JP2849514B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気記録媒体、特に二層
以上の磁性層と非磁性層を有する高密度記録可能な磁気
記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ビデオテープ、オーディオテー
プ、磁気ディスク等の磁気記録媒体としては強磁性酸化
鉄、Ｃｏ変性強磁性酸化鉄、ＣｒＯ₂、強磁性合金粉末
等を結合在中に分散した磁性層を非磁性支持体に塗設し
たものが広く用いられる。近年高密度化と共に記録波長
が短くなる傾向にあり、磁性層の厚さが厚いと出力が低
下する記録時の自己減磁損失、再生時の厚み損失の問題
が大きくなっている。このため、磁性層を薄くすること
が行われているが、磁性層を約２μｍ以下に薄くすると
磁性層の表面に非磁性支持体の影響が表れやすくなり、
電磁変換特性やＤＯの悪化傾向が見られる。このため、
特開昭５７−１９８５３６号公報のごとく、支持体表面
に非磁性の厚い下塗層を設けてから磁性層を上層として
設けるようにすれば前記の支持体の表面粗さの影響は解
消することができるが、ヘッド摩耗や耐久性が改善され
ないという問題があった。これは、従来、非磁性下層と
して熱硬化系樹脂を結合剤として用いているので、下層
が硬化し、磁性層とヘッドのとの接触や他の部材との接
触が無緩衝状態で行われることや、このような下層を有
する磁気記録媒体がやや可とう性に乏しい等のことに起
因していると考えられる。

【０００３】これを解消するために、下層に非硬化系樹
脂を結合剤として用いることが考えられるが、従来の方
式では、下層を塗布乾燥後磁性層を上層として塗布する
場合、下層が上層の塗布液の有機溶剤により膨潤し、上
層の塗布液に乱流を起こさせる等の影響を与え磁性層の
表面性を悪くし、電磁変換特性を低下させる等の問題を
生じる。また、磁性層を薄層化するためには、塗布量を
減らすことかもしくは磁性塗布液に溶剤を多量に加えて
濃度を薄くするいことが考えられる。前者を取る場合、
塗布量を減らすと塗布後に十分なレヘ゛リンク゛の時間がな
く、乾燥が始まるために、塗布欠陥、例えばスジや刻印
のハ゜ターンが残るといった問題が発生し、歩留まりが非常
に悪くなる。後者の方法を取った場合、磁性塗布液の濃
度が希薄であると、できあがった塗膜に空隙が多く、十
分な強磁性粉末充填性が得られないこと、また、空隙が
多いために塗膜の強度が不十分であること等、種々の弊
害をもたらす。特開昭62-154225号公報等の発明ではこ
のように歩どまりが悪いことが大きな問題であった。

【０００４】これらの問題を解決する一つの手段に、特
開昭63-191315号公報、特開昭63-187418号公報に記され
ているように、同時重層塗布方式を用いて下層に非磁性
の層を設け、濃度の高い磁性塗布液を薄く塗布する方法
がある。これらの発明により飛躍的に歩留まりは改良さ
れ良好な電磁変換特性を得ることができるようになっ
た。しかし、更に高密度の磁気記録媒体が望まれてい
る。

【０００５】また、磁性層を二層以上設けて、記録波長
の異なる信号をそれぞれ高出力にしようとする試みは過
去多く実施されている。例えば、特公昭37-2218号公報
等枚挙に暇がない。これは上層磁性層、下層磁性層で抗
磁力（Ｈｃ），最大磁束密度（Ｂｍ）、粒子サイズの異
なる強磁性粉末を配し、高出力、高Ｃ／Ｎを目的とした
ものが多いが、下層磁性層にも強磁性粉末を用いている
ので分散性に限界があり、近年のような高密度磁気記録
媒体に必要な表面の平滑性を付与することは困難になり
つつある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は電磁変換特性
が良好で、かつ走行性に優れた磁気記録媒体を提供する
ことであり、更に、詳しくは７ＭＨｚ出力、Ｃ／Ｎ、歩
留まりの優れた磁気記録媒体を提供することである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上述の課題
を達成するために磁性層、非磁性層の層構成や複数の磁
性層の磁気特性について鋭意検討した結果、非磁性可撓
性支持体上に主として非磁性粉末と結合剤とを含む下層
非磁性層を設け、その上に少なくとも強磁性粉末と結合
剤とを含む磁性層を設けた磁気記録媒体において；前記
磁性層が下層非磁性層に近い下層磁性層と表面側の上層
磁性層をこの順で二層以上設け、前記下層磁性層厚みと
前記上層磁性層厚みとの和である前記磁性層厚みと下層
非磁性層厚みとの比率が、 １．１２５≦非磁性層厚／（下層磁性層厚＋上層磁性層厚）≦５０ であり；前記磁性層厚みが１μｍ以下であり；上層磁性
層長手方向の抗磁力（Ｈｃ)と下層磁性層長手方向の抗
磁力（Ｈｃ)との間に、少なくとも８０Ｏｅの差があ
り、上層磁性層長手方向Ｈｃが下層磁性層長手方向Ｈｃ
よりも大きいときには、 ４０００Ｏｅ≧上層磁性層長手方向Ｈｃ≧１２００Ｏｅ ２５００Ｏｅ≧下層磁性層長手方向Ｈｃ≧ ７００Ｏｅ であり、下層磁性層長手方向Ｈｃが上層磁性層長手方向
Ｈｃよりも大きいときには、 ４０００Ｏｅ≧下層磁性層長手方向Ｈｃ≧１２００Ｏｅ ２０００Ｏｅ≧上層磁性層長手方向Ｈｃ≧ ７００Ｏｅ であり；かつ、前記下層非磁性層と少なくとも前記下層
磁性層はウェットオンウェット塗布方式で形成されたも
のであることを特徴とする磁気記録媒体によって達成す
ることができることを見いだした。好ましくは本発明の
上述の目的は前記下層磁性層厚と前記上層磁性層厚との
比率が、 ０．０５≦下層磁性層厚／上層磁性層厚≦２０ である磁気記録媒体によって達成することができる。具
体的には、本発明の上述の目的は前記上層磁性層の厚み
が０．０５μｍ以上０．３μｍ以下であり、かつ前記下
層非磁性層に含まれる前記非磁性層粉末が二酸化チタ
ン、硫酸バリウム、酸化亜鉛、α酸化鉄の中の少なくと
も１種である磁気記録媒体によって達成することができ
る。さらに好ましくは、本発明の上述の目的は前記上層
磁性層長手方向Ｈｃが前記下層磁性層長手方向Ｈｃより
も大きくて、 ４０００Ｏｅ≧上層磁性層長手方向Ｈｃ≧１２００Ｏｅ １８００Ｏｅ≧下層磁性層長手方向Ｈｃ≧１２００Ｏｅ である磁気記録媒体によって達成することができる。さ
らに好ましくは、本発明の上述の目的は前記上層磁性層
に含まれる強磁性粉末がＦｅを主体とする合金磁性粉末
もしくはマグネトプランバイト型六方晶フェライトであ
る磁気記録媒体によって達成することができる。さらに
好ましくは、本発明の上述の目的はＢＥＴ法による比表
面積が、 ７０ｍ^２／ｇ≧上層磁性層磁性体の比表面積≧４０ｍ^２／ｇ ５０ｍ^２／ｇ≧下層磁性層磁性体の比表面積≧３０ｍ^２／ｇ である磁気記録媒体によって達成することができる。

【０００８】ここで本発明の作用機構について述べる。
先ず第一に本発明ではウェットオンウェット塗布方式で
形成されたものであることを特徴とする。即ち磁性層を
薄層化するために、磁性塗布液塗布量を減らす場合、歩
留まりをよくするためには同時重層を採用することで歩
留まりを良くできる。第二に本発明は磁性層を２層以上
設けることを特徴とする。即ちＶＨＳや８ｍｍビデオの
ように、白黒信号と色信号、オーディオ信号の記録波長
が異なる場合、それぞれの記録波長に最適な磁気記録媒
体の磁化（ＢＨ）特性は異なる。例えば、ＶＨＳの場
合、白黒信号、色信号、オーディオ信号の順に記録波長
が長いので記録深さはそれぞれに異なる。多重構成にし
て、これらの３種の信号に最適なＢＨ特性を付与するこ
とにより、それぞれの信号出力を大きくすることができ
る。

【０００９】第三に本発明は非磁性層厚みが磁性層厚み
より厚いこと。を特徴とする。即ち強磁性粉末はそれ自
体が磁性を有するために、強磁性粉末間に引力が働き粒
子同志の凝集が進み、分散が非磁性粉末に比べて困難に
なる。このため、平滑な表面性を得ようとすると限界が
ある。特に１μｍ以下の非常に薄い磁性層の下に平滑な
非磁性層を配置し、かつ磁性層厚みと非磁性層厚みとの
比率を１〜２０の間に設定すると表面性が非常に改善さ
れることが見いだされた。この為には磁性層厚みが１μ
ｍ以下のようにかなり薄い場合に非常に効果的である。
１以下で非磁性層厚が磁性層総厚より小さいときには、
十分な表面性が得られず、所望の電磁変換特性が得られ
ない。また、磁性層厚みと非磁性層厚みとの比率が２０
より大きい時には磁性層と非磁性層との塗布量が著しく
異なるために、スジ、ムラ等が発生し易くなり歩留まり
を低下させる。

【００１０】第四に本発明は上層磁性層の抗磁力（Ｈ
ｃ）と下層磁性層の抗磁力（Ｈｃ）との間に少なくとも
８０Oeの差があることを特徴とする。即ち従来のＨｉ８
の重層タイプに比べ８ｍｍでは広域と低域を重畳して記
録し、ＦＭ変調を行なう。一方業務用では輝度信号
（Ｙ）とクロマ信号（Ｃ）を別々のトラックにいれ、そ
れぞれの最適の記録電流を設定する。つまり業務用は入
出力特性の一番よいところで使用できる。他方８ｍｍは
輝度信号のみで設定するとクロマ信号は最適電流より低
いところで使わざるを得ない。従って出力の低いところ
で使わざるをえず、またクロマ信号は最適電流にあわせ
るとＹがシフトし最適の条件からずれる。従ってＹの信
号に対してはＨｃを高くし、クロマの信号に対してはＨ
ｃを低くすることが好ましい。本発明においてはこのＨ
ｃの差が８０Oe以上あることが特に好ましいことを鋭意
実験の結果見いだした。

【００１１】重層磁性層の好ましい態様は以下の通りで
ある。 上層磁性層長手方向Ｈｃ＞下層磁性層長手方向Ｈｃでかつ ４０００Ｏｅ≧上層磁性層長手方向Ｈｃ≧１２００Ｏｅ ２５００Ｏｅ≧下層磁性層長手方向Ｈｃ≧ ７００Ｏｅ 好ましくは ３０００Ｏｅ≧上層磁性層長手方向Ｈｃ≧１２００Ｏｅ ２０００Ｏｅ≧下層磁性層長手方向Ｈｃ≧ ７００Ｏｅ 更に好ましくは ２５００Ｏｅ≧上層磁性層長手方向Ｈｃ≧１５００Ｏｅ １９００Ｏｅ≧下層磁性層長手方向Ｈｃ≧ ９００Ｏｅ 更に好ましくは ２２００Ｏｅ≧上層磁性層長手方向Ｈｃ≧１６００Ｏｅ １８００Ｏｅ≧下層磁性層長手方向Ｈｃ≧１２００Ｏｅ

【００１２】デジタル記録用途で二重記録を行なう場
合は、上層磁性層長手方向Ｈｃ＜下層磁性層長手方向Ｈ
ｃが適当である。その際は ４０００Oe≧下層磁性層長手方向Ｈｃ≧１２００Oe ２０００Oe≧上層磁性層長手方向Ｈｃ≧ ７００Oe 好ましくは ２５００Oe≧下層磁性層長手方向Ｈｃ≧１５００Oe １９００Oe≧上層磁性層長手方向Ｈｃ≧ ９００Oe 更に好ましくは ２２００Oe≧下層磁性層長手方向Ｈｃ≧１６００Oe １８００Oe≧上層磁性層長手方向Ｈｃ≧１２００Oe の範囲が好ましい。

【００１３】短波長記録における出力向上のためには
ヘッド近傍のＢｒがとりわけ高いことが好ましい。その
為には 上層長手方向Ｂｒ＞下層長手方向Ｂｒでかつ ５０００gauss≧上層磁性層長手方向Ｂｒ≧２０００gau
ss ４０００gauss≧下層磁性層長手方向Ｂｒ≧１２００gau
ss 好ましくは ４５００gauss≧上層磁性層長手方向Ｂｒ≧２２００gau
ss ３５００gauss≧下層磁性層長手方向Ｂｒ≧１３００gau
ss 更に好ましくは ４０００gauss≧上層磁性層長手方向Ｂｒ≧２４００gau
ss ３２００gauss≧下層磁性層長手方向Ｂｒ≧１４００gau
ss

【００１４】ノイズを低減するためにはヘッド近傍の
層に用いられる強磁性粉末の粒子サイズは微粒子であれ
ばあるほど好ましい。それゆえ 上層強磁性粉末粒子サイス゛＜下層強磁性粉末粒子サイス゛でか
つ ０．４μｍ≧上層強磁性粉末長軸長≧０．０４μｍ ０．６μｍ≧下層強磁性粉末長軸長≧０．１ μｍ 好ましくは ０．３５μｍ≧上層強磁性粉末長軸長≧０．０５μｍ ０．５μｍ≧下層強磁性粉末長軸長≧０．１２μｍ 更に好ましくは ０．２０μｍ≧上層強磁性粉末長軸長≧０．０６μｍ ０．３μｍ≧下層強磁性粉末長軸長≧０．１３μｍ ＢＥＴ法による比表面積は １００m²/g≧上層強磁性粉末ＳBET≧３０m²/g ８０m²/g≧下層強磁性粉末ＳBET≧１０m²/g 好ましくは ９０m²/g≧上層強磁性粉末ＳBET≧３５m²/g ６０m²/g≧下層強磁性粉末ＳBET≧１５m²/g 更に好ましくは ７０m²/g≧上層強磁性粉末ＳBET≧４０m²/g ５０m²/g≧下層強磁性粉末ＳBET≧３０m²/g 結晶子サイス゛は ３００A≧上層強磁性粉末結晶子サイス゛≧８０A ４００A≧下層強磁性粉末結晶子サイス゛≧１５０A 好ましくは ２５０A≧上層強磁性粉末結晶子サイス゛≧１００A ３００A≧下層強磁性粉末結晶子サイス゛≧１６０A 更に好ましくは ２２０A≧上層強磁性粉末結晶子サイス゛≧１４０A ２８０A≧下層強磁性粉末結晶子サイス゛≧１８０A

【００１５】上層強磁性粉末の配向方向と下層強磁性
粉末の配向方向を変更することにより短波長出力を向上
させることができる場合がある。例えば、下層強磁性粉
末を面内に配向し、上層強磁性粉末を垂直方向、もしく
はななめ方向に配向することで記録波長０．５μｍ以下
の領域で出力向上を図ることができる。また、上層強磁
性粉末を長手方向に対して垂直方向に３０度斜めに配向
し、下層強磁性粉末を１５０度斜め配向すると孤立反転
波形の対称性が良好で出力向上を図ることができる。

【００１６】上層磁性層に含まれる非磁性物の添加量
が下層磁性層に含まれる非磁性物末処方量より多くする
ことで、走行耐久性を向上させることができる。ここで
言う非磁性物とはバインダー、研磨剤、カーボンブラッ
ク等である。例えば、上層のバインダーを下層より多く
することで耐擦傷性が向上する。研磨剤を多くすること
で出力低下やヘッド目詰まりを良好にすることができ
る。また、特に２５ｍμ以上５００ｍμ以下の比較的粗
大なカーボンブラックを上層に多く添加すると摩擦係数
を低減することができる。 逆に下層磁性層に上層磁性層に含まれる脂肪酸及び／
または脂肪酸エステル添加量を下層に含まれる脂肪酸及
び／または脂肪酸エステル添加量より多くすることでス
チル耐久性や走行耐久性を改良することができる。

【００１７】磁性層厚みと非磁性層厚みは以下のよう
な関係が好ましい。 好ましい範囲 更に好ましい範囲 下層磁性層厚み ０．１μｍ〜０．６μｍ ０．１５〜０．５μｍ 上層磁性層厚み ０．０５μｍ〜０．５μｍ ０．１〜０．４μｍ 磁性層総厚み ０．１５μｍ〜１．０μｍ ０．２〜０．８μｍ 非磁性層厚み ０．５μｍ〜１０μｍ １．０〜５μｍ 上記の好ましい態様以外に公知となっている磁性層重
層の発明を参考にすることができる。また、特に磁性層
総厚みが１μｍ以下の場合に本発明の効果は顕著であ
る。

【００１８】先行発明としては例えばＵＳ4200678号明
細書，同3328195号明細書，同4423454号明細書，同3185
775号明細書，同3775178号明細書，特開昭47-31602号公
報，特開昭52-73002号公報，同59-42375号公報、同59-1
17732号公報，同40-5351号公報，同58-53024号公報，同
50-68304号公報，同59-117733号公報，同48-39995号公
報，同59-129935号公報，同58-205928号公報，同58-119
610号公報，同56-34号公報，同53-60605号公報，同57-9
8134号公報，特公昭57-1047号公報等が挙げられる。

【００１９】次に下層非磁性層の詳細な内容について説
明する。本発明の非磁性層に用いられる非磁性粉末は、
例えば金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化
物、金属炭化物、金属硫化物、等の無機質化合物から選
択することができる。無機化合物としては例えばα化率
９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミ
ナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化
鉄、コランダム、窒化珪素、チタンカ−バイト、酸化チ
タン、二酸化珪素、酸化スス゛、酸化マク゛ネシウム、酸化タンク゛ステ
ン、酸化シ゛ルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウ
ム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、２硫化モリフ゛テ゛ンな
どが単独または組合せで使用される。特に好ましいのは
二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであ
り、更に好ましいのは二酸化チタンである。これら非磁
性粉末の粒子サイズは０．００５〜２μｍが好ましい
が、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組み
合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くして
同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましい
のは０．０１μｍ〜０．２μｍである。タップ密度は
０．０５〜２ｇ／ｍｌ、好ましくは０．２〜１．５ｇ／
ｍｌである。含水率は０．１〜５重量％好ましくは０．
２〜３重量％である。ｐＨは２〜１１であるが、６〜９
の間が特に好ましい。比表面積は１〜１００ｍ ²／ｇ、
好ましくは５〜５０m²/g、更に好ましくは７〜４０m²/g
である。結晶子サイス゛は０．０１μｍ〜２μｍが好まし
い。DBPを用いた吸油量は５〜１００ml/100g、好ましく
は１０〜８０ml/100g、更に好ましくは２０〜６０ml/10
0gである。比重は１〜１２、好ましくは３〜６である。
形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良い。
強熱減量は２０重量％以下であることが好ましい。本発
明に用いられる上記無機粉末のモース硬度は４以上のもの
が好ましい。これらの粉体表面のラフネスファクターは
０．８〜１．５が好ましく、更に好ましいのは０．９〜
１．２である。ステアリン酸（ＳＡ）吸着量は１〜２０
μmol／ｍ²、更に好ましくは２〜１５μmol/ｍ²であ
る。下層非磁性粉体の２５℃での水への湿潤熱は２００
erg/cm²〜６００erg/cm²がの範囲にあることが好まし
い。また、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使用すること
ができる。１００〜４００℃での表面の水分子の量は１
〜１０個/100Aが適当である。水中での等電点のｐＨは
３〜６の間にあることが好ましい。

【００２０】これらの粉体の表面にはAl₂O₃、SiO₂、TiO
₂、ZrO₂，SnO₂，Sb₂O₃，ZnOで表面処理することが好ま
しい。特に分散性に好ましいのはAl₂O₃、SiO₂、TiO₂、Z
rO₂、であるが、更に好ましいのはAl₂O₃、SiO₂、ZrO₂で
ある。これらは組み合わせて使用しても良いし、単独で
用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表
面処理層を用いても良いし、先ずアルミナで処理した後
にその表層をシリカで処理する構造、その逆の構造を取
ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔
質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には
好ましい。

【００２１】本発明に用いられる非磁性粉末の具体的な
例としては、昭和電工製UA5600、UA5605、住友化学製AKP-
20,AKP-30,AKP-50,HIT-55,HIT-100,ZA-G1、日本化学工
業社製、G5,G7,S-1,戸田工業社製、TF-100,TF-120,TF-1
40,R516,石原産業製TTO-51B、TTO-55A,TTO-55B、TTO-55
C、TTO-55S、TTO-55D、FT-1000、FT-2000、FTL-100、FTL-20
0、M-1，S-1，SN-100,R-820、R-830,R-930,R-550,CR-50,
CR-80,R-680,TY-50,チタン工業製ECT-52、STT-4D、STT-
30D、STT-30、STT-65C、三菱マテリアル製T-1、日本触媒NS-
O、NS-3Y,NS-8Y、テイカ製MT-100S、MT-100T、MT-150W、MT
-500B、MT-600B、MT-100F、堺化学製FINEX-25,BF-1,BF-1
0,BF-20,BF-1L,BF-10P、同和鉱業製DEFIC-Y,DEFIC-R、
チタン工業製Y-LOP及びそれを焼成したものがあげられ
る。

【００２２】特に好ましい非磁性粉体は二酸化チタンで
あるので、二酸化チタンを例に製法を詳しく記す。これ
らの酸化チタンの製法は主に硫酸法と塩素法がある。硫
酸法はイルミナイトの原鉱石を硫酸で蒸解し、Ｔｉ，Ｆ
ｅなどを硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を晶析分離して
除き、残りの硫酸チタニル溶液を濾過精製後、熱加水分
解を行なって、含水酸化チタンを沈澱させる。これを濾
過洗浄後、夾雑不純物を洗浄除去し、粒径調節剤などを
添加した後、８０〜１０００℃で焼成すれば粗酸化チタ
ンとなる。ルチル型とアナターゼ型は加水分解の時に添
加される核剤の種類によりわけられる。この粗酸化チタ
ンを粉砕、整粒、表面処理などを施して作成する。塩素
法の原鉱石は天然ルチルや合成ルチルが用いられる。鉱
石は高温還元状態で塩素化され、ＴｉはＴｉＣｌ₄にＦ
ｅはＦｅＣｌ₂となり、冷却により固体となった酸化鉄
は液体のＴｉＣｌ₄と分離される。得られた粗ＴｉＣｌ₄
は精留により精製した後核生成剤を添加し、１０００℃
以上の温度で酸素と瞬間的に反応させ、粗酸化チタンを
得る。この酸化分解工程で生成した粗酸化チタンに顔料
的性質を与えるための仕上げ方法は硫酸法と同じであ
る。表面処理は上記酸化チタン素材を乾式粉砕後、水と
分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒分級が行
なわれる。その後、微粒スラリーは表面処理槽に移さ
れ、ここで金属水酸化物の表面被覆が行なわれる。ま
ず、所定量のＡｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｓｂ，Ｓｎ，Ｚ
ｎなどの塩類水溶液を加え、これを中和する酸、または
アルカリを加えて、生成する含水酸化物で酸化チタン粒
子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカンテーシ
ョン、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリーｐＨ
を調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済みケー
キはスプレードライヤーまたはバンドドライヤーで乾燥
される。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕され、
製品になる。また、水系ばかりでなく酸化チタン粉体に
AlCl₃,SiCl₄の蒸気を通じその後水蒸気を流入してAl,Si
表面処理を施すことも可能である。

【００２３】その他の顔料の製法については”Characte
rization of Powder Surfaces”Academic Pressを参考
にすることができる。また、下層にカーボンブラックを
混合させて公知の効果であるＲｓ（表面電気抵抗）を下
げることができる。このためにはゴム用ファーネス、ゴ
ム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラッ
ク、等を用いることができる。比表面積は１００〜５０
０ｍ^２／ｇ、好ましくは１５０〜４００ｍ^２／ｇ、ＤＢ
Ｐ吸油量は２０〜４００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは３
０〜２００ｍｌ／１００ｇである。粒子径は５ｍμ〜８
０ｍμ、好ましく１０〜５０ｍμ、さらに好ましくは１
０〜４０ｍμである。ｐＨは２〜１０、含水率は０．１
〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌ、が好まし
い。本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例
としてはキャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０
００、１３００、１０００、９００、８００、８８０、
７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱化成工業社
製、＃３０５０Ｂ、＃３１５０Ｂ、＃３２５０Ｂ、＃３
７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５０Ｂ、＃９
７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、コロンビアカーボ
ン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ ８８
００、８０００、７０００、５７５０、５２５０、３５
００、２１００、２０００、１８００、１５００、１２
５５、１２５０、アクゾー社製ケッチェンブラックＥＣ
などがあげられる。

【００２４】カ−ボンブラックを分散剤などで表面処理
したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部
をグラファイト化したものを使用してもかまわない。ま
た、カ−ボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ
結合剤で分散してもかまわない。これらのカーホ゛ンフ゛ラックは
上記無機質粉末に対して５０重量％を越えない範囲、非
磁性層総重量の４０％を越えない範囲で使用できる。こ
れらのカ−ボンブラックは単独、または組合せで使用す
ることができる。本発明で使用できるカ−ボンブラック
は例えば「カ−ボンブラック便覧」カ−ボンブラック協
会編」を参考にすることができる。

【００２５】本発明に用いられる有機質粉末はアクリルスチレン
系樹脂粉末、ヘ゛ンソ゛ク゛アナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フ
タロシアニン系顔料が挙げられるが、ホ゜リオレフィン系樹脂粉末、ホ゜
リエステル系樹脂粉末、ホ゜リアミト゛系樹脂粉末、ホ゜リイミト゛系樹脂
粉末、ホ゜リフッ化エチレン樹脂が使用される。その製法は特開
昭62-18564号公報、特開昭60-255827号公報に記されて
いるようなものが使用できる。これらの非磁性粉末はハ゛
インタ゛ーに対して、重量比率で２０〜０．１、体積比率で
１０〜０．１の範囲で用いられる。特に好ましくはバイ
ンダーの体積比が下層に含まれる粉体の体積に較べて
２．０倍から０．３倍の範囲である。なお、一般の磁気
記録媒体において下塗層を設けることが行われている
が、これは支持体と磁性層等の接着力を向上させるため
に設けられるものであって、厚さも０．５μｍ以下で本
発明の下層非磁性層とは異なるものである。本発明にお
いても下層非磁性層と支持体との接着性を向上させるた
めに下塗層を設けることが好ましい。非磁性層のバイン
ダー、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他
は磁性層のそれが適用できる。特に、バインダー量、種
類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に
関する公知技術が適用できる。

【００２６】次に本発明の磁性層に関して詳細に説明す
る。本発明に使用する強磁性粉末としてはγ−ＦｅＯx
（x＝１．３３〜１．５）、Ｃｏ変性γ−ＦｅＯx（x＝
１．３３〜１．５）、ＦｅまたはＮｉまたはＣｏを主成
分（７５％以上）とする強磁性合金微粉末、バリウムフ
ェライト、ストロンチウムフェライトなど公知の強磁性
粉末が使用できるが、α−Ｆｅを主成分とする強磁性合
金粉末が好ましい。これらの強磁性粉末には所定の原子
以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ，Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ，Ｃｒ、Ｃｕ，
Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂ
ａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、
Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓ
ｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。これらの強磁
性微粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性
剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行って
もかまわない。具体的には、特公昭44-14090号公報、特
公昭45-18372号公報、特公昭47-22062号公報、特公昭47
-22513号公報、特公昭46-28466号公報、特公昭46-38755
号公報、特公昭47-4286号公報、特公昭47-12422号公
報、特公昭47-17284号公報、特公昭47-18509号公報、特
公昭47-18573号公報、特公昭39-10307号公報、特公昭48
-39639号公報、米国特許3026215号明細書、同3031341号
明細書、同3100194号明細書、同3242005号明細書、同33
89014号明細書などに記載されている。

【００２７】上記強磁性粉末の中で強磁性合金微粉末に
ついては少量の水酸化物、または酸化物を含んでもよ
い。強磁性合金微粉末の公知の製造方法により得られた
ものを用いることができ、下記の方法をあげることがで
きる。複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素など
の還元性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元
性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得
る方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁
性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸
塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する
方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を
得る方法などである。このようにして得られた強磁性合
金粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬し
たのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含
有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥さ
せる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分
圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを
施したものでも用いることができる。

【００２８】本発明の磁性層の強磁性粉末をＢＥＴ法に
よる比表面積で表せば２５〜８０ｍ ²／ｇであり、好ま
しくは４０〜７０ｍ²／ｇである。２５ｍ²／ｇ以下では
ノイズが高くなり、８０ｍ²／ｇ以上では表面性が得に
くく好ましくない。本発明の磁性層の強磁性粉末粒子の
結晶子サイス゛は４５０〜１００オングストロ−ムであり、
好ましくは３５０〜１００オングストロ−ムである。酸
化鉄磁性粉末のσsは５０ｅｍｕ／ｇ以上、好ましくは
７０ｅｍｕ／ｇ以上、であり、強磁性金属微粉末の場合
は１００ｅｍｕ／ｇ以上が好ましく、さらに好ましくは
１１０ｅｍｕ／ｇ〜１７０ｅｍｕ／ｇである。抗磁力は
１１００Oe以上、２５００Oe以下が好ましく、更に好ま
しくは１４００Oe以上２０００Oe以下である。強磁性粉
末の針状比は１８以下が好ましく、更に好ましくは１２
以下である。

【００２９】強磁性粉末のｒ１５００は１．５以下であ
ることが好ましい。さらに好ましくはｒ１５００は１．
０以下である。ｒ１５００とは磁気記録媒体を飽和磁化
したのち反対の向きに１５００Ｏｅの磁場をかけたとき
反転せずに残っている磁化量の％を示すものである。強
磁性粉末の含水率は０．０１〜２重量％とするのが好ま
しい。結合剤の種類によって強磁性粉末の含水率は最適
化するのが好ましい。γ酸化鉄のタップ密度は０．５ｇ
／ｍｌ以上が好ましく、０．８ｇ／ｍｌ以上がさらに好
ましい。合金粉末の場合は０．２〜０．８ｇ／ｍｌが好
ましく、０．８ｇ／ｍｌ以上に使用とすると強磁性粉末
の圧密過程で酸化が進みやすく、充分なσSを得ること
が困難になる。タップ密度が０．２ｇ／ｍｌ以下では分
散が不十分になりやすい。

【００３０】γ酸化鉄を用いる場合、２価の鉄の３価の
鉄に対する比は好ましくは０〜２０％でありさらに好ま
しくは５〜１０％である。また鉄原子に対するコバルト
原子の量は０〜１５％、好ましくは２〜８％である。強
磁性粉末のｐＨは用いる結合剤との組合せにより最適化
することが好ましい。その範囲は４〜１２であるが、好
ましくは６〜１０である。強磁性粉末は必要に応じ、Ａ
ｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を施
してもかまわない。その量は強磁性粉末に対し０．１〜
１０％であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸
着が１００ｍｇ／ｍ²以下になり好ましい。強磁性粉末
には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機
イオンを含む場合があるが５００ｐｐｍ以下であれば特
に特性に影響を与えない。

【００３１】また、本発明に用いられる強磁性粉末は空
孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量％以下、さ
らに好ましくは５容量％以下である。また形状について
は先に示した粒子サイズについての特性を満足すれば針
状、粒状、米粒状、板状いずれでもかまわない。針状強
磁性粉末の場合、針状比は１２以下が好ましい。この強
磁性粉末のＳＦＤ（Swiching Field Distribution）
０．６以下を達成するためには、強磁性粉末のＨｃの分
布を小さくする必要がある。そのためには、ゲ−タイト
の粒度分布をよくすること、γ−ヘマタイトの焼結を防
止すること、コバルト変性の酸化鉄についてはコバルト
の被着速度を従来より遅くすることなどの方法がある。

【００３２】本発明にはまた、板状六方晶フェライトと
してバリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、
鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ
置換体等、六方晶Ｃｏ粉末が使用できる。具体的にはマ
グネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロ
ンチウムフェライト、更に一部スピネル相を含有したマ
グネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロ
ンチウムフェライト等が挙げられ、特に好ましいものと
してはバリウムフェライト、ストロンチウムフェライト
の各Ｃｏ置換体である。また、抗磁力を制御するために
上記六方晶フェライトにＣｏ−Ｔｉ，Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚ
ｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｉｒ−Ｚｎ
等の元素を添加した物を使用することができる。六方晶
フェライトは、通常、六角板状の粒子であり、その粒子
径は六角板状の粒子の板の幅を意味し、電子顕微鏡を使
用して測定する。 本発明ではこの粒子径０．０１〜
０．２μｍ、特に好ましくは０．０３〜０．１μｍの範
囲に規定するものである。また、該微粒子の平均厚さ
（板厚）は０．００１〜０．２μｍ程度であるが、特に
０．００３〜０．０５μｍが好ましい。更に板状比（粒
子径／板厚）は１〜１０であり、好ましくは３〜７であ
る。また、これら六方晶フェライト微粉末のＢＥＴ法に
よる比表面積（ＳBET）は２５〜７０m²/gが好ましい。

【００３３】本発明に使用される結合剤としては従来公
知の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれら
の混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス
転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１００
０〜２０００００、好ましくは１００００〜１００００
０、重合度が約５０〜１０００程度のものである。この
ような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルア
ルコ−ル、マレイン酸、アクルリ酸、アクリル酸エステ
ル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル
酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エ
チレン、ビニルブチラ−ル、ビニルアセタ−ル、ビニル
エ−テル、等を構成単位として含む重合体または共重合
体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、
熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフェノ−ル樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹
脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹
脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコ−ン樹脂、エポキシ
−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネ−ト
プレポリマ−の混合物、ポリエステルポリオ−ルとポリ
イソシアネ−トの混合物、ポリウレタンとポリイソシア
ネートの混合物等があげられる。

【００３４】これらの樹脂については朝倉書店発行の
「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されてい
る。また、公知の電子線硬化型樹脂を非磁性層、磁性層
に使用することも可能である。これらの例とその製造方
法については特開昭６２−２５６２１９号公報に詳細に
記載されている。以上の樹脂は単独または組合せて使用
できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビ
ニル酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアル
コ−ル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重
合体の中から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹
脂の組合せ、またはこれらにポリイソシアネ−トを組み
合わせたものがあげられる。ポリウレタン樹脂の構造は
ポリエステルポリウレタン、ポリエ−テルポリウレタ
ン、ポリエ−テルポリエステルポリウレタン、ポリカ−
ボネ−トポリウレタン、ポリエステルポリカ−ボネ−ト
ポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタンなど公
知のものが使用できる。ここに示したすべての結合剤に
ついて、より優れた分散性と耐久性を得るためには必要
に応じ、ＣＯＯＭ，ＳＯ₃Ｍ、ＯＳＯ₃Ｍ、Ｐ＝Ｏ（Ｏ
Ｍ）₂、 Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、（以上につきＭは水素
原子、またはアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ₂、Ｎ⁺Ｒ
₃（Ｒは炭化水素基）エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などか
ら選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合また
は付加反応で導入したものを用いることが好ましい。こ
のような極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好
ましくは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００３５】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカ−バイト社製 ＶＡＧＨ、Ｖ
ＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，Ｖ
ＹＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，Ｐ
ＫＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ，日信化学工業
社製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡ
Ｌ，ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ、
ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００
Ｗ、ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３、１００
ＦＤ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ
１００、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリウレタン社製ニ
ッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日本
インキ社製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８
０、Ｔ−５２０１、バ−ノックＤ−４００、Ｄ−２１０
−８０、クリスボン６１０９，７２０９，東洋紡社製バ
イロンＵＲ８２００，ＵＲ８３００、ＵＲ−８６００、
ＵＲ−５５００、ＵＲ−４３００、ＲＶ５３０，ＲＶ２
８０、大日精化社製、ダイフェラミン４０２０，５０２
０，５１００，５３００，９０２０，９０２２，７０２
０，三菱化成社製、ＭＸ５００４，三洋化成社製サンプ
レンＳＰ−１５０，ＴＩＭ−３００３、ＴＩＭ−３００
５、旭化成社製サランＦ３１０，Ｆ２１０などがあげら
れる。

【００３６】本発明の磁性層に用いられる結合剤は強磁
性粉末に対し、５〜５０重量％の範囲、好ましくは１０
〜３０重量％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹脂を
用いる場合は５〜３０重量％、ポリウレタン樹脂合を用
いる場合は２〜２０重量％、ポリイソシアネ−トは２〜
２０重量％の範囲でこれらを組み合わせて用いるのが好
ましい。本発明において、ポリウレタンを用いる場合は
ガラス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸びが１００
〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０ｋｇ／ｃ
ｍ²、降伏点は０．０５〜１０ｋｇ／ｃｍ²が好ましい。
本発明の磁気記録媒体は二層以上からなる。従って、結
合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレ
タン樹脂、ポリイソシアネ−ト、あるいはそれ以外の樹
脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、
あるいは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ非
磁性層と上層磁性層、その他磁性層とで変えることはも
ちろん可能であり、多層磁性層に関する公知技術を適用
できる。例えば、上下層、非磁性層でバインダー量を変
更する場合、磁性層表面の擦傷を減らすためには上層磁
性層のバインダー量を増量することが有効であり、ヘッ
ドに対するヘッドタッチを良好にする為には、上層以外
の磁性層か非磁性層のバインダー量を多くして柔軟性を
持たせることにより達成される。

【００３７】本発明に用いるポリイソシアネ−トとして
は、トリレンジイソシアネ−ト、４−４’−ジフェニル
メタンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシアネ
−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネ−ト、ｏ−トルイジンジイソシアネ−
ト、イソホロンジイソシアネ−ト、トリフェニルメタン
トリイソシアネ−ト等のイソシアネ−ト類、また、これ
らのイソシアネ−ト類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネ−ト等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン社製、コロネートＬ、コロネ−トＨＬ，コロネ
−ト２０３０、コロネ−ト２０３１、ミリオネ−トＭ
Ｒ、ミリオネ−トＭＴＬ、武田薬品社製、タケネ−トＤ
−１０２，タケネ−トＤ−１１０Ｎ、タケネ−トＤ−２
００、タケネ−トＤ−２０２、住友バイエル社製、デス
モジュ−ルＬ，デスモジュ−ルＩＬ、デスモジュ−ル
Ｎ、デスモジュ−ルＨＬ，等がありこれらを単独または
硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合
せで非磁性層、磁性層とも用いることができる。

【００３８】本発明の磁性層に使用されるカ−ボンブラ
ックはゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブ
ラック、アセチレンブラック、等を用いることができ
る。比表面積は５〜５００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１
０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５ｍμ〜３００ｍ
μ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０重量％、タ
ップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌ、が好ましい。本発明に
用いられるカ−ボンブラックの具体的な例としてはキャ
ボット社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３
００、１０００、９００、８００，７００、ＶＵＬＣＡ
Ｎ ＸＣ−７２、旭カ−ボン社製、＃８０、＃６０，＃
５５、＃５０、＃３５、三菱化成工業社製、＃２４００
Ｂ、＃２３００、＃９００，＃１０００＃３０，＃４
０、＃１０Ｂ、コンロンビアカ−ボン社製、ＣＯＮＤＵ
ＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０，４０，１
５などがあげられる。カ−ボンブラックを分散剤などで
表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表
面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわ
ない。また、カ−ボンブラックを磁性塗料に添加する前
にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらの
カ−ボンブラックは単独、または組合せで使用すること
ができる。カ−ボンブラックを使用する場合は強磁性粉
末に対する量の０．１〜３０重量％で用いることが好ま
しい。カ−ボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数
低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これ
らは用いるカ−ボンブラックにより異なる。従って本発
明に使用されるこれらのカ−ボンブラックは上層磁性
層、下層非磁性層でその種類、量、組合せを変え、粒子
サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性
をもとに目的に応じて使い分けることはもちろん可能で
ある。本発明の磁性層で使用できるカ−ボンブラックは
例えば「カ−ボンブラック便覧」カ−ボンブラック協会
編を参考にすることができる。

【００３９】本発明に用いられる研磨剤としてはα化率
９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダ
ム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素、チタンカ
−バイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など
主としてモ−ス硬度６以上の公知の材料が単独または組
合せで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合
体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用し
てもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物また
は元素が含まれる場合もあるが主成分が９０重量％以上
であれば効果にかわりはない。これら研磨剤の粒子サイ
ズは０．０１〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子
サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤
でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもで
きる。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｍｌ、含水率は０．
１〜５重量％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ
²／ｇ、が好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状
は針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状
の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。本発
明に用いられる研磨剤の具体的な例としては、住友化学
社製、ＡＫＰ−２０，ＡＫＰ−３０，ＡＫＰ−５０、Ｈ
ＩＴ−５０、HIT-100、日本化学工業社製、Ｇ５，Ｇ
７，Ｓ−１、戸田工業社製、ＴＦ−１００，ＴＦ−１４
０などがあげられる。本発明に用いられる研磨剤は磁性
層（上下層）、非磁性層で種類、量および組合せを変
え、目的に応じて使い分けることはもちろん可能であ
る。これらの研磨剤はあらかじめ結合剤で分散処理した
のち磁性塗料中に添加してもかまわない。本発明の磁気
記録媒体の磁性層表面および磁性層端面に存在する研磨
剤は５個／１００μｍ²以上が好ましい。

【００４０】本発明に使用される、添加剤としては潤滑
効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつ
ものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングス
テングラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコ−
ンオイル、極性基をもつシリコ−ン、脂肪酸変性シリコ
−ン、フッ素含有シリコ−ン、フッ素含有アルコ−ル、
フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコ−
ル、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、ポリフェニルエ−テル、フッ素含有アルキル硫酸エ
ステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の
一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐して
いてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、
Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコ−ル、（不飽
和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、
炭素数１２〜２２のアルコキシアルコ−ル、炭素数１０
〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また
分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、
二価、三価、四価、五価、六価アルコ−ルのいずれか一
つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわ
ない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エ
ステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド
重合物のモノアルキルエ−テルの脂肪酸エステル、炭素
数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族ア
ミン、などが使用できる。

【００４１】これらの具体例としてはラウリン酸、ミリ
スチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ス
テアリン酸ブチル、オレイン酸、リノ−ル酸、リノレン
酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン
酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オ
クチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソル
ビタンモノステアレ−ト、アンヒドロソルビタンジステ
アレ−ト 、アンヒドロソルビタントリステアレ−ト、
オレイルアルコ−ル、ラウリルアルコ−ル、があげられ
る。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシド−ル系、アルキルフェノ−ルエチレンオキサイド
付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステ
ルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、
燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコ−ルの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用
できる。

【００４２】これらの界面活性剤については、「界面活
性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載され
ている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１０
０％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副
反応物、分解物、酸化物 等の不純分がふくまれてもか
まわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さ
らに好ましくは１０％以下である。

【００４３】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は非磁性層、磁性層でその種類、量を必要に応じ
使い分けることができる。例えば、非磁性層、磁性層で
融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御す
る、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじ
み出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布
の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を非磁性層で多
くして潤滑効果を向上させるなど考えられ、無論ここに
示した例のみに限られるものではない。また本発明で用
いられる添加剤のすべてまたはその一部は、磁性塗料製
造のどの工程で添加してもかまわない、例えば、混練工
程前に強磁性粉末と混合する場合、強磁性粉末と結合剤
と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加
する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する
場合などがある。また、目的に応じて磁性層を塗布した
後、同時または逐次塗布で、添加剤の一部または全部を
塗布することにより目的が達成される場合がある。ま
た、目的によってはカレンダーした後、またはスリット
終了後、磁性層表面に潤滑剤を塗布することもできる。

【００４４】本発明で使用されるこれら潤滑剤の商品例
としては、日本油脂社製、ＮＡＡ−１０２，ＮＡＡ−４
１５，ＮＡＡ−３１２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１８
０，ＮＡＡ−１７４，ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−２２
２，ＮＡＡ−３４，ＮＡＡ−３５，ＮＡＡ−１７１，Ｎ
ＡＡ−１２２、ＮＡＡ−１４２、ＮＡＡ−１６０、ＮＡ
Ａ−１７３Ｋ，ヒマシ硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４２，ＮＡ
Ａ−４４、カチオンＳＡ、カチオンＭＡ、カチオンＡ
Ｂ，カチオンＢＢ，ナイミ−ンＬ−２０１，ナイミ−ン
Ｌ−２０２，ナイミ−ンＳ−２０２，ノニオンＥ−２０
８，ノニオンＰ−２０８，ノニオンＳ−２０７，ノニオ
ンＫ−２０４，ノニオンＮＳ−２０２，ノニオンＮＳ−
２１０，ノニオンＨＳ−２０６，ノニオンＬ−２，ノニ
オンＳ−２，ノニオンＳ−４，ノニオンＯ−２、ノニオ
ンＬＰ−２０Ｒ，ノニオンＰＰ−４０Ｒ，ノニオンＳＰ
−６０Ｒ、ノニオンＯＰ−８０Ｒ、ノニオンＯＰ−８５
Ｒ，ノニオンＬＴ−２２１，ノニオンＳＴ−２２１，ノ
ニオンＯＴ−２２１，モノグリＭＢ，ノニオンＤＳ−６
０，アノンＢＦ，アノンＬＧ，ブチルステアレ−ト、ブ
チルラウレ−ト、エルカ酸、関東化学社製、オレイン
酸、竹本油脂社製、ＦＡＬ−２０５、ＦＡＬ−１２３、
新日本理化社製、エヌジェルブＬＯ、エヌジョルブＩＰ
Ｍ，サンソサイザ−Ｅ４０３０，、信越化学社製、ＴＡ
−３、ＫＦ−９６、ＫＦ−９６Ｌ、ＫＦ９６Ｈ、ＫＦ４
１０，ＫＦ４２０、ＫＦ９６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０，
ＫＦ５６，ＫＦ９０７，ＫＦ８５１，Ｘ−２２−８１
９，Ｘ−２２−８２２，ＫＦ９０５，ＫＦ７００，ＫＦ
３９３，ＫＦ−８５７，ＫＦ−８６０，ＫＦ−８６５，
Ｘ−２２−９８０，ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ
−１０３，Ｘ−２２−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，
ＫＦ−９１０，ＫＦ−３９３５，ライオンア−マ−社
製、ア−マイドＰ、ア−マイドＣ，ア−モスリップＣ
Ｐ、ライオン油脂社製、デユオミンＴＤＯ、日清製油社
製、ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社製、プロファン２０１２
Ｅ、ニュ−ポ−ルＰＥ６１、イオネットＭＳ−４００，
イオネットＭＯ−２００ イオネットＤＬ−２００，イ
オネットＤＳ−３００、イオネットＤＳ−１０００イオ
ネットＤＯ−２００などがあげられる。

【００４５】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノ−
ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソブチ
ルアルコ−ル、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコ−ル類、酢酸メチル、酢酸
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチ
ル、酢酸グリコ−ル等のエステル類、グリコ−ルジメチ
ルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳
香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒド
リン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用で
きる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではな
く、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解
物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわな
い。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好
ましくは１０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は
磁性層と非磁性層でその種類は同じであることが好まし
い。その添加量は変えてもかまわない。非磁性層に表面
張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）
を用い塗布の安定性をあげる、具体的には上層溶剤組成
の算術平均値が下層溶剤組成の算術平均値を下回らない
ことが肝要である。分散性を向上させるためにはある程
度極性が強い方が好ましく、溶剤組成の内、誘電率が１
５以上の溶剤が５０％以上含まれることが好ましい。ま
た、溶解パラメ−タは８〜１１であることが好ましい。

【００４６】本発明の磁気記録媒体の厚み構成は非磁性
可撓性支持体が１〜１００μｍ、好ましくは４〜８０μ
ｍ。磁性層と非磁性層を合わせた厚みは非磁性可撓性支
持体の厚みの１／１００〜２倍の範囲で用いられる。ま
た、非磁性可撓性支持体と非磁性層の間に密着性向上の
ためのの下塗り層を設けてもかまわない。本下塗層厚み
は０．０１〜２μｍ、好まししくは０．０２〜０．５μ
ｍである。また、非磁性支持体の磁性層側と反対側にバ
ックコ−ト層を設けてもかまわない。この厚みは０．１
〜２μｍ、好ましくは０．３〜１．０μｍである。これ
らの下塗層、バックコ−ト層は公知のものが使用でき
る。

【００４７】本発明に用いられる非磁性可撓性支持体は
ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレー
ト、等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルロ−
ストリアセテ−ト、ポリカ−ボネ−ト、ポリアミド、ポ
リイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、アラミ
ド、芳香族ホ゜リアミト゛などの公知のフィルムが使用でき
る。これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プ
ラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などをお
こなっても良い。本発明の目的を達成するには、非磁性
可撓性支持体として中心線平均表面粗さ（カットオフ値
０．２５ｍｍ）が０．０３μｍ以下、好ましくは０．０
２μｍ以下、さらに好ましくは０．０１μｍ以下のもの
を使用する必要がある。また、これらの非磁性支持体は
単に中心線平均表面粗さが小さいだけではなく、１μｍ
以上の粗大突起がないことが好ましい。また表面の粗さ
形状は必要に応じて支持体に添加されるフィラ−の大き
さと量により自由にコントロ−ルされるものである。こ
れらのフィラ−としては一例としてはＣａ，Ｓｉ、Ｔｉ
などの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの有機微粉
末があげられる。本発明に用いられる非磁性支持体のテ
−プ走行方向のＦ−５値は好ましくは５〜５０ｋｇ／ｍ
ｍ²、テ−プ幅方向のＦ−５値は好ましくは３〜３０ｋ
ｇ／ｍｍ²であり、テ−プ長い手方向のＦ−５値がテ−
プ幅方向のＦ−５値より高いのが一般的であるが、特に
幅方向の強度を高くする必要があるときはその限りでな
い。

【００４８】また、支持体のテ−プ走行方向および幅方
向の１００℃、３０分での熱収縮率は好ましくは３％以
下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃、３０分で
の熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは
０．５％以下である。破断強度は両方向とも５〜１００
ｋｇ／ｍｍ²、弾性率は１００〜２０００ｋｇ／ｍｍ²、
が好ましい。

【００４９】本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造す
る工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれ
らの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からな
る。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていても
かまわない。本発明に使用する強磁性粉末、結合剤、カ
−ボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤な
どすべての原料はどの工程の最初または途中で添加して
もかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分
割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを
混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工
程で分割して投入してもよい。

【００５０】本発明の目的を達成するためには、従来の
公知の製造技術のを一部の工程としてを用いることがで
きることはもちろんであるが、混練工程では連続ニ−ダ
や加圧ニ−ダなど強い混練力をもつものを使用すること
により初めて本発明の磁気記録媒体の高い残留磁束密度
（Ｂｒ）を得ることができた。連続ニ−ダまたは加圧ニ
−ダを用いる場合は強磁性粉末と結合剤のすべてまたは
その一部（ただし全結合剤の３０％以上が好ましい）お
よび強磁性粉末１００重量部に対し１５〜５００重量部
の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細につ
いては特開平１−１０６３３８号公報、特開昭６４−７
９２７４号公報に記載されている。また、下層非磁性層
液を調整する場合には高比重の分散メディアを用いるこ
とが望ましく、ジルコニアビーズが好適である。

【００５１】本発明のような重層構成の磁気記録媒体を
塗布する装置、方法の例として以下のような構成を提案
できる。 １，磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルーシ゛ョン塗布装置等
により、まず下層を塗布し、下層がウェット状態のうち
に特公平1-46186号公報や特開昭60-238179号公報，特開
平2-265672号公報に開示されている支持体加圧型エクストルー
シ゛ョン塗布装置により上層を塗布する。 ２，特開昭63-88080号公報、特開平2-17971号公報，特開
平2-265672号公報に開示されているような塗布液通液ス
リットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドにより上下層を
ほぼ同時に塗布する。 ３，特開平2-174965号公報に開示されているハ゛ックアッフ゜ロー
ル付きエクストルーシ゛ョン塗布装置により上下層をほぼ同時に塗
布する。

【００５２】なお、磁性粒子の凝集による磁気記録媒体
の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭62-951
74号公報や特開平1-236968号公報に開示されているよう
な方法により塗布ヘッド内部の塗布液にせん断を付与す
ることが望ましい。さらに、塗布液の粘度については、
特開平3-8471号公報に開示されている数値範囲を満足す
る必要がある。本発明の磁気記録媒体を得るためには強
力な配向を行う必要がある。１０００Ｇ以上のソレノイ
ドと２０００Ｇ以上のコバルト磁石を同極対向で併用す
ることが好ましく、さらには乾燥後の配向性が最も高く
なるように配向前に予め適度の乾燥工程を設けることが
好ましい。また、ディスク媒体として本発明を適用する
場合はむしろ配向をランダマイズするような配向法が必
要である。また、上層磁性層と下層磁性層の配向方向を
変更するために配向する方向は必ずしも長手方向で面内
方向である必要はなく、垂直方向、幅方向にも配向でき
る。

【００５３】さらに、カレンダ処理ロ−ルとしてエポキ
シ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐
熱性のあるプラスチックロ−ルを使用する。また、金属
ロ−ル同志で処理することも出来る。処理温度は、好ま
しくは７０℃以上、さらに好ましくは８０℃以上であ
る。線圧力は好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ、さらに好ま
しくは３００ｋｇ／ｃｍ以上である。本発明の磁気記録
媒体の磁性層面およびその反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対
する摩擦係数は好ましくは０．５以下、さらに０．３以
下、表面固有抵抗は好ましくは１０⁴〜１０¹²オ−ム／
ｓｑ、磁性層の０．５％伸びでの弾性率は走行方向、幅
方向とも好ましくは１００〜２０００ｋｇ／ｍｍ²、破
断強度は好ましくは１〜３０ｋｇ／ｃｍ²、磁気記録媒
体の弾性率は走行方向、長い方向とも好ましくは１００
〜１５００ｋｇ／ｍｍ²、残留のびは好ましくは０．５
％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は好
ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下、も
っとも好ましくは０．１％以下である。磁性層のガラス
転移温度(110Hzで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率
の極大点)は５０℃以上１２０℃以下が好ましく、下層
非磁性層のそれは０℃〜１００℃が好ましい。損失弾性
率は１×１０⁸〜８×１０⁹dyne/cm²の範囲にあることが
好ましく、損失正接は０．２以下であることが好まし
い。損失正接が大きすぎると粘着故障が出やすい。

【００５４】磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは
１００ｍｇ／ｍ²以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ²
以下であり、第二層に含まれる残留溶媒が第一層に含ま
れる残留溶媒より少ないほうが好ましい。磁性層が有す
る空隙率は非磁性下層、磁性層とも好ましくは３０容量
％以下、さらに好ましくは２０容量％以下である。空隙
率は高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目
的によってはある値を確保した方が良い場合がある。例
えば、繰り返し用途が重視されるデータ記録用磁気記録
媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性は好ましいこと
が多い。本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁場５ＫＯ
ｅで測定した場合、テ−プ走行方向の角形比は０．７０
以上であり、好ましくは０．８０以上さらに好ましくは
０．９０以上である。テ−プ走行方向に直角な二つの方
向の角型比は走行方向の角型比の８０％以下となること
が好ましい。磁性層のＳＦＤ（Swiching Field Distr
ibution）は０．６以下であることが好ましい。磁性層
の中心線表面粗さ（カットオフ値０．２５ｍｍ）Ｒａは
１ｎｍ〜１０ｎｍが好ましいが、その値は目的により適
宜設定されるべきである。電磁変換特性を良好にする為
にはＲａは小さいほど好ましいが、走行耐久性を良好に
するためには逆に大きいほど好ましい。ＡＦＭ（Atomic
Force Micro Scope）による評価で求めたＲＭＳ
（２乗平均）表面粗さＲRMSは２ｎｍ〜１５ｎｍの範囲
にあることが好ましい。

【００５５】本発明の磁気記録媒体は下層非磁性層と上
層磁性層を有するが、目的に応じ非磁性層と磁性層でこ
れらの物理特性を変えることができるのは容易に推定さ
れることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行
耐久性を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層
より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くする
などである。２層以上の磁性層にそれぞれどのような物
理特性をもたらすかは、公知の磁性層重層に関する技術
を参考にすることができる。例えば上層磁性層のＨｃを
下層のＨｃより高くすることは特公昭３７−２２１８号
公報、特開昭５８−５６２２８号公報等を初め多くの発
明があるが、本発明のように磁性層を薄層にすることに
より、より高いＨｃの磁性層でも記録が可能になる。

【００５６】

【実施例】次に本発明の詳細な内容を実施例によって具
体的に説明する。実施例中「部」との表示は「重量部」
を意味する。 （実施例１） １）非磁性中間層 非磁性粉体 ＴｉＯ_２ 結晶系ルチル ８０部 平均一次粒子径：０．０３５μｍ ＢＥＴ法による比表面積：４０ｍ^２／ｇ ｐＨ７、ＴｉＯ_２ 含有量：９０％以上 ＤＢＰ吸油量：２７〜３８ｍｌ／１００ｇ 表面処理剤：Ａｌ_２Ｏ_３ カーボンブラック ２０部 平均一次粒子径：１６μｍ ＤＢＰ吸油量：８０ｍｌ／１００ｇ ｐＨ８．０ ＢＥＴ法による比表面積：２５０ｍ^２／ｇ 揮発分：１．５％ 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 １２部 −Ｎ（ＣＨ_３）_３ ^＋Ｃｌ⁻の極性基を５×１０^−６ｅｑ／ｇ含む 組成比８６：１３：１、重合度：４００ ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ＝ ０．９／２．６／１ −ＳＯ_３ Ｎａ基：１×１０^−４ｅｑ／ｇ含有 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン １００部 シクロヘキサノン ５０部 トルエン ５０部 ２）磁性層（上層） 強磁性金属微粉末 組成Ｆｅ／Ｚｎ／Ｎｉ＝９２／４／４ １００部 Ｈｃ：２５００Ｏｅ、ＢＥＴ法による比表面積：５４ｍ^２／ｇ 結晶子サイズ：１５０Å、表面処理剤：Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２ 粒子サイズ（長軸径）：０．２μｍ、針状比：１０ σｓ：１３０ｅｍｕ／ｇ 塩化ビニル系共重合体 １２部 −ＳＯ_３ Ｎａ含有量：１ｘ１０^−４ｅｑ／ｇ、重合度：３００ ポリエステルポリウレタン樹脂 ３部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ＝ ０．９／２．６／１ −ＳＯ_３Ｎａ基：１×１０^−４ｅｑ／ｇ含有 α−アルミナ（粒子サイズ０．３μｍ） ２部 カーボンブラック（粒子サイズ０．１０μｍ） ０．５部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ５部 メチルエチルケトン ９０部 シクロヘキサノン ３０部 トルエン ６０部 ３）磁性層（下層） 強磁性金属微粉末 １００部 組成：Ｆｅ／Ｚｎ／Ｎｉ＝９２／５／３ Ｈｃ：２０００Ｏｅ、ＢＥＴ法による比表面積：４５ｍ^２／ｇ 結晶子サイズ：２００Å、表面処理剤：Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２ 粒子サイズ（長軸径）：０．２５μｍ、針状比：１２ σｓ：１１０ｅｍｕ／ｇ 塩化ビニル系共重合体 １２部 −ＳＯ_３Ｎａ含有量：１ｘ１０^−４ｅｑ／ｇ、重合度：３００ ポリエステルポリウレタン樹脂 ３部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ＝ ０．９／２．６／１ −ＳＯ_３Ｎａ基：１×１０^−４ｅｑ／ｇ含有 α−アルミナ（粒子サイズ０．３μｍ） ２部 カーボンブラック（粒子サイズ０．０１５μｍ） ５部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン ９０部 シクロヘキサノン ３０部 トルエン ６０部 上記３つの塗料のそれぞれについて、各成分を連続ニー
ダで混練したのち、サンドミルを用いて分散させた。得
られた分散液にポリイソシアネートを非磁性中間層の塗
布液には１部、上層磁性層、下層磁性層の塗布液には３
部を加え、さらにそれぞれにメチルエチルケトン、シク
ロヘキサノン混合溶媒４０部を加え、１μｍの平均孔径
を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性層、上層磁
性層形成用および下層磁性層形成用の塗布液をそれぞれ
調製した。得られた非磁性層塗布液を、乾燥後の厚さが
２．７μｍになるようにさらにその直後にその上に上層
磁性層の厚さが０．１μｍになるように、また、下層磁
性層が０．１μｍになるように、厚さ７μｍで中心線表
面粗さ（カットオフ値０．２５ｍｍ）が０．０１μｍの
ポリエチレンテレフタレート支持体上に同時重層塗布を
おこない、両層がまだ湿潤状態にあるうちに３０００Ｇ
の磁力をもつコバルト磁石と１５００Ｇの磁力をもつソ
レノイドにより配向させ乾燥後、金属ロールのみから構
成される７段のカレンダで温度９０℃にて処理を行い、
８ｍｍの幅にスリットし、８ｍｍビデオテープを製造し
た。

【００５７】（実施例２〜９および比較例１〜４） 実施例２〜９および比較例１〜４のビデオテープを、表
１〜３に記載される材料および条件下で実施例１と同様
の方法により製造した。なお、実施例７の上層磁性層
は、以下の方法によって得られた磁性塗料を用いて形成
した。 Ｃｏ置換バリウムフェライト １００部 比表面積：３５ｍ^２／ｇ、平均粒子径：０．０６μｍ 板状比：５ 塩化ビニル系重合体 ９部 −ＳＯ_３Ｎａ含有量：８×１０^−５ｅｑ／ｇ、重合度：３００ 微粒子研磨剤（Ｃｒ_２Ｏ_３、平均粒子径：０．３μｍ） ７部 トルエン ３０部 メチルエチルケトン ３０部 上記の組成物をニーダーで約１時間混練した後に更に下記組成物を加え、ニー ダーで約２時間分散を行なう。 ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ＝ ０．９／２．６／１ −ＳＯ_３Ｎａ基：１×１０^−４ｅｑ／ｇ含有、 平均分子量：３５０００ トルエン ２００部 メチルエチルケトン ２００部 シクロヘキサノン ２００部 次いで、下記カーボンブラック、粗粒子研磨剤を添加、サンドグラインダーに て２０００回転、約２時間分散処理を行なった。 カーボンブラック ５部 ライオンアクゾ社製ケッチェンブラックＥＣ、 平均粒子径：２０〜３０ｍμ α−アルミナ ２部 住友化学製ＡＫＰ−１２、粒子サイズ：０．５μｍ さらに下記組成物を加え、再度サンドグラインダー分散し、磁性塗料を得た。 ポリイソシアネート（日本ポリウレタン製コロネートＬ） ６部 トリデシルステアレート ６部

【００５８】評価方法 （１）ＢＥＴ法による比表面積 カンターソープ（ＵＳカンタークロム社製）を用いた。
２５０℃、３０分間窒素雰囲気で脱水後ＢＥＴ一点法
（分圧０．３０）で測定した。 （２）Ｈｃ、Ｂｒ 振動資料型磁束計（東英工業製）を用い、Ｈｍ１０ｋＯ
ｅで測定した。 （３）中心線平均表面粗さ 三次元表面粗さ計（小坂研究所製）を用い、カットオフ
０．２５ｍｍで測定した。 （４）ＳＴＭ ｒｍｓ平均表面粗さ ＳＴＭ（Scanning Transparent Micro Scope）の測定
は、Digital Instrument社の Nanoscope２を用い、トン
ネル電流：１０ｎＡ、バイアス電圧：４００ｍＶの条件
で６μｍ×６μｍの範囲をスキャンした。表面粗さはこ
の範囲のＲrmsを以下の式により求めて比較した。

【００５９】

【数１】

【００６０】ラフネスファクターは透過型電子顕微鏡に
より求めた平均粒子径による表面積ＳでＢＥＴ法による
Ｎ₂吸着比表面積ＳBETを除した値である。強磁性粉末の
長軸径は透過型電子顕微鏡写真を撮影し、その写真から
強磁性粉末の短軸径と長軸径とを直接読みとる方法と画
像解析装置カールツァイス社製ＩＢＡＳＳ１で透過型顕
微鏡写真をトレースして読みとる方法とを適宜併用して
平均粒子径を求めた。結晶子サイズはＸ線回折により
（４，４，０）面と（２，２，０）面の回折線の半値幅
のひろがり分から求めた。

【００６１】電磁変換特性のうち７ＭＨｚ出力は富士写
真フィルム（株）製FUJIX８、８ｍｍヒ゛テ゛オテ゛ッキを用いて７MH
z信号を記録し、この信号を再生したときの７MHz信号再
生出力をオシロスコーフ゜で測定した。レファレンスは富士写真
フィルム（株）製８ミリテープＳＡＧ Ｐ６−１２０で
ある。Ｃ／Ｎ比は富士写真フィルム（株）製FUJIX８、８ｍ
ｍヒ゛テ゛オテ゛ッキを用いて７MHz信号を記録し、この信号をを
再生したときの６MHzで発生するノイズをスヘ゜クトラムアナライサ゛
-で測定し、且つこのノイズに対する再生信号の比を測
定した。

【００６２】

【００６３】

【００６４】得られた結果は表１〜表３に示した。

【００６５】

【表１】

【００６６】

【表２】

【００６７】

【表３】

【００６８】表１〜表３の結果より本発明の実施例１〜
９のサンプルはいずれも磁性層表面粗さＲａ、７ＭＨｚ
出力、Ｃ／Ｎ、歩留まりの全ての点で優れていることが
わかった。

【００６９】

【発明の効果】本発明によって、電磁変換特性が良好
で、かつ走行安定性に優れた磁気記録媒体が得られる。
特に７ＭＨｚ出力、Ｃ／Ｎ、歩留まりの優れた磁気記録
媒体が得られる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−117619（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−117618（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−257424（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−274655（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G11B 5/716 G11B 5/704

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】非磁性可撓性支持体上に主として非磁性粉
   末と結合剤とを含む下層非磁性層を設け、その上に少な
   くとも強磁性粉末と結合剤とを含む磁性層を設けた磁気
   記録媒体において、 前記磁性層が下層非磁性層に近い下層磁性層と表面側の
   上層磁性層をこの順で二層以上設け、前記下層磁性層厚
   みと前記上層磁性層厚みとの和である前記磁性層厚みと
   下層非磁性層厚みとの比率が、 １．１２５≦非磁性層厚／（下層磁性層厚＋上層磁性層厚）≦５０ であり、前記磁性層厚みが１μｍ以下であり、 上層磁性層長手方向の抗磁力（Ｈｃ)と下層磁性層長手
   方向の抗磁力（Ｈｃ)との間に、少なくとも８０Ｏｅの
   差があり、上層磁性層長手方向Ｈｃが下層磁性層長手方
   向Ｈｃよりも大きいときには、 ４０００Ｏｅ≧上層磁性層長手方向Ｈｃ≧１２００Ｏｅ ２５００Ｏｅ≧下層磁性層長手方向Ｈｃ≧ ７００Ｏｅ であり、下層磁性層長手方向Ｈｃが上層磁性層長手方向
   Ｈｃよりも大きいときには、 ４０００Ｏｅ≧下層磁性層長手方向Ｈｃ≧１２００Ｏｅ ２０００Ｏｅ≧上層磁性層長手方向Ｈｃ≧ ７００Ｏｅ であり、かつ、 前記下層非磁性層と少なくとも前記下層磁性層はウェッ
   トオンウェット塗布方式で形成されたものであることを
   特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】前記下層磁性層厚と前記上層磁性層厚との
   比率が、 ０．０５≦下層磁性層厚／上層磁性層厚≦２０ であることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】前記上層磁性層の厚みが０．０５μｍ以上
   ０．３μｍ以下であり、かつ前記下層非磁性層に含まれ
   る前記非磁性層粉末が二酸化チタン、硫酸バリウム、酸
   化亜鉛、α酸化鉄の中の少なくとも１種であることを特
   徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
4. 【請求項４】前記上層磁性層長手方向Ｈｃが前記下層磁
   性層長手方向Ｈｃよりも大きくて、 ４０００Ｏｅ≧上層磁性層長手方向Ｈｃ≧１２００Ｏｅ １８００Ｏｅ≧下層磁性層長手方向Ｈｃ≧１２００Ｏｅ であることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
5. 【請求項５】前記上層磁性層に含まれる強磁性粉末がＦ
   ｅを主体とする合金磁性粉末もしくはマグネトプランバ
   イト型六方晶フェライトであることを特徴とする請求項
   １記載の磁気記録媒体。
6. 【請求項６】ＢＥＴ法による比表面積が、 ７０ｍ^２／ｇ≧上層磁性層磁性体の比表面積≧４０ｍ^２／ｇ ５０ｍ^２／ｇ≧下層磁性層磁性体の比表面積≧３０ｍ^２／ｇ であることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。