JP2865984B2 - レーザ干渉縞形成装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、微小な寸法の計測など
に用いるレーザ干渉縞形成装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から、電子ビームの断面サイズを計
測するにあたっては、単一のレーザビームを２つに分割
し、複数のレンズ系で集光し、共通焦点近傍で交差させ
て干渉縞を形成し、干渉縞によって形成される格子平面
に直交して電子ビームを透過し、逆コンプトン効果によ
って発生するγ線の強度を計測することによって、電子
ビームのサイズを計測する。干渉縞を電子ビームが横切
るように、電子ビームを偏向磁石で、または電界を用い
て移動させる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】このような先行技術で
は、サイズを計測すべき電子ビームを移動させるので、
ビームの真の姿である保証がなくなる可能性がある。

【０００４】本発明の目的は、電子ビームなどの被計測
対象を移動させることなく、そのサイズの計測などを可
能にするレーザ干渉縞形成装置を提供することである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、単一のレーザ
ビームを複数に分割し、分割されたビームを焦点位置を
共通とする複数のレンズ系で集光し、集光されたビーム
を各レンズ系の共通焦点位置近傍で交差させて干渉縞を
形成するレーザ干渉縞形成装置において、分割された各
ビームの経路の少なくとも１つに介在され、波長を変化
する手段と、異なるレンズ系で集光されたビームの交差
角度可変手段とを含むことを特徴とするレーザ干渉縞形
成装置である。

【０００６】また本発明は、単一のレーザビームを複数
に分割し、分割されたビームを焦点位置を共通とする複
数のレンズ系で集光し、集光されたビームを各レンズ系
の共通焦点位置近傍で交差させて干渉縞を形成するレー
ザ干渉縞形成装置において、分割された各ビームの経路
の少なくとも１つに可変され、位相を、時間経過に伴っ
て変化する手段と、異なるレンズ系で集光されたビーム
の交差角度可変手段とを含むことを特徴とするレーザ干
渉縞形成装置である。

【０００７】

【作用】本発明に従えば、単一のレーザビームを複数に
分割し、焦点位置を共通とする異なるレンズ系で集光さ
れたビームの交差角度を変化させることによって、共通
焦点位置近傍で形成される干渉縞の間隔を変化させるこ
とができる。本発明に従えば、単一のレーザビームを複
数に分割し、焦点位置を共通とする異なるレンズ系で集
光されたビームの波長または位相を変化させることによ
って、共通焦点位置近傍で形成される干渉縞の間隔を変
化させることができる。

【０００８】すなわち２分割されたレーザビームの一方
の波長をラマンセルを用いてシフトさせ、こうして干渉
縞を２本のレーザビームの周波数の差によって定まる一
定の移動速度で移動させることができる。またレーザ源
の発振波長を可変にするようにしてもよく、その発振波
長の選択のためにレーザ源が半導体レーザであるときに
は、通電電流の調整を行い、あるいはまたＮｄ：ＹＡＧ
レーザ源のときには非線形結晶による波長変換を行い、
あるいはまたエキシマレーザのときには波長安定化によ
る狭帯域化の技術によって波長の選択性を可能にする。
この波長を変化する手法では、２本のレーザビームの周
波数の差の逆数は、干渉縞が１波長分移動するに等しい
時間となる。

【０００９】２分割されたレーザビームの一方の位相を
変化させるには、その一方のレーザビームを、移動して
いる反射鏡によって反射させて、ドプラー効果による位
相のシフトを実現し、干渉縞の移動速度は、その位相の
変化速度に追随する。

【００１０】レーザビームは、３以上、用いられてもよ
い。

【００１１】

【実施例】図１は、本発明の一実施例の電子ビームのサ
イズを計測するための全体の構成を簡略化して示す斜視
図である。レーザ源１からのレーザビーム２の経路のも
っと具体的な構成は、図２に示されている。先ず、図１
を参照して概略を述べると、レーザ源１から発生された
単一のレーザビーム２は、ビームスプリッタ３の表面で
２つの方向に分割され、一方のレーザビーム５２は、そ
の経路に設けられたラマンセル５１を通り、そのレーザ
ビーム５８はさらにレンズ２５を通り、またもう１つの
レンズビーム５３はそのままレンズ１９を通り、これら
のレンズ１９．２５の共通焦点２６の位置で交差されて
干渉縞を形成する。この干渉縞によって形成される格子
平面に直交して、被計測物である電子ビーム５４を透過
させ、これによって逆コンプトン効果によって発生する
γ線５５の強度を、検出手段５６で計測することによっ
て、電子ビームのサイズを計測する。検出手段５６には
電子ビーム５４が入射されないように、磁界発生手段５
７によって電子ビーム５４を参照符５４ａで示されるよ
うに偏向させる。レーザ源１は、たとえば波長λ＝１．
０６０μｍのレーザビームを発生し、ラマンセル５１
は、レーザビーム５８の波長を１．０６５μｍになるよ
うに変化させる。レーザビーム５３の波長は、レーザビ
ーム２の波長と同一である。こうしてわずかに波長の異
なるレーザビームを合わせると、うなりを生じ、周期的
な変動が生じて、波長の差異の方向によって焦点２６の
位置で干渉縞が進行波になったり後退波になったりす
る。干渉縞の縞間隔は、使用するレーザビーム２の波長
に依存し、その干渉縞の移動速度は、上述のように２本
のレーザビームの周波数の差によって決まり、その周波
数の差の逆数が干渉縞が１波長移動するに等しい時間と
なる。

【００１２】ラマンセル５１は、レーザビーム５２の経
路に設ける代わりに、レーザビーム５３の経路に参照符
５９で示されるように配置してもよい。

【００１３】次に図２を参照して、図１に示される実施
例のもっと具体的な構成を詳細に述べる。レーザ源１か
ら発生された単一のレーザビーム２は、半透鏡であるビ
ームスプリッタ３によって２つの方向に分割される。ビ
ームスプリッタ３の表面で反射されたレーザビームは、
ビームスプリッタ４によって２分割される。ビームスプ
リッタ４を通過したレーザビームは、固定されたミラー
５によって反射され、ビームスプリッタ６に導かれる。
ビームスプリッタ６は、入射されたレーザビームを２分
割する。ビームスプリッタ６を通過したレーザビーム
は、角度および位置が可変なミラー７によって反射され
る。ビームスプリッタ６の角度および位置も可変であ
る。ビームスプリッタ３を通過したビームは固定された
ミラー８，９によってレーザビーム２での偏光方向を変
えることなく反射され、ラマンセル５１を経て、ビーム
スプリッタ１０によって２分割される。ビームスプリッ
タ１０を通過したビームは、ミラー１１によって反射さ
れ、ビームスプリッタ１２によって２分割される。ビー
ムスプリッタ１２を通過したビームはミラー１３によっ
て反射される。ビームスプリッタ１０，１２およびミラ
ー１３は、角度および位置が可変である。このように、
反射鏡であるビームスプリッタ４，６および１０，１
２、反射鏡であるミラー７，１３は角度および位置は可
変であるけれども、いずれか一方のみ可変でもよい。

【００１４】ビームスプリッタ４によって反射されたビ
ームの経路には、シャッタ１４およびレンズ１５が設け
られる。シャッタ１４はその開閉によってレーザビーム
の通過を許容または遮断するように切換える。レンズ１
５はシャッタ１４を通過したレーザビームを集光する。
ビームスプリッタ６およびミラー７によって反射された
ビームは、ホトダイオード１６，１７を裏面側に装着し
たシャッタ１８を介してレンズ１９に導かれる。ビーム
スプリッタ１０によって反射されたビームの経路には、
シャッタ２０およびレンズ２１が配置される。ビームス
プリッタ１２およびミラー１３によってそれぞれ反射さ
れたビームの経路には、ホトダイオード２２，２３が裏
面に配置されたシャッタ２４およびレンズ２５が配置さ
れる。各レンズ１５，１９，２１，２５は、共通焦点２
６を有するように配置される。ビームスプリッタ１０に
よって反射されるビームの光学経路の延長上には、ホト
ダイオード２７を装着したシャッタ２８が設けられる。
ビームスプリッタ４の反射するビームの延長上には、ホ
トダイオード２９を装着したシャッタ３０が設けられ
る。シャッタ２８およびシャッタ３０の中間には、直線
導入機３１が配置される。なお、レンズ１９，２５は、
ビームスプリッタ６，１２からの反射ビームと、ミラー
７，１３からの反射ビームとに分けて、それぞれ２枚の
レンズで構成するようにしてもよい。

【００１５】レーザ源１は、たとえばＹＡＧレーザであ
り、波長１．０６０μｍのレーザビームを数ＭＷの出力
で１０ｎ秒間パルス的に発生することができる。数サイ
クルの頻度で発生するレーザビームは、径を直径７〜１
０ｍｍ程度に拡げておき、エネルギ密度を低くしてお
く。レンズ１５，１９，２１，２５は、たとえば溶融石
英ガラスで形成し、７〜１０ｍｍの直径のビームを１０
０μｍにまで集光する。

【００１６】ビームスプリッタ４およびビームスプリッ
タ１０は、反射するビームが交差する角度θ１をたとえ
ば３０°±５°に変化させることができる。ビームスプ
リッタ６およびミラー７から反射されたビームの交差す
る角度θ２は、たとえば６°±５°に変化させることが
できる。ビームスプリッタ１２およびミラー１３によっ
て反射されたビームの交差する角度θ３も同様に６°±
５°に変化させることができる。またビームスプリッタ
６およびビームスプリッタ１２によってそれぞれ反射さ
れたビームの交差する角度θ４は、１７４°±５°の範
囲で変化させることができる。交差角度と干渉縞のピッ
チとの間には一定の関係がある。

【００１７】図３、図４および図５は、図２に示す各シ
ャッタ１４，１８，２０，２４を選択的に切換えて、形
成される干渉縞の間隔および方向を変化させる状態を示
す。図３（ａ）は、モード１として、ビームスプリッタ
６およびビームスプリッタ１２によって反射されたビー
ムのみが共通焦点２６の位置で交差するように各シャッ
タ１４，１８，２０，２４を設定した状態を示す。ビー
ムの交差角度を１７４°としたときには、図３（ｂ）に
示すように、干渉縞の間隔として０．５３μｍが得られ
る。

【００１８】図４（ａ）に示すように、モード２とし
て、ビームスプリッタ４およびビームスプリッタ１０に
よって反射されたビームのみを交差させるときには、た
とえば交差角度を３０°としたときに、図４（ｂ）に示
すように、干渉縞の間隔として２．１μｍが得られる。

【００１９】図５（ａ）に示すように、モード３とし
て、ビームスプリッタ１２およびミラー１３によって反
射されたビームのみを交差させるときには、交差角度６
°で図５（ｂ）に示すように干渉縞の間隔が１０．２μ
ｍとなる。しかも、形成される干渉縞の方向が、図３お
よび図４に示す方向と直交する。

【００２０】レンズ１５，１９，２１，２５に最も近い
ビームスプリッタ４，６，１０，１２またはミラー７，
１３の角度や位置を調整することによって、交差角度を
変化させ、形成される干渉縞の間隔を変化させることが
できる。また、たとえば図４および図５に示す状態を同
時に選択すれば、共通焦点２６付近の空間に格子縞状の
干渉縞を形成することができる。

【００２１】図６は、図１に示す電子ビームのビームサ
イズ測定装置のもっと具体的な構成を示す。図１および
図２に示す部分と対応する部分には、同一の参照符を付
す。各構成要素は、ベース３２上に固定される。ベース
３２の中央付近には、真空チャンバ３３が設けられる。
共通焦点２６は、真空チャンバ３３の中央位置となる。
直線導入機３１は、ベローズ３４を介して真空チャンバ
３３と接続される。真空チャンバ３３内に干渉縞を形成
し、電子ビームを導入すると、電子と光子との相互作用
によるコンプトン散乱現象を利用して、電子ビームのビ
ームサイズを計測することができる。電子ビーム５４
は、図６の紙面に垂直に導入される。導入された電子ビ
ームに対して形成される干渉縞の間隔を変化させると、
干渉によって光の強度が強くなっている部分に電子が存
在すると、図１のようにγ線５５が発生する。このγ線
５５を検出手段５６で検出することによって、電子ビー
ムの形状に関する情報を得ることができる。

【００２２】図７は、図６のシャッタ２８を示す。シャ
ッタ本体３５は、リニアヘッド３６によって図７の左右
方向に変位可能である。シャッタ本体３５には、ホトダ
イオード２７およびヒートシンク３７が配置される。ホ
トダイオード２７をレンズ２１によって集光されたビー
ムの延長上に配置すると、共通焦点２６を通過した光を
検出することができる。直線導入機３１によってピンホ
ールを共通焦点２６の位置に導入してビームスプリッタ
１０の位置や角度の調整を行う。実際の使用時には、ヒ
ートシンク３７をビームの延長上に配置し、ビームによ
るエネルギを吸収して熱として分散させる。シャッタ３
０もシャッタ２８と同様の構成である。

【００２３】図８は、図６に示すシャッタ１８のシャッ
タ本体の構成を示す。シャッタ１８には、貫通孔３８お
よびヒートシンク取付孔３９が設けられる。ビームスプ
リッタ６およびミラー７によって反射されるビームの経
路に、貫通孔３８が位置するようにシャッタ本体を変位
させると、ビームを通過させることができる。シャッタ
本体を変位させて、ビームの経路にヒートシンク取付孔
３９に取付けられるヒートシンクが位置するようにする
と、ビームを遮断することができる。シャッタ１８のシ
ャッタ本体は、ビームスプリッタ６およびミラー７から
反射されるビームを両方とも通過させたり、一方のみを
通過させたり、両方とも遮断したりするように切換える
ことができる。シャッタ２４もシャッタ１８と同様に構
成される。各シャッタ１８，２４の裏面側に装着される
ホトダイオード１６，１７；２２，２３は、共通焦点２
６を通過したビームを検出する。

【００２４】図９は、直線導入機３１の先端に取付けら
れる遮光部材４０の概観を示す。遮光部材４０の先端に
は、直径１００〜２００μｍのピンホール（またはスリ
ットでもよい）４１が形成される。ピンホール４１は、
たとえばビームスプリッタ６およびミラー７またはビー
ムスプリッタ１２およびミラー１３によって反射される
ビームに対応するものと、ビームスプリッタ４およびビ
ームスプリッタ１０によって反射されるビームに対応す
るものとに分けて形成される。直線導入機３１の先端の
変位によって、いずれのピンホール４１を使用するかが
切換えられる。

【００２５】図１０は、図１および図２に示す実施例に
対する制御のための構成を示す。マイクロコンピュータ
などによって実現される制御装置４２は、キーボードな
どの入力装置４３からの指令に基づき、光学系の調整や
干渉縞の発生のための制御を行う。レーザ源１は制御装
置４２からの指令によって発光を制御され、その出力は
制御装置４２によってモニタされる。制御装置４２は、
直線導入機３１によるピンホールの導入状態を制御し、
ピンホールを導入したときにホトダイオード１６，１
７，２２，２３，２７，２９からの出力によって、ビー
ムスプリッタ４，６，１０，１２およびミラー７，１３
の角度および位置を調整する。シャッタ１４，１８，２
０，２４，２８は、使用するモードに応じて切換えられ
る。

【００２６】図１１は、図１０に示す構成による動作を
示す。ステップａ１から動作を開始し、ステップａ２で
はモード切換え用のシャッタ１４，１８，２０，２４，
２８が全て閉じられる。ステップａ３ではレーザ装置１
の電源が投入され、ＯＮ状態となる。ステップａ４で
は、レーザ装置１からの出力パワーが安定化するのを待
つ。ステップａ５では、シャッタ１４，１８，２０，２
４，２８を開閉して、調整すべきビームラインを選択す
る。

【００２７】ビームラインが選択された後、ステップａ
６では直線導入機３１によってピンホールを導入し、Ｉ
Ｎ状態とする。ステップａ７では、選択された光学系の
ビームスプリッタ４，６，１０，１２およびミラー７，
１０の角度および位置を調整し、アライメント調整を行
う。調整が終了すると、ステップａ８で直線導入機３１
を作動させ、ピンホールを後退させてＯＵＴ状態とす
る。

【００２８】調整が終了すると、ステップａ９で使用す
るモードを入力装置４３に対して選択し、ステップａ１
０でモードに合わせてシャッタを切換えてＯＮ状態と
し、干渉を利用した計測等を行う。干渉を利用した測定
としては、前述したような電子ビームのビームサイズの
計測の他に、微小な粒子の粒径や流速の測定など、非接
触状態で精密な計測を行うことができる。

【００２９】上述の実施例によれば、レンズ系によって
集光されたビームが交差する角度を可変にすることによ
って、形成される干渉縞の間隔を変化させることができ
る。干渉縞の間隔は交差角度から知ることができるの
で、干渉縞を形成して計測すべき対象に応じて容易に干
渉縞の間隔を変更することができる。

【００３０】また、単一のレーザビームから２分割され
た交差させて干渉縞を形成するので、一方向に平行な干
渉縞を形成し、その間隔を変化させることができる。

【００３１】また、複数対の分割されたビームによって
干渉縞を形成するので、複数の方向に干渉縞を形成する
ことができる。これによって共通焦点近傍の空間には格
子状の干渉縞が形成され、複数方向の計測を同時に行う
ことができる。

【００３２】また、レンズ系を選択的に切換えて形成さ
れる干渉縞の方向や角度を切換えることができるので、
各レンズ系の位置や角度の変化を小さくしても、形成さ
れる干渉縞の方向や間隔の変化を大きくすることができ
る。

【００３３】また、レンズ系の前に配置される開閉可能
なシャッタによって各レンズ系を切換えるので、各シャ
ッタが閉じたとき吸収するエネルギ密度を小さくするこ
とができ、シャッタを小形に構成することができる。

【００３４】また、分割されたビームが通過する光学経
路に配置された反射鏡の角度または位置を変化させてビ
ームが交差する角度を変化させるので、レンズが固定さ
れていても、ある程度の範囲で分割されたビームの交差
角度を変化させることができる。

【００３５】また、共通焦点近傍にピンホールが形成さ
れた遮光部材を導入して、各レンズ系の調整を行うこと
ができる。これによって共通焦点近傍で確実に干渉縞を
形成することができる。特にパルス状のレーザビームを
用いるときなどに、光学系の調整を容易に行うことがで
きる。

【００３６】図１２は、本発明の他の実施例の全体の構
成を示す図である。この実施例は前述の図１〜図１１に
示される実施例に類似し、対応する部分には同一の実施
例を付す。この実施例では、レーザ源１からのレーザビ
ームをビームスプリッタ３によって２分割して参照符５
２，５３で示されるようにし、一方のレーザビーム５２
の経路には、その位相を変化させるためにレーザビーム
５２の経路を形成する、ミラー８を、経路長を変化させ
るために駆動手段として働く圧電素子６１を取付け、こ
の圧電素子６１によってミラー８をその反射面に垂直方
向に周期的に変位させる。

【００３７】図１３は図１２に示される実施例のミラー
８付近の構成を示す図である。ミラー８によって反射さ
れるレーザビーム５８の位相を、もう１方のレーザビー
ム５３に対して周期的にずらすことによって、焦点２６
の位置における干渉縞の移動を生じさせる。ミラー８の
周期的な振動は、周期的な位相の変化を生じさせるの
で、干渉縞の移動速度を推測することができる。この推
測される移動速度を基準にして、検出手段５６によって
検出されるγ線の検出頻度を計測することによって、電
子ビームのサイズを計測することができる。その他の構
成は前述の実施例と同様である。

【００３８】図１４は、図１２および図１３に示される
実施例における干渉縞の移動方向を示す図である。圧電
素子６１によって位相がずらされたレーザビーム５８
は、振幅をａとし、角周波数をωとし、レーザビーム５
３との位相差をθとするとき、時間ｔの経過に伴い、ａ
・ｓｉｎ（ωｔ＋θ）で表され、またもう１つのレーザ
ビーム５３は、ａ・ｓｉｎωｔで表される。或る時刻ｔ
１では、干渉縞は、実線の参照符６３で示されるとおり
となり、次の時刻ｔ２では、破線６４で示される位置に
移動し、こうして干渉縞の移動方向は参照符６５で示さ
れるとおりとなる。干渉縞の移動速度は、位相の変化速
度、したがって圧電素子６１によるミラー８の変位の速
度に対応している。

【００３９】図１５は、図１３および図１４に示される
実施例の電気的構成を示すブロック図である。この構成
は、前述の図１０に示される実施例に類似し、対応する
部分には同一の参照符を付す。特にこの実施例では、制
御装置４２は、圧電素子６１を駆動制御する。制御装置
４２は、図１６（１）に示される駆動信号を圧電素子６
１に与えてミラー８を往復駆動する。この圧電素子６１
を駆動する信号は、鋸歯状波であり、たとえば２〜３ｋ
Ｈｚであってもよい。この圧電素子６１に時間経過に伴
ってレベルが変化する信号が与えられている期間中で、
図１６（２）に示されるようにレーザ源１は、レーザ光
２を発生する。

【００４０】図１７は、本発明の他の実施例の動作を説
明するための波形図である。この図１７に示される実施
例は、前述の図１６に示される実施例に類似する。注目
すべきはこの実施例では、圧電素子６１は、図１７
（１）に示される鋸歯状波の駆動信号によって往復変位
駆動され、レーザ源１は図１７（２）で示されるように
その圧電素子６１で与えられる駆動信号の整数分の１の
周期で同期してレーザビーム２を発生する。

【００４１】図１８は、図１２〜図１７に示される各実
施例における制御装置４２の動作を説明するためのフロ
ーチャートである。この図１８に示されるフローチャー
トの各ステップｂ１〜ｂ１０は、前述の図１１に示され
るステップａ１〜ａ１０と同一であり、説明を省略す
る。図１８におけるステップｂ１１では、シャッタを開
いたＯＮ状態において、圧電素子６１を前述のように駆
動して、干渉縞を利用した電子ビームのサイズの計測を
行う。

【００４２】圧電素子６１に代えて、他のミラーを周期
的に往復駆動する手段であってもよく、その他の構成で
あってもよい。駆動されるミラー８に代えて、一方のレ
ーザビーム５２の経路の途中に介在されているミラーを
駆動するように構成してもよい。

【００４３】本発明は、計測だけでなく、その他の分野
においても実施することができる。

【００４４】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、レンズ系
によって集光されたビームが交差する角度を可変にする
ことによって、形成される干渉縞の間隔を変化させるこ
とができる。干渉縞の間隔は交差角度から知ることがで
きるので、干渉縞を形成して計測すべき対象に応じて容
易に干渉縞の間隔を変更することができる。以上のよう
に本発明によれば、レンズ系によって集光されたレーザ
ビームが交差して干渉縞を形成し、複数のレーザビーム
のうちの少なくとも１つのレーザビームの波長を変化
し、あるいはまた位相を時間経過に伴って変化させるこ
とによって、干渉縞を移動させることができる。したが
ってたとえば電子ビームのサイズの計測にあたり、その
電子ビームを移動させることなく、干渉縞を移動させる
ことによって、その電子ビームのサイズの計測を行うこ
とができ、したがって電子ビームなどの被計測対象物の
サイズが、移動によって変化してしまうおそれがなくな
り、高精度の計測を行うことが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の全体の構成の概略を示す斜
視図である。

【図２】図１に示される実施例の具体的な構成を示す光
学的構成図である。

【図３】図２示す実施例の一使用状態を示す構成図であ
る。

【図４】図２示す実施例の他の使用状態を示す構成図で
ある。

【図５】図２に示す実施例のさらに他の使用状態を示す
構成図である。

【図６】図１および図２に示す干渉縞形成装置を用いる
電子ビームサイズ測定装置の平面図である。

【図７】図６に示すシャッタ２８の正面図である。

【図８】図６に示すシャッタ１８のシャッタ本体の正面
図である。

【図９】図６に示す直線導入機３１の先端に取付けられ
る遮光部材４０の斜視図である。

【図１０】図２に示す実施例の制御系の概略的な電気的
構成を示すブロック図である。

【図１１】図１０に示す制御系の動作を示すフローチャ
ートである。

【図１２】本発明の他の実施例の具体的な構成を示すこ
とができる光学的構成図である。

【図１３】図１２に示される実施例のミラー８付近の構
成を示す図である。

【図１４】図１２および図１３に示す実施例の干渉縞が
位相によって移動する状態を示す図である。

【図１５】図１２に示される実施例に関連する電気的構
成を示すブロック図である。

【図１６】圧電素子６１の駆動動作を説明するための図
である。

【図１７】本発明の他の実施例の圧電素子６１を駆動す
る動作を説明するための図である。

【図１８】図１５に示される制御装置４２の動作を説明
するためのフローチャートである。

【符号の説明】

１ レーザ装置 ２ レーザビーム ３，４，６，１０，１２ ビームスプリッタ ５，７，８，９，１１，１３ ミラー １５，１９，２１，２５ レンズ ２６ 共通焦点 ４２ 制御装置 ４３ 入力装置 ５１，５９ ラマンセル ６１ 圧電素子

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−147607（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−241305（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G01B 9/00 - 9/10 G01B 11/00 - 11/30 G01S 17/58

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 単一のレーザビームを複数に分割し、分
   割されたビームを焦点位置を共通とする複数のレンズ系
   で集光し、集光されたビームを各レンズ系の共通焦点位
   置近傍で交差させて干渉縞を形成するレーザ干渉縞形成
   装置において、 分割された各ビームの経路の少なくとも１つに介在さ
   れ、波長を変化する手段と、 異なるレンズ系で集光されたビームの交差角度可変手段
   とを含むことを特徴とするレーザ干渉縞形成装置。
2. 【請求項２】 単一のレーザビームを複数に分割し、分
   割されたビームを焦点位置を共通とする複数のレンズ系
   で集光し、集光されたビームを各レンズ系の共通焦点位
   置近傍で交差させて干渉縞を形成するレーザ干渉縞形成
   装置において、 分割された各ビームの経路の少なくとも１つに可変さ
   れ、位相を、時間経過に伴って変化する手段と、 異なるレンズ系で集光されたビームの交差角度可変手段
   とを含むことを特徴とするレーザ干渉縞形成装置。