JP2922345B2 - 感光材料の処理方法 - Google Patents
感光材料の処理方法Info
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- JP2922345B2 JP2922345B2 JP26913291A JP26913291A JP2922345B2 JP 2922345 B2 JP2922345 B2 JP 2922345B2 JP 26913291 A JP26913291 A JP 26913291A JP 26913291 A JP26913291 A JP 26913291A JP 2922345 B2 JP2922345 B2 JP 2922345B2
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- washing
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- tank
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- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
- Photographic Developing Apparatuses (AREA)
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は自動現像機を用いたハロ
ゲン化銀感光材料の処理方法に於いて特にその水洗工程
の改良に関する。
ゲン化銀感光材料の処理方法に於いて特にその水洗工程
の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】露光済みのハロゲン化銀写真感光材料
(以後感光材料という)を自動現像機で処理する場合、
現像、定着、水洗の各処理液がそれぞれ入れられた複数
の処理槽が並設され、感光材料を順次通過させて各処理
液に所定時間浸漬することにより行われる。
(以後感光材料という)を自動現像機で処理する場合、
現像、定着、水洗の各処理液がそれぞれ入れられた複数
の処理槽が並設され、感光材料を順次通過させて各処理
液に所定時間浸漬することにより行われる。
【0003】ここで上記処理工程中、水洗工程において
水洗槽内にバクテリア、黴等による水垢の発生が起こ
り、処理する感光材料に転写し画像の品質低下をもたら
し、ひどい場合には自動現像機内の搬送不良まで起こす
ことは従来より知られていることである。
水洗槽内にバクテリア、黴等による水垢の発生が起こ
り、処理する感光材料に転写し画像の品質低下をもたら
し、ひどい場合には自動現像機内の搬送不良まで起こす
ことは従来より知られていることである。
【0004】近年、上記水洗槽中の水垢を防止する方法
として、特開平3-43734号で示されるオゾンによる水垢
防止法や特願平3-63901号等では酸化剤添加による水垢
防止法が唱われているが前者は充分な効果を出すには相
当の安全機構が必要でありコスト的に非常に高価なもの
になってしまい、後者は酸化剤の反応で硫化銀等の生成
物が発生し汚れの原因となるケースがあった。
として、特開平3-43734号で示されるオゾンによる水垢
防止法や特願平3-63901号等では酸化剤添加による水垢
防止法が唱われているが前者は充分な効果を出すには相
当の安全機構が必要でありコスト的に非常に高価なもの
になってしまい、後者は酸化剤の反応で硫化銀等の生成
物が発生し汚れの原因となるケースがあった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は水洗槽
内に水垢が発生するのを防止するのと同時に装置のメン
テナンスが少ない感光材料の処理方法を提供することに
ある。
内に水垢が発生するのを防止するのと同時に装置のメン
テナンスが少ない感光材料の処理方法を提供することに
ある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者等は前記課題に
鑑み、鋭意研究の結果、ハロゲン化銀写真感光材料を自
動現像機を用いて処理する場合において、水洗槽におい
て洗浄液に遠赤外線を照射しながら処理することによ
り、また、水洗槽に供給する洗浄液にあらかじめ遠赤外
線を照射し、水洗槽中に供給することにより処理するこ
とによって達成することを見出した。
鑑み、鋭意研究の結果、ハロゲン化銀写真感光材料を自
動現像機を用いて処理する場合において、水洗槽におい
て洗浄液に遠赤外線を照射しながら処理することによ
り、また、水洗槽に供給する洗浄液にあらかじめ遠赤外
線を照射し、水洗槽中に供給することにより処理するこ
とによって達成することを見出した。
【0007】以下、本発明を更に詳細に説明する。
【0008】本発明で言う遠赤外線とは波長1〜2000μ
mのものを指し、好ましくは1〜30μmである。遠赤外線
を発する放射源としては、SiO2、Al2O3、K2O、
Fe2O3、CaO、TiO2、MgO、Na2O、NiO
等の金属酸化物やこれらの混合物、炭素、グラファイト
およびこれに他の材料(金属酸化物、金属炭化物等)を
添加したもの、TaC、ZrC、SiC、BC等の金属
炭化物、天然ゼオライトおよびこれに他材料を添加した
もの等が挙げられる。
mのものを指し、好ましくは1〜30μmである。遠赤外線
を発する放射源としては、SiO2、Al2O3、K2O、
Fe2O3、CaO、TiO2、MgO、Na2O、NiO
等の金属酸化物やこれらの混合物、炭素、グラファイト
およびこれに他の材料(金属酸化物、金属炭化物等)を
添加したもの、TaC、ZrC、SiC、BC等の金属
炭化物、天然ゼオライトおよびこれに他材料を添加した
もの等が挙げられる。
【0009】本発明におけるひとつの照射方法として
は、フィルム搬送に悪影響が出なければ水洗槽中のどこ
で遠赤外線照射を行ってもかまわないが、特に水垢が発
生蓄積しやすい水洗槽底部が好ましい。放射体への供給
電力は200W〜2000Wが好ましく、照射時間としては間
欠的に上記供給電力200Wの場合は一日1時間以上、200
0Wのときは3分以上照射することが好ましい。
は、フィルム搬送に悪影響が出なければ水洗槽中のどこ
で遠赤外線照射を行ってもかまわないが、特に水垢が発
生蓄積しやすい水洗槽底部が好ましい。放射体への供給
電力は200W〜2000Wが好ましく、照射時間としては間
欠的に上記供給電力200Wの場合は一日1時間以上、200
0Wのときは3分以上照射することが好ましい。
【0010】他の照射方法としては、水洗槽に洗浄液を
送り込む前の配管中や、異物除去フィルターのカートリ
ッジ部分に上記放射源を設置してもよいが、照射時間を
ある程度維持するため洗浄液を一時的に溜めておくタン
クを設け、そのタンク中で照射することが好ましい。放
射体への供給電力は200W〜2000Wが好ましく、照射時
間としては1リットルあたりの洗浄液に対し上記供給電
力200Wの場合は2分以上、2000Wのときは5秒以上照
射することが好ましい。
送り込む前の配管中や、異物除去フィルターのカートリ
ッジ部分に上記放射源を設置してもよいが、照射時間を
ある程度維持するため洗浄液を一時的に溜めておくタン
クを設け、そのタンク中で照射することが好ましい。放
射体への供給電力は200W〜2000Wが好ましく、照射時
間としては1リットルあたりの洗浄液に対し上記供給電
力200Wの場合は2分以上、2000Wのときは5秒以上照
射することが好ましい。
【0011】また、本発明は他の水垢防止機構と併用す
ることでその効果をいっそう高めることができる。例え
ば上記酸化剤を用いた水垢防止法、オゾンを用いた水垢
防止法、水洗槽にシアヌル酸およびその誘導体、チアゾ
リンおよびその誘導体等の殺菌剤を投入する水垢防止
法、除菌・抗菌フィルターを用いた水垢防止法、紫外線
照射を用いた水垢防止法、水洗槽の加熱による水垢防止
法およびこれらの組み合わせなどである。
ることでその効果をいっそう高めることができる。例え
ば上記酸化剤を用いた水垢防止法、オゾンを用いた水垢
防止法、水洗槽にシアヌル酸およびその誘導体、チアゾ
リンおよびその誘導体等の殺菌剤を投入する水垢防止
法、除菌・抗菌フィルターを用いた水垢防止法、紫外線
照射を用いた水垢防止法、水洗槽の加熱による水垢防止
法およびこれらの組み合わせなどである。
【0012】図1は本発明における自動現像機の水洗槽
において洗浄液に遠赤外線を照射しながら処理する方式
の1例を示すものである。
において洗浄液に遠赤外線を照射しながら処理する方式
の1例を示すものである。
【0013】図1において、自動現像機1は現像槽2、
定着槽3、水洗槽4を備えており、水源5から水は電磁
弁6、異物除去フィルター7を経て水洗槽4に供給され
る。水洗槽4の水はオーバーフロー9および電磁弁8を
介して排水される。水洗槽4の底部に遠赤外線放射体10
がガラス管11に保護されて設置されている。
定着槽3、水洗槽4を備えており、水源5から水は電磁
弁6、異物除去フィルター7を経て水洗槽4に供給され
る。水洗槽4の水はオーバーフロー9および電磁弁8を
介して排水される。水洗槽4の底部に遠赤外線放射体10
がガラス管11に保護されて設置されている。
【0014】図2は本発明における自動現像機の水洗槽
に、あらかじめ遠赤外線を照射した洗浄液を供給して処
理する方式の1例を示すものである。
に、あらかじめ遠赤外線を照射した洗浄液を供給して処
理する方式の1例を示すものである。
【0015】図2において、自動現像機12は現像槽13、
定着槽14、オーバーフロー16を備えた水洗槽15の主要部
からなっている。水源17からの水は、電磁弁18、異物除
去フィルター19を介して貯水タンク20に入る。貯水タン
ク20にはガラス管21で保護された遠赤外線放射源22が設
置されており、底部からポンプ23、電磁弁24を介して水
洗槽15に供給される。供給量はオーバーフロー16の水量
と電磁弁25とにより調整される。
定着槽14、オーバーフロー16を備えた水洗槽15の主要部
からなっている。水源17からの水は、電磁弁18、異物除
去フィルター19を介して貯水タンク20に入る。貯水タン
ク20にはガラス管21で保護された遠赤外線放射源22が設
置されており、底部からポンプ23、電磁弁24を介して水
洗槽15に供給される。供給量はオーバーフロー16の水量
と電磁弁25とにより調整される。
【0016】本発明に適用するハロゲン化銀感光材料は
好ましくは黒白感光材料であり、特に好ましくは黒白ネ
ガフィルム、黒白反転フィルム、Xレイフィルム、複写
用フィルム、印刷用フィルム、グラビアフィルム、黒白
ペーパー、電算写植用ペーパー等が挙げられる。
好ましくは黒白感光材料であり、特に好ましくは黒白ネ
ガフィルム、黒白反転フィルム、Xレイフィルム、複写
用フィルム、印刷用フィルム、グラビアフィルム、黒白
ペーパー、電算写植用ペーパー等が挙げられる。
【0017】また、本発明を適用する自動現像機の現像
部、定着部、乾燥部については従来公知の種々の方式全
てもちいることができる。
部、定着部、乾燥部については従来公知の種々の方式全
てもちいることができる。
【0018】使用される黒白現像液には現像主薬として
ジヒドロキシベンゼン類と1−フェニル−3−ピラゾリ
ドン類の組合せが好ましく用いられる。勿論この他にp
−アミノフェノール系現像主薬を含んでもよい。
ジヒドロキシベンゼン類と1−フェニル−3−ピラゾリ
ドン類の組合せが好ましく用いられる。勿論この他にp
−アミノフェノール系現像主薬を含んでもよい。
【0019】用いられるジヒドロキシベンゼン現像主薬
としてはハイドロキノン、クロロハイドロキノン、ブロ
ムハイドロキノン、イソプロピルハイドロキノン、メチ
ルハイドロキノン、2,3−ジクロロハイドロキノン、
2,5−ジクロロハイドロキノン、2,3−ジプロムハ
イドロキノン、2,5−ジメチルハイドロキノンなどが
あるが特にハイドロキノンが好ましい。
としてはハイドロキノン、クロロハイドロキノン、ブロ
ムハイドロキノン、イソプロピルハイドロキノン、メチ
ルハイドロキノン、2,3−ジクロロハイドロキノン、
2,5−ジクロロハイドロキノン、2,3−ジプロムハ
イドロキノン、2,5−ジメチルハイドロキノンなどが
あるが特にハイドロキノンが好ましい。
【0020】1−フェニル−3−ピラゾリドン又はその
誘導体の現像主薬としては1−フェニル−4,4−ジメ
チル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メチル−
4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニ
ル−4,4−ジヒドロキシメチル−3−ピラゾリドンな
どがある。
誘導体の現像主薬としては1−フェニル−4,4−ジメ
チル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メチル−
4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニ
ル−4,4−ジヒドロキシメチル−3−ピラゾリドンな
どがある。
【0021】P−アミノフェノール系現像主薬としては
N−メチル−p−アミノフェノール、p−アミノフェノ
ール、N−(β−ヒドロキシエチル)−p−アミノフェ
ノール、N−(4−ヒドロキシフェニル)グリジン、2
−メチル−p−アミノフェノール、p−ベンジルアミノ
フェノール等があるが、N−メチル−p−アミノフェノ
ールが好ましい。
N−メチル−p−アミノフェノール、p−アミノフェノ
ール、N−(β−ヒドロキシエチル)−p−アミノフェ
ノール、N−(4−ヒドロキシフェニル)グリジン、2
−メチル−p−アミノフェノール、p−ベンジルアミノ
フェノール等があるが、N−メチル−p−アミノフェノ
ールが好ましい。
【0022】現像主薬は通常0.01モル/リットル〜
1.2モル/リットルの量で用いられるのが好ましい。
1.2モル/リットルの量で用いられるのが好ましい。
【0023】用いられる現像液のpHは9から13の範
囲のものが好ましい。更に好ましくはpH10から12
の範囲である。
囲のものが好ましい。更に好ましくはpH10から12
の範囲である。
【0024】pHの設定のために用いるアルカリ剤には
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリ
ウムの如きpH調節剤を含む。
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリ
ウムの如きpH調節剤を含む。
【0025】特開昭61−28708号(ホウ酸塩)、
特開昭60−93439号(例えば、サッカロース、ア
セトオキシム、6−スルホサルチル酸)、リン酸塩、炭
酸塩などの緩衝剤を用いてもよい。
特開昭60−93439号(例えば、サッカロース、ア
セトオキシム、6−スルホサルチル酸)、リン酸塩、炭
酸塩などの緩衝剤を用いてもよい。
【0026】上記成分以外に用いられる添加剤としては
亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、
亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫
酸カリウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなど
の亜硫酸塩;臭化ナトリウム、臭化カリウム、沃化カリ
ウムの如き現像抑制剤:エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール、ジメチルホル
ムアミド、メチルセロソルブ、ヘキシレングリコール、
エタノール、メタノールの如き有機溶剤:1−フェニル
−5−メルカプトテトラゾール、2−メルカプトベンツ
イミダゾール−5−スルホン酸ナトリウム塩等のメルカ
プト系化合物、5−ニトロインダゾール等のインダゾー
ル系化合物、5−メチルベンツトリアゾール等のベンツ
トリアゾール系化合物などのカブリ防止剤を含んでもよ
く、更に必要に応じて色調剤、界面活性剤、消抱剤、硬
水軟化剤、特開昭56−106244号記載のアミノ化
合物などを含んでもよい。
亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、
亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫
酸カリウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなど
の亜硫酸塩;臭化ナトリウム、臭化カリウム、沃化カリ
ウムの如き現像抑制剤:エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール、ジメチルホル
ムアミド、メチルセロソルブ、ヘキシレングリコール、
エタノール、メタノールの如き有機溶剤:1−フェニル
−5−メルカプトテトラゾール、2−メルカプトベンツ
イミダゾール−5−スルホン酸ナトリウム塩等のメルカ
プト系化合物、5−ニトロインダゾール等のインダゾー
ル系化合物、5−メチルベンツトリアゾール等のベンツ
トリアゾール系化合物などのカブリ防止剤を含んでもよ
く、更に必要に応じて色調剤、界面活性剤、消抱剤、硬
水軟化剤、特開昭56−106244号記載のアミノ化
合物などを含んでもよい。
【0027】現像液に銀汚れ防止剤、例えば特開昭56
−24347号に記載の化合物を用いることもできる。
−24347号に記載の化合物を用いることもできる。
【0028】用いられる現像液には、特開昭56−10
6244号に記載のアルカノールアミンなどのアミノ化
合物を用いることができる。
6244号に記載のアルカノールアミンなどのアミノ化
合物を用いることができる。
【0029】この他L.F.A.メソン著「フォトグラ
フィック・プロセシン・ケミストリー」、フォーカル・
プレス刊(1966年)の226〜229頁、米国特許
第2,193,015号、同2,592,364号、特
開昭48−64933号などに記載のものを用いてもよ
い。
フィック・プロセシン・ケミストリー」、フォーカル・
プレス刊(1966年)の226〜229頁、米国特許
第2,193,015号、同2,592,364号、特
開昭48−64933号などに記載のものを用いてもよ
い。
【0030】用いられる定着液はチオ硫酸塩を含む水溶
液であり、pH3.8以上、好ましくは4.2〜5.5
を有する。
液であり、pH3.8以上、好ましくは4.2〜5.5
を有する。
【0031】定着剤としてはチオ硫酸ナトリウム、チオ
硫酸アンモニウムがあるが、チオ硫酸イオンとアンモニ
ウムイオンとを必須成分とするものであり、定着速度の
点からチオ硫酸アンモニウムが特に好ましい。定着剤の
使用量は適宜変えることができ、一般には約0.1〜6
モル/リットルである。
硫酸アンモニウムがあるが、チオ硫酸イオンとアンモニ
ウムイオンとを必須成分とするものであり、定着速度の
点からチオ硫酸アンモニウムが特に好ましい。定着剤の
使用量は適宜変えることができ、一般には約0.1〜6
モル/リットルである。
【0032】定着液には硬膜剤として作用する水溶性ア
ルミニウム塩を含んでも良く、それらには、例えば塩化
アルミニウム、硫酸アンモニウム、カリ明ばんなどがあ
る。定着液には、酒石酸、クエン酸あるいはそれらの導
体を単独で、あるいは2種以上、併用することができ
る。これらの化合物に定着液1リットルにつき0.00
5モル以上含むものが有効で、特に0.01モル/リッ
トル〜0.03モル/リットルが特に有効である。
ルミニウム塩を含んでも良く、それらには、例えば塩化
アルミニウム、硫酸アンモニウム、カリ明ばんなどがあ
る。定着液には、酒石酸、クエン酸あるいはそれらの導
体を単独で、あるいは2種以上、併用することができ
る。これらの化合物に定着液1リットルにつき0.00
5モル以上含むものが有効で、特に0.01モル/リッ
トル〜0.03モル/リットルが特に有効である。
【0033】具体的には、酒石酸、酒石酸カリウム、酒
石酸ナトリウム、酒石酸カリウムナトリウム、クエン
酸、クエン酸ナトリウム、クエン酸カリウム、クエン酸
リチウム、クエン酸アンモニウムなどがある。
石酸ナトリウム、酒石酸カリウムナトリウム、クエン
酸、クエン酸ナトリウム、クエン酸カリウム、クエン酸
リチウム、クエン酸アンモニウムなどがある。
【0034】定着液には所望により保恒剤(例えば、亜
硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衝剤(例えば、酢酸、硝
酸)、pH調整剤(例えば硫酸)、硬水軟化能のあるキ
レート剤や特願昭60−213562号記載の化合物を
含むことができる。
硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衝剤(例えば、酢酸、硝
酸)、pH調整剤(例えば硫酸)、硬水軟化能のあるキ
レート剤や特願昭60−213562号記載の化合物を
含むことができる。
【0035】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に
説明する。
説明する。
【0036】実施例1 図1に示すように自動現像機(GR−27 コニカ(株)
製)の水洗槽底部に遠赤外線放射体を搭載したものにて
大全フィルムを処理した(大全サイズ508×610mm2)。
処理中の洗浄液は、放射源への供給電力1500W、照射時
間1時間おきに1分間で水洗槽底部で遠赤外線照射(放
射主波長5〜8μm)を行いながら処理をした。水の供
給量は大全1枚あたり5.7リットルで1枚処理が行われ
ると電磁弁が作動し水源から5リットル/分のペースで
洗浄液が水洗槽中に供給され余った洗浄液はオーバーフ
ローから排液される。以上の動作を現像挿入部のフィル
ム感知センサーを利用し、電磁弁とタイマーを用いて自
動的に行った。
製)の水洗槽底部に遠赤外線放射体を搭載したものにて
大全フィルムを処理した(大全サイズ508×610mm2)。
処理中の洗浄液は、放射源への供給電力1500W、照射時
間1時間おきに1分間で水洗槽底部で遠赤外線照射(放
射主波長5〜8μm)を行いながら処理をした。水の供
給量は大全1枚あたり5.7リットルで1枚処理が行われ
ると電磁弁が作動し水源から5リットル/分のペースで
洗浄液が水洗槽中に供給され余った洗浄液はオーバーフ
ローから排液される。以上の動作を現像挿入部のフィル
ム感知センサーを利用し、電磁弁とタイマーを用いて自
動的に行った。
【0037】実施例2 実施例1において、遠赤外線照射を、放射源への供給電
力1000W、照射時間1時間おきに3分間に変えた以外は
実施例1と同様に処理した。
力1000W、照射時間1時間おきに3分間に変えた以外は
実施例1と同様に処理した。
【0038】比較例1 上記遠赤外線照射機構を設けていない通常の自動現像機
(GR−27 コニカ(株)製)にて処理した。これらの
方法にて大全サイズフィルムを間欠的に1日あたり120
枚ずつ2ヶ月間処理を続けた。
(GR−27 コニカ(株)製)にて処理した。これらの
方法にて大全サイズフィルムを間欠的に1日あたり120
枚ずつ2ヶ月間処理を続けた。
【0039】上記実施例1,2および比較例1におい
て、いづれも一日の処理終了時には水洗槽の洗浄液を電
磁弁を用いて自動的に抜いている。
て、いづれも一日の処理終了時には水洗槽の洗浄液を電
磁弁を用いて自動的に抜いている。
【0040】評価として水洗槽ラックの汚れ状態を表1
に併せて表示した。なお、上記フィルムは明室返し用フ
ィルムCRHE−A(コニカ(株)製)を製版用プリン
ターP−607(大日本スクリーン(株)製)にて露光、
黒化率約20%を使用し、現像液CDM−651K、定着液
CFL851(いずれもコニカ(株)製)にて現像28℃30
秒にて処理を行った。
に併せて表示した。なお、上記フィルムは明室返し用フ
ィルムCRHE−A(コニカ(株)製)を製版用プリン
ターP−607(大日本スクリーン(株)製)にて露光、
黒化率約20%を使用し、現像液CDM−651K、定着液
CFL851(いずれもコニカ(株)製)にて現像28℃30
秒にて処理を行った。
【0041】
【表1】 上記表1から判る通り、本発明の処理方法は長期連続使
用でもメインテナンスフリーの水垢防止が可能であるこ
とは明らかである。
用でもメインテナンスフリーの水垢防止が可能であるこ
とは明らかである。
【0042】実施例3 図2に示すように配管を接続した自動現像機(GR−27
コニカ(株)製)にて大全フィルムを処理した(大全
サイズ508×610mm2)。処理中の洗浄液は表2に示す条
件で貯水タンク(5リットル)中で遠赤外線照射を放射
源への供給電力1500W、放射主波長5〜8μm、水1リ
ットル当りの照射時間8秒で行った後、水洗槽に供給さ
れる。水の供給量は大全1枚あたり1.5リットルで5枚
処理が行われる度に3.3リットルの洗浄液が水洗槽に供
給される。以上の動作を定着液補充信号を利用し、電磁
弁とタイマーを用いて自動的に行った。
コニカ(株)製)にて大全フィルムを処理した(大全
サイズ508×610mm2)。処理中の洗浄液は表2に示す条
件で貯水タンク(5リットル)中で遠赤外線照射を放射
源への供給電力1500W、放射主波長5〜8μm、水1リ
ットル当りの照射時間8秒で行った後、水洗槽に供給さ
れる。水の供給量は大全1枚あたり1.5リットルで5枚
処理が行われる度に3.3リットルの洗浄液が水洗槽に供
給される。以上の動作を定着液補充信号を利用し、電磁
弁とタイマーを用いて自動的に行った。
【0043】実施例4 実施例3における遠赤外線照射を、放射源への供給電力
1000W、水1リットル当りの照射時間12秒に変えた以外
は実施例3と同様に処理した。
1000W、水1リットル当りの照射時間12秒に変えた以外
は実施例3と同様に処理した。
【0044】比較例2 上記遠赤外線照射機構を設けていない通常の自動現像機
(GR−27 コニカ(株)製)にて処理した。これらの
方法にて大全サイズフィルムを間欠的に1日あたり120
枚ずつ2ヶ月間処理を続けた。
(GR−27 コニカ(株)製)にて処理した。これらの
方法にて大全サイズフィルムを間欠的に1日あたり120
枚ずつ2ヶ月間処理を続けた。
【0045】上記実施例3,4および比較例2におい
て、いづれも一日の処理終了時には水洗槽の洗浄液を電
磁弁を用いて自動的に抜いている。評価として水洗槽ラ
ックの汚れ状態を表2に併せて表示した。なお、上記フ
ィルムは明室返し用フィルムCRHE−A(コニカ
(株)製)を製版用プリンターP−607(大日本スクリ
ーン(株)製)にて露光、黒化率約20%を使用し、現像
液CDM−651K、定着液CFL851(いずれもコニカ
(株)製)にて現像28℃30秒にて処理を行った。
て、いづれも一日の処理終了時には水洗槽の洗浄液を電
磁弁を用いて自動的に抜いている。評価として水洗槽ラ
ックの汚れ状態を表2に併せて表示した。なお、上記フ
ィルムは明室返し用フィルムCRHE−A(コニカ
(株)製)を製版用プリンターP−607(大日本スクリ
ーン(株)製)にて露光、黒化率約20%を使用し、現像
液CDM−651K、定着液CFL851(いずれもコニカ
(株)製)にて現像28℃30秒にて処理を行った。
【0046】
【表2】 表2から判る通り、本発明の処理方法によれば長期連続
使用でもメインテナンスフリーの水垢汚れ防止が可能で
あることが明らかである。
使用でもメインテナンスフリーの水垢汚れ防止が可能で
あることが明らかである。
【0047】
【発明の効果】本発明によれば、自動現像機の水洗槽の
かび、バクテリアの発生を抑制し、水垢による汚れを防
止し、かつ安価でしかも長期連続使用でもメインテナン
スフリーの水垢防止が可能な感光材料の処理方法を提供
できる。
かび、バクテリアの発生を抑制し、水垢による汚れを防
止し、かつ安価でしかも長期連続使用でもメインテナン
スフリーの水垢防止が可能な感光材料の処理方法を提供
できる。
【図1】本発明における、自動現像機の水洗槽において
洗浄液に遠赤外線を照射しながら処理する方式の1例を
示す概略構成図である。
洗浄液に遠赤外線を照射しながら処理する方式の1例を
示す概略構成図である。
【図2】本発明における、自動現像機の水洗槽にあらか
じめ遠赤外線を照射した洗浄液を供給して処理する方式
の1例を示す概略構成図である。
じめ遠赤外線を照射した洗浄液を供給して処理する方式
の1例を示す概略構成図である。
1,12 自動現像機 2,13 現像槽 3,14 定着槽 4,15 水洗槽 5,17 水源 10,22 遠赤外線放射体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G03D 3/00 G03D 13/00 G03C 11/00
Claims (2)
- 【請求項1】 ハロゲン化銀写真感光材料を自動現像機
を用いて処理する場合において、水洗槽において洗浄液
に遠赤外線を照射しながら処理することを特徴とする感
光材料の処理方法。 - 【請求項2】 ハロゲン化銀写真感光材料を自動現像機
を用いて処理する場合において、水洗槽に供給する洗浄
液にあらかじめ遠赤外線を照射し、水洗槽中に供給する
ことを特徴とする感光材料の処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26913291A JP2922345B2 (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | 感光材料の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26913291A JP2922345B2 (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | 感光材料の処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0580464A JPH0580464A (ja) | 1993-04-02 |
JP2922345B2 true JP2922345B2 (ja) | 1999-07-19 |
Family
ID=17468143
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26913291A Expired - Fee Related JP2922345B2 (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | 感光材料の処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2922345B2 (ja) |
-
1991
- 1991-09-20 JP JP26913291A patent/JP2922345B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0580464A (ja) | 1993-04-02 |
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