、X線遮蔽手段としてレン
ズ58aを使用したが、レンズ58aの位置にガラスそ
の他の平板を配置し、ミラー58bの位置に凹面鏡等を
配置してもよい。さらに、レンズ58aの位置にガラス
その他の平板を配置し、ミラー58bの位置にレーザそ
の他の光源を直接配置してもよい。さらに、レンズ58
aの位置にガラスその他の平板を配置し、光源71から
細径の発散しないビームを発生させてもよい。
【0031】
【発明の効果】以上説明したように、第1放射線像拡大
観察装置によれば、X線遮蔽手段を介して所定の放射線
を試料セット位置に照射できるので、X線像のみならず
このX線像と同倍率の所定の放射線像を得ることができ
る。これを利用すれば、斜入射反射鏡の簡易な光軸合わ
せが可能になる。
観察装置によれば、X線遮蔽手段を介して所定の放射線
を試料セット位置に照射できるので、X線像のみならず
このX線像と同倍率の所定の放射線像を得ることができ
る。これを利用すれば、斜入射反射鏡の簡易な光軸合わ
せが可能になる。
【0032】第2放射線像拡大観察装置によれば、X線
遮蔽手段を介して所定の放射線を試料セット位置に集光
し、試料セット位置からもどってきた所定の放射線像を
拡大できる。これを利用すれば、試料セット位置に配置
された試料セット部材の簡易な位置合せが可能になる。
遮蔽手段を介して所定の放射線を試料セット位置に集光
し、試料セット位置からもどってきた所定の放射線像を
拡大できる。これを利用すれば、試料セット位置に配置
された試料セット部材の簡易な位置合せが可能になる。
【図1】本発明による放射線像拡大観察装置の実施例を
示した図である。
示した図である。
【図2】従来の放射線像拡大観察装置を示した図であ
る。
る。
1…X線源 7…斜入射反射鏡 9、10、12…検出手段 58a、58b…X線遮蔽手段 71…放射線源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 横山 豪樹 静岡県浜松市市野町1126番地の1 浜松 ホトニクス株式会社内 (56)参考文献 特開 平2−16498(JP,A) 特開 平2−22600(JP,A) 特開 平3−282300(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G01N 23/00 - 23/18 G21K 7/00
Claims (5)
- 【請求項1】 試料セット位置に向けてX線を出射する
X線源と、該試料セット位置を透過することにより形成
されたX線像を拡大する略円筒状の斜入射反射鏡と、該
斜入射反射鏡の円筒内壁の鏡面に入射するX線を遮ら
ず、かつ、該斜入射反射鏡の円筒洞内に入射するX線を
遮るX線遮蔽手段と、前記斜入射反射鏡によって拡大さ
れたX線像を検出する検出手段とを有する放射線像拡大
観察装置において、X線以外の所定の放射線を出射する
放射線源を更に備え、前記X線遮蔽手段は、前記放射線
源からの前記所定の放射線を透過させるとともに、該所
定の放射線を前記試料セット位置に照射させ、前記斜入
射反射鏡は、前記試料セット位置からの前記所定の放射
線の像を拡大することを特徴とする放射線像拡大観察装
置。 - 【請求項2】 試料セット位置に向けてX線を出射する
X線源と、該試料セット位置を透過することにより形成
されたX線像を拡大する略円筒状の斜入射反射鏡と、該
斜入射反射鏡の円筒内壁の鏡面に入射するX線を遮ら
ず、かつ、該斜入射反射鏡の円筒洞内に入射するX線を
遮るX線遮蔽手段と、前記斜入射反射鏡によって拡大さ
れたX線像を検出する検出手段とを有する放射線像拡大
観察装置において、X線以外の所定の放射線を出射する
放射線源を更に備え、前記X線遮蔽手段は、前記放射線
源からの前記所定の放射線を透過させて前記試料セット
位置に集光させるとともに、前記試料セット位置からの
前記所定の放射線像を拡大することを特徴とする放射線
像拡大観察装置。 - 【請求項3】 前記X線源から前記試料セット位置への
X線の光路中に進退可能で、該光路中に進入した場合、
前記試料セット位置を通過した前記所定の放射線を再度
試料セット位置の方向に乱反射させる反射拡散手段をさ
らに有する請求項1または請求項2のいずれか一項に記
載の放射線像拡大観察装置。 - 【請求項4】 前記所定の放射線は、前記試料セット位
置と該試料セット位置を通る所定の光軸との交わる点に
スポット状に入射する請求項1または請求項2のいずれ
か一項に記載の放射線像拡大観察装置。 - 【請求項5】 前記X線遮蔽手段は、紫外光、可視光も
しくは赤外光を透過し、かつ、集光する光学レンズであ
る請求項1または請求項2のいずれか一項に記載の放射
線像拡大観察装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP40063290A JP2948662B2 (ja) | 1990-12-06 | 1990-12-06 | 放射線像拡大観察装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP40063290A JP2948662B2 (ja) | 1990-12-06 | 1990-12-06 | 放射線像拡大観察装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04213047A JPH04213047A (ja) | 1992-08-04 |
JP2948662B2 true JP2948662B2 (ja) | 1999-09-13 |
Family
ID=18510522
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP40063290A Expired - Fee Related JP2948662B2 (ja) | 1990-12-06 | 1990-12-06 | 放射線像拡大観察装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2948662B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4731749B2 (ja) * | 2001-07-13 | 2011-07-27 | 株式会社堀場製作所 | X線分析装置 |
WO2018110265A1 (ja) * | 2016-12-15 | 2018-06-21 | 株式会社堀場製作所 | 放射線検出装置 |
-
1990
- 1990-12-06 JP JP40063290A patent/JP2948662B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04213047A (ja) | 1992-08-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7039157B2 (en) | X-ray microscope apparatus | |
JPH06112106A (ja) | オブジェクト画像焦点合わせ装置及び方法、並びにマスク画像焦点合わせ装置 | |
US5311568A (en) | Optical alignment means utilizing inverse projection of a test pattern/target | |
JPS5917590B2 (ja) | X線透視装置 | |
JPH0754684B2 (ja) | 電子顕微鏡 | |
JPS60115907A (ja) | 光学器械の自動焦点調節装置 | |
US5533087A (en) | X-ray imaging system including brightness control | |
JP3003708B2 (ja) | 表面分析装置 | |
JP2948662B2 (ja) | 放射線像拡大観察装置 | |
JP2005083976A (ja) | X線分析装置とその焦点合わせ装置 | |
US3515870A (en) | X-ray system for superimposing the image of a reference object and an x-ray image | |
JP3049790B2 (ja) | 結像型軟x線顕微鏡装置 | |
JP3106521B2 (ja) | 透明基板の光学的検査装置 | |
JP3125045B2 (ja) | 電子線強度測定装置および電子顕微鏡 | |
JPH11133200A (ja) | X線走査顕微方法及び顕微鏡 | |
JPH05126769A (ja) | 表面分析方法および装置 | |
JP2995361B2 (ja) | 照射領域モニター付きx線照射装置 | |
JPH06221917A (ja) | レーザー光束のビームパターンの測定方法 | |
JP2796906B2 (ja) | 異物検査装置 | |
Kubota et al. | Determination of x‐ray tube focal spot position | |
JP3357164B2 (ja) | 放射線像拡大観察装置 | |
JPH0756788B2 (ja) | 電子顕微鏡 | |
JPH079500B2 (ja) | アライメント光学装置 | |
JP3077920B2 (ja) | 光学系評価装置及び光学系評価方法 | |
JPH0751229A (ja) | 眼科測定装置の校正器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |