JP2903457B2 - ガス分析計およびガス分析機構 - Google Patents
ガス分析計およびガス分析機構Info
- Publication number
- JP2903457B2 JP2903457B2 JP35428893A JP35428893A JP2903457B2 JP 2903457 B2 JP2903457 B2 JP 2903457B2 JP 35428893 A JP35428893 A JP 35428893A JP 35428893 A JP35428893 A JP 35428893A JP 2903457 B2 JP2903457 B2 JP 2903457B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- cell
- measurement
- component
- filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 139
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 105
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 44
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 30
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 26
- 238000004868 gas analysis Methods 0.000 claims description 13
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 claims description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 169
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000023077 detection of light stimulus Effects 0.000 description 2
- 239000003546 flue gas Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000001745 non-dispersive infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/27—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands using photo-electric detection ; circuits for computing concentration
- G01N21/274—Calibration, base line adjustment, drift correction
- G01N21/276—Calibration, base line adjustment, drift correction with alternation of sample and standard in optical path
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/35—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
- G01N21/3504—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light for analysing gases, e.g. multi-gas analysis
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/0004—Gaseous mixtures, e.g. polluted air
- G01N33/0009—General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment
- G01N33/0026—General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment using an alternating circulation of another gas
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はガス分析計およびガス分
析機構に関し、特に、シングルセル方式で２成分以上を
同時に検出できる非分散形赤外線ガス分析計、および、
該非分散形赤外線ガス分析計を複数組み合わせたクロス
モジュレーション・シングルセル方式において、２成分
以上を同時に検出するのに好適なガス分析計ユニットの
改良に関するものである。
析機構に関し、特に、シングルセル方式で２成分以上を
同時に検出できる非分散形赤外線ガス分析計、および、
該非分散形赤外線ガス分析計を複数組み合わせたクロス
モジュレーション・シングルセル方式において、２成分
以上を同時に検出するのに好適なガス分析計ユニットの
改良に関するものである。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】非分
散形赤外線ガス分析計（Non Dispersive Infrared Anal
yzer：以下、ＮＤＩＲという）は、１光路１成分検出が
一般的である。複数成分を測定する場合は、シングルセ
ル方式の場合でも２光路２成分検出となり、光学系部品
点数が多く必要となる。さらに、３成分あるいは４成分
同時測定のためには、試料ガスと比較ガスとがロータリ
バルブを介して２つの測定セルに交互に導入されるクロ
スモジュレーション・シングルセル方式を用いてもガス
分析計ユニットを２台用意し、かつ、サンプリング装置
からの試料ガス流量も２系列用意する必要がある。した
がって、サンプリング流量が増加したり、光学系部品点
数の増大、サンプリング系の複雑化等、製品コストが高
くつくと同時に複数台の分析計の保守が必要となり、ラ
ンニングコストも高くつく。また、光断続方式において
は、応答遅れ（シリーズにつないだ場合）等の問題もあ
った。
散形赤外線ガス分析計（Non Dispersive Infrared Anal
yzer：以下、ＮＤＩＲという）は、１光路１成分検出が
一般的である。複数成分を測定する場合は、シングルセ
ル方式の場合でも２光路２成分検出となり、光学系部品
点数が多く必要となる。さらに、３成分あるいは４成分
同時測定のためには、試料ガスと比較ガスとがロータリ
バルブを介して２つの測定セルに交互に導入されるクロ
スモジュレーション・シングルセル方式を用いてもガス
分析計ユニットを２台用意し、かつ、サンプリング装置
からの試料ガス流量も２系列用意する必要がある。した
がって、サンプリング流量が増加したり、光学系部品点
数の増大、サンプリング系の複雑化等、製品コストが高
くつくと同時に複数台の分析計の保守が必要となり、ラ
ンニングコストも高くつく。また、光断続方式において
は、応答遅れ（シリーズにつないだ場合）等の問題もあ
った。
【０００３】本発明は、上述の事柄に留意してなされた
もので、その目的とするところは、シングルセル方式で
２成分以上を同時に検出できるガス分析計、および、ク
ロスモジュレーション・シングルセル方式において、２
成分以上を同時に検出するのに好適なガス分析機構を得
ることである。
もので、その目的とするところは、シングルセル方式で
２成分以上を同時に検出できるガス分析計、および、ク
ロスモジュレーション・シングルセル方式において、２
成分以上を同時に検出するのに好適なガス分析機構を得
ることである。
【０００４】
【課題を解決するための手段および作用】本考案の最大
の特徴は、測定成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を
封入したガスフィルタセルを用い、（１） このガスフ
ィルタセルにビームスプリッターを内蔵してセル内で吸
収された測定成分に対する光量の変化を前記ビームスプ
リッターで各検出器に分割したり、（２） ガスフィル
タセルに光学フィルタを、従来の光学フィルタのように
セルの面と平行に配置するのではなくて該配置位置より
さらにセル側に角度（光路方向に対して、例えば、４５
°）を設けて内蔵させ、かつ、１光路上にこの光学フィ
ルタ内蔵のガスフィルタセルを少なくとも２個直列に配
置して、各検出器で、赤外エネルギを大きい順（光路上
で前方より短波長側成分の順）に測定したり、あるい
は、赤外エネルギを小さい順（光路上で前方より長波長
側成分の順）に測定した点にある。
の特徴は、測定成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を
封入したガスフィルタセルを用い、（１） このガスフ
ィルタセルにビームスプリッターを内蔵してセル内で吸
収された測定成分に対する光量の変化を前記ビームスプ
リッターで各検出器に分割したり、（２） ガスフィル
タセルに光学フィルタを、従来の光学フィルタのように
セルの面と平行に配置するのではなくて該配置位置より
さらにセル側に角度（光路方向に対して、例えば、４５
°）を設けて内蔵させ、かつ、１光路上にこの光学フィ
ルタ内蔵のガスフィルタセルを少なくとも２個直列に配
置して、各検出器で、赤外エネルギを大きい順（光路上
で前方より短波長側成分の順）に測定したり、あるい
は、赤外エネルギを小さい順（光路上で前方より長波長
側成分の順）に測定した点にある。
【０００５】本発明に係るガス分析計は、試料ガスが導
入されるセルの一端側に光源を設ける一方、セルの他端
側に測定成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を封入し
ているガスフィルタセルを設け、このガスフィルタセル
にビームスプリッターを内蔵して、該ビームスプリッタ
ーの透過位置側と反射位置側にそれぞれ検出器を設けた
ことを特徴とする。
入されるセルの一端側に光源を設ける一方、セルの他端
側に測定成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を封入し
ているガスフィルタセルを設け、このガスフィルタセル
にビームスプリッターを内蔵して、該ビームスプリッタ
ーの透過位置側と反射位置側にそれぞれ検出器を設けた
ことを特徴とする。
【０００６】すなわち、本発明は、シングルセルベンチ
の光軸上において、セルの他端側にビームスプリッター
を設けることから、前記光軸上の透過位置側に第１測定
成分を測定する第１検出器を配置できるとともに、前記
光軸上に対する反射光軸側に、第２測定成分を測定する
第２検出器を配置でき、シングルセル方式で２測定成分
を同時に検出できる。しかもビームスプリッターを内蔵
させたガスフィルタセル内には、第１および第２測定成
分の検出に妨害となる干渉ガス成分を封入してあり、干
渉成分の影響を除去できる。
の光軸上において、セルの他端側にビームスプリッター
を設けることから、前記光軸上の透過位置側に第１測定
成分を測定する第１検出器を配置できるとともに、前記
光軸上に対する反射光軸側に、第２測定成分を測定する
第２検出器を配置でき、シングルセル方式で２測定成分
を同時に検出できる。しかもビームスプリッターを内蔵
させたガスフィルタセル内には、第１および第２測定成
分の検出に妨害となる干渉ガス成分を封入してあり、干
渉成分の影響を除去できる。
【０００７】また、本発明は別の観点から、試料ガスと
比較ガスとが切換えバルブを介して交互に導入される２
つの測定セル、この各測定セルごとにその一端側に設け
られた光源、同じく各測定セルごとにその他端側に測定
成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を封入して設けら
れたガスフィルタセル、この２つのガスフィルタセルに
それぞれ内蔵されたビームスプリッターおよびこの各ビ
ームスプリッターごとに透過位置側と反射位置側にそれ
ぞれ設けられた２つの検出器からなるガス分析計ユニッ
トと、前記切換えバルブに接続されたサンプリング装置
とから４成分測定を行うことを特徴とするガス分析機構
を提供する。
比較ガスとが切換えバルブを介して交互に導入される２
つの測定セル、この各測定セルごとにその一端側に設け
られた光源、同じく各測定セルごとにその他端側に測定
成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を封入して設けら
れたガスフィルタセル、この２つのガスフィルタセルに
それぞれ内蔵されたビームスプリッターおよびこの各ビ
ームスプリッターごとに透過位置側と反射位置側にそれ
ぞれ設けられた２つの検出器からなるガス分析計ユニッ
トと、前記切換えバルブに接続されたサンプリング装置
とから４成分測定を行うことを特徴とするガス分析機構
を提供する。
【０００８】すなわち、本発明では、２つの測定セルの
他端側にそれぞれビームスプリッターを設けることか
ら、各ビームスプリッターの透過位置側と反射位置側
に、合わせて４つの検出器を配置できる。したがって、
クロスモジュレーション・シングルセル方式において、
試料ガスと比較ガスが交互に２つの測定セルに送入さ
れ、２測定セルで最大４成分を同時測定できる。また、
試料ガスは１系統のサンプリング装置で処理が可能であ
る。このように、クロスモジュレーション・シングルセ
ル方式では、従来４成分測定に対して、ガス分析計ユニ
ット２台およびサンプリング系も２系列必要であった
が、本考案では、ガス分析計ユニットは１台、サンプリ
ング系も１系列で測定可能となる。しかもビームスプリ
ッターを内蔵させたガスフィルタセル内には、各測定成
分の検出に妨害となる干渉ガス成分を封入してあり、干
渉成分の影響を除去できる。
他端側にそれぞれビームスプリッターを設けることか
ら、各ビームスプリッターの透過位置側と反射位置側
に、合わせて４つの検出器を配置できる。したがって、
クロスモジュレーション・シングルセル方式において、
試料ガスと比較ガスが交互に２つの測定セルに送入さ
れ、２測定セルで最大４成分を同時測定できる。また、
試料ガスは１系統のサンプリング装置で処理が可能であ
る。このように、クロスモジュレーション・シングルセ
ル方式では、従来４成分測定に対して、ガス分析計ユニ
ット２台およびサンプリング系も２系列必要であった
が、本考案では、ガス分析計ユニットは１台、サンプリ
ング系も１系列で測定可能となる。しかもビームスプリ
ッターを内蔵させたガスフィルタセル内には、各測定成
分の検出に妨害となる干渉ガス成分を封入してあり、干
渉成分の影響を除去できる。
【０００９】また、本発明は更に別の観点から、試料ガ
スと比較ガスとが切換えバルブを介して交互に導入され
る２つの測定セル、この各測定セルごとにその一端側に
設けられた光源、前記２つの測定セルの内、一方のセル
の他端側に測定成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を
封入して設けられたガスフィルタセル、このガスフィル
タセルに内蔵されたビームスプリッター、このビームス
プリッターの透過位置側と反射位置側に設けられた２つ
の検出器および他方のセルの他端側に設けられた１つの
検出器からなるガス分析計ユニットと、前記切換えバル
ブに接続されたサンプリング装置とから３成分測定を行
うことを特徴とするガス分析機構を提供する。
スと比較ガスとが切換えバルブを介して交互に導入され
る２つの測定セル、この各測定セルごとにその一端側に
設けられた光源、前記２つの測定セルの内、一方のセル
の他端側に測定成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を
封入して設けられたガスフィルタセル、このガスフィル
タセルに内蔵されたビームスプリッター、このビームス
プリッターの透過位置側と反射位置側に設けられた２つ
の検出器および他方のセルの他端側に設けられた１つの
検出器からなるガス分析計ユニットと、前記切換えバル
ブに接続されたサンプリング装置とから３成分測定を行
うことを特徴とするガス分析機構を提供する。
【００１０】すなわち、本発明では、２つの測定セルの
内、一方のセルの他端側にビームスプリッターを設ける
ことから、該ビームスプリッターの透過位置側と反射位
置側にそれぞれ１つの検出器と、他方の測定セルの他端
側に１つの検出器、合わせて３つの検出器を配置でき
る。したがって、クロスモジュレーション・シングルセ
ル方式において、試料ガスと比較ガスが交互に２つの測
定セルに送入され、２測定セルで最大３成分を同時測定
できる。また、試料ガスは１系統のサンプリング装置で
処理が可能である。このように、クロスモジュレーショ
ン・シングルセル方式では、従来３成分測定に対して、
ガス分析計ユニット２台およびサンプリング系も２系列
必要であったが、本考案では、ガス分析計ユニットは１
台、サンプリング系も１系列で測定可能となる。しかも
ビームスプリッターを内蔵させたガスフィルタセル内に
は、各測定成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を封入
してあり、干渉成分の影響を除去できる。
内、一方のセルの他端側にビームスプリッターを設ける
ことから、該ビームスプリッターの透過位置側と反射位
置側にそれぞれ１つの検出器と、他方の測定セルの他端
側に１つの検出器、合わせて３つの検出器を配置でき
る。したがって、クロスモジュレーション・シングルセ
ル方式において、試料ガスと比較ガスが交互に２つの測
定セルに送入され、２測定セルで最大３成分を同時測定
できる。また、試料ガスは１系統のサンプリング装置で
処理が可能である。このように、クロスモジュレーショ
ン・シングルセル方式では、従来３成分測定に対して、
ガス分析計ユニット２台およびサンプリング系も２系列
必要であったが、本考案では、ガス分析計ユニットは１
台、サンプリング系も１系列で測定可能となる。しかも
ビームスプリッターを内蔵させたガスフィルタセル内に
は、各測定成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を封入
してあり、干渉成分の影響を除去できる。
【００１１】一方、本発明は、１光学系にて多数の波長
成分の測定を行うという観点から、試料ガスが導入され
るセルの一端側に光源を設ける一方、セルの他端側に測
定成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を封入してなる
ガスフィルタセルを設け、このガスフィルタセルに赤外
の波長を分光する光学フィルタを内蔵させるとともに、
１光路上にこの光学フィルタ内蔵のガスフィルタセルを
複数個直列に配置し、更に、これらガスフィルタセルご
とに反射位置側に検出器を設けるとともに、最後尾のガ
スフィルタセルの透過位置側に１つの検出器を設けたこ
とを特徴とするガス分析計を提供する。
成分の測定を行うという観点から、試料ガスが導入され
るセルの一端側に光源を設ける一方、セルの他端側に測
定成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を封入してなる
ガスフィルタセルを設け、このガスフィルタセルに赤外
の波長を分光する光学フィルタを内蔵させるとともに、
１光路上にこの光学フィルタ内蔵のガスフィルタセルを
複数個直列に配置し、更に、これらガスフィルタセルご
とに反射位置側に検出器を設けるとともに、最後尾のガ
スフィルタセルの透過位置側に１つの検出器を設けたこ
とを特徴とするガス分析計を提供する。
【００１２】すなわち、従来では、ガス分析計のセル
（サンプルセル）と検出器の間に光学フィルタをセルの
面と平行に配置し、干渉低減用に使用しているけれど
も、この光学フィルタを、本考案では，従来の光学フィ
ルタの位置よりさらにセル側に角度（例えば、４５°）
を有して設置し、光源からでた赤外エネルギを分光して
いくことにより、分光された波長に対する、測定成分の
測定が可能となるとともに、分光する波長を光学フィル
タにより順次ずらせていくことにより、多成分の測定が
１つの光学系で可能となる。
（サンプルセル）と検出器の間に光学フィルタをセルの
面と平行に配置し、干渉低減用に使用しているけれど
も、この光学フィルタを、本考案では，従来の光学フィ
ルタの位置よりさらにセル側に角度（例えば、４５°）
を有して設置し、光源からでた赤外エネルギを分光して
いくことにより、分光された波長に対する、測定成分の
測定が可能となるとともに、分光する波長を光学フィル
タにより順次ずらせていくことにより、多成分の測定が
１つの光学系で可能となる。
【００１３】また、本発明は、３つの波長成分の測定を
行うために、試料ガスが導入される測定セル、この測定
セルの一端側に設けられた光源、測定セルの他端側に測
定成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を封入して設け
られ、かつ光路上に２個直列に配置したガスフィルタセ
ル、この各ガスフィルタセルにそれぞれ内蔵された赤外
波長分光用の光学フィルタ、この各ガスフィルタセルご
とに反射位置側に設けられた２つの検出器および透過位
置側の前記光路上に設けられた１つの検出器からなるガ
ス分析計ユニットと、前記測定セルに接続されたサンプ
リング装置とから３つの波長成分の測定を行うことを特
徴とするガス分析機構を提供する。
行うために、試料ガスが導入される測定セル、この測定
セルの一端側に設けられた光源、測定セルの他端側に測
定成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を封入して設け
られ、かつ光路上に２個直列に配置したガスフィルタセ
ル、この各ガスフィルタセルにそれぞれ内蔵された赤外
波長分光用の光学フィルタ、この各ガスフィルタセルご
とに反射位置側に設けられた２つの検出器および透過位
置側の前記光路上に設けられた１つの検出器からなるガ
ス分析計ユニットと、前記測定セルに接続されたサンプ
リング装置とから３つの波長成分の測定を行うことを特
徴とするガス分析機構を提供する。
【００１４】すなわち、３つの波長成分の測定を行うた
めに、光源に近い側から、短波長の光学フィルタ（カッ
ト・オン用）、あるいは長波長の光学フィルタ（カット
・オフ用）を配置し、１光路上において順次、後方に行
くに従い、光学フィルタのカットする位置を長波長側
（あるいは短長波長）にスライドでき、最初の光学フィ
ルタでは、波長ａより短い波長は該光学フィルタ表面で
反射するため、検出器には波長ａより短い赤外エネルギ
が入ることになり、続いて、最初の光学フィルタを透過
した赤外光は、後方の光学フィルタに伝達され、後方の
光学フィルタでは同様に波長ｂより短い波長は光学フィ
ルタ表面で反射するため、別の検出器には波長ｂより短
い赤外エネルギが入り、残りが反射され、光路上に設け
られた更に別の検出器に入る。このようにして３つの測
定成分に分光され得る。
めに、光源に近い側から、短波長の光学フィルタ（カッ
ト・オン用）、あるいは長波長の光学フィルタ（カット
・オフ用）を配置し、１光路上において順次、後方に行
くに従い、光学フィルタのカットする位置を長波長側
（あるいは短長波長）にスライドでき、最初の光学フィ
ルタでは、波長ａより短い波長は該光学フィルタ表面で
反射するため、検出器には波長ａより短い赤外エネルギ
が入ることになり、続いて、最初の光学フィルタを透過
した赤外光は、後方の光学フィルタに伝達され、後方の
光学フィルタでは同様に波長ｂより短い波長は光学フィ
ルタ表面で反射するため、別の検出器には波長ｂより短
い赤外エネルギが入り、残りが反射され、光路上に設け
られた更に別の検出器に入る。このようにして３つの測
定成分に分光され得る。
【００１５】更に、本発明は、４つの波長成分の測定を
行うために、試料ガスが導入される測定セル、この測定
セルの一端側に設けられた光源、測定セルの他端側に測
定成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を封入して設け
られ、かつ光路上に３個直列に配置したガスフィルタセ
ル、この各ガスフィルタセルにそれぞれ内蔵された赤外
波長分光用の光学フィルタ、この各ガスフィルタセルご
とに反射位置側に設けられた３つの検出器および透過位
置側の前記光路上に設けられた１つの検出器からなるガ
ス分析計ユニットと、前記測定セルに接続されたサンプ
リング装置とから４つの波長成分の測定を行うことを特
徴とするガス分析機構を提供する。
行うために、試料ガスが導入される測定セル、この測定
セルの一端側に設けられた光源、測定セルの他端側に測
定成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を封入して設け
られ、かつ光路上に３個直列に配置したガスフィルタセ
ル、この各ガスフィルタセルにそれぞれ内蔵された赤外
波長分光用の光学フィルタ、この各ガスフィルタセルご
とに反射位置側に設けられた３つの検出器および透過位
置側の前記光路上に設けられた１つの検出器からなるガ
ス分析計ユニットと、前記測定セルに接続されたサンプ
リング装置とから４つの波長成分の測定を行うことを特
徴とするガス分析機構を提供する。
【００１６】
【実施例】以下、本発明の実施例を、図面を参照しなが
ら説明する。なお、それによって本発明は限定を受ける
ものではない。図１は本考案の第１実施例を示す。すな
わち、図１は、クロスモジュレーション・シングルセル
方式の場合で、２測定セルで最大４成分を同時測定する
場合のガス分析機構を示す。図１において、ガス分析機
構は、試料ガスＳと比較ガスＲとがロータリバルブ（切
換えバルブ）１を介して交互に導入される２つの測定セ
ル２，３、この各測定セルごとにその一端側に設けられ
た光源４，５、同じく各測定セル２，３ごとにその他端
側に測定成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を封入し
て設けられたガスフィルタセル６，７、この２つのガス
フィルタセルにそれぞれ内蔵されたビームスプリッター
８，９およびこの各ビームスプリッターごとに透過位置
側と反射位置側にそれぞれ設けられた第１，第４検出器
１０，１３、第２，第３検出器１１，１２からなるガス
分析計ユニットと、ロータリバルブ１に接続されたサン
プリング装置Ｑ1 とから４成分測定を行うものである。
また、符号Ｍは比較ガス生成のための精製器である。
ら説明する。なお、それによって本発明は限定を受ける
ものではない。図１は本考案の第１実施例を示す。すな
わち、図１は、クロスモジュレーション・シングルセル
方式の場合で、２測定セルで最大４成分を同時測定する
場合のガス分析機構を示す。図１において、ガス分析機
構は、試料ガスＳと比較ガスＲとがロータリバルブ（切
換えバルブ）１を介して交互に導入される２つの測定セ
ル２，３、この各測定セルごとにその一端側に設けられ
た光源４，５、同じく各測定セル２，３ごとにその他端
側に測定成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を封入し
て設けられたガスフィルタセル６，７、この２つのガス
フィルタセルにそれぞれ内蔵されたビームスプリッター
８，９およびこの各ビームスプリッターごとに透過位置
側と反射位置側にそれぞれ設けられた第１，第４検出器
１０，１３、第２，第３検出器１１，１２からなるガス
分析計ユニットと、ロータリバルブ１に接続されたサン
プリング装置Ｑ1 とから４成分測定を行うものである。
また、符号Ｍは比較ガス生成のための精製器である。
【００１７】更に、ビームスプリッター８，９は、その
透過・反射面８ａ，９ａが各測定セル２，３の光軸
Ｘ1 ，Ｘ2 に対して４５°の傾斜角を有してガスフィル
タセル６，７内に設けられており、第１，４測定成分を
それぞれ測定する第１，第４検出器１０，１３が光軸Ｘ
1 ，Ｘ2 上に配置され、一方、９０°反射光軸Ｙ1 ，Ｙ
2上に、第２，３測定成分をそれぞれ測定する第２，第
３検出器１１，１２が配置されている。
透過・反射面８ａ，９ａが各測定セル２，３の光軸
Ｘ1 ，Ｘ2 に対して４５°の傾斜角を有してガスフィル
タセル６，７内に設けられており、第１，４測定成分を
それぞれ測定する第１，第４検出器１０，１３が光軸Ｘ
1 ，Ｘ2 上に配置され、一方、９０°反射光軸Ｙ1 ，Ｙ
2上に、第２，３測定成分をそれぞれ測定する第２，第
３検出器１１，１２が配置されている。
【００１８】そして、ビームスプリッター８による第１
および第２検出器１０，１１やビームスプリッター９に
よる第３および第４検出器１２，１３への光量の分割比
は、通常１：１にて使用するが、検出器特有の感度差が
ある場合には、反射率を調節したものを用いて１：２又
はそれ以上の比率のものを用いて、両検出器の検出感度
に見合った光量を配分する。
および第２検出器１０，１１やビームスプリッター９に
よる第３および第４検出器１２，１３への光量の分割比
は、通常１：１にて使用するが、検出器特有の感度差が
ある場合には、反射率を調節したものを用いて１：２又
はそれ以上の比率のものを用いて、両検出器の検出感度
に見合った光量を配分する。
【００１９】この実施例のものは上記構成を有するか
ら、試料ガスＳと比較ガスＲは、交互に測定セル２また
は測定セル３に送入される。試料ガスＳは１系統のサン
プリング装置Ｑ1 で処理されたものであり、測定セル
２，３内で吸収された測定成分に対する光量の変化をビ
ームスプリッター８，９で各検出器１０〜１３に等分割
に分け、各々の検出器の信号を増幅し出力させる。
ら、試料ガスＳと比較ガスＲは、交互に測定セル２また
は測定セル３に送入される。試料ガスＳは１系統のサン
プリング装置Ｑ1 で処理されたものであり、測定セル
２，３内で吸収された測定成分に対する光量の変化をビ
ームスプリッター８，９で各検出器１０〜１３に等分割
に分け、各々の検出器の信号を増幅し出力させる。
【００２０】この際、ビームスプリッター８，９を内蔵
させたガスフィルタセル６，７内には、各測定成分の検
出に妨害となる干渉ガス成分を封入してあり、干渉成分
の影響を除去できる。例えば、煙道排ガス測定において
は、ＮＯx またはＳＯ2 をそれぞれ測定する場合には、
ガスフィルタセルにＣＯ2 を封入する。
させたガスフィルタセル６，７内には、各測定成分の検
出に妨害となる干渉ガス成分を封入してあり、干渉成分
の影響を除去できる。例えば、煙道排ガス測定において
は、ＮＯx またはＳＯ2 をそれぞれ測定する場合には、
ガスフィルタセルにＣＯ2 を封入する。
【００２１】このように本実施例では、２つの測定セル
２，３の他端側にそれぞれビームスプリッター８，９を
設けることから、各ビームスプリッターの透過位置側と
反射位置側に、合わせて４つの検出器１０〜１３を配置
できる。したがって、クロスモジュレーション・シング
ルセル方式において、試料ガスＳと比較ガスＲが、交互
に２つの測定セル２，３に送入され、２測定セルで最大
４成分を同時測定できる。また、試料ガスＳは１系統の
サンプリング装置Ｑ1 で処理が可能である。このよう
に、クロスモジュレーション・シングルセル方式では、
従来４成分測定に対して、ガス分析計ユニット２台およ
びサンプリング系も２系列必要であったが、本実施例で
は、ガス分析計ユニットは１台、サンプリング系Ｑ1 も
１系列で測定可能となる。しかもビームスプリッター
８，９を内蔵させたガスフィルタセル６，７内には、各
測定成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を封入してあ
り、干渉成分の影響を除去できる。また、比較ガス生成
のための精製器Ｍもサンプリング系Ｑ1 と同様、複雑化
することは無い。
２，３の他端側にそれぞれビームスプリッター８，９を
設けることから、各ビームスプリッターの透過位置側と
反射位置側に、合わせて４つの検出器１０〜１３を配置
できる。したがって、クロスモジュレーション・シング
ルセル方式において、試料ガスＳと比較ガスＲが、交互
に２つの測定セル２，３に送入され、２測定セルで最大
４成分を同時測定できる。また、試料ガスＳは１系統の
サンプリング装置Ｑ1 で処理が可能である。このよう
に、クロスモジュレーション・シングルセル方式では、
従来４成分測定に対して、ガス分析計ユニット２台およ
びサンプリング系も２系列必要であったが、本実施例で
は、ガス分析計ユニットは１台、サンプリング系Ｑ1 も
１系列で測定可能となる。しかもビームスプリッター
８，９を内蔵させたガスフィルタセル６，７内には、各
測定成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を封入してあ
り、干渉成分の影響を除去できる。また、比較ガス生成
のための精製器Ｍもサンプリング系Ｑ1 と同様、複雑化
することは無い。
【００２２】図２は本発明の第２実施例を示す。すなわ
ち、図２は、クロスモジュレーション・シングルセル方
式の場合で、２測定セルで最大３成分を同時測定する場
合のガス分析機構を示す。図２において、ガス分析機構
は、試料ガスＳと比較ガスＲとがロータリバルブ（切換
えバルブ）１を介して交互に導入される２つの測定セル
２，３、この各測定セルごとにその一端側に設けられた
光源４，５、２つの測定セル２，３の内、一方の測定セ
ル２の他端側に測定成分の検出に妨害となる干渉ガス成
分を封入して設けられたガスフィルタセル６、このガス
フィルタセルに内蔵されたビームスプリッター８、この
ビームスプリッターの透過位置側と反射位置側に設けら
れた２つの検出器１０，１１および他方の測定セル３の
他端側に設けられた１つの検出器１２からなるガス分析
計ユニットと、ロータリバルブ１に接続されたサンプリ
ング装置Ｑ1 とから３成分測定を行うものである。
ち、図２は、クロスモジュレーション・シングルセル方
式の場合で、２測定セルで最大３成分を同時測定する場
合のガス分析機構を示す。図２において、ガス分析機構
は、試料ガスＳと比較ガスＲとがロータリバルブ（切換
えバルブ）１を介して交互に導入される２つの測定セル
２，３、この各測定セルごとにその一端側に設けられた
光源４，５、２つの測定セル２，３の内、一方の測定セ
ル２の他端側に測定成分の検出に妨害となる干渉ガス成
分を封入して設けられたガスフィルタセル６、このガス
フィルタセルに内蔵されたビームスプリッター８、この
ビームスプリッターの透過位置側と反射位置側に設けら
れた２つの検出器１０，１１および他方の測定セル３の
他端側に設けられた１つの検出器１２からなるガス分析
計ユニットと、ロータリバルブ１に接続されたサンプリ
ング装置Ｑ1 とから３成分測定を行うものである。
【００２３】更に、ビームスプリッター８は、その透過
・反射面８ａが測定セル２の光軸Ｘ 1 に対して４５°の
傾斜角を有してガスフィルタセル６内に設けられてお
り、第１測定成分を測定する第１検出器１０が光軸Ｘ1
上に配置され、一方、９０°反射光軸Ｙ1 上に、第２測
定成分を測定する第２検出器１１が配置されているとと
もに、他方の測定セル３の他端側で光軸Ｘ2 上に第３検
出器１２が配置されている。
・反射面８ａが測定セル２の光軸Ｘ 1 に対して４５°の
傾斜角を有してガスフィルタセル６内に設けられてお
り、第１測定成分を測定する第１検出器１０が光軸Ｘ1
上に配置され、一方、９０°反射光軸Ｙ1 上に、第２測
定成分を測定する第２検出器１１が配置されているとと
もに、他方の測定セル３の他端側で光軸Ｘ2 上に第３検
出器１２が配置されている。
【００２４】そして、ビームスプリッター８による第１
および第２検出器１０，１１への光量の分割比は、通常
１：１にて使用するが、検出器特有の感度差がある場合
には、反射率を調節したものを用いて１：２又はそれ以
上の比率のものを用いて、両検出器の検出感度に見合っ
た光量を配分する。
および第２検出器１０，１１への光量の分割比は、通常
１：１にて使用するが、検出器特有の感度差がある場合
には、反射率を調節したものを用いて１：２又はそれ以
上の比率のものを用いて、両検出器の検出感度に見合っ
た光量を配分する。
【００２５】この実施例のものは上記構成を有するか
ら、試料ガスＳと比較ガスＲは、交互に測定セル２また
は測定セル３に送入される。試料ガスＳは１系統のサン
プリング装置Ｑ1 で処理されたものであり、測定セル２
内で吸収された測定成分に対する光量の変化をビームス
プリッター８で各検出器１０，１１に等分割に分け、各
々の検出器の信号を増幅し出力させる。一方、光軸Ｘ2
上では、測定セル３内で吸収された測定成分に対する光
量の変化を直接第３検出器１２で受入れ、第３検出器１
２の信号を増幅し出力させる。
ら、試料ガスＳと比較ガスＲは、交互に測定セル２また
は測定セル３に送入される。試料ガスＳは１系統のサン
プリング装置Ｑ1 で処理されたものであり、測定セル２
内で吸収された測定成分に対する光量の変化をビームス
プリッター８で各検出器１０，１１に等分割に分け、各
々の検出器の信号を増幅し出力させる。一方、光軸Ｘ2
上では、測定セル３内で吸収された測定成分に対する光
量の変化を直接第３検出器１２で受入れ、第３検出器１
２の信号を増幅し出力させる。
【００２６】この際、ビームスプリッター８を内蔵させ
たガスフィルタセル６内には、各測定成分の検出に妨害
となる干渉ガス成分を封入してあり、干渉成分の影響を
除去できる。例えば、煙道排ガス測定においては、ＮＯ
x またはＳＯ2 をそれぞれ測定する場合には、ガスフィ
ルタセルにＣＯ2 を封入する。
たガスフィルタセル６内には、各測定成分の検出に妨害
となる干渉ガス成分を封入してあり、干渉成分の影響を
除去できる。例えば、煙道排ガス測定においては、ＮＯ
x またはＳＯ2 をそれぞれ測定する場合には、ガスフィ
ルタセルにＣＯ2 を封入する。
【００２７】このように本実施例では、２つの測定セル
２，３の内、一方のセル２の他端側にビームスプリッタ
ー８を設けることから、該ビームスプリッターの透過位
置側と反射位置側にそれぞれ１つの検出器１０，１１
と、他方の測定セル３の他端側に１つの検出器１２、合
わせて３つの検出器を配置できる。したがって、クロス
モジュレーション・シングルセル方式において、試料ガ
スＳと比較ガスＲが交互に２つの測定セル２，３に送入
され、２測定セルで最大３成分を同時測定できる。ま
た、試料ガスＳは１系統のサンプリング装置Ｑ1 で処理
が可能である。このように、クロスモジュレーション・
シングルセル方式では、従来３成分測定に対して、ガス
分析計ユニット２台およびサンプリング系も２系列必要
であったが、本実施例では、ガス分析計ユニットは１
台、サンプリング系Ｑ1 も１系列で測定可能となる。し
かもビームスプリッター８を内蔵させたガスフィルタセ
ル６内には、各測定成分の検出に妨害となる干渉ガス成
分を封入してあり、干渉成分の影響を除去できる
２，３の内、一方のセル２の他端側にビームスプリッタ
ー８を設けることから、該ビームスプリッターの透過位
置側と反射位置側にそれぞれ１つの検出器１０，１１
と、他方の測定セル３の他端側に１つの検出器１２、合
わせて３つの検出器を配置できる。したがって、クロス
モジュレーション・シングルセル方式において、試料ガ
スＳと比較ガスＲが交互に２つの測定セル２，３に送入
され、２測定セルで最大３成分を同時測定できる。ま
た、試料ガスＳは１系統のサンプリング装置Ｑ1 で処理
が可能である。このように、クロスモジュレーション・
シングルセル方式では、従来３成分測定に対して、ガス
分析計ユニット２台およびサンプリング系も２系列必要
であったが、本実施例では、ガス分析計ユニットは１
台、サンプリング系Ｑ1 も１系列で測定可能となる。し
かもビームスプリッター８を内蔵させたガスフィルタセ
ル６内には、各測定成分の検出に妨害となる干渉ガス成
分を封入してあり、干渉成分の影響を除去できる
【００２８】図３は本発明の第３実施例を示す。すなわ
ち、図３は、流体変調方式による３成分（例えば、Ｃ
Ｏ、ＮＯ、ＳＯ2 ）濃度測定用のガス分析機構を示す。
ち、図３は、流体変調方式による３成分（例えば、Ｃ
Ｏ、ＮＯ、ＳＯ2 ）濃度測定用のガス分析機構を示す。
【００２９】図３において、ガス分析機構は、試料ガス
Ｓが比較ガスＲと交互に導入される測定セル２１、この
測定セルの一端側に設けられた光源２２、測定セル２１
の他端側に測定成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を
封入して設けられ、かつ光路上に２個直列に配置したガ
スフィルタセル２３，２４、この各ガスフィルタセルに
それぞれ内蔵された赤外波長分光用の光学フィルタ２
５，２６、この各ガスフィルタセルごとに反射位置側に
設けられた２つの検出器２７，２８および透過位置側の
前記光路上に設けられた１つの検出器２９からなるガス
分析計ユニットと、試料ガスＳと比較ガスＲとがロータ
リバルブ（切換えバルブ）１を介して交互に導入される
測定セル２１に接続されたサンプリング装置Ｑ1 とから
なる。
Ｓが比較ガスＲと交互に導入される測定セル２１、この
測定セルの一端側に設けられた光源２２、測定セル２１
の他端側に測定成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を
封入して設けられ、かつ光路上に２個直列に配置したガ
スフィルタセル２３，２４、この各ガスフィルタセルに
それぞれ内蔵された赤外波長分光用の光学フィルタ２
５，２６、この各ガスフィルタセルごとに反射位置側に
設けられた２つの検出器２７，２８および透過位置側の
前記光路上に設けられた１つの検出器２９からなるガス
分析計ユニットと、試料ガスＳと比較ガスＲとがロータ
リバルブ（切換えバルブ）１を介して交互に導入される
測定セル２１に接続されたサンプリング装置Ｑ1 とから
なる。
【００３０】この実施例のものは上記構成を有するか
ら、３つの波長成分の測定を行うために、光源２２に近
い側から、短波長の光学フィルタ２５，２６を順次配置
し、１光路上において、後方に行くに従い、光学フィル
タ２５，２６のカットする位置を長波長側にスライドで
き、最初の光学フィルタで２５は、波長ａより短い波長
は該光学フィルタ２５の表面で反射するため、検出器２
７には波長ａより短い赤外エネルギが入ることになり、
続いて、最初の光学フィルタ２５を透過した赤外光は、
後方の光学フィルタ２６に伝達され、後方の光学フィル
タ２６では同様に波長ｂより短い波長は光学フィルタ２
６の表面で反射するため、別の検出器２８には波長ｂよ
り短い赤外エネルギが入り、残りが反射され、光路上に
設けられた更に別の検出器２９に入る。このようにして
３つの測定成分に分光され得る。
ら、３つの波長成分の測定を行うために、光源２２に近
い側から、短波長の光学フィルタ２５，２６を順次配置
し、１光路上において、後方に行くに従い、光学フィル
タ２５，２６のカットする位置を長波長側にスライドで
き、最初の光学フィルタで２５は、波長ａより短い波長
は該光学フィルタ２５の表面で反射するため、検出器２
７には波長ａより短い赤外エネルギが入ることになり、
続いて、最初の光学フィルタ２５を透過した赤外光は、
後方の光学フィルタ２６に伝達され、後方の光学フィル
タ２６では同様に波長ｂより短い波長は光学フィルタ２
６の表面で反射するため、別の検出器２８には波長ｂよ
り短い赤外エネルギが入り、残りが反射され、光路上に
設けられた更に別の検出器２９に入る。このようにして
３つの測定成分に分光され得る。
【００３１】この際、検出器２７では、図４で示すよう
な位置に赤外吸収のある成分が測定対象となる。光学フ
ィルタ２５の分光性能は、例えば、光学フィルタ２５の
最大透過率が９０％であれば、後方の光学フィルタ２６
には、光源２２から測定成分１に関する波長域を除く長
波長域の赤外のエネルギの９０％が伝達され、残りが反
射されて検出器２８に入る。すなわち、ａの波長より短
波長側の波長では光学フィルタ２５の透過率が≒０のた
め、ロスなく検出器２７に伝達され、光学フィルタ２６
においても、ｂの波長より短波長側の波長では光学フィ
ルタ２６の透過率が≒０のため、ロスなく検出器２８に
伝達され、光学フィルタ２５と同様の分光が行われ、結
局、光学フィルタ２５，２６でそれぞれの測定成分１、
測定成分２に分光されて検出器２７，２８で検出され、
残りの測定成分３は検出器２９で検出される。なお、光
学フィルタ２５は曲線Ａで示されるフィルタ特性を有
し、光学フィルタ２６は曲線Ｂで示されるフィルタ特性
を有する。
な位置に赤外吸収のある成分が測定対象となる。光学フ
ィルタ２５の分光性能は、例えば、光学フィルタ２５の
最大透過率が９０％であれば、後方の光学フィルタ２６
には、光源２２から測定成分１に関する波長域を除く長
波長域の赤外のエネルギの９０％が伝達され、残りが反
射されて検出器２８に入る。すなわち、ａの波長より短
波長側の波長では光学フィルタ２５の透過率が≒０のた
め、ロスなく検出器２７に伝達され、光学フィルタ２６
においても、ｂの波長より短波長側の波長では光学フィ
ルタ２６の透過率が≒０のため、ロスなく検出器２８に
伝達され、光学フィルタ２５と同様の分光が行われ、結
局、光学フィルタ２５，２６でそれぞれの測定成分１、
測定成分２に分光されて検出器２７，２８で検出され、
残りの測定成分３は検出器２９で検出される。なお、光
学フィルタ２５は曲線Ａで示されるフィルタ特性を有
し、光学フィルタ２６は曲線Ｂで示されるフィルタ特性
を有する。
【００３２】このように本実施例では、光学フィルタ２
５，２６ごとに反射位置側にそれぞれ検出器２７，２８
を設け、光学フィルタ２５，２６の透過位置側に１つの
検出器２９を設け、合わせて３つの検出器を配置でき
る。したがって、シングルセルを用いた流体変調方式に
おいて、試料ガスＳと比較ガスＲが交互に１つの測定セ
ル２１に送入され、１測定セルで３成分を同時測定でき
る。また、試料ガスＳは１系統のサンプリング装置Ｑ1
で処理が可能である。このように、従来３成分測定に対
して、サンプルセルと検出器の間に光学フィルタをセル
の面と平行に配置し、干渉低減用に使用しているからガ
ス分析計ユニット２台およびサンプリング系も２系列必
要であったが、本実施例では、光源２２に近い側から、
短波長の光学フィルタ２５，２６を配置し、順次、後方
に行くに従い、光学フィルタのカットする位置を長波長
側にスライドさせたので、ガス分析計ユニットは１台、
サンプリング系Ｑ1 も１系列で測定可能となる。しかも
光学フィルタ２５，２６を内蔵させたガスフィルタセル
２３，２４内には、各測定成分の検出に妨害となる干渉
ガス成分を封入してあり、干渉成分の影響を除去でき
る。
５，２６ごとに反射位置側にそれぞれ検出器２７，２８
を設け、光学フィルタ２５，２６の透過位置側に１つの
検出器２９を設け、合わせて３つの検出器を配置でき
る。したがって、シングルセルを用いた流体変調方式に
おいて、試料ガスＳと比較ガスＲが交互に１つの測定セ
ル２１に送入され、１測定セルで３成分を同時測定でき
る。また、試料ガスＳは１系統のサンプリング装置Ｑ1
で処理が可能である。このように、従来３成分測定に対
して、サンプルセルと検出器の間に光学フィルタをセル
の面と平行に配置し、干渉低減用に使用しているからガ
ス分析計ユニット２台およびサンプリング系も２系列必
要であったが、本実施例では、光源２２に近い側から、
短波長の光学フィルタ２５，２６を配置し、順次、後方
に行くに従い、光学フィルタのカットする位置を長波長
側にスライドさせたので、ガス分析計ユニットは１台、
サンプリング系Ｑ1 も１系列で測定可能となる。しかも
光学フィルタ２５，２６を内蔵させたガスフィルタセル
２３，２４内には、各測定成分の検出に妨害となる干渉
ガス成分を封入してあり、干渉成分の影響を除去でき
る。
【００３３】要するに、１つの光学系をもつガス分析計
機構において、多成分（例えば、ＣＯ、ＮＯ、ＳＯ2 ）
の測定が可能となり、また、従来光学フィルタによりカ
ットしていた赤外の波長エネルギを他の測定用のエネル
ギとして使用するため、感度的にもロスが少なく、コン
パクト、安価なガス分析計機構を構成できる。また、１
つのセルに半導体、あるいは、焦電素子を多成分配置し
ている場合、センサの大きさから、セル径が大きくな
り、サンプル流量の増加、あるいは、エネルギロスがあ
ったが、これに関しても従来の１成分測定用のセルサイ
ズで測定可能となる。
機構において、多成分（例えば、ＣＯ、ＮＯ、ＳＯ2 ）
の測定が可能となり、また、従来光学フィルタによりカ
ットしていた赤外の波長エネルギを他の測定用のエネル
ギとして使用するため、感度的にもロスが少なく、コン
パクト、安価なガス分析計機構を構成できる。また、１
つのセルに半導体、あるいは、焦電素子を多成分配置し
ている場合、センサの大きさから、セル径が大きくな
り、サンプル流量の増加、あるいは、エネルギロスがあ
ったが、これに関しても従来の１成分測定用のセルサイ
ズで測定可能となる。
【００３４】なお、上記第３実施例において、図３に仮
想線で示すように、ロータリバルブ１を介してガス分析
計ユニットを追加し、一対のガス分析計ユニットを構成
すると、６つの波長成分の測定を行うことが可能であ
る。
想線で示すように、ロータリバルブ１を介してガス分析
計ユニットを追加し、一対のガス分析計ユニットを構成
すると、６つの波長成分の測定を行うことが可能であ
る。
【００３５】図５は、試料ガスＳと比較ガスＲが交互に
導入される測定セル２１、この測定セルの一端側に設け
られた光源２２、測定セル２１の他端側に測定成分の検
出に妨害となる干渉ガス成分を封入して設けられ、かつ
光路上に３個順次配置したガスフィルタセル２３，２
４，３３、この各ガスフィルタセルにそれぞれ内蔵され
た赤外波長分光用の光学フィルタ２５，２６，３２、こ
の各ガスフィルタセルごとに反射位置側に設けられた３
つの検出器２７，２８，３４および透過位置側の前記光
路上に設けられた１つの検出器３５からなるガス分析計
ユニットと、測定セル２１に接続されたサンプリング装
置とから４つの波長成分の測定を行うようにした本考案
の第４実施例を示す。
導入される測定セル２１、この測定セルの一端側に設け
られた光源２２、測定セル２１の他端側に測定成分の検
出に妨害となる干渉ガス成分を封入して設けられ、かつ
光路上に３個順次配置したガスフィルタセル２３，２
４，３３、この各ガスフィルタセルにそれぞれ内蔵され
た赤外波長分光用の光学フィルタ２５，２６，３２、こ
の各ガスフィルタセルごとに反射位置側に設けられた３
つの検出器２７，２８，３４および透過位置側の前記光
路上に設けられた１つの検出器３５からなるガス分析計
ユニットと、測定セル２１に接続されたサンプリング装
置とから４つの波長成分の測定を行うようにした本考案
の第４実施例を示す。
【００３６】このように本実施例でも多成分の測定が１
つの光学系で可能となる。すなわち、光学フィルタ２
５，２６，３３を、従来の光学フィルタの位置よりさら
にセル側に角度（例えば、４５°）を３つ設置し、光源
２２からでたエネルギを分光していくことにより分光す
る波長を光学フィルタにより順次ずらせていき、分光さ
れた４つの波長に対する測定成分の測定が可能となる。
つの光学系で可能となる。すなわち、光学フィルタ２
５，２６，３３を、従来の光学フィルタの位置よりさら
にセル側に角度（例えば、４５°）を３つ設置し、光源
２２からでたエネルギを分光していくことにより分光す
る波長を光学フィルタにより順次ずらせていき、分光さ
れた４つの波長に対する測定成分の測定が可能となる。
【００３７】なお、上記各実施例の検出器としては、ニ
ューマティック検出器、焦電素子、サーモパイル、半導
体センサなどが使用可能である。また、上記第３，４各
実施例の光学フィルタはカットオン用以外にカットオフ
用に使用することも可能であり、この場合には、前方よ
り、長波長側成分を測定する光学系が構成される。
ューマティック検出器、焦電素子、サーモパイル、半導
体センサなどが使用可能である。また、上記第３，４各
実施例の光学フィルタはカットオン用以外にカットオフ
用に使用することも可能であり、この場合には、前方よ
り、長波長側成分を測定する光学系が構成される。
【００３８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
セルの他端側にビームスプリッターを設けることから、
前記光軸上の透過位置側に第１測定成分を測定する第１
検出器を配置できるとともに、前記光軸上に対する反射
光軸側に、第２測定成分を測定する第２検出器を配置で
き、シングルセル方式で２測定成分を同時に検出でき
る。しかもビームスプリッターを内蔵させたガスフィル
タセル内には、第１および第２測定成分の検出に妨害と
なる干渉ガス成分を封入してあり、両測定成分の検出に
効果がある。
セルの他端側にビームスプリッターを設けることから、
前記光軸上の透過位置側に第１測定成分を測定する第１
検出器を配置できるとともに、前記光軸上に対する反射
光軸側に、第２測定成分を測定する第２検出器を配置で
き、シングルセル方式で２測定成分を同時に検出でき
る。しかもビームスプリッターを内蔵させたガスフィル
タセル内には、第１および第２測定成分の検出に妨害と
なる干渉ガス成分を封入してあり、両測定成分の検出に
効果がある。
【００３９】また、２つの測定セルの他端側にそれぞれ
ビームスプリッターを設けることから、各ビームスプリ
ッターの透過位置側と反射位置側に、合わせて４つの検
出器を配置できる。したがって、クロスモジュレーショ
ン・シングルセル方式において、試料ガスがロータバル
ブ内で比較ガスと交互に２つの測定セルに送入され、２
測定セルで最大４成分を同時測定できる。また、試料ガ
スは１系統のサンプリング装置で処理が可能である。こ
のように、クロスモジュレーション・シングルセル方式
では、従来４成分測定に対して、ガス分析計ユニット２
台およびサンプリング系も２系列必要であったが、本考
案では、ガス分析計ユニット１台およびもサンプリング
系も１系列で測定可能となる。しかもビームスプリッタ
ーを内蔵させたガスフィルタセル内には、各測定成分の
検出に妨害となる干渉ガス成分を封入してあり、干渉成
分の影響を除去できる。
ビームスプリッターを設けることから、各ビームスプリ
ッターの透過位置側と反射位置側に、合わせて４つの検
出器を配置できる。したがって、クロスモジュレーショ
ン・シングルセル方式において、試料ガスがロータバル
ブ内で比較ガスと交互に２つの測定セルに送入され、２
測定セルで最大４成分を同時測定できる。また、試料ガ
スは１系統のサンプリング装置で処理が可能である。こ
のように、クロスモジュレーション・シングルセル方式
では、従来４成分測定に対して、ガス分析計ユニット２
台およびサンプリング系も２系列必要であったが、本考
案では、ガス分析計ユニット１台およびもサンプリング
系も１系列で測定可能となる。しかもビームスプリッタ
ーを内蔵させたガスフィルタセル内には、各測定成分の
検出に妨害となる干渉ガス成分を封入してあり、干渉成
分の影響を除去できる。
【００４０】更に、２つの測定セルの内、一方の測定セ
ルの他端側にビームスプリッターを設けることから、該
ビームスプリッターの透過位置側と反射位置側にそれぞ
れ１つの検出器と、他方の測定セルの他端側に１つの検
出器、合わせて３つの検出器を配置できる。したがっ
て、クロスモジュレーション・シングルセル方式におい
て、試料ガスと比較ガスが交互に２つの測定セルに送入
され、２測定セルで最大３成分を同時測定できる。ま
た、試料ガスは１系統のサンプリング装置で処理が可能
である。このように、クロスモジュレーション・シング
ルセル方式では、従来３成分測定に対して、ガス分析計
ユニット２台およびサンプリング系も２系列必要であっ
たが、本考案では、ガス分析計ユニットは１台、サンプ
リング系Ｑ1も１系列で測定可能となる。しかもビーム
スプリッターを内蔵させたガスフィルタセル内には、各
測定成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を封入してあ
り、干渉成分の影響を除去できる
ルの他端側にビームスプリッターを設けることから、該
ビームスプリッターの透過位置側と反射位置側にそれぞ
れ１つの検出器と、他方の測定セルの他端側に１つの検
出器、合わせて３つの検出器を配置できる。したがっ
て、クロスモジュレーション・シングルセル方式におい
て、試料ガスと比較ガスが交互に２つの測定セルに送入
され、２測定セルで最大３成分を同時測定できる。ま
た、試料ガスは１系統のサンプリング装置で処理が可能
である。このように、クロスモジュレーション・シング
ルセル方式では、従来３成分測定に対して、ガス分析計
ユニット２台およびサンプリング系も２系列必要であっ
たが、本考案では、ガス分析計ユニットは１台、サンプ
リング系Ｑ1も１系列で測定可能となる。しかもビーム
スプリッターを内蔵させたガスフィルタセル内には、各
測定成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を封入してあ
り、干渉成分の影響を除去できる
【００４１】要するに、クロスモジュレーション・シン
グルセル方式では、従来３，４成分測定に対して、ガス
分析計ユニット２台およびサンプリング系も２系列必要
であったが、本考案では、ガス分析計ユニットは１台、
サンプリング系も１系列で測定可能となり、製品コスト
の低減の他、サンプリング系のシンプル化で保守性が容
易となった。また、比較ガス生成のための精製器もサン
プリング系と同様、複雑化することは無い。
グルセル方式では、従来３，４成分測定に対して、ガス
分析計ユニット２台およびサンプリング系も２系列必要
であったが、本考案では、ガス分析計ユニットは１台、
サンプリング系も１系列で測定可能となり、製品コスト
の低減の他、サンプリング系のシンプル化で保守性が容
易となった。また、比較ガス生成のための精製器もサン
プリング系と同様、複雑化することは無い。
【００４２】更に本発明によれば、複数個の光学フィル
タを、従来の光学フィルタの位置よりさらにセル側に角
度を有して設置し、光源からでたエネルギを分光してい
くことにより分光する波長を光学フィルタにより順次ず
らせるようにしたので、１光学系にて測定成分の目的と
する波長を効率よく分光でき、多成分測定を行える光学
系を構成でき、コンパクト化を図ることができる。すな
わち、１つの光学系をもつガス分析計において、多成分
の測定が可能となり、また、従来光学フィルタによりカ
ットしていた赤外の波長エネルギを他の測定用のエネル
ギとして使用するため、感度的にもロスが少なく、コン
パクト、安価なガス分析計を構成できる。また、１つの
セルに半導体、あるいは、焦電素子を多成分配置してい
る場合、センサの大きさから、セル径が大きくなり、サ
ンプル流量の増加、あるいは、エネルギロスがあった
が、これに関しても従来の１成分測定用のセルサイズで
測定可能となる。しかも光学フィルタを内蔵させたガス
フィルタセル内には、各測定成分の検出に妨害となる干
渉ガス成分を封入してあり、各測定成分の検出に効果が
ある。
タを、従来の光学フィルタの位置よりさらにセル側に角
度を有して設置し、光源からでたエネルギを分光してい
くことにより分光する波長を光学フィルタにより順次ず
らせるようにしたので、１光学系にて測定成分の目的と
する波長を効率よく分光でき、多成分測定を行える光学
系を構成でき、コンパクト化を図ることができる。すな
わち、１つの光学系をもつガス分析計において、多成分
の測定が可能となり、また、従来光学フィルタによりカ
ットしていた赤外の波長エネルギを他の測定用のエネル
ギとして使用するため、感度的にもロスが少なく、コン
パクト、安価なガス分析計を構成できる。また、１つの
セルに半導体、あるいは、焦電素子を多成分配置してい
る場合、センサの大きさから、セル径が大きくなり、サ
ンプル流量の増加、あるいは、エネルギロスがあった
が、これに関しても従来の１成分測定用のセルサイズで
測定可能となる。しかも光学フィルタを内蔵させたガス
フィルタセル内には、各測定成分の検出に妨害となる干
渉ガス成分を封入してあり、各測定成分の検出に効果が
ある。
【図１】本発明の第１実施例を示す全体構成説明図であ
る。
る。
【図２】本発明の第２実施例を示す全体構成説明図であ
る。
る。
【図３】本発明の第３実施例を示す全体構成説明図であ
る。
る。
【図４】光学フィルタの透過率を示す特性図である。
【図５】本発明の第４実施例を示す全体構成説明図であ
る。
る。
１…ロータリバルブ、２，３…測定セル、４，５…光
源、６，７…ガスフィルタセル、８，９…ビームスプリ
ッター、１０〜１３…検出器、２１…測定セル、２２…
光源、２５，２６…光学フィルタ、３２…光学フィル
タ、２３，２４…ガスフィルタセル、３３…ガスフィル
タセル、２７，２８，２９…検出器、３４，３５…検出
器、Ｓ…試料ガス、Ｒ…比較ガス、Ｑ1 …サンプリング
装置、Ｍ…比較ガス生成のための精製器。
源、６，７…ガスフィルタセル、８，９…ビームスプリ
ッター、１０〜１３…検出器、２１…測定セル、２２…
光源、２５，２６…光学フィルタ、３２…光学フィル
タ、２３，２４…ガスフィルタセル、３３…ガスフィル
タセル、２７，２８，２９…検出器、３４，３５…検出
器、Ｓ…試料ガス、Ｒ…比較ガス、Ｑ1 …サンプリング
装置、Ｍ…比較ガス生成のための精製器。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井ノ上 哲志 京都府京都市南区吉祥院宮の東町２番地 株式会社堀場製作所内 (56)参考文献 特開 平３−25348（ＪＰ，Ａ) 実開 昭56−157659（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G01N 21/00 - 21/74 G01J 3/00 - 3/52
Claims (6)
- 【請求項１】 試料ガスが導入されるセルの一端側に光
源を設ける一方、セルの他端側に測定成分の検出に妨害
となる干渉ガス成分を封入してなるガスフィルタセルを
設け、このガスフィルタセルにビームスプリッターを内
蔵して、該ビームスプリッターの透過位置側と反射位置
側にそれぞれ検出器を設けたことを特徴とするガス分析
計。 - 【請求項２】 試料ガスと比較ガスとが切換えバルブを
介して交互に導入される２つの測定セル、この各測定セ
ルごとにその一端側に設けられた光源、同じく各測定セ
ルごとにその他端側に測定成分の検出に妨害となる干渉
ガス成分を封入して設けられたガスフィルタセル、この
２つのガスフィルタセルにそれぞれ内蔵されたビームス
プリッターおよびこの各ビームスプリッターごとに透過
位置側と反射位置側にそれぞれ設けられた２つの検出器
からなるガス分析計ユニットと、前記切換えバルブに接
続されたサンプリング装置とから４成分測定を行うこと
を特徴とするガス分析機構。 - 【請求項３】 試料ガスと比較ガスとが切換えバルブを
介して交互に導入される２つの測定セル、この各測定セ
ルごとにその一端側に設けられた光源、前記２つの測定
セルの内、一方のセルの他端側に測定成分の検出に妨害
となる干渉ガス成分を封入して設けられたガスフィルタ
セル、このガスフィルタセルに内蔵されたビームスプリ
ッター、このビームスプリッターの透過位置側と反射位
置側に設けられた２つの検出器および他方のセルの他端
側に設けられた１つの検出器からなるガス分析計ユニッ
トと、前記切換えバルブに接続されたサンプリング装置
とから３成分測定を行うことを特徴とするガス分析機
構。 - 【請求項４】 試料ガスが導入されるセルの一端側に光
源を設ける一方、セルの他端側に測定成分の検出に妨害
となる干渉ガス成分を封入してなるガスフィルタセルを
設け、このガスフィルタセルに赤外の波長を分光する光
学フィルタを内蔵させるとともに、１光路上にこの光学
フィルタ内蔵のガスフィルタセルを複数個直列に配置
し、更に、これらガスフィルタセルごとに反射位置側に
検出器を設けるとともに、最後尾のガスフィルタセルの
透過位置側に１つの検出器を設けたことを特徴とするガ
ス分析計。 - 【請求項５】 試料ガスが導入される測定セル、この測
定セルの一端側に設けられた光源、測定セルの他端側に
測定成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を封入して設
けられ、かつ光路上に２個直列に配置したガスフィルタ
セル、この各ガスフィルタセルにそれぞれ内蔵された赤
外波長分光用の光学フィルタ、この各ガスフィルタセル
ごとに反射位置側に設けられた２つの検出器および透過
位置側の前記光路上に設けられた１つの検出器からなる
ガス分析計ユニットと、前記測定セルに接続されたサン
プリング装置とから３つの波長成分の測定を行うことを
特徴とするガス分析機構。 - 【請求項６】 試料ガスが導入される測定セル、この測
定セルの一端側に設けられた光源、測定セルの他端側に
測定成分の検出に妨害となる干渉ガス成分を封入して設
けられ、かつ光路上に３個直列に配置したガスフィルタ
セル、この各ガスフィルタセルにそれぞれ内蔵された赤
外波長分光用の光学フィルタ、この各ガスフィルタセル
ごとに反射位置側に設けられた３つの検出器および透過
位置側の前記光路上に設けられた１つの検出器からなる
ガス分析計ユニットと、前記測定セルに接続されたサン
プリング装置とから４つの波長成分の測定を行うことを
特徴とするガス分析機構。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35428893A JP2903457B2 (ja) | 1993-11-20 | 1993-12-31 | ガス分析計およびガス分析機構 |
| DE19944441023 DE4441023C2 (de) | 1993-11-20 | 1994-11-17 | Gasanalysator nach dem Kreuzmodulations-Modus |
| US08/342,247 US5572032A (en) | 1993-11-20 | 1994-11-18 | Gas analyzer and gas-analyzing mechanism |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6672493 | 1993-11-20 | ||
| JP5-66724 | 1993-11-20 | ||
| JP35428893A JP2903457B2 (ja) | 1993-11-20 | 1993-12-31 | ガス分析計およびガス分析機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07190931A JPH07190931A (ja) | 1995-07-28 |
| JP2903457B2 true JP2903457B2 (ja) | 1999-06-07 |
Family
ID=26407921
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35428893A Expired - Lifetime JP2903457B2 (ja) | 1993-11-20 | 1993-12-31 | ガス分析計およびガス分析機構 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5572032A (ja) |
| JP (1) | JP2903457B2 (ja) |
| DE (1) | DE4441023C2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1295494C (zh) * | 2004-07-04 | 2007-01-17 | 华中科技大学 | 集成化微型光学分析仪 |
| US7227642B2 (en) | 2003-10-10 | 2007-06-05 | Horiba, Ltd. | Absorbance monitor |
| CN102661921A (zh) * | 2012-05-24 | 2012-09-12 | 南京国电环保设备有限公司 | 直接测量法烟气分析仪全***在线标定装置 |
| CN102734414A (zh) * | 2012-05-24 | 2012-10-17 | 南京国电环保科技有限公司 | 一种平面传动转向装置 |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5693945A (en) * | 1994-07-30 | 1997-12-02 | Horiba Ltd. | Gas analyzer |
| JP3299089B2 (ja) * | 1995-08-24 | 2002-07-08 | 株式会社堀場製作所 | ガス分析装置 |
| DE19605054C2 (de) * | 1996-02-12 | 1999-09-02 | Palocz Andresen | Mehrkanalgasanalysator zur Bestimmung von Gaskomponenten eines Gases in Kompaktform |
| US5747809A (en) * | 1996-06-11 | 1998-05-05 | Sri International | NDIR apparatus and method for measuring isotopic ratios in gaseous samples |
| US5811812A (en) * | 1996-11-01 | 1998-09-22 | Andros, Incorporated | Multiple-gas NDIR analyzer |
| DE19732470C2 (de) * | 1997-07-28 | 1999-11-18 | Siemens Ag | Nichtdispersiver Infrarot-Gasanalysator |
| DE10023639A1 (de) * | 2000-05-13 | 2001-11-15 | Arnold Gerd H | Verfahren und Vorrichtung zur Ermittlung der Gemischzusammensetzung beliebiger Medien bzw. zur Stoffmengenmessung |
| US7255474B2 (en) * | 2003-07-28 | 2007-08-14 | Symyx Technologies, Inc. | Parallel infrared spectroscopy apparatus and method |
| JP4411599B2 (ja) * | 2004-10-26 | 2010-02-10 | 横河電機株式会社 | 赤外線ガス分析計および赤外線ガス分析方法 |
| JP4722513B2 (ja) * | 2005-03-15 | 2011-07-13 | 倉敷紡績株式会社 | 過酢酸を含む酸溶液の濃度測定のための装置および方法 |
| WO2007060045A1 (en) * | 2005-11-25 | 2007-05-31 | Foss Analytical Ab | Optical analyzer |
| JP5443701B2 (ja) * | 2008-04-03 | 2014-03-19 | パナソニック株式会社 | ガス濃度測定装置 |
| DE102011055001A1 (de) * | 2011-11-02 | 2013-05-02 | Hygrosens Instruments GmbH | Messgerät und Verfahren zum Erfassen des Kohlenwasserstoffanteils in Gasen |
| EP3193166B1 (en) * | 2016-01-13 | 2019-12-18 | Inficon GmbH | Wide range gas detection using an infrared gas detector |
| JP6168172B2 (ja) * | 2016-01-29 | 2017-07-26 | 株式会社島津製作所 | 赤外線ガス分析装置 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1302592C2 (de) * | 1960-06-03 | 1975-04-10 | Office National D'etudes Et De Recherches Aerospatiales, Chatillon-Sous-Bagneux (Frankreich) | Geraet zur konzentrationsbestimmung eines analysenstoffes mittels selektiver absorption modulierter strahlung |
| DE2808033A1 (de) * | 1978-02-24 | 1979-08-30 | Siemens Ag | Einrichtung zur unterdrueckung der wasserdampf-querempfindlichkeit bei einem nicht dispersiven infrarot-gasanalysator |
| US4355233A (en) * | 1979-02-22 | 1982-10-19 | Beckman Instruments, Inc. | Method and apparatus for negating measurement effects of interferent gases in non-dispersive infrared analyzers |
| JPS5616847A (en) * | 1979-07-20 | 1981-02-18 | Horiba Ltd | Nondispersion type infrared-ray analysis meter |
| US4687337A (en) * | 1981-09-02 | 1987-08-18 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Atmospheric Aerosol extinctiometer |
| JPS5892843A (ja) * | 1981-11-26 | 1983-06-02 | Horiba Ltd | 二成分測定用非分散型赤外線分析計 |
| JPS62126329A (ja) * | 1985-11-27 | 1987-06-08 | Horiba Ltd | 吸光分析計 |
| DE3544015A1 (de) * | 1985-12-13 | 1987-06-19 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Gasanalysevorrichtung |
| US4914719A (en) * | 1989-03-10 | 1990-04-03 | Criticare Systems, Inc. | Multiple component gas analyzer |
| DE3918994C1 (ja) * | 1989-06-10 | 1990-06-13 | Draegerwerk Ag, 2400 Luebeck, De | |
| US5153436A (en) * | 1990-05-23 | 1992-10-06 | Ntc Technology, Inc. | Temperature controlled detectors for infrared-type gas analyzers |
| GB9013870D0 (en) * | 1990-06-21 | 1990-08-15 | Laser Monitoring Systems Limit | Optical sensors |
| US5332901A (en) * | 1991-03-15 | 1994-07-26 | Li-Cor, Inc. | Gas analyzing apparatus and method for simultaneous measurement of carbon dioxide and water |
| US5331409A (en) * | 1992-06-12 | 1994-07-19 | George Thurtell | Tunable diode laser gas analyzer |
-
1993
- 1993-12-31 JP JP35428893A patent/JP2903457B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-11-17 DE DE19944441023 patent/DE4441023C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-11-18 US US08/342,247 patent/US5572032A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7227642B2 (en) | 2003-10-10 | 2007-06-05 | Horiba, Ltd. | Absorbance monitor |
| CN1295494C (zh) * | 2004-07-04 | 2007-01-17 | 华中科技大学 | 集成化微型光学分析仪 |
| CN102661921A (zh) * | 2012-05-24 | 2012-09-12 | 南京国电环保设备有限公司 | 直接测量法烟气分析仪全***在线标定装置 |
| CN102734414A (zh) * | 2012-05-24 | 2012-10-17 | 南京国电环保科技有限公司 | 一种平面传动转向装置 |
| CN102734414B (zh) * | 2012-05-24 | 2014-09-10 | 南京国电环保科技有限公司 | 一种平面传动转向装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE4441023A1 (de) | 1995-06-01 |
| US5572032A (en) | 1996-11-05 |
| JPH07190931A (ja) | 1995-07-28 |
| DE4441023C2 (de) | 1998-07-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2903457B2 (ja) | ガス分析計およびガス分析機構 | |
| US8049881B2 (en) | Optical analysis system and methods for operating multivariate optical elements in a normal incidence orientation | |
| US4081215A (en) | Stable two-channel, single-filter spectrometer | |
| US7903252B2 (en) | Noise cancellation in fourier transform spectrophotometry | |
| US4829183A (en) | Dual sample cell gas analyzer | |
| US5693945A (en) | Gas analyzer | |
| US20100195105A1 (en) | Improved stability for optical computing system | |
| WO2007061436A1 (en) | Self calibration methods for optical analysis system | |
| US4736103A (en) | Spectrometer test gas chamber | |
| US5773828A (en) | Gas analyzer | |
| US4825076A (en) | Infra-red spectrophotometric apparatus | |
| US6762410B1 (en) | Analysis apparatus | |
| JPH054629B2 (ja) | ||
| US6528791B1 (en) | Infrared spectrophotometer employing sweep diffraction grating | |
| JPS6250641A (ja) | 吸光光度計を備えた分析装置 | |
| US5672874A (en) | Infrared oil-concentration meter | |
| US3851176A (en) | Plural gas non-dispersive infrared analyzer | |
| JPH08247942A (ja) | 赤外線ガス分析計 | |
| US7227642B2 (en) | Absorbance monitor | |
| EP0105659B1 (en) | Carbon monoxide detectors | |
| JPH07151685A (ja) | 非分散形赤外線ガス分析計 | |
| GB2070765A (en) | Spectrophotometry | |
| JPH0843302A (ja) | 紫外線分析計 | |
| JP3174710B2 (ja) | ガス分析計 | |
| JPH08122254A (ja) | 赤外線ガス分析計 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080326 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110326 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140326 Year of fee payment: 15 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |