JP2920701B2 - レジストの現像方法及びその装置 - Google Patents
レジストの現像方法及びその装置Info
- Publication number
- JP2920701B2 JP2920701B2 JP3063894A JP6389491A JP2920701B2 JP 2920701 B2 JP2920701 B2 JP 2920701B2 JP 3063894 A JP3063894 A JP 3063894A JP 6389491 A JP6389491 A JP 6389491A JP 2920701 B2 JP2920701 B2 JP 2920701B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- developing
- resist
- developing solution
- developer
- chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ICリードフレーム製
造におけるエッチング工程などにおいて、材料面の汚れ
がなく、レジストパターンの均一性が高い安定した現像
が、短時間に材料両面を同時に現像することができるレ
ジストの現像方法及びその装置に関するものである。
造におけるエッチング工程などにおいて、材料面の汚れ
がなく、レジストパターンの均一性が高い安定した現像
が、短時間に材料両面を同時に現像することができるレ
ジストの現像方法及びその装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、IC用リードフレーム製造のエ
ッチング工程においては、リードフレーム材料を選択エ
ッチングする場合、基板材上に、所定パターンを形成す
るための部分となるマスクとなるレジスト層を、塗布
し、これに所定パターンの露光を行ない、これを現像す
ることによってレジストのパターンを形成し、その後、
材料をエッチングすることが行なわれている。
ッチング工程においては、リードフレーム材料を選択エ
ッチングする場合、基板材上に、所定パターンを形成す
るための部分となるマスクとなるレジスト層を、塗布
し、これに所定パターンの露光を行ない、これを現像す
ることによってレジストのパターンを形成し、その後、
材料をエッチングすることが行なわれている。
【0003】近年、IC用リードフレームのパターン
は、微細化の一途をたどり、それに伴なって製造工程に
新規技術が採用されてきている。すなわち、たとえば、
微細化リードフレームパターンの形成に対応するため
に、高感度、高解像力のレジスト類及び露光機を使用し
て、レジストパターン形成の現像工程でパターンの解像
力が損なわれたり、パターンのばらつきが発生したりし
ないようにしている。
は、微細化の一途をたどり、それに伴なって製造工程に
新規技術が採用されてきている。すなわち、たとえば、
微細化リードフレームパターンの形成に対応するため
に、高感度、高解像力のレジスト類及び露光機を使用し
て、レジストパターン形成の現像工程でパターンの解像
力が損なわれたり、パターンのばらつきが発生したりし
ないようにしている。
【0004】パターン形成の各工程のうち、現像を行な
う方法としては、従来、レジストを塗布し、露光した後
の材料(以下、単に材料という)を現像液が満たされた
槽中に浸漬する方法(以下、ディップ法という)、ある
いは、材料を横方向に搬送しながら現像液をスプレーや
シャワーによって材料に接触させる方法(以下、スプレ
ー法という)とがある。
う方法としては、従来、レジストを塗布し、露光した後
の材料(以下、単に材料という)を現像液が満たされた
槽中に浸漬する方法(以下、ディップ法という)、ある
いは、材料を横方向に搬送しながら現像液をスプレーや
シャワーによって材料に接触させる方法(以下、スプレ
ー法という)とがある。
【0005】一般に、ディップ法では、材料の処理能力
が大きく、現像液温度を一定に保持し得、材料面内のパ
ターン形成の均一性が良いといった利点があるが、現像
液中へのレジストの混入などにより材料面に汚れが付き
易いためにパターン欠陥の発生が多く高品質のものが得
難く、現像液が劣化し易く、パターン寸法の制御が困難
であるという欠点がある。又、スプレー法では、材料面
に汚れが付き難いという利点があるが、材料の処理能力
が小さく、現像液温を一定に保持し難く、材料面内でス
プレーやシャワーの圧力あるいはノズルの状態が均一化
されないことが多く、現像むらを発生し易く、パターン
形成のばらつきが生ずるなどといった欠点がある。
が大きく、現像液温度を一定に保持し得、材料面内のパ
ターン形成の均一性が良いといった利点があるが、現像
液中へのレジストの混入などにより材料面に汚れが付き
易いためにパターン欠陥の発生が多く高品質のものが得
難く、現像液が劣化し易く、パターン寸法の制御が困難
であるという欠点がある。又、スプレー法では、材料面
に汚れが付き難いという利点があるが、材料の処理能力
が小さく、現像液温を一定に保持し難く、材料面内でス
プレーやシャワーの圧力あるいはノズルの状態が均一化
されないことが多く、現像むらを発生し易く、パターン
形成のばらつきが生ずるなどといった欠点がある。
【0006】これらの欠点を改善し、良好なレジストパ
ターンを得ることができるレジストの現像方法として、
たとえば、第2図に示すように、試料保持枠11′中に
保持した試料12′をレジスト層16′を有する面を上
向きにして、搬送方向と直交する方向に傾斜させ、現像
室内へ連続的又は断続的に送り込み、ノズル9′−1か
ら吐出され層流発生部14′で層流13′とされ、レジ
スト層16′表面に沿って薄い層流13′として流下す
る現像液17′で現像する方法(特公平1−44011
号公報)が開示されている。
ターンを得ることができるレジストの現像方法として、
たとえば、第2図に示すように、試料保持枠11′中に
保持した試料12′をレジスト層16′を有する面を上
向きにして、搬送方向と直交する方向に傾斜させ、現像
室内へ連続的又は断続的に送り込み、ノズル9′−1か
ら吐出され層流発生部14′で層流13′とされ、レジ
スト層16′表面に沿って薄い層流13′として流下す
る現像液17′で現像する方法(特公平1−44011
号公報)が開示されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特公平
1−44011号公報記載の方法は、一工程において片
面だけしか現像処理ができず、両面現像を行なうために
は、試料の傾斜方向を反転させ、前記の操作を繰り返す
といったような片面ずつ現像を行なう必要があるといっ
た問題がある。
1−44011号公報記載の方法は、一工程において片
面だけしか現像処理ができず、両面現像を行なうために
は、試料の傾斜方向を反転させ、前記の操作を繰り返す
といったような片面ずつ現像を行なう必要があるといっ
た問題がある。
【0008】本発明は、従来法の欠点である材料面への
汚れの付着をなくし、現像液の劣化を防ぎ、処理能力を
高め、現像液温度を安定に保ち、パターン形成のばらつ
きを除去し、1回の処理で両面同時に現像し得て高品質
な微細化パターンを連続的に得ることができる現像方法
とその方法を施行するのに好適な装置を提供することを
目的とするものである。
汚れの付着をなくし、現像液の劣化を防ぎ、処理能力を
高め、現像液温度を安定に保ち、パターン形成のばらつ
きを除去し、1回の処理で両面同時に現像し得て高品質
な微細化パターンを連続的に得ることができる現像方法
とその方法を施行するのに好適な装置を提供することを
目的とするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者は、前記問題を
解決し、前記目的を達成するために研究を重ねた結果、
材料を現像液中に浸漬した後、垂直方向に搬送し、この
搬送中に複数段で両側から現像液を吹き付けるようにす
ることによって目的を達し得ることを見出して本発明を
完成するに至った。すなわち、本発明の第1の実施態様
は、露光処理されたレジスト層を両面に有する材料の連
続現像処理において、前記材料を現像液中に浸漬した
後、垂直方向に搬送し、垂直搬送中に複数段にスプレー
又はシャワー状態で循環現像液及び新現像液を前記材料
の両面からレジスト面上に吹き付けると共に、少くとも
最上段で吹き付ける現像液を新液とし、垂直引き上げ搬
送状態でレジストパターンを前記材料の両面に連続的に
同時に形成するレジストの現像方法であり、第2の実施
態様は、現像液を収容した現像室、該現像室内に設けた
垂直搬送用ローラ、現像室内に上下関係に複数段に水平
に材料の両面に対向して設けられかつ少くとも最上段を
新液の現像液とした1対のノズルとを設けてなるレジス
トの現像装置である。
解決し、前記目的を達成するために研究を重ねた結果、
材料を現像液中に浸漬した後、垂直方向に搬送し、この
搬送中に複数段で両側から現像液を吹き付けるようにす
ることによって目的を達し得ることを見出して本発明を
完成するに至った。すなわち、本発明の第1の実施態様
は、露光処理されたレジスト層を両面に有する材料の連
続現像処理において、前記材料を現像液中に浸漬した
後、垂直方向に搬送し、垂直搬送中に複数段にスプレー
又はシャワー状態で循環現像液及び新現像液を前記材料
の両面からレジスト面上に吹き付けると共に、少くとも
最上段で吹き付ける現像液を新液とし、垂直引き上げ搬
送状態でレジストパターンを前記材料の両面に連続的に
同時に形成するレジストの現像方法であり、第2の実施
態様は、現像液を収容した現像室、該現像室内に設けた
垂直搬送用ローラ、現像室内に上下関係に複数段に水平
に材料の両面に対向して設けられかつ少くとも最上段を
新液の現像液とした1対のノズルとを設けてなるレジス
トの現像装置である。
【0010】
【作用】本発明はこのように、現像液中を搬送して現像
し、さらに、垂直方向にローラによって転位して材料の
両面から現像液を吹き付けるように設けた複数のノズル
から現像液を吹き付けて現像するものであり、とくに、
最上段のノズルからは新らしい現像液を吹き付けて現像
する方法及び装置であるので汚れのない鮮明なパターン
を1回の処理で両面同時に現像することができるもので
ある。したがって、現像液の温度と現像能力とを一定に
保ちつつスプレー圧力を任意に制御できるので、現像条
件の再現性がよい。又、材料両面に現像液を吹き付ける
中を垂直に材料を引き上げるので、材料内、材料間での
レジストパターンの均一性が高い。さらに、現像の仕上
げに新らしい現像液を吹き付けるので材料に汚れが付着
しないものである。
し、さらに、垂直方向にローラによって転位して材料の
両面から現像液を吹き付けるように設けた複数のノズル
から現像液を吹き付けて現像するものであり、とくに、
最上段のノズルからは新らしい現像液を吹き付けて現像
する方法及び装置であるので汚れのない鮮明なパターン
を1回の処理で両面同時に現像することができるもので
ある。したがって、現像液の温度と現像能力とを一定に
保ちつつスプレー圧力を任意に制御できるので、現像条
件の再現性がよい。又、材料両面に現像液を吹き付ける
中を垂直に材料を引き上げるので、材料内、材料間での
レジストパターンの均一性が高い。さらに、現像の仕上
げに新らしい現像液を吹き付けるので材料に汚れが付着
しないものである。
【0011】
【実施例】次に、添付の図面に基づいて本発明の実施例
を述べる。
を述べる。
【0012】図1は、本発明装置の一実施例を示す説明
用概念図である。
用概念図である。
【0013】1は、現像室であって、横長の箱形をした
水平室1aと、水平室1aの一方側に縦長に設置された
垂直室1bからなり、現像室1には、現像液2が収容さ
れていてディップ現像を行ない、垂直室1bでは、後述
する垂直搬送中にスプレー現像を行ない得るようになっ
ている。3は、材料であって、基材両面に塗布されたレ
ジストが前工程ですでに露光されていて、水平室1a中
に設置されている1組のそれぞれ1対の水平搬送用ロー
ラ11a及び11bによって略水平に支持され、水平室
1a中の現像液2の中に浸漬されて一部現像されながら
略水平方向に搬送され、垂直室1b側に設けられた水平
搬送用ローラ11bの直上に間隔をおいて垂直室1b内
に設けられた1対の垂直搬送用ローラ12と水平搬送用
ローラ11bとによって支持されて垂直上方向に転位さ
れて搬送されるようになっている。4は、循環液用ノズ
ルであって、現像室1の垂直室1b内に、垂直上方向に
搬送される材料3の両面に一対として上下関係で複数段
に設けられ、水平室1a内の現像液2をポンプ5によっ
て抜き出してバルブ8と圧力計9とによってそれぞれ流
量と吹き付け圧力とを調節して材料3の両面に吹き付け
て両面同時に現像し得るようにされている。6は、新液
用ノズルであって、循環液用ノズル4の上側に循環液用
ノズル4と同様に設けられ、貯槽(図示せず)から新ら
しい現像液を新現像液管7から温度制御部16によって
液温を所定温度に調節し、バルブ8と圧力計9によって
流量吹き付け圧力を調節して材料3の両面に吹き付け
て、材料3の現像を仕上げるとともに材料3面に付着し
た汚れを除去し、現像仕上げ面を清浄に保持し得るよう
にする。10は、現像液排出口であって、新液用ノズル
6から吹き付けられ、水平室1a中の現像液2中へ流入
する新らしい現像液量に相当する量の現像液2を、たと
えばオーバーフローによって排出し得るようになってい
る。16は、温度制御部であって、たとえば、ヒーター
13、温度計14、温調計15などからなり、水平室1
a及び新現像液管7に設けられ、それぞれの現像液の温
度制御を行なうようになっている。
水平室1aと、水平室1aの一方側に縦長に設置された
垂直室1bからなり、現像室1には、現像液2が収容さ
れていてディップ現像を行ない、垂直室1bでは、後述
する垂直搬送中にスプレー現像を行ない得るようになっ
ている。3は、材料であって、基材両面に塗布されたレ
ジストが前工程ですでに露光されていて、水平室1a中
に設置されている1組のそれぞれ1対の水平搬送用ロー
ラ11a及び11bによって略水平に支持され、水平室
1a中の現像液2の中に浸漬されて一部現像されながら
略水平方向に搬送され、垂直室1b側に設けられた水平
搬送用ローラ11bの直上に間隔をおいて垂直室1b内
に設けられた1対の垂直搬送用ローラ12と水平搬送用
ローラ11bとによって支持されて垂直上方向に転位さ
れて搬送されるようになっている。4は、循環液用ノズ
ルであって、現像室1の垂直室1b内に、垂直上方向に
搬送される材料3の両面に一対として上下関係で複数段
に設けられ、水平室1a内の現像液2をポンプ5によっ
て抜き出してバルブ8と圧力計9とによってそれぞれ流
量と吹き付け圧力とを調節して材料3の両面に吹き付け
て両面同時に現像し得るようにされている。6は、新液
用ノズルであって、循環液用ノズル4の上側に循環液用
ノズル4と同様に設けられ、貯槽(図示せず)から新ら
しい現像液を新現像液管7から温度制御部16によって
液温を所定温度に調節し、バルブ8と圧力計9によって
流量吹き付け圧力を調節して材料3の両面に吹き付け
て、材料3の現像を仕上げるとともに材料3面に付着し
た汚れを除去し、現像仕上げ面を清浄に保持し得るよう
にする。10は、現像液排出口であって、新液用ノズル
6から吹き付けられ、水平室1a中の現像液2中へ流入
する新らしい現像液量に相当する量の現像液2を、たと
えばオーバーフローによって排出し得るようになってい
る。16は、温度制御部であって、たとえば、ヒーター
13、温度計14、温調計15などからなり、水平室1
a及び新現像液管7に設けられ、それぞれの現像液の温
度制御を行なうようになっている。
【0014】上述した実施例で示した本発明装置を使用
して、現像液温35.0℃、吹き付け圧力0.8Kg/
cm2、新現像液供給量10l/分、現像時間50秒間
に設定して現像処理を行なった。すなわち、両面にレジ
ストを塗布し、前工程で露光処理をうけた材料3を、現
像室1の水平室1a内へ水平搬送用ローラ11a、11
bによって略水平に支持されて現像液2中を略水平に搬
送されて一部現像され、水平搬送用ローラ11b及び垂
直搬送用ローラ12によって搬送方向を垂直上方向に転
位されて垂直室1b内を垂直上方に搬送される。この垂
直に引き上げられて搬送される間に、水平室1aからポ
ンプ5によって送られバルブ8と圧力計9とによって所
定の流量と圧力に調節された現像液2が、複数段に設け
られた一対の循環液用ノズル4から材料3の両面に同時
に吹き付けられて現像が進行する。しかして、最上段に
設けられた新液用ノズル6からは、新らしい現像液が、
温度制御部16で所定液温に調整され、バルブ8、圧力
計9によって所定の流量、圧力に調整されて材料3の両
面に同時に吹き付けられて現像を完結するとともに、材
料3面は付着している汚れを除去され、現像仕上げ面を
清浄にされて現像室1から次工程へ搬送される。現像液
2は、新液用ノズル6から供給される新らしい現像液の
量に相当する量が現像液排出口10から排出される。
して、現像液温35.0℃、吹き付け圧力0.8Kg/
cm2、新現像液供給量10l/分、現像時間50秒間
に設定して現像処理を行なった。すなわち、両面にレジ
ストを塗布し、前工程で露光処理をうけた材料3を、現
像室1の水平室1a内へ水平搬送用ローラ11a、11
bによって略水平に支持されて現像液2中を略水平に搬
送されて一部現像され、水平搬送用ローラ11b及び垂
直搬送用ローラ12によって搬送方向を垂直上方向に転
位されて垂直室1b内を垂直上方に搬送される。この垂
直に引き上げられて搬送される間に、水平室1aからポ
ンプ5によって送られバルブ8と圧力計9とによって所
定の流量と圧力に調節された現像液2が、複数段に設け
られた一対の循環液用ノズル4から材料3の両面に同時
に吹き付けられて現像が進行する。しかして、最上段に
設けられた新液用ノズル6からは、新らしい現像液が、
温度制御部16で所定液温に調整され、バルブ8、圧力
計9によって所定の流量、圧力に調整されて材料3の両
面に同時に吹き付けられて現像を完結するとともに、材
料3面は付着している汚れを除去され、現像仕上げ面を
清浄にされて現像室1から次工程へ搬送される。現像液
2は、新液用ノズル6から供給される新らしい現像液の
量に相当する量が現像液排出口10から排出される。
【0015】現像終了後、試料表面を観察したところ、
汚れや現像むらは全く認められず、レジストパターン形
状も良好であった。又、現像液温度の変動は±0.3℃
以内で十分安定しており、パターン寸法のばらつきは材
料内、材料間、表裏ともに0.5μm以内であり、高い
均一性のパターンが連続的に得られていることが認めら
れた。さらに、現像時間は、材料3の搬送速度によって
調整できるが、50秒間で現像は完了しており、従来法
と比較して短かく、十分大きな処理能力が得られること
が認められた。
汚れや現像むらは全く認められず、レジストパターン形
状も良好であった。又、現像液温度の変動は±0.3℃
以内で十分安定しており、パターン寸法のばらつきは材
料内、材料間、表裏ともに0.5μm以内であり、高い
均一性のパターンが連続的に得られていることが認めら
れた。さらに、現像時間は、材料3の搬送速度によって
調整できるが、50秒間で現像は完了しており、従来法
と比較して短かく、十分大きな処理能力が得られること
が認められた。
【0016】
【発明の効果】本発明は、両面にレジストを塗布し、露
光した材料を、まず現像液中を搬送した後、垂直方向に
転位させ、垂直に引き上げて搬送する途中で複数段で現
像液を両面に吹き付けて両面同時に現像し、とくに最上
段で新しい現像液を吹き付けるようにしたので、安定し
た現像条件が得られ、レジストパターンの均一性が高
く、材料の汚れがない製品を、1回の現像処理によっ
て、現像時間を短くし得、両面を同時に現像し得て、連
続的に製造し得るものであって顕著な効果が認められ
る。
光した材料を、まず現像液中を搬送した後、垂直方向に
転位させ、垂直に引き上げて搬送する途中で複数段で現
像液を両面に吹き付けて両面同時に現像し、とくに最上
段で新しい現像液を吹き付けるようにしたので、安定し
た現像条件が得られ、レジストパターンの均一性が高
く、材料の汚れがない製品を、1回の現像処理によっ
て、現像時間を短くし得、両面を同時に現像し得て、連
続的に製造し得るものであって顕著な効果が認められ
る。
【図1】本発明装置の一実施例を示す説明用概略図であ
る。
る。
【図2】従来例の一実施例を示す側断面図である。
1 現像室 1a 水平室 1b 垂直室 2 現像液 3 材料 4 循環液用ノズル 6 新液用ノズル 11a、11b 水平搬送用ローラ 12 垂直搬送用ローラ 16 温度制御部
Claims (2)
- 【請求項1】 露光処理されたレジスト層を両面に有す
る材料の連続現像処理において、前記材料を現像液中に
浸漬した後、垂直方向に搬送し、垂直搬送中に複数段に
スプレー又はシャワー状態で現像液を前記材料の両面か
らレジスト面上に吹き付けると共に、少くとも最上段で
吹き付ける現像液を新液とし、垂直引き上げ搬送状態で
レジストパターンを前記材料の両面に連続的に同時に形
成することを特徴とするレジストの現像方法。 - 【請求項2】 現像液を収容した現像室、該現像室内に
設けた垂直搬送用ローラ、現像室内に上下関係に複数段
に水平に材料の両面に対向して設けられかつ少くとも最
上段を新液の現像液用とした1対のノズルとを設けてな
ることを特徴とするレジストの現像装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3063894A JP2920701B2 (ja) | 1991-03-05 | 1991-03-05 | レジストの現像方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3063894A JP2920701B2 (ja) | 1991-03-05 | 1991-03-05 | レジストの現像方法及びその装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04276757A JPH04276757A (ja) | 1992-10-01 |
JP2920701B2 true JP2920701B2 (ja) | 1999-07-19 |
Family
ID=13242466
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3063894A Expired - Lifetime JP2920701B2 (ja) | 1991-03-05 | 1991-03-05 | レジストの現像方法及びその装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2920701B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6421075B2 (ja) * | 2015-05-11 | 2018-11-07 | 富士フイルム株式会社 | 現像装置、現像方法、パターン形成装置およびパターン形成方法 |
JP7101036B2 (ja) * | 2018-04-26 | 2022-07-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置及び処理液供給方法 |
-
1991
- 1991-03-05 JP JP3063894A patent/JP2920701B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04276757A (ja) | 1992-10-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3254574B2 (ja) | 塗布膜形成方法及びその装置 | |
JP4643684B2 (ja) | 液処理装置および液処理方法 | |
JPH11305184A (ja) | 液晶表示パネルの製造方法およびこれに用いられる洗浄装置 | |
JP2003257833A (ja) | 液処理方法および液処理装置 | |
KR101076152B1 (ko) | 도포노즐 및 도포장치 | |
KR101067143B1 (ko) | 도포막형성 장치 및 도포막형성 방법 | |
JP2920701B2 (ja) | レジストの現像方法及びその装置 | |
JP3676263B2 (ja) | 塗布膜形成装置及び塗布膜形成方法 | |
JPH04200768A (ja) | コーティング装置 | |
JP2824031B2 (ja) | 基板の表面処理装置 | |
JP2006253515A (ja) | 基板処理方法及び基板処理装置 | |
JPH08236498A (ja) | エアナイフ乾燥方法 | |
JPH024986A (ja) | 基板の表面処理方法 | |
JPH08293660A (ja) | 基板のエッチング装置、および、基板のエッチング処理方法 | |
JP3957569B2 (ja) | 液処理装置 | |
JPH10242047A (ja) | 処理液処理方法および基板連続処理装置 | |
JP3040055B2 (ja) | 感光性樹脂の現像方法 | |
JP3817107B2 (ja) | 半導体装置の製造装置、液晶表示装置の製造装置、半導体装置の製造方法、液晶表示装置の製造方法 | |
JP2003303807A (ja) | 基板の処理装置及び処理方法 | |
JPH06302935A (ja) | 基板のエッチング方法、および、基板のエッチング装置 | |
JP3715171B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JPH06112118A (ja) | 処理液塗布装置 | |
JPH08307037A (ja) | 基板のエッチング方法、および、基板のエッチング装置 | |
JPH07188949A (ja) | 基板の表面処理法及びその処理装置 | |
JPH0144011B2 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |