JP2889449B2 - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置や液晶表示
装置の製造工程における露光工程で用いられるレチクル
に形成されたペリクル膜と称される保護膜に付着したゴ
ミを除去する洗浄装置に関する。
装置の製造工程における露光工程で用いられるレチクル
に形成されたペリクル膜と称される保護膜に付着したゴ
ミを除去する洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図１０は、ペリクル膜２が形成されたレ
チクル１を示す図である。図１０（１）はレチクル１の
断面図であり、図１０（２）はその平面図である。レチ
クル１は、ガラス基板上に、遮光性材料であるたとえば
クロムによって配線パターン４を形成した、いわゆるマ
スクである。レチクル１の両表面には、厚さが数十μｍ
の、たとえばニトロセルローズから成るペリクル膜２が
配置されている。該ペリクル膜２は、配線パターン４の
形成面全面を覆うように、すなわち図１０（２）に示さ
れる斜線部分全体に配置されている。さらに、ペリクル
膜２は、金枠３によってレチクル１との間に数ｍｍ程度
の間隔を保って配置されている。このように、ペリクル
膜２を設けることによって、レチクル１の配線パターン
４の形成面上に直接ゴミが付着することが防止され、露
光時において、ゴミが配線パターンとして転写されるこ
とによって生じる配線パターンの短絡を低減することが
できる。
チクル１を示す図である。図１０（１）はレチクル１の
断面図であり、図１０（２）はその平面図である。レチ
クル１は、ガラス基板上に、遮光性材料であるたとえば
クロムによって配線パターン４を形成した、いわゆるマ
スクである。レチクル１の両表面には、厚さが数十μｍ
の、たとえばニトロセルローズから成るペリクル膜２が
配置されている。該ペリクル膜２は、配線パターン４の
形成面全面を覆うように、すなわち図１０（２）に示さ
れる斜線部分全体に配置されている。さらに、ペリクル
膜２は、金枠３によってレチクル１との間に数ｍｍ程度
の間隔を保って配置されている。このように、ペリクル
膜２を設けることによって、レチクル１の配線パターン
４の形成面上に直接ゴミが付着することが防止され、露
光時において、ゴミが配線パターンとして転写されるこ
とによって生じる配線パターンの短絡を低減することが
できる。
【０００３】図１１は、露光時におけるペリクル膜２の
役割を説明するための図である。図１１（１）はペリク
ル膜２を使用しない場合を表し、図１１（２）はペリク
ル膜２を使用した場合を表す。図１１（１）に示される
ように、配線パターン４が形成されたレチクル１表面に
ゴミ５が付着すると、レンズ６を用いて露光を行った場
合、ゴミ５による結像点Ｓは配線パターンが転写されて
形成される基板７のレンズ６側表面７ａ上に形成され
る。このため、ゴミ５による配線パターンの短絡が生じ
て基板７は不良品となり、半導体装置や液晶表示装置の
生産性を低下させる。
役割を説明するための図である。図１１（１）はペリク
ル膜２を使用しない場合を表し、図１１（２）はペリク
ル膜２を使用した場合を表す。図１１（１）に示される
ように、配線パターン４が形成されたレチクル１表面に
ゴミ５が付着すると、レンズ６を用いて露光を行った場
合、ゴミ５による結像点Ｓは配線パターンが転写されて
形成される基板７のレンズ６側表面７ａ上に形成され
る。このため、ゴミ５による配線パターンの短絡が生じ
て基板７は不良品となり、半導体装置や液晶表示装置の
生産性を低下させる。
【０００４】一方、図１１（２）に示されるようにペリ
クル膜２を使用した場合、該ペリクル膜２はレチクル１
の配線パターン４の形成面全面に対して形成されてお
り、ゴミ５はペリクル膜２上に付着する。このような状
態で露光を行うと、ゴミ５による結像点Ｓは、基板７を
越えた地点に形成される。このため、ゴミ５による悪影
響を低減させることができ、生産性を向上することが可
能となる。
クル膜２を使用した場合、該ペリクル膜２はレチクル１
の配線パターン４の形成面全面に対して形成されてお
り、ゴミ５はペリクル膜２上に付着する。このような状
態で露光を行うと、ゴミ５による結像点Ｓは、基板７を
越えた地点に形成される。このため、ゴミ５による悪影
響を低減させることができ、生産性を向上することが可
能となる。
【０００５】しかしながら、ペリクル膜２上に付着する
ゴミ５の大きさによっては、ペリクル膜２を設けても配
線パターン４の短絡を生じることとなる。一般に、数十
〜数百μｍであればその影響はないが、数百μｍ以上で
は短絡が生じる。このため、数百μｍ以上の大きさのゴ
ミは、除去する必要がある。
ゴミ５の大きさによっては、ペリクル膜２を設けても配
線パターン４の短絡を生じることとなる。一般に、数十
〜数百μｍであればその影響はないが、数百μｍ以上で
は短絡が生じる。このため、数百μｍ以上の大きさのゴ
ミは、除去する必要がある。
【０００６】前記数百μｍ以上の大きさのゴミの除去
は、図１２に示されるように、エアーガン８を用いて実
施する。該エアーガン８からは、フィルタによってゴミ
が除去された、たとえば窒素（Ｎ2）ガスが噴射され
る。作業者は、露光装置内からペリクル膜２が形成され
たレチクル１を取出し、エアーガン８によってゴミの付
着部分、あるいはペリクル膜２全体に窒素（Ｎ2）ガス
を吹付けてゴミを除去する。これらの作業は、全て手作
業で実施される。
は、図１２に示されるように、エアーガン８を用いて実
施する。該エアーガン８からは、フィルタによってゴミ
が除去された、たとえば窒素（Ｎ2）ガスが噴射され
る。作業者は、露光装置内からペリクル膜２が形成され
たレチクル１を取出し、エアーガン８によってゴミの付
着部分、あるいはペリクル膜２全体に窒素（Ｎ2）ガス
を吹付けてゴミを除去する。これらの作業は、全て手作
業で実施される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、ゴミ
の除去作業は、全て手作業で行われ、また露光工程を一
時的に中断させて行われるので、手間がかかり、作業効
率が低下するという問題が生じる。また、手作業によっ
て行われるので、非常に薄いペリクル膜２をエアーガン
８や手で破損する恐れがある。前記ペリクル膜２は、破
損した場合、貼り替えることが可能であるが、費用や時
間がかかるという問題が生じる。さらに、洗浄度の高い
露光装置内から取出して行われるため、出入れ時に浮遊
しているゴミが付着したり、除去したゴミが再付着する
などの問題が生じる。
の除去作業は、全て手作業で行われ、また露光工程を一
時的に中断させて行われるので、手間がかかり、作業効
率が低下するという問題が生じる。また、手作業によっ
て行われるので、非常に薄いペリクル膜２をエアーガン
８や手で破損する恐れがある。前記ペリクル膜２は、破
損した場合、貼り替えることが可能であるが、費用や時
間がかかるという問題が生じる。さらに、洗浄度の高い
露光装置内から取出して行われるため、出入れ時に浮遊
しているゴミが付着したり、除去したゴミが再付着する
などの問題が生じる。
【０００８】本発明の目的は、保護膜を破損することな
く、表面の付着物を効率よく除去することができる洗浄
装置を提供することである。
く、表面の付着物を効率よく除去することができる洗浄
装置を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、一側壁面に開
口部が形成されたハウジングと、透光性材料から成る基
板の表面に遮光性材料で配線パターンが形成され、透光
性を有する保護膜が表面から間隔をあけて形成されるレ
チクルを、前記開口部からハウジング内に搬入および搬
出する搬送手段と、前記搬送手段によって搬入されたレ
チクルを鉛直状態と水平状態とに角変位して保持する保
持手段と、前記鉛直状態に保持されたレチクルの表面に
対して気体流を噴射する気体流噴射手段とを含むことを
特徴とする洗浄装置である。
口部が形成されたハウジングと、透光性材料から成る基
板の表面に遮光性材料で配線パターンが形成され、透光
性を有する保護膜が表面から間隔をあけて形成されるレ
チクルを、前記開口部からハウジング内に搬入および搬
出する搬送手段と、前記搬送手段によって搬入されたレ
チクルを鉛直状態と水平状態とに角変位して保持する保
持手段と、前記鉛直状態に保持されたレチクルの表面に
対して気体流を噴射する気体流噴射手段とを含むことを
特徴とする洗浄装置である。
【００１０】また本発明の洗浄装置は、前記ハウジング
内に設けられ、前記気体流噴射手段から噴射された気体
を排気する排気手段を備えることを特徴とする。
内に設けられ、前記気体流噴射手段から噴射された気体
を排気する排気手段を備えることを特徴とする。
【００１１】
【作用】本発明に従えば、ハウジングに形成された開口
部から搬送手段によってペリクル膜と称される保護膜が
形成されたレチクルが搬入され、保持手段によって水平
状態に保持される。水平状態に保持されたレチクルは、
保持手段の角変位によって鉛直状態に保持され、気体流
噴射手段からレチクルの表面に対して気体流が噴射さ
れ、レチクルの保護膜表面に付着した付着物が吹飛ばさ
れて除去される。気体流の噴射が終わると、レチクルを
保持する保持手段が角変位し、レチクルが再び水平状態
に保持される。水平状態に保持されたレチクルは、搬送
手段によってハウジング内から搬出される。したがっ
て、付着物の除去は機械的に効率よく実施され、非常に
薄い保護膜の破損を低減して保護膜の貼り替えなどに必
要とする費用や時間を低減することができる。
部から搬送手段によってペリクル膜と称される保護膜が
形成されたレチクルが搬入され、保持手段によって水平
状態に保持される。水平状態に保持されたレチクルは、
保持手段の角変位によって鉛直状態に保持され、気体流
噴射手段からレチクルの表面に対して気体流が噴射さ
れ、レチクルの保護膜表面に付着した付着物が吹飛ばさ
れて除去される。気体流の噴射が終わると、レチクルを
保持する保持手段が角変位し、レチクルが再び水平状態
に保持される。水平状態に保持されたレチクルは、搬送
手段によってハウジング内から搬出される。したがっ
て、付着物の除去は機械的に効率よく実施され、非常に
薄い保護膜の破損を低減して保護膜の貼り替えなどに必
要とする費用や時間を低減することができる。
【００１２】また、噴射された気体は、排気手段によっ
て排気されるので、除去された付着物も吸引されてハウ
ジングの外部に排出され、保護膜への再付着を防止する
ことができる。
て排気されるので、除去された付着物も吸引されてハウ
ジングの外部に排出され、保護膜への再付着を防止する
ことができる。
【００１３】さらに、この洗浄装置を露光装置と一体化
することによって、洗浄度の高い露光装置からレチクル
を取出すことなく付着物を除去することができ、ゴミの
付着をさらに低減させることができる。
することによって、洗浄度の高い露光装置からレチクル
を取出すことなく付着物を除去することができ、ゴミの
付着をさらに低減させることができる。
【００１４】
【実施例】図１は本発明の一実施例である洗浄装置１１
の側面を切取った側面図であり、図２は洗浄装置１１の
上面を切取った平面図である。洗浄装置１１は、ハウジ
ング１２によって覆われて構成される。ハウジング１２
には開口部である搬送口１２ａが形成され、またハウジ
ング１２の内側表面１２ｂには、後述するエアーシャワ
１４と、エアーシャワ１４から噴射された窒素（Ｎ2）
ガスを排気する排気口１３が形成されている。さらに、
このハウジング１２の内部には、レチクル５１を保持
し、角変位する保持手段が形成されている。
の側面を切取った側面図であり、図２は洗浄装置１１の
上面を切取った平面図である。洗浄装置１１は、ハウジ
ング１２によって覆われて構成される。ハウジング１２
には開口部である搬送口１２ａが形成され、またハウジ
ング１２の内側表面１２ｂには、後述するエアーシャワ
１４と、エアーシャワ１４から噴射された窒素（Ｎ2）
ガスを排気する排気口１３が形成されている。さらに、
このハウジング１２の内部には、レチクル５１を保持
し、角変位する保持手段が形成されている。
【００１５】前記保持手段は、後述するレチクル５１が
落下しないように設けられる複数の止め具１６，１７を
有するステージ１５を含んで構成される。ステージ１５
は軸１８に固定されており、後述する駆動機構によって
軸２５の回転が軸１８に伝達されて前記ステージ１５が
角変位する。また、軸１８，２５は、フレーム１９の挿
通孔１９ａに回転可能な状態で挿通されている。前記ス
テージ１５は、レチクル５１を確実に支えるために、図
２に示すように２つ設けられている。このような構成の
洗浄装置１１は、後述する露光装置３１と一体化されて
形成される。
落下しないように設けられる複数の止め具１６，１７を
有するステージ１５を含んで構成される。ステージ１５
は軸１８に固定されており、後述する駆動機構によって
軸２５の回転が軸１８に伝達されて前記ステージ１５が
角変位する。また、軸１８，２５は、フレーム１９の挿
通孔１９ａに回転可能な状態で挿通されている。前記ス
テージ１５は、レチクル５１を確実に支えるために、図
２に示すように２つ設けられている。このような構成の
洗浄装置１１は、後述する露光装置３１と一体化されて
形成される。
【００１６】図３は露光装置３１の概略的構成を示す平
面図であり、図４はその側面図である。露光装置３１
は、ワーク、すなわち配線パターンが転写されて形成さ
れる基板などが保管されるワークカセット３２と、ワー
クを搬送するための搬送アーム３３とを備えるワーク収
納部３４、Ｘ−Ｙステージ３５、ゴミ検出装置３７、レ
チクルケース３８、前述した洗浄装置１１、レチクル５
１を搬送するための搬送アーム２１、投影レンズ３９、
および排気手段４０を含んで構成される。
面図であり、図４はその側面図である。露光装置３１
は、ワーク、すなわち配線パターンが転写されて形成さ
れる基板などが保管されるワークカセット３２と、ワー
クを搬送するための搬送アーム３３とを備えるワーク収
納部３４、Ｘ−Ｙステージ３５、ゴミ検出装置３７、レ
チクルケース３８、前述した洗浄装置１１、レチクル５
１を搬送するための搬送アーム２１、投影レンズ３９、
および排気手段４０を含んで構成される。
【００１７】露光装置３１の排気手段４０には、たとえ
ばＨＥＰＡ（High EfficiencyParticle Air）フィルタ
が設けられており、この装置３１の内部が最適な清浄度
に保たれている。Ｘ−Ｙステージ３５には、ワークカセ
ット３２に保管されるワークが設置される。このワーク
の設置は、搬送アーム３３によって実施される。Ｘ−Ｙ
ステージ３５は、モータ３６Ｘ，３６Ｙによって方向Ｘ
と方向Ｙとの２方向に移動することが可能であり、この
調整によって微妙な位置合わせが実施される。
ばＨＥＰＡ（High EfficiencyParticle Air）フィルタ
が設けられており、この装置３１の内部が最適な清浄度
に保たれている。Ｘ−Ｙステージ３５には、ワークカセ
ット３２に保管されるワークが設置される。このワーク
の設置は、搬送アーム３３によって実施される。Ｘ−Ｙ
ステージ３５は、モータ３６Ｘ，３６Ｙによって方向Ｘ
と方向Ｙとの２方向に移動することが可能であり、この
調整によって微妙な位置合わせが実施される。
【００１８】Ｘ−Ｙステージ３５の上方には、前述した
洗浄装置１１と、ゴミ検出装置３７と、レチクルケース
３８と、投影レンズ３９と、レチクル５１を搬送する搬
送アーム２１とが配置されている。ゴミ検出装置３７
は、たとえば光散乱法によってレチクル５１に形成され
たペリクル膜５２上にゴミが付着しているかどうかを検
出する手段である。レチクルケース３８は、レチクル５
１を収納するケースである。また、投影レンズ３９は、
レチクル５１に形成された配線パターンを前記Ｘ−Ｙス
テージ３５上に設置されたワークに転写する際に使用さ
れるレンズであり、このレンズ３９を上下方向に移動さ
せることによって焦点合わせを行って、配線パターンを
転写させる。レチクルケース３８、ゴミ検出装置３７、
および洗浄装置１１におけるレチクル５１の出入れや、
これらの装置間での搬送、露光経路上への搬送は、搬送
アーム２１で搬送経路Ｔ上を走査することによって実施
される。
洗浄装置１１と、ゴミ検出装置３７と、レチクルケース
３８と、投影レンズ３９と、レチクル５１を搬送する搬
送アーム２１とが配置されている。ゴミ検出装置３７
は、たとえば光散乱法によってレチクル５１に形成され
たペリクル膜５２上にゴミが付着しているかどうかを検
出する手段である。レチクルケース３８は、レチクル５
１を収納するケースである。また、投影レンズ３９は、
レチクル５１に形成された配線パターンを前記Ｘ−Ｙス
テージ３５上に設置されたワークに転写する際に使用さ
れるレンズであり、このレンズ３９を上下方向に移動さ
せることによって焦点合わせを行って、配線パターンを
転写させる。レチクルケース３８、ゴミ検出装置３７、
および洗浄装置１１におけるレチクル５１の出入れや、
これらの装置間での搬送、露光経路上への搬送は、搬送
アーム２１で搬送経路Ｔ上を走査することによって実施
される。
【００１９】搬送アーム２１は、図２に示されるように
細長い棒状の２つの先端部２２を有している。また、先
端部２２の最先端には、凸部２３がそれぞれ形成されて
いる。レチクル５１は、このような搬送アーム２１上に
設置されて搬送される。搬送アーム２１の２つの先端部
２２は間隔をあけて形成されているため、レチクル５１
に形成されたペリクル膜５２を破損することはなく、さ
らに露光処理も問題なく実施することができる。また、
ステージ１５に保持されたレチクル５１の取出しは、前
記凸部２３でレチクル５１を引出すことによって問題な
く実施される。
細長い棒状の２つの先端部２２を有している。また、先
端部２２の最先端には、凸部２３がそれぞれ形成されて
いる。レチクル５１は、このような搬送アーム２１上に
設置されて搬送される。搬送アーム２１の２つの先端部
２２は間隔をあけて形成されているため、レチクル５１
に形成されたペリクル膜５２を破損することはなく、さ
らに露光処理も問題なく実施することができる。また、
ステージ１５に保持されたレチクル５１の取出しは、前
記凸部２３でレチクル５１を引出すことによって問題な
く実施される。
【００２０】図５は、前述した洗浄装置１１内に設けら
れるステージ１５にレチクル５１を保持するための止め
具１６，１７を示す斜視図である。図５（１）はステー
ジ１５に形成された止め具１６を示し、図５（２）は止
め具１７を示す。前記搬送アーム２１によって洗浄装置
１１内に搬入されたレチクル５１は、止め具１６，１７
と、ステージ１５との間に挟持されるとともに、止め具
１６の一方表面１６ａおよび止め具１７の一方表面１７
ａが、レチクル５１の一方側面５１ａと当接する。した
がって、上下方向や左右方向の振動などによってレチク
ル５１がステージ１５から落下することが防止される。
また、レチクル５１の他方側面５１ｂは、止め具１６の
他方表面１６ｂと当接される。したがって、止め具１６
の他方表面１６ｂを下方として、ステージ１５を傾斜さ
せてもレチクル５１が滑り落ちることはなく、ステージ
１５に保持される。
れるステージ１５にレチクル５１を保持するための止め
具１６，１７を示す斜視図である。図５（１）はステー
ジ１５に形成された止め具１６を示し、図５（２）は止
め具１７を示す。前記搬送アーム２１によって洗浄装置
１１内に搬入されたレチクル５１は、止め具１６，１７
と、ステージ１５との間に挟持されるとともに、止め具
１６の一方表面１６ａおよび止め具１７の一方表面１７
ａが、レチクル５１の一方側面５１ａと当接する。した
がって、上下方向や左右方向の振動などによってレチク
ル５１がステージ１５から落下することが防止される。
また、レチクル５１の他方側面５１ｂは、止め具１６の
他方表面１６ｂと当接される。したがって、止め具１６
の他方表面１６ｂを下方として、ステージ１５を傾斜さ
せてもレチクル５１が滑り落ちることはなく、ステージ
１５に保持される。
【００２１】図６は、ステージ１５の角変位機構の概略
を示す斜視図である。軸１８はステージ１５に固定さ
れ、軸２５はモータ２０に接続されている。軸１８，２
５は、フレーム１９の挿通孔１９ａに回転可能な状態で
挿通されている。モータ２０を駆動することによって生
じる軸２５の回転力は、ベルト２４によって軸１８に伝
達され、軸１８に固定されたステージ１５を水平状態と
鉛直状態とに角変位する。また、軸２５には、軸２５の
回転を制御するセンサ２６が形成されており、ステージ
１５が水平状態、あるいは鉛直状態に角変位するのに要
する角度だけ軸２５が角変位すると、角変位が停止する
ように設定される。この角変位機構は、図示しない昇降
手段によって昇降する。
を示す斜視図である。軸１８はステージ１５に固定さ
れ、軸２５はモータ２０に接続されている。軸１８，２
５は、フレーム１９の挿通孔１９ａに回転可能な状態で
挿通されている。モータ２０を駆動することによって生
じる軸２５の回転力は、ベルト２４によって軸１８に伝
達され、軸１８に固定されたステージ１５を水平状態と
鉛直状態とに角変位する。また、軸２５には、軸２５の
回転を制御するセンサ２６が形成されており、ステージ
１５が水平状態、あるいは鉛直状態に角変位するのに要
する角度だけ軸２５が角変位すると、角変位が停止する
ように設定される。この角変位機構は、図示しない昇降
手段によって昇降する。
【００２２】図７は、前記エアーシャワ１４の構造を示
す斜視図である。図７（１）はエアーシャワ１４全体を
覆うハウジング２７の一方表面２７ａを示す斜視図であ
り、図７（２）はハウジング２７の他方表面２７ｂを示
す斜視図である。ハウジング２７には複数の挿通孔２８
が形成されており、該挿通孔２８に直径が５ｍｍ程度の
管２９がそれぞれ挿通されている。該管２９からは、適
当な圧力に加圧され、かつゴミが除去された気体、たと
えば窒素（Ｎ2）ガスが噴射される。
す斜視図である。図７（１）はエアーシャワ１４全体を
覆うハウジング２７の一方表面２７ａを示す斜視図であ
り、図７（２）はハウジング２７の他方表面２７ｂを示
す斜視図である。ハウジング２７には複数の挿通孔２８
が形成されており、該挿通孔２８に直径が５ｍｍ程度の
管２９がそれぞれ挿通されている。該管２９からは、適
当な圧力に加圧され、かつゴミが除去された気体、たと
えば窒素（Ｎ2）ガスが噴射される。
【００２３】図８は、ペリクル膜５２が形成されたレチ
クル５１を示す図である。図８（１）はレチクル５１の
断面図であり、図８（２）はその平面図である。レチク
ル５１は、ガラス基板上に、遮光性材料であるたとえば
クロムによって配線パターン５４を形成した、いわゆる
マスクである。レチクル５１の両表面には、厚さが数十
μｍの、たとえばニトロセルローズから成るペリクル膜
５２が配置されている。該ペリクル膜５２は、配線パタ
ーン５４全面を覆うように、すなわち図８（２）に示さ
れる斜線部分全体に配置されている。さらに、ペリクル
膜５２は、金枠５３によってレチクル５１との間に数ｍ
ｍ程度の間隔を保って配置されている。このように、ペ
リクル膜５２を設けることによって、レチクル５１の配
線パターン５４の形成面上に直接ゴミが付着することが
防止され、露光時においてゴミが転写されることによっ
て生じる配線パターンの短絡を低減することができる。
クル５１を示す図である。図８（１）はレチクル５１の
断面図であり、図８（２）はその平面図である。レチク
ル５１は、ガラス基板上に、遮光性材料であるたとえば
クロムによって配線パターン５４を形成した、いわゆる
マスクである。レチクル５１の両表面には、厚さが数十
μｍの、たとえばニトロセルローズから成るペリクル膜
５２が配置されている。該ペリクル膜５２は、配線パタ
ーン５４全面を覆うように、すなわち図８（２）に示さ
れる斜線部分全体に配置されている。さらに、ペリクル
膜５２は、金枠５３によってレチクル５１との間に数ｍ
ｍ程度の間隔を保って配置されている。このように、ペ
リクル膜５２を設けることによって、レチクル５１の配
線パターン５４の形成面上に直接ゴミが付着することが
防止され、露光時においてゴミが転写されることによっ
て生じる配線パターンの短絡を低減することができる。
【００２４】図９は、洗浄装置１１の洗浄処理を段階的
に説明するための側面図である。ゴミ検出装置３７によ
って、ゴミが付着していると判断されると、洗浄装置１
１で付着したゴミの除去処理が行われる。図９（１）に
示されるように、搬送アーム２１上に設置されたレチク
ル５１が、洗浄装置１１の搬送口１２ａから搬入されて
ステージ１５上に保持される。レチクル５１がステージ
１５上に完全に保持されると、搬送アーム２１は洗浄装
置１１の外部に出ていく。次に、モータ２０を駆動して
ステージ１５を図９（２）に示す方向Ａにほぼ９０°だ
け角変位させる。
に説明するための側面図である。ゴミ検出装置３７によ
って、ゴミが付着していると判断されると、洗浄装置１
１で付着したゴミの除去処理が行われる。図９（１）に
示されるように、搬送アーム２１上に設置されたレチク
ル５１が、洗浄装置１１の搬送口１２ａから搬入されて
ステージ１５上に保持される。レチクル５１がステージ
１５上に完全に保持されると、搬送アーム２１は洗浄装
置１１の外部に出ていく。次に、モータ２０を駆動して
ステージ１５を図９（２）に示す方向Ａにほぼ９０°だ
け角変位させる。
【００２５】レチクル５１が保持されたステージ１５
は、フレーム１９とともにエアーシャワ１４から噴き出
す窒素（Ｎ2）ガスが、レチクル５１上のペリクル膜５
２に吹き付けられる位置、たとえば図９（３）に示す方
向Ｂに下降する。次に、エアーシャワ１４から窒素（Ｎ
2）ガスが、たとえば１０秒間噴き出し、レチクル５１
上のペリクル膜５２に付着したゴミを吹き飛ばす。この
とき、複数設けられたエアーシャワ１４によってレチク
ル５１の両表面に形成されたペリクル膜５２が同時に処
理されてもよいし、あるいは片面ずつ処理されてもよ
い。除去されたゴミは、排気口１３から窒素（Ｎ2）ガ
スとともに排気される。したがって、除去したゴミがペ
リクル膜５２に再付着することが防止される。この排気
は、前記エアーシャワ１４が動作すると同時に開始して
もよいし、エアーシャワ１４が停止した後に開始しても
よい。また、排気時間は、たとえば１０秒間、あるいは
１２秒間とされる。このようにして、ゴミの除去が終了
すると、ステージ１５はフレーム１９とともに図９
（４）に示す方向Ｃに上昇する。
は、フレーム１９とともにエアーシャワ１４から噴き出
す窒素（Ｎ2）ガスが、レチクル５１上のペリクル膜５
２に吹き付けられる位置、たとえば図９（３）に示す方
向Ｂに下降する。次に、エアーシャワ１４から窒素（Ｎ
2）ガスが、たとえば１０秒間噴き出し、レチクル５１
上のペリクル膜５２に付着したゴミを吹き飛ばす。この
とき、複数設けられたエアーシャワ１４によってレチク
ル５１の両表面に形成されたペリクル膜５２が同時に処
理されてもよいし、あるいは片面ずつ処理されてもよ
い。除去されたゴミは、排気口１３から窒素（Ｎ2）ガ
スとともに排気される。したがって、除去したゴミがペ
リクル膜５２に再付着することが防止される。この排気
は、前記エアーシャワ１４が動作すると同時に開始して
もよいし、エアーシャワ１４が停止した後に開始しても
よい。また、排気時間は、たとえば１０秒間、あるいは
１２秒間とされる。このようにして、ゴミの除去が終了
すると、ステージ１５はフレーム１９とともに図９
（４）に示す方向Ｃに上昇する。
【００２６】続いて、モータ２０を駆動して、ステージ
１５を図９（５）に示す方向Ｄにほぼ９０°だけ角変位
させる。ゴミの除去が終了したレチクル５１は、搬送ア
ーム２１によって洗浄装置１１から外部に搬出される。
搬出されたレチクル５１は、たとえばゴミ検出装置３７
に搬送されてゴミが付着しているかどうかが判断され
る。ゴミが付着している場合は、上述した洗浄処理が繰
返され、ゴミが付着していない場合は次の処理、たとえ
ば露光処理が実施される。
１５を図９（５）に示す方向Ｄにほぼ９０°だけ角変位
させる。ゴミの除去が終了したレチクル５１は、搬送ア
ーム２１によって洗浄装置１１から外部に搬出される。
搬出されたレチクル５１は、たとえばゴミ検出装置３７
に搬送されてゴミが付着しているかどうかが判断され
る。ゴミが付着している場合は、上述した洗浄処理が繰
返され、ゴミが付着していない場合は次の処理、たとえ
ば露光処理が実施される。
【００２７】以上のように本実施例によれば、洗浄装置
１１にはエアーシャワ１４と排気口１３とが設けられ、
ペリクル膜５２が形成されたレチクル５１は、搬送口１
２ａからハウジング１２の内部に搬入され、ステージ１
５に保持されて洗浄処理される。また、洗浄装置１１
は、露光装置３１と一体化されている。したがって、ゴ
ミの除去を機械的に、かつペリクル膜５２を破損するこ
となく行うことができる。また、レチクル５１の両表面
に配置されたペリクル膜５２は、ハウジング１２の内部
に設けられた複数のエアーシャワ１４によって同時に処
理されるため、効率よくゴミを除去することができる。
１１にはエアーシャワ１４と排気口１３とが設けられ、
ペリクル膜５２が形成されたレチクル５１は、搬送口１
２ａからハウジング１２の内部に搬入され、ステージ１
５に保持されて洗浄処理される。また、洗浄装置１１
は、露光装置３１と一体化されている。したがって、ゴ
ミの除去を機械的に、かつペリクル膜５２を破損するこ
となく行うことができる。また、レチクル５１の両表面
に配置されたペリクル膜５２は、ハウジング１２の内部
に設けられた複数のエアーシャワ１４によって同時に処
理されるため、効率よくゴミを除去することができる。
【００２８】さらに、除去されたゴミは、排気口１３か
ら排出されるとともに、洗浄装置１１は洗浄度の高い露
光装置３１と一体化されるため、浮遊しているゴミが付
着することや、除去したゴミが再付着することがなくな
る。
ら排出されるとともに、洗浄装置１１は洗浄度の高い露
光装置３１と一体化されるため、浮遊しているゴミが付
着することや、除去したゴミが再付着することがなくな
る。
【００２９】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、保護膜が
形成されたレチクルは、搬送手段によってハウジングの
開口部からハウジング内に搬入され、保持手段に保持さ
れる。保持されたレチクルには、気体流噴射手段から気
体流が噴射されて、保護膜に付着した付着物が除去され
る。したがって、付着物の除去を機械的に、効率よく実
施することができ、保護膜の破損を低減することができ
る。
形成されたレチクルは、搬送手段によってハウジングの
開口部からハウジング内に搬入され、保持手段に保持さ
れる。保持されたレチクルには、気体流噴射手段から気
体流が噴射されて、保護膜に付着した付着物が除去され
る。したがって、付着物の除去を機械的に、効率よく実
施することができ、保護膜の破損を低減することができ
る。
【００３０】また、本発明によれば、除去された付着物
は、排気手段によってハウジングの外部に排出されるた
め、保護膜への再付着を防止することができ、効率よく
確実に除去することが可能となる。
は、排気手段によってハウジングの外部に排出されるた
め、保護膜への再付着を防止することができ、効率よく
確実に除去することが可能となる。
【図１】本発明の一実施例である洗浄装置１１の側面を
切取った側面図である。
切取った側面図である。
【図２】洗浄装置１１の上面を切取った平面図である。
【図３】露光装置３１の概略的構成を示す平面図であ
る。
る。
【図４】露光装置３１の概略的構成を示す側面図であ
る。
る。
【図５】ステージ１５にレチクル５１を保持するための
止め具１６，１７を示す斜視図である。
止め具１６，１７を示す斜視図である。
【図６】ステージ１５の角変位機構の概略を示す斜視図
である。
である。
【図７】エアーシャワ１４を示す斜視図である。
【図８】ペリクル膜５２が形成されたレチクル５１を示
す図である。
す図である。
【図９】洗浄装置１１の洗浄処理を段階的に説明するた
めの側面図である。
めの側面図である。
【図１０】ペリクル膜２が形成されたレチクル１を示す
図である。
図である。
【図１１】露光時におけるペリクル膜２の役割を説明す
るための図である。
るための図である。
【図１２】従来の洗浄方法を説明する断面図である。
１１ 洗浄装置 １２ ハウジング １２ａ 搬送口 １３ 排気口 １４ エアーシャワ １５ ステージ ２１ 搬送アーム ５１ レチクル ５２ ペリクル膜
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01L 21/027 B08B 5/00 G03F 1/08
Claims (2)
- 【請求項１】 一側壁面に開口部が形成されたハウジン
グと、 透光性材料から成る基板の表面に遮光性材料で配線パタ
ーンが形成され、透光性を有する保護膜が表面から間隔
をあけて形成されるレチクルを、前記開口部からハウジ
ング内に搬入および搬出する搬送手段と、 前記搬送手段によって搬入されたレチクルを鉛直状態と
水平状態とに角変位して保持する保持手段と、 前記鉛直状態に保持されたレチクルの表面に対して気体
流を噴射する気体流噴射手段とを含むことを特徴とする
洗浄装置。 - 【請求項２】 前記ハウジング内に設けられ、前記気体
流噴射手段から噴射された気体を排気する排気手段を備
えることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32179592A JP2889449B2 (ja) | 1992-12-01 | 1992-12-01 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32179592A JP2889449B2 (ja) | 1992-12-01 | 1992-12-01 | 洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06168864A JPH06168864A (ja) | 1994-06-14 |
| JP2889449B2 true JP2889449B2 (ja) | 1999-05-10 |
Family
ID=18136505
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32179592A Expired - Lifetime JP2889449B2 (ja) | 1992-12-01 | 1992-12-01 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2889449B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6395102B1 (en) * | 1997-08-25 | 2002-05-28 | Texas Instruments Incorporated | Method and apparatus for in-situ reticle cleaning at photolithography tool |
| TWI235410B (en) * | 2004-07-16 | 2005-07-01 | Toppan Chunghwa Electronic Co | Method for cleaning semiconductor device |
| US20070146658A1 (en) * | 2005-12-27 | 2007-06-28 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method |
| US10871722B2 (en) * | 2018-07-16 | 2020-12-22 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Photomask purging system and method |
| WO2021078534A1 (en) * | 2019-10-22 | 2021-04-29 | Asml Netherlands B.V. | Membrane cleaning apparatus |
-
1992
- 1992-12-01 JP JP32179592A patent/JP2889449B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06168864A (ja) | 1994-06-14 |
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