JP2948662B2 - 放射線像拡大観察装置 - Google Patents
放射線像拡大観察装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光軸調整が簡単で、Ｘ
線及びその他の放射線で試料を観察することが可能な放
射線像拡大観察装置に関する。
線及びその他の放射線で試料を観察することが可能な放
射線像拡大観察装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図２は、従来の放射線像拡大観察装置の
一例を示した図である。
一例を示した図である。
【０００３】放射線源１からの放射線のうちＸ線のみが
フィルタ２を通過して試料セット部材３に固定された試
料４に入射する。試料４を通過したＸ線像は、入射窓５
を介して放射線像拡大部６内に入射し、斜入射反射鏡７
で拡大され、光電面９上に結像する。ここで、ストッパ
８は不要な放射線が光電面９上に入射するのを防止して
いる。光電面９で生じた光電子は、コイル１３ａ、１３
ｂ、マイクロチャンネルプレート（ＭＣＰ）１４及び蛍
光面１５をへて光学像に変換される。この光学像はカメ
ラ１７に取り込まれた後にフレームメモリ１８に一時蓄
えられ、その後にＣＲＴを備えたモニタ１９に与えられ
る。可視光その他の放射線による観察時には、フィルタ
２を交換し、支持棒１１の先端に設けられた反射鏡１０
を仮想線の位置に移動させる。この場合、フィルタ２を
通過した可視光その他の放射線像が光検出器１２の受光
面に結像され、この像はモニタ１９に与えられる。
フィルタ２を通過して試料セット部材３に固定された試
料４に入射する。試料４を通過したＸ線像は、入射窓５
を介して放射線像拡大部６内に入射し、斜入射反射鏡７
で拡大され、光電面９上に結像する。ここで、ストッパ
８は不要な放射線が光電面９上に入射するのを防止して
いる。光電面９で生じた光電子は、コイル１３ａ、１３
ｂ、マイクロチャンネルプレート（ＭＣＰ）１４及び蛍
光面１５をへて光学像に変換される。この光学像はカメ
ラ１７に取り込まれた後にフレームメモリ１８に一時蓄
えられ、その後にＣＲＴを備えたモニタ１９に与えられ
る。可視光その他の放射線による観察時には、フィルタ
２を交換し、支持棒１１の先端に設けられた反射鏡１０
を仮想線の位置に移動させる。この場合、フィルタ２を
通過した可視光その他の放射線像が光検出器１２の受光
面に結像され、この像はモニタ１９に与えられる。
【０００４】この放射線像拡大観察装置の場合、斜入射
反射鏡７の光軸を可視光線で調整するため、試料セット
部材３に適当なスケール等を配置し、光検出器１２に結
像する可視光線像によってスケール等の結像位置を観察
していた。
反射鏡７の光軸を可視光線で調整するため、試料セット
部材３に適当なスケール等を配置し、光検出器１２に結
像する可視光線像によってスケール等の結像位置を観察
していた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の放射線
像拡大観察装置においては、Ｘ線及び可視光その他の放
射線で試料像を観察することができ、或いは斜入射反射
鏡７の光軸調整のために放射線源等を交換する必要がな
いものの、Ｘ線及び可視光線を含む広帯域の放射線を発
生する単一の放射線源を使用しなければならず、特定波
長の放射線のみを使用する用途においては無駄が多かっ
た。さらに、光軸調整の精度に一定の限界があった。つ
まり、試料セット部材３の位置にスケールを配置するた
め、試料セット部材３の放射線像拡大部６に対するアラ
イメントが十分でない場合、斜入射反射鏡７の光軸調整
の精度が確保できなくなるといった問題が生じていた。
像拡大観察装置においては、Ｘ線及び可視光その他の放
射線で試料像を観察することができ、或いは斜入射反射
鏡７の光軸調整のために放射線源等を交換する必要がな
いものの、Ｘ線及び可視光線を含む広帯域の放射線を発
生する単一の放射線源を使用しなければならず、特定波
長の放射線のみを使用する用途においては無駄が多かっ
た。さらに、光軸調整の精度に一定の限界があった。つ
まり、試料セット部材３の位置にスケールを配置するた
め、試料セット部材３の放射線像拡大部６に対するアラ
イメントが十分でない場合、斜入射反射鏡７の光軸調整
の精度が確保できなくなるといった問題が生じていた。
【０００６】そこで、上述の事情に鑑み、本発明は、Ｘ
線及び可視光その他の放射線の観察が可能な放射線像拡
大観察装置であって、かつ、簡易に高精度の光軸調整が
可能な放射線像拡大観察装置を提供することを目的とし
ている。
線及び可視光その他の放射線の観察が可能な放射線像拡
大観察装置であって、かつ、簡易に高精度の光軸調整が
可能な放射線像拡大観察装置を提供することを目的とし
ている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
め、本発明による第１の放射線像拡大観察装置は、試料
セット位置に向けてＸ線を出射するＸ線源と、試料セッ
ト位置を透過することにより形成されたＸ線像を拡大す
る略円筒状の斜入射反射鏡と、斜入射反射鏡の円筒内壁
の鏡面に入射するＸ線を遮らず、かつ、斜入射反射鏡の
円筒洞内に入射するＸ線を遮るＸ線遮蔽手段と、斜入射
反射鏡によって拡大されたＸ線像を検出する検出手段と
を有する。ここに、放射線像拡大観察装置は、Ｘ線以外
の所定の放射線を出射する放射線源を更に備える。ま
た、前述のＸ線遮蔽手段は、放射線源からの所定の放射
線を透過させるとともに、所定の放射線を試料セット位
置に照射させる。さらに、前述の斜入射反射鏡は、試料
セット位置からの所定の放射線の像を拡大する。
め、本発明による第１の放射線像拡大観察装置は、試料
セット位置に向けてＸ線を出射するＸ線源と、試料セッ
ト位置を透過することにより形成されたＸ線像を拡大す
る略円筒状の斜入射反射鏡と、斜入射反射鏡の円筒内壁
の鏡面に入射するＸ線を遮らず、かつ、斜入射反射鏡の
円筒洞内に入射するＸ線を遮るＸ線遮蔽手段と、斜入射
反射鏡によって拡大されたＸ線像を検出する検出手段と
を有する。ここに、放射線像拡大観察装置は、Ｘ線以外
の所定の放射線を出射する放射線源を更に備える。ま
た、前述のＸ線遮蔽手段は、放射線源からの所定の放射
線を透過させるとともに、所定の放射線を試料セット位
置に照射させる。さらに、前述の斜入射反射鏡は、試料
セット位置からの所定の放射線の像を拡大する。
【０００８】上述の目的を達成するため、本発明による
第２の放射線像拡大観察装置は、試料セット位置に向け
てＸ線を出射するＸ線源と、試料セット位置を透過する
ことにより形成されたＸ線像を拡大する略円筒状の斜入
射反射鏡と、斜入射反射鏡の円筒内壁の鏡面に入射する
Ｘ線を遮らず、かつ、斜入射反射鏡の円筒洞内に入射す
るＸ線を遮るＸ線遮蔽手段と、斜入射反射鏡によって拡
大されたＸ線像を検出する検出手段とを有する。ここ
に、放射線像拡大観察装置は、Ｘ線以外の所定の放射線
を出射する放射線源を更に備える。また、前述のＸ線遮
蔽手段は、放射線源からの所定の放射線を透過させて試
料セット位置に集光させるとともに、試料セット位置か
らの所定の放射線の像を拡大する。
第２の放射線像拡大観察装置は、試料セット位置に向け
てＸ線を出射するＸ線源と、試料セット位置を透過する
ことにより形成されたＸ線像を拡大する略円筒状の斜入
射反射鏡と、斜入射反射鏡の円筒内壁の鏡面に入射する
Ｘ線を遮らず、かつ、斜入射反射鏡の円筒洞内に入射す
るＸ線を遮るＸ線遮蔽手段と、斜入射反射鏡によって拡
大されたＸ線像を検出する検出手段とを有する。ここ
に、放射線像拡大観察装置は、Ｘ線以外の所定の放射線
を出射する放射線源を更に備える。また、前述のＸ線遮
蔽手段は、放射線源からの所定の放射線を透過させて試
料セット位置に集光させるとともに、試料セット位置か
らの所定の放射線の像を拡大する。
【０００９】
【作用】本発明の第１の放射線像拡大観察装置におい
て、Ｘ線遮蔽手段は、この斜入射反射鏡の円筒洞内に入
射する放射線のうち所定の放射線を透過させる。このた
め、放射線源からの所定の放射線はこのＸ線遮蔽手段を
介して試料セット位置に照射される。試料セット位置に
配置された試料等の所定の放射線の像は、斜入射反射鏡
によってＸ線と同倍率で拡大される。この拡大像は目視
その他の適当な手段で観察することができる。
て、Ｘ線遮蔽手段は、この斜入射反射鏡の円筒洞内に入
射する放射線のうち所定の放射線を透過させる。このた
め、放射線源からの所定の放射線はこのＸ線遮蔽手段を
介して試料セット位置に照射される。試料セット位置に
配置された試料等の所定の放射線の像は、斜入射反射鏡
によってＸ線と同倍率で拡大される。この拡大像は目視
その他の適当な手段で観察することができる。
【００１０】ここで、例えば試料セット位置に適当なス
ケールその他の適当なマークを配置すれば、斜入射反射
鏡の光軸調整も可能になる。つまり、このマークの像が
斜入射反射鏡によって所定の位置に結像されるので、結
像されたマーク像を適当な手段で観察し、このマーク像
が適当な位置に結像するように斜入射反射鏡を調整する
ならば、斜入射反射鏡の簡易な光軸調整が可能になる。
ケールその他の適当なマークを配置すれば、斜入射反射
鏡の光軸調整も可能になる。つまり、このマークの像が
斜入射反射鏡によって所定の位置に結像されるので、結
像されたマーク像を適当な手段で観察し、このマーク像
が適当な位置に結像するように斜入射反射鏡を調整する
ならば、斜入射反射鏡の簡易な光軸調整が可能になる。
【００１１】本発明の第２の放射線像拡大観察装置にお
いて、Ｘ線遮蔽手段は、この斜入射反射鏡の円筒洞内に
入射する放射線のうち所定の放射線を透過させるだけで
なく、放射線源からの所定の放射線を試料セット位置に
集光させる。試料セット位置に配置された試料等からも
どってきた所定の放射線の像は、Ｘ線遮蔽手段によって
拡大される。この拡大像は目視その他の適当な手段で観
察することができる。
いて、Ｘ線遮蔽手段は、この斜入射反射鏡の円筒洞内に
入射する放射線のうち所定の放射線を透過させるだけで
なく、放射線源からの所定の放射線を試料セット位置に
集光させる。試料セット位置に配置された試料等からも
どってきた所定の放射線の像は、Ｘ線遮蔽手段によって
拡大される。この拡大像は目視その他の適当な手段で観
察することができる。
【００１２】この場合、試料等を配置すべき試料台その
他の試料セット部材の位置調節が可能になる。例えば試
料セット位置にある試料セット部材に適当なマークを配
置する。このマークの像がＸ線遮蔽手段によって所定の
位置に結像される。結像されたマーク像を適当な手段で
観察し、このマーク像が適当な位置に結像するように試
料セット部材を調整するならば、試料セット部材の簡易
な位置調整が可能になる。
他の試料セット部材の位置調節が可能になる。例えば試
料セット位置にある試料セット部材に適当なマークを配
置する。このマークの像がＸ線遮蔽手段によって所定の
位置に結像される。結像されたマーク像を適当な手段で
観察し、このマーク像が適当な位置に結像するように試
料セット部材を調整するならば、試料セット部材の簡易
な位置調整が可能になる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の実施例について図１を参照し
つつ説明する。
つつ説明する。
【００１４】Ｘ線源５１は例えばガスプラズマＸ線発生
装置で構成される。このＸ線源５１からのＸ線は退出可
能な反射拡散板５２に入射するが、この反射拡散板５２
に遮られて試料５４上に到達しない。反射拡散板５２が
Ｘ線源１と試料セット部材５３との間から退出した場
合、Ｘ線源１からのＸ線は試料セット部材５３に固定さ
れた試料５４上に照射される。Ｘ線が試料５４を通過す
るとＸ線像が形成される。このようなＸ線像を含むＸ線
はポリプロピレン膜等からなる入射窓５５を透過して放
射線像拡大部５６に入射する。入射したＸ線は斜入射反
射鏡７で反射され、光電面９上に拡大されたＸ線像が結
像される。一方、斜入射反射鏡７の円筒洞内に向けて出
射するＸ線はレンズ５８ａ上に投影され、これによって
遮蔽される。このレンズ５８ａの材料としては、Ｘ線を
透過させない材料で、かつ、可視光線等の所定の放射線
を透過させうるものが用いられ、例えば石英ガラス等を
使用することができる。
装置で構成される。このＸ線源５１からのＸ線は退出可
能な反射拡散板５２に入射するが、この反射拡散板５２
に遮られて試料５４上に到達しない。反射拡散板５２が
Ｘ線源１と試料セット部材５３との間から退出した場
合、Ｘ線源１からのＸ線は試料セット部材５３に固定さ
れた試料５４上に照射される。Ｘ線が試料５４を通過す
るとＸ線像が形成される。このようなＸ線像を含むＸ線
はポリプロピレン膜等からなる入射窓５５を透過して放
射線像拡大部５６に入射する。入射したＸ線は斜入射反
射鏡７で反射され、光電面９上に拡大されたＸ線像が結
像される。一方、斜入射反射鏡７の円筒洞内に向けて出
射するＸ線はレンズ５８ａ上に投影され、これによって
遮蔽される。このレンズ５８ａの材料としては、Ｘ線を
透過させない材料で、かつ、可視光線等の所定の放射線
を透過させうるものが用いられ、例えば石英ガラス等を
使用することができる。
【００１５】斜入射反射鏡７で拡大されたＸ線像が光電
面９に結像されると、これに対応した光電子が光電面９
から放出され、これによる電子像はコイル１３ａ、１３
ｂによって拡大される。そして、拡大された電子像はＭ
ＣＰ１４で増倍された後、蛍光面１５に結像されて光学
像を形成する。コイル１３、ＭＣＰ１４、蛍光面１５等
は電子像拡大部１６を構成する。そして、この電子像拡
大部１６は本体の放射線像拡大部５６に付設された構造
となっている。蛍光面１５に形成された光学像はカメラ
１７で取り込まれた後にフレームメモリ１８に一時蓄え
られ、その後にＣＲＴ等を備えたモニタ１９に与えられ
る。
面９に結像されると、これに対応した光電子が光電面９
から放出され、これによる電子像はコイル１３ａ、１３
ｂによって拡大される。そして、拡大された電子像はＭ
ＣＰ１４で増倍された後、蛍光面１５に結像されて光学
像を形成する。コイル１３、ＭＣＰ１４、蛍光面１５等
は電子像拡大部１６を構成する。そして、この電子像拡
大部１６は本体の放射線像拡大部５６に付設された構造
となっている。蛍光面１５に形成された光学像はカメラ
１７で取り込まれた後にフレームメモリ１８に一時蓄え
られ、その後にＣＲＴ等を備えたモニタ１９に与えられ
る。
【００１６】まず、実際の試料の観察について簡単に説
明する。試料は可視光像としても観察できるが、ここで
はまずＸ線像の観察について説明する。
明する。試料は可視光像としても観察できるが、ここで
はまずＸ線像の観察について説明する。
【００１７】観察すべき試料５４を試料セット部材５３
上に固定し、これらを図示の位置に配置する。次に、反
射拡散板５２をＸ線の光路から退出させて、試料５４上
にＸ線を照射する。試料からの透過Ｘ線像は、放射線像
拡大部５６で拡大されて光電面９上に拡大Ｘ線像として
結像される。この拡大Ｘ線像をさらに拡大した光学像は
カメラ１７で検出され、フレームメモリ１８を介してモ
ニタ１９で観察される。次に、斜入射反射鏡７の光軸調
整のための光学系について説明する。
上に固定し、これらを図示の位置に配置する。次に、反
射拡散板５２をＸ線の光路から退出させて、試料５４上
にＸ線を照射する。試料からの透過Ｘ線像は、放射線像
拡大部５６で拡大されて光電面９上に拡大Ｘ線像として
結像される。この拡大Ｘ線像をさらに拡大した光学像は
カメラ１７で検出され、フレームメモリ１８を介してモ
ニタ１９で観察される。次に、斜入射反射鏡７の光軸調
整のための光学系について説明する。
【００１８】可視光を発生する光源７１は、試料５４の
位置に配置した散乱体を照明する。つまり、光源７１か
ら射出した可視光ビームは、ハーフミラー７３を通って
ミラー５８ｂに入射し、ここで光路を直角に曲げられ
て、レンズ５８ａに入射する。レンズ５８ａを通過した
可視光ビームは、放射線像拡大部５６外に出射して試料
５４の位置に極めて小さな点像として集光する。この点
像の集光位置は、放射線像拡大部５６自体の光軸と、試
料５４があるべき面との交点に一致させてある。一方、
試料５４の位置に形成された点像は、放射線像拡大部５
６内の斜入射反射鏡７で拡大され、光電面９に投影され
る。放射線像拡大部５６内に設けられた反射鏡１０は、
支持棒１１を操作することにより、図１の点線の位置に
進入させることができる。したがって、反射鏡１０を図
示の点線のように進入させた場合、斜入射反射鏡７で拡
大された点像は第１光検出器１２で検出される。
位置に配置した散乱体を照明する。つまり、光源７１か
ら射出した可視光ビームは、ハーフミラー７３を通って
ミラー５８ｂに入射し、ここで光路を直角に曲げられ
て、レンズ５８ａに入射する。レンズ５８ａを通過した
可視光ビームは、放射線像拡大部５６外に出射して試料
５４の位置に極めて小さな点像として集光する。この点
像の集光位置は、放射線像拡大部５６自体の光軸と、試
料５４があるべき面との交点に一致させてある。一方、
試料５４の位置に形成された点像は、放射線像拡大部５
６内の斜入射反射鏡７で拡大され、光電面９に投影され
る。放射線像拡大部５６内に設けられた反射鏡１０は、
支持棒１１を操作することにより、図１の点線の位置に
進入させることができる。したがって、反射鏡１０を図
示の点線のように進入させた場合、斜入射反射鏡７で拡
大された点像は第１光検出器１２で検出される。
【００１９】以下に、斜入射反射鏡７の第１の光軸調整
方法について説明する。
方法について説明する。
【００２０】まず、反射拡散板５２をＸ線源５１と試料
セット部材５３との間に進入させて、試料に照射される
Ｘ線を遮る。さらに、試料５４の位置に適当な散乱体を
配置し、反射鏡１０を斜入射反射鏡７と光電面９との間
に進入させる。斜入射反射鏡７の光軸が本来の光軸から
大きく外れていなければ、散乱体上に形成された点像が
モニタ１９のＣＲＴのいずれかの位置で検出される。
セット部材５３との間に進入させて、試料に照射される
Ｘ線を遮る。さらに、試料５４の位置に適当な散乱体を
配置し、反射鏡１０を斜入射反射鏡７と光電面９との間
に進入させる。斜入射反射鏡７の光軸が本来の光軸から
大きく外れていなければ、散乱体上に形成された点像が
モニタ１９のＣＲＴのいずれかの位置で検出される。
【００２１】次に、試料セット部材５３を光軸方向に前
後に移動させてＣＲＴ画面上の点像が最小になるように
する。また、斜入射反射鏡７を光軸方向に前後に微動さ
せてＣＲＴ画面上の点像が最小になるようにする。これ
を繰り返せば、斜入射反射鏡７の光軸方向の位置をほぼ
調節できる。その次に、斜入射反射鏡７を光軸に垂直な
方向に微動させて、ＣＲＴ画面上の点像が画面中央に移
動するように調節する。これを繰り返すならばさらに正
確に光軸を調節することができる。ここで、斜入射反射
鏡７のあおり角を変えてもよい。その場合、ＣＲＴ画面
上の点像が完全な点又は円状になるようにし、コマ状に
ならないようにすればよい。
後に移動させてＣＲＴ画面上の点像が最小になるように
する。また、斜入射反射鏡７を光軸方向に前後に微動さ
せてＣＲＴ画面上の点像が最小になるようにする。これ
を繰り返せば、斜入射反射鏡７の光軸方向の位置をほぼ
調節できる。その次に、斜入射反射鏡７を光軸に垂直な
方向に微動させて、ＣＲＴ画面上の点像が画面中央に移
動するように調節する。これを繰り返すならばさらに正
確に光軸を調節することができる。ここで、斜入射反射
鏡７のあおり角を変えてもよい。その場合、ＣＲＴ画面
上の点像が完全な点又は円状になるようにし、コマ状に
ならないようにすればよい。
【００２２】以下に、斜入射反射鏡７の第２の光軸調整
方法について説明する。
方法について説明する。
【００２３】この場合も、反射拡散板５２をＸ線源５１
と試料セット部材５３との間に進入させて、試料に照射
されるＸ線を遮る。また、試料５４の位置に適当なスケ
ールを配置し、反射鏡１０を斜入射反射鏡７と光電面９
との間に進入させる。さらに、ハーフミラ７３と光源７
１との間に凹レンズ７２を進入させる。
と試料セット部材５３との間に進入させて、試料に照射
されるＸ線を遮る。また、試料５４の位置に適当なスケ
ールを配置し、反射鏡１０を斜入射反射鏡７と光電面９
との間に進入させる。さらに、ハーフミラ７３と光源７
１との間に凹レンズ７２を進入させる。
【００２４】光源７１からの可視光ビームは、スケール
上で点像とならず、試料５４の位置のスケールを透過し
て反射拡散板５２に集光される。この集光された可視光
ビームは反射拡散板５２で後方に乱反射されてスケール
を照明する。
上で点像とならず、試料５４の位置のスケールを透過し
て反射拡散板５２に集光される。この集光された可視光
ビームは反射拡散板５２で後方に乱反射されてスケール
を照明する。
【００２５】予め試料セット部材５３の放射線像拡大部
５６に対する位置合せが完了し或いは不要な場合には、
斜入射反射鏡７を光軸方向に前後に微動させてＣＲＴ上
の点像が最小になるようにする。これにより、斜入射反
射鏡７の光軸方向の位置をほぼ調節できる。その次に、
斜入射反射鏡７を光軸に垂直な面内で微動させて、ＣＲ
Ｔ上の点像が画面中央に移動するように調節する。これ
により、斜入射反射鏡７の光軸調整が可能になる。
５６に対する位置合せが完了し或いは不要な場合には、
斜入射反射鏡７を光軸方向に前後に微動させてＣＲＴ上
の点像が最小になるようにする。これにより、斜入射反
射鏡７の光軸方向の位置をほぼ調節できる。その次に、
斜入射反射鏡７を光軸に垂直な面内で微動させて、ＣＲ
Ｔ上の点像が画面中央に移動するように調節する。これ
により、斜入射反射鏡７の光軸調整が可能になる。
【００２６】一方、試料セット部材５３の放射線像拡大
部５６に対する位置合せが完了していない場合には、第
２光検出器７０を使用する。第２光検出器７０で検出さ
れるスケール像をモニタ１９で観察しながら、スケール
を載せた試料セット部材５３を光軸方向に前後に微動さ
せて、スケール像のピントを合わせる。次に、試料セッ
ト部材５３を光軸に垂直な面内で微動させてスケール像
の中心をモニタ１９のＣＲＴ画面の中央に一致させる。
さらに、必要に応じてこれを繰り返す。これにより、試
料セット部材５３及びスケールの放射線像拡大部５６に
対する位置合せが完了する。
部５６に対する位置合せが完了していない場合には、第
２光検出器７０を使用する。第２光検出器７０で検出さ
れるスケール像をモニタ１９で観察しながら、スケール
を載せた試料セット部材５３を光軸方向に前後に微動さ
せて、スケール像のピントを合わせる。次に、試料セッ
ト部材５３を光軸に垂直な面内で微動させてスケール像
の中心をモニタ１９のＣＲＴ画面の中央に一致させる。
さらに、必要に応じてこれを繰り返す。これにより、試
料セット部材５３及びスケールの放射線像拡大部５６に
対する位置合せが完了する。
【００２７】ここまで斜入射反射鏡７の光軸調整方法に
ついて説明してきたが、光軸調整のための光学系等をそ
のまま用いて試料の可視光像を観察することもできる。
すなわち、反射拡散板５２をＸ線源５１と試料セット部
材５３との間に進入させ、試料に照射されるＸ線を遮
る。また、試料５４の位置に適当な観察すべき試料を配
置し、反射鏡１０を斜入射反射鏡７と光電面９との間に
進入させる。さらに、ハーフミラ７３と光源７１との間
に凹レンズ７２を進入させる。
ついて説明してきたが、光軸調整のための光学系等をそ
のまま用いて試料の可視光像を観察することもできる。
すなわち、反射拡散板５２をＸ線源５１と試料セット部
材５３との間に進入させ、試料に照射されるＸ線を遮
る。また、試料５４の位置に適当な観察すべき試料を配
置し、反射鏡１０を斜入射反射鏡７と光電面９との間に
進入させる。さらに、ハーフミラ７３と光源７１との間
に凹レンズ７２を進入させる。
【００２８】光源７１からの可視光ビームは、観察すべ
き試料５４を透過して反射拡散板５２に集光される。こ
の集光された可視光ビームは反射拡散板５２で後方に散
乱されて試料５４を照明する。試料で形成された可視光
像は斜入射反射鏡７で拡大されて、第１光検出器１２上
に投影される。この拡大像はモニタ１９で観察される。
また、反射拡散板５２を後退させ、反射鏡１０を後退さ
せるだけで、簡単に光電面上に試料５４の拡大Ｘ線像を
形成することもできる。
き試料５４を透過して反射拡散板５２に集光される。こ
の集光された可視光ビームは反射拡散板５２で後方に散
乱されて試料５４を照明する。試料で形成された可視光
像は斜入射反射鏡７で拡大されて、第１光検出器１２上
に投影される。この拡大像はモニタ１９で観察される。
また、反射拡散板５２を後退させ、反射鏡１０を後退さ
せるだけで、簡単に光電面上に試料５４の拡大Ｘ線像を
形成することもできる。
【００２９】この場合、試料で形成された可視光像を第
２の光検出器７１で観察することも可能である。この可
視光像はレンズ５８ａで拡大され、ミラー５８ｂ及びハ
ーフミラー７３をへて第２光検出器７１上に投影され
る。この拡大像はモニタ１９で観察される。
２の光検出器７１で観察することも可能である。この可
視光像はレンズ５８ａで拡大され、ミラー５８ｂ及びハ
ーフミラー７３をへて第２光検出器７１上に投影され
る。この拡大像はモニタ１９で観察される。
【００３０】なお、本発明は上記実施例に限定されるこ
となく、種々の変形が可能である。例えば、Ｘ線源５１
としてレーザプラズマ光源その他の線源を使用すること
ができる。また、第１光検出器１２を用いないで、斜入
射反射鏡７および反射鏡１０によって形成される像をレ
ンズ等を用いて肉眼で観察しても良い。この場合、光源
７１として、赤外光源、紫外光源等の非可視光源を使用
することはできない。さらに、Ｘ線遮蔽手段としてレン
ズ５８ａを使用したが、レンズ５８ａの位置にガラスそ
の他の平板を配置し、ミラー５８ｂの位置に凹面鏡等を
配置してもよい。さらに、レンズ５８ａの位置にガラス
その他の平板を配置し、ミラー５８ｂの位置にレーザそ
の他の光源を直接配置してもよい。さらに、レンズ５８
ａの位置にガラスその他の平板を配置し、光源７１から
細径の発散しないビームを発生させてもよい。
となく、種々の変形が可能である。例えば、Ｘ線源５１
としてレーザプラズマ光源その他の線源を使用すること
ができる。また、第１光検出器１２を用いないで、斜入
射反射鏡７および反射鏡１０によって形成される像をレ
ンズ等を用いて肉眼で観察しても良い。この場合、光源
７１として、赤外光源、紫外光源等の非可視光源を使用
することはできない。さらに、Ｘ線遮蔽手段としてレン
ズ５８ａを使用したが、レンズ５８ａの位置にガラスそ
の他の平板を配置し、ミラー５８ｂの位置に凹面鏡等を
配置してもよい。さらに、レンズ５８ａの位置にガラス
その他の平板を配置し、ミラー５８ｂの位置にレーザそ
の他の光源を直接配置してもよい。さらに、レンズ５８
ａの位置にガラスその他の平板を配置し、光源７１から
細径の発散しないビームを発生させてもよい。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように、第１放射線像拡大
観察装置によれば、Ｘ線遮蔽手段を介して所定の放射線
を試料セット位置に照射できるので、Ｘ線像のみならず
このＸ線像と同倍率の所定の放射線像を得ることができ
る。これを利用すれば、斜入射反射鏡の簡易な光軸合わ
せが可能になる。
観察装置によれば、Ｘ線遮蔽手段を介して所定の放射線
を試料セット位置に照射できるので、Ｘ線像のみならず
このＸ線像と同倍率の所定の放射線像を得ることができ
る。これを利用すれば、斜入射反射鏡の簡易な光軸合わ
せが可能になる。
【００３２】第２放射線像拡大観察装置によれば、Ｘ線
遮蔽手段を介して所定の放射線を試料セット位置に集光
し、試料セット位置からもどってきた所定の放射線像を
拡大できる。これを利用すれば、試料セット位置に配置
された試料セット部材の簡易な位置合せが可能になる。
遮蔽手段を介して所定の放射線を試料セット位置に集光
し、試料セット位置からもどってきた所定の放射線像を
拡大できる。これを利用すれば、試料セット位置に配置
された試料セット部材の簡易な位置合せが可能になる。
【図１】本発明による放射線像拡大観察装置の実施例を
示した図である。
示した図である。
【図２】従来の放射線像拡大観察装置を示した図であ
る。
る。
１…Ｘ線源 ７…斜入射反射鏡 ９、１０、１２…検出手段 ５８ａ、５８ｂ…Ｘ線遮蔽手段 ７１…放射線源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 横山 豪樹 静岡県浜松市市野町1126番地の１ 浜松 ホトニクス株式会社内 (56)参考文献 特開 平２−16498（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−22600（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−282300（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G01N 23/00 - 23/18 G21K 7/00
Claims (5)
- 【請求項１】 試料セット位置に向けてＸ線を出射する
Ｘ線源と、該試料セット位置を透過することにより形成
されたＸ線像を拡大する略円筒状の斜入射反射鏡と、該
斜入射反射鏡の円筒内壁の鏡面に入射するＸ線を遮ら
ず、かつ、該斜入射反射鏡の円筒洞内に入射するＸ線を
遮るＸ線遮蔽手段と、前記斜入射反射鏡によって拡大さ
れたＸ線像を検出する検出手段とを有する放射線像拡大
観察装置において、Ｘ線以外の所定の放射線を出射する
放射線源を更に備え、前記Ｘ線遮蔽手段は、前記放射線
源からの前記所定の放射線を透過させるとともに、該所
定の放射線を前記試料セット位置に照射させ、前記斜入
射反射鏡は、前記試料セット位置からの前記所定の放射
線の像を拡大することを特徴とする放射線像拡大観察装
置。 - 【請求項２】 試料セット位置に向けてＸ線を出射する
Ｘ線源と、該試料セット位置を透過することにより形成
されたＸ線像を拡大する略円筒状の斜入射反射鏡と、該
斜入射反射鏡の円筒内壁の鏡面に入射するＸ線を遮ら
ず、かつ、該斜入射反射鏡の円筒洞内に入射するＸ線を
遮るＸ線遮蔽手段と、前記斜入射反射鏡によって拡大さ
れたＸ線像を検出する検出手段とを有する放射線像拡大
観察装置において、Ｘ線以外の所定の放射線を出射する
放射線源を更に備え、前記Ｘ線遮蔽手段は、前記放射線
源からの前記所定の放射線を透過させて前記試料セット
位置に集光させるとともに、前記試料セット位置からの
前記所定の放射線像を拡大することを特徴とする放射線
像拡大観察装置。 - 【請求項３】 前記Ｘ線源から前記試料セット位置への
Ｘ線の光路中に進退可能で、該光路中に進入した場合、
前記試料セット位置を通過した前記所定の放射線を再度
試料セット位置の方向に乱反射させる反射拡散手段をさ
らに有する請求項１または請求項２のいずれか一項に記
載の放射線像拡大観察装置。 - 【請求項４】 前記所定の放射線は、前記試料セット位
置と該試料セット位置を通る所定の光軸との交わる点に
スポット状に入射する請求項１または請求項２のいずれ
か一項に記載の放射線像拡大観察装置。 - 【請求項５】 前記Ｘ線遮蔽手段は、紫外光、可視光も
しくは赤外光を透過し、かつ、集光する光学レンズであ
る請求項１または請求項２のいずれか一項に記載の放射
線像拡大観察装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40063290A JP2948662B2 (ja) | 1990-12-06 | 1990-12-06 | 放射線像拡大観察装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40063290A JP2948662B2 (ja) | 1990-12-06 | 1990-12-06 | 放射線像拡大観察装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04213047A JPH04213047A (ja) | 1992-08-04 |
| JP2948662B2 true JP2948662B2 (ja) | 1999-09-13 |
Family
ID=18510522
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP40063290A Expired - Fee Related JP2948662B2 (ja) | 1990-12-06 | 1990-12-06 | 放射線像拡大観察装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2948662B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4731749B2 (ja) * | 2001-07-13 | 2011-07-27 | 株式会社堀場製作所 | Ｘ線分析装置 |
| WO2018110265A1 (ja) * | 2016-12-15 | 2018-06-21 | 株式会社堀場製作所 | 放射線検出装置 |
-
1990
- 1990-12-06 JP JP40063290A patent/JP2948662B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04213047A (ja) | 1992-08-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |