JP2920701B2 - レジストの現像方法及びその装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ＩＣリードフレーム製
造におけるエッチング工程などにおいて、材料面の汚れ
がなく、レジストパターンの均一性が高い安定した現像
が、短時間に材料両面を同時に現像することができるレ
ジストの現像方法及びその装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、ＩＣ用リードフレーム製造のエ
ッチング工程においては、リードフレーム材料を選択エ
ッチングする場合、基板材上に、所定パターンを形成す
るための部分となるマスクとなるレジスト層を、塗布
し、これに所定パターンの露光を行ない、これを現像す
ることによってレジストのパターンを形成し、その後、
材料をエッチングすることが行なわれている。

【０００３】近年、ＩＣ用リードフレームのパターン
は、微細化の一途をたどり、それに伴なって製造工程に
新規技術が採用されてきている。すなわち、たとえば、
微細化リードフレームパターンの形成に対応するため
に、高感度、高解像力のレジスト類及び露光機を使用し
て、レジストパターン形成の現像工程でパターンの解像
力が損なわれたり、パターンのばらつきが発生したりし
ないようにしている。

【０００４】パターン形成の各工程のうち、現像を行な
う方法としては、従来、レジストを塗布し、露光した後
の材料（以下、単に材料という）を現像液が満たされた
槽中に浸漬する方法（以下、ディップ法という）、ある
いは、材料を横方向に搬送しながら現像液をスプレーや
シャワーによって材料に接触させる方法（以下、スプレ
ー法という）とがある。

【０００５】一般に、ディップ法では、材料の処理能力
が大きく、現像液温度を一定に保持し得、材料面内のパ
ターン形成の均一性が良いといった利点があるが、現像
液中へのレジストの混入などにより材料面に汚れが付き
易いためにパターン欠陥の発生が多く高品質のものが得
難く、現像液が劣化し易く、パターン寸法の制御が困難
であるという欠点がある。又、スプレー法では、材料面
に汚れが付き難いという利点があるが、材料の処理能力
が小さく、現像液温を一定に保持し難く、材料面内でス
プレーやシャワーの圧力あるいはノズルの状態が均一化
されないことが多く、現像むらを発生し易く、パターン
形成のばらつきが生ずるなどといった欠点がある。

【０００６】これらの欠点を改善し、良好なレジストパ
ターンを得ることができるレジストの現像方法として、
たとえば、第２図に示すように、試料保持枠１１′中に
保持した試料１２′をレジスト層１６′を有する面を上
向きにして、搬送方向と直交する方向に傾斜させ、現像
室内へ連続的又は断続的に送り込み、ノズル９′−１か
ら吐出され層流発生部１４′で層流１３′とされ、レジ
スト層１６′表面に沿って薄い層流１３′として流下す
る現像液１７′で現像する方法（特公平１−４４０１１
号公報）が開示されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特公平
１−４４０１１号公報記載の方法は、一工程において片
面だけしか現像処理ができず、両面現像を行なうために
は、試料の傾斜方向を反転させ、前記の操作を繰り返す
といったような片面ずつ現像を行なう必要があるといっ
た問題がある。

【０００８】本発明は、従来法の欠点である材料面への
汚れの付着をなくし、現像液の劣化を防ぎ、処理能力を
高め、現像液温度を安定に保ち、パターン形成のばらつ
きを除去し、１回の処理で両面同時に現像し得て高品質
な微細化パターンを連続的に得ることができる現像方法
とその方法を施行するのに好適な装置を提供することを
目的とするものである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者は、前記問題を
解決し、前記目的を達成するために研究を重ねた結果、
材料を現像液中に浸漬した後、垂直方向に搬送し、この
搬送中に複数段で両側から現像液を吹き付けるようにす
ることによって目的を達し得ることを見出して本発明を
完成するに至った。すなわち、本発明の第１の実施態様
は、露光処理されたレジスト層を両面に有する材料の連
続現像処理において、前記材料を現像液中に浸漬した
後、垂直方向に搬送し、垂直搬送中に複数段にスプレー
又はシャワー状態で循環現像液及び新現像液を前記材料
の両面からレジスト面上に吹き付けると共に、少くとも
最上段で吹き付ける現像液を新液とし、垂直引き上げ搬
送状態でレジストパターンを前記材料の両面に連続的に
同時に形成するレジストの現像方法であり、第２の実施
態様は、現像液を収容した現像室、該現像室内に設けた
垂直搬送用ローラ、現像室内に上下関係に複数段に水平
に材料の両面に対向して設けられかつ少くとも最上段を
新液の現像液とした１対のノズルとを設けてなるレジス
トの現像装置である。

【００１０】

【作用】本発明はこのように、現像液中を搬送して現像
し、さらに、垂直方向にローラによって転位して材料の
両面から現像液を吹き付けるように設けた複数のノズル
から現像液を吹き付けて現像するものであり、とくに、
最上段のノズルからは新らしい現像液を吹き付けて現像
する方法及び装置であるので汚れのない鮮明なパターン
を１回の処理で両面同時に現像することができるもので
ある。したがって、現像液の温度と現像能力とを一定に
保ちつつスプレー圧力を任意に制御できるので、現像条
件の再現性がよい。又、材料両面に現像液を吹き付ける
中を垂直に材料を引き上げるので、材料内、材料間での
レジストパターンの均一性が高い。さらに、現像の仕上
げに新らしい現像液を吹き付けるので材料に汚れが付着
しないものである。

【００１１】

【実施例】次に、添付の図面に基づいて本発明の実施例
を述べる。

【００１２】図１は、本発明装置の一実施例を示す説明
用概念図である。

【００１３】１は、現像室であって、横長の箱形をした
水平室１ａと、水平室１ａの一方側に縦長に設置された
垂直室１ｂからなり、現像室１には、現像液２が収容さ
れていてディップ現像を行ない、垂直室１ｂでは、後述
する垂直搬送中にスプレー現像を行ない得るようになっ
ている。３は、材料であって、基材両面に塗布されたレ
ジストが前工程ですでに露光されていて、水平室１ａ中
に設置されている１組のそれぞれ１対の水平搬送用ロー
ラ１１ａ及び１１ｂによって略水平に支持され、水平室
１ａ中の現像液２の中に浸漬されて一部現像されながら
略水平方向に搬送され、垂直室１ｂ側に設けられた水平
搬送用ローラ１１ｂの直上に間隔をおいて垂直室１ｂ内
に設けられた１対の垂直搬送用ローラ１２と水平搬送用
ローラ１１ｂとによって支持されて垂直上方向に転位さ
れて搬送されるようになっている。４は、循環液用ノズ
ルであって、現像室１の垂直室１ｂ内に、垂直上方向に
搬送される材料３の両面に一対として上下関係で複数段
に設けられ、水平室１ａ内の現像液２をポンプ５によっ
て抜き出してバルブ８と圧力計９とによってそれぞれ流
量と吹き付け圧力とを調節して材料３の両面に吹き付け
て両面同時に現像し得るようにされている。６は、新液
用ノズルであって、循環液用ノズル４の上側に循環液用
ノズル４と同様に設けられ、貯槽（図示せず）から新ら
しい現像液を新現像液管７から温度制御部１６によって
液温を所定温度に調節し、バルブ８と圧力計９によって
流量吹き付け圧力を調節して材料３の両面に吹き付け
て、材料３の現像を仕上げるとともに材料３面に付着し
た汚れを除去し、現像仕上げ面を清浄に保持し得るよう
にする。１０は、現像液排出口であって、新液用ノズル
６から吹き付けられ、水平室１ａ中の現像液２中へ流入
する新らしい現像液量に相当する量の現像液２を、たと
えばオーバーフローによって排出し得るようになってい
る。１６は、温度制御部であって、たとえば、ヒーター
１３、温度計１４、温調計１５などからなり、水平室１
ａ及び新現像液管７に設けられ、それぞれの現像液の温
度制御を行なうようになっている。

【００１４】上述した実施例で示した本発明装置を使用
して、現像液温３５．０℃、吹き付け圧力０．８Ｋｇ／
ｃｍ^２、新現像液供給量１０ｌ／分、現像時間５０秒間
に設定して現像処理を行なった。すなわち、両面にレジ
ストを塗布し、前工程で露光処理をうけた材料３を、現
像室１の水平室１ａ内へ水平搬送用ローラ１１ａ、１１
ｂによって略水平に支持されて現像液２中を略水平に搬
送されて一部現像され、水平搬送用ローラ１１ｂ及び垂
直搬送用ローラ１２によって搬送方向を垂直上方向に転
位されて垂直室１ｂ内を垂直上方に搬送される。この垂
直に引き上げられて搬送される間に、水平室１ａからポ
ンプ５によって送られバルブ８と圧力計９とによって所
定の流量と圧力に調節された現像液２が、複数段に設け
られた一対の循環液用ノズル４から材料３の両面に同時
に吹き付けられて現像が進行する。しかして、最上段に
設けられた新液用ノズル６からは、新らしい現像液が、
温度制御部１６で所定液温に調整され、バルブ８、圧力
計９によって所定の流量、圧力に調整されて材料３の両
面に同時に吹き付けられて現像を完結するとともに、材
料３面は付着している汚れを除去され、現像仕上げ面を
清浄にされて現像室１から次工程へ搬送される。現像液
２は、新液用ノズル６から供給される新らしい現像液の
量に相当する量が現像液排出口１０から排出される。

【００１５】現像終了後、試料表面を観察したところ、
汚れや現像むらは全く認められず、レジストパターン形
状も良好であった。又、現像液温度の変動は±０．３℃
以内で十分安定しており、パターン寸法のばらつきは材
料内、材料間、表裏ともに０．５μｍ以内であり、高い
均一性のパターンが連続的に得られていることが認めら
れた。さらに、現像時間は、材料３の搬送速度によって
調整できるが、５０秒間で現像は完了しており、従来法
と比較して短かく、十分大きな処理能力が得られること
が認められた。

【００１６】

【発明の効果】本発明は、両面にレジストを塗布し、露
光した材料を、まず現像液中を搬送した後、垂直方向に
転位させ、垂直に引き上げて搬送する途中で複数段で現
像液を両面に吹き付けて両面同時に現像し、とくに最上
段で新しい現像液を吹き付けるようにしたので、安定し
た現像条件が得られ、レジストパターンの均一性が高
く、材料の汚れがない製品を、１回の現像処理によっ
て、現像時間を短くし得、両面を同時に現像し得て、連
続的に製造し得るものであって顕著な効果が認められ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明装置の一実施例を示す説明用概略図であ
る。

【図２】従来例の一実施例を示す側断面図である。

【符号の説明】

１ 現像室 １ａ 水平室 １ｂ 垂直室 ２ 現像液 ３ 材料 ４ 循環液用ノズル ６ 新液用ノズル １１ａ、１１ｂ 水平搬送用ローラ １２ 垂直搬送用ローラ １６ 温度制御部

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 露光処理されたレジスト層を両面に有す
   る材料の連続現像処理において、前記材料を現像液中に
   浸漬した後、垂直方向に搬送し、垂直搬送中に複数段に
   スプレー又はシャワー状態で現像液を前記材料の両面か
   らレジスト面上に吹き付けると共に、少くとも最上段で
   吹き付ける現像液を新液とし、垂直引き上げ搬送状態で
   レジストパターンを前記材料の両面に連続的に同時に形
   成することを特徴とするレジストの現像方法。
2. 【請求項２】 現像液を収容した現像室、該現像室内に
   設けた垂直搬送用ローラ、現像室内に上下関係に複数段
   に水平に材料の両面に対向して設けられかつ少くとも最
   上段を新液の現像液用とした１対のノズルとを設けてな
   ることを特徴とするレジストの現像装置。