JP2833197B2 - 光ディスク - Google Patents
光ディスクInfo
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- JP2833197B2 JP2833197B2 JP2297793A JP29779390A JP2833197B2 JP 2833197 B2 JP2833197 B2 JP 2833197B2 JP 2297793 A JP2297793 A JP 2297793A JP 29779390 A JP29779390 A JP 29779390A JP 2833197 B2 JP2833197 B2 JP 2833197B2
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- JP
- Japan
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- protective coating
- coating film
- optical disk
- substrate
- oil
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 光ディスクに関し、 情報の記録、再生の時点でエラーの発生原因となる塵
埃、或いは汚れがレーザ光の入射面に対して付着し難
く、また仮に上記塵埃、或いは汚れが付着しても容易に
除去可能となる光ディスクを目的とし、 基板上に記録層を設け、該記録層に前記基板を透過し
たレーザ光を照射して情報の記録、再生を行う光ディス
クを前記レーザ光を照射する面となる前記基板の外表面
に撥油性かつ潤滑性の保護被覆膜を設けて構成する。
埃、或いは汚れがレーザ光の入射面に対して付着し難
く、また仮に上記塵埃、或いは汚れが付着しても容易に
除去可能となる光ディスクを目的とし、 基板上に記録層を設け、該記録層に前記基板を透過し
たレーザ光を照射して情報の記録、再生を行う光ディス
クを前記レーザ光を照射する面となる前記基板の外表面
に撥油性かつ潤滑性の保護被覆膜を設けて構成する。
本発明は光ディスクに関する。
近年、大容量の文書データや、画像情報を記憶させる
情報記憶媒体として、光ディスクが脚光を浴びている。
光ディスクは１μｍ程度に絞られた光ビームによって情
報の記録または再生を行うために大容量の情報が記憶で
きる。
情報記憶媒体として、光ディスクが脚光を浴びている。
光ディスクは１μｍ程度に絞られた光ビームによって情
報の記録または再生を行うために大容量の情報が記憶で
きる。
このような光ディスクはガラス、或いはプラスチック
のような透明基板、或いはアルミニウムのような不透明
基板上に例えばテルビウム・鉄・コバルト（Tb−Fe−C
o）のような希土類−遷移金属の非晶質合金薄膜を記録
層として設け、透明基板では基板側より、不透明基板で
は基板の反対側より該記録層にレーザ光を照射して情報
の記録、再生を行っている。
のような透明基板、或いはアルミニウムのような不透明
基板上に例えばテルビウム・鉄・コバルト（Tb−Fe−C
o）のような希土類−遷移金属の非晶質合金薄膜を記録
層として設け、透明基板では基板側より、不透明基板で
は基板の反対側より該記録層にレーザ光を照射して情報
の記録、再生を行っている。
従来の光ディスクの構造を第６図に示す。第６図に示
すようにポリカーボネイトよりなる透明な基板１上に、
スパッタ法でテルビウム・二酸化シリコン膜（Tb−Si
O2）より成る保護層２が設けられ、その上にテルビウム
・鉄・コバルト（Tb−Fe−Co）よりなる記録層３が設け
られ、その上にTb−SiO2膜よりなる保護層４が設けられ
て単一光ディスクが形成されている。そしてこれら単一
光ディスクの保護層４どうしを対向させて透明なホット
メルトの接着剤（商品名;XW−13,東亜合成株式会社製，
主成分；変成ポリオレフィン）で貼着して光ディスクが
形成されている。
すようにポリカーボネイトよりなる透明な基板１上に、
スパッタ法でテルビウム・二酸化シリコン膜（Tb−Si
O2）より成る保護層２が設けられ、その上にテルビウム
・鉄・コバルト（Tb−Fe−Co）よりなる記録層３が設け
られ、その上にTb−SiO2膜よりなる保護層４が設けられ
て単一光ディスクが形成されている。そしてこれら単一
光ディスクの保護層４どうしを対向させて透明なホット
メルトの接着剤（商品名;XW−13,東亜合成株式会社製，
主成分；変成ポリオレフィン）で貼着して光ディスクが
形成されている。
そして該光ディスクを回転させながら、透明な基板上
よりレーザ光６を照射し、前記記録層３に情報を書き込
み、再生している。
よりレーザ光６を照射し、前記記録層３に情報を書き込
み、再生している。
然し、このような光ディスクに於いて、レーザ光の入
射する透明な基板１表面には帯電による塵埃の付着の
他、大気中に微量に含まれるオイルミスト等の付着によ
る汚れがあり、このような汚れが大量に上記透明な基板
上に付着すると、情報の記録または再生に悪影響を及ぼ
す。そこでこれら基板の汚染を防止するために、光ディ
スクの殆どはカートリッジに収納されているが、それで
も長時間使用すると基板の表面が汚れ、この場合には布
等を用いてディスクの基板表面を奇麗に拭き取って塵埃
等の汚れを除去している。
射する透明な基板１表面には帯電による塵埃の付着の
他、大気中に微量に含まれるオイルミスト等の付着によ
る汚れがあり、このような汚れが大量に上記透明な基板
上に付着すると、情報の記録または再生に悪影響を及ぼ
す。そこでこれら基板の汚染を防止するために、光ディ
スクの殆どはカートリッジに収納されているが、それで
も長時間使用すると基板の表面が汚れ、この場合には布
等を用いてディスクの基板表面を奇麗に拭き取って塵埃
等の汚れを除去している。
従って、このような光ディスクに於いては、塵埃、オ
イルミスト等の汚れが付着し難いものが望まれ、また仮
に上記汚れが光ディスクの基板に付着した場合でも、容
易に上記汚れを拭き取り除去できるような光ディスクが
要望される。
イルミスト等の汚れが付着し難いものが望まれ、また仮
に上記汚れが光ディスクの基板に付着した場合でも、容
易に上記汚れを拭き取り除去できるような光ディスクが
要望される。
本発明は上記した事項に鑑みてなされたもので、塵
埃、オイルミスト等の汚れが付着し難く、かつ仮に上記
汚れが付着しても容易に拭き取り除去できる光ディスク
の提供を目的とする。
埃、オイルミスト等の汚れが付着し難く、かつ仮に上記
汚れが付着しても容易に拭き取り除去できる光ディスク
の提供を目的とする。
上記目的は、レーザ光を照射する面となる前記基板の
外表面に撥油性かつ潤滑性の保護被覆膜を設けた光ディ
スクより達成でき、さらには、前記保護被覆膜上に滴下
した油滴の該保護被覆膜に対する接触角が40度以上であ
り、かつ該保護被覆膜に接触させた表面粗さが0.005μ
ｍのガラス板の該保護被覆膜に対する静摩擦係数が0.1
以下である前記保護被覆膜を使用した光ディスクによっ
て達成できる。
外表面に撥油性かつ潤滑性の保護被覆膜を設けた光ディ
スクより達成でき、さらには、前記保護被覆膜上に滴下
した油滴の該保護被覆膜に対する接触角が40度以上であ
り、かつ該保護被覆膜に接触させた表面粗さが0.005μ
ｍのガラス板の該保護被覆膜に対する静摩擦係数が0.1
以下である前記保護被覆膜を使用した光ディスクによっ
て達成できる。
本発明の光ディスクはレーザ光が入射する透明基板に
有機溶剤で希釈したホスファゼン樹脂を保護被覆膜とし
て塗布する。このホスファゼン樹脂は撥油性の樹脂で例
えば、この樹脂の上に鉱油（商品名;ULVOIL R−7,日本
真空技術株式会社製）の油滴を滴下した場合、その油滴
が保護被覆膜となす接触角は40度以上となる。この接触
角は第３図に示すように保護被覆膜11と油滴12の自由表
面と成す角度でこの角度θが40度以上であると、充分そ
の油滴12を弾くことができる。そしてこのホスファゼン
樹脂は撥油性であるので上記接触角度が60度以上となっ
て容易に上記鉱油を弾くことができる。
有機溶剤で希釈したホスファゼン樹脂を保護被覆膜とし
て塗布する。このホスファゼン樹脂は撥油性の樹脂で例
えば、この樹脂の上に鉱油（商品名;ULVOIL R−7,日本
真空技術株式会社製）の油滴を滴下した場合、その油滴
が保護被覆膜となす接触角は40度以上となる。この接触
角は第３図に示すように保護被覆膜11と油滴12の自由表
面と成す角度でこの角度θが40度以上であると、充分そ
の油滴12を弾くことができる。そしてこのホスファゼン
樹脂は撥油性であるので上記接触角度が60度以上となっ
て容易に上記鉱油を弾くことができる。
またこの保護被覆膜上に表面粗さが0.005μｍ（第４
図に示すガラス板の表面の凹凸の寸法差ｔ）のガラス板
13を接触させ、この保護被覆膜を形成した光ディスクを
傾け、そのガラス板が移動し始めた傾き角よりこの保護
被覆膜の静摩擦係数を測定したところ0.08であり、この
静摩擦係数を測定してこの値が0.1以下であると、付着
したオイルミストは移動に対する摩擦力が弱いため、容
易に拭き取って、オイルミストの付着前の状態に回復で
きる。そのため、仮に塵埃等が付着しても容易に布等を
用いて拭き取り可能となる。
図に示すガラス板の表面の凹凸の寸法差ｔ）のガラス板
13を接触させ、この保護被覆膜を形成した光ディスクを
傾け、そのガラス板が移動し始めた傾き角よりこの保護
被覆膜の静摩擦係数を測定したところ0.08であり、この
静摩擦係数を測定してこの値が0.1以下であると、付着
したオイルミストは移動に対する摩擦力が弱いため、容
易に拭き取って、オイルミストの付着前の状態に回復で
きる。そのため、仮に塵埃等が付着しても容易に布等を
用いて拭き取り可能となる。
また上記保護被覆膜として、フルオロカーボンを有す
るアクリル酸エステルと他の2P（Photo Polymer）樹
脂、つまり感光樹脂とを共重合させた樹脂を用いて透明
基板上に保護被覆膜として塗布する。そしてこの上に前
記した鉱油を滴下したところ、その油滴の保護被覆膜に
対する接触角は50度で充分弾くことが判明した。また上
記保護被覆膜に対して表面粗さが0.005μｍのガラス板
に対する静摩擦係数は0.09であり、容易に布等を用いて
拭き取ることができる。
るアクリル酸エステルと他の2P（Photo Polymer）樹
脂、つまり感光樹脂とを共重合させた樹脂を用いて透明
基板上に保護被覆膜として塗布する。そしてこの上に前
記した鉱油を滴下したところ、その油滴の保護被覆膜に
対する接触角は50度で充分弾くことが判明した。また上
記保護被覆膜に対して表面粗さが0.005μｍのガラス板
に対する静摩擦係数は0.09であり、容易に布等を用いて
拭き取ることができる。
第１図は本発明の光ディスクの断面図である。
本発明の光ディスクが従来と異なる点はポリカーボネ
イトより成る透明な基板１上に前記したホスファゼン樹
脂、或いはフルオロカーボンを有するアクリル酸エステ
ルと2P樹脂の共重合樹脂よりなる保護被覆膜11を形成し
た点にある。また上記基板を貼り合わせる接着剤として
ホットメルト接着剤（商品名;XW−13、東亜合成株式会
社製、主成分；変成ポリオレフィン）を用いている。
イトより成る透明な基板１上に前記したホスファゼン樹
脂、或いはフルオロカーボンを有するアクリル酸エステ
ルと2P樹脂の共重合樹脂よりなる保護被覆膜11を形成し
た点にある。また上記基板を貼り合わせる接着剤として
ホットメルト接着剤（商品名;XW−13、東亜合成株式会
社製、主成分；変成ポリオレフィン）を用いている。
本発明の第１実施例の光ディスクは、レーザ光が入射
する透明基板に有機溶剤で希釈したホスファゼン樹脂を
塗布し保護被覆膜11を形成する。このホスファゼン樹脂
は撥油性の樹脂で例えば、この樹脂よりなる保護被覆膜
上に鉱油（商品名;ULVOIL R−７、日本真空技術株式会
社製）の油滴を滴下した場合、その油滴が保護被覆膜11
となす接触角θは40度以上となり、充分その油滴を弾く
ことができる。またこの保護被覆膜上に表面粗さが0.00
5μｍ（表面の凹凸の寸法の差ｔ）のガラス板13を接触
させこの保護被覆膜11を形成した光ディスクを傾け、そ
の傾き角よりこの保護被覆膜の静摩擦係数を測定したと
ころ0.08であり、このことは油滴に対する静摩擦係数が
少ないので仮に油滴に類似したオイルミストのような塵
埃等が付着しても容易に布等を用いて拭き取り可能とな
る。
する透明基板に有機溶剤で希釈したホスファゼン樹脂を
塗布し保護被覆膜11を形成する。このホスファゼン樹脂
は撥油性の樹脂で例えば、この樹脂よりなる保護被覆膜
上に鉱油（商品名;ULVOIL R−７、日本真空技術株式会
社製）の油滴を滴下した場合、その油滴が保護被覆膜11
となす接触角θは40度以上となり、充分その油滴を弾く
ことができる。またこの保護被覆膜上に表面粗さが0.00
5μｍ（表面の凹凸の寸法の差ｔ）のガラス板13を接触
させこの保護被覆膜11を形成した光ディスクを傾け、そ
の傾き角よりこの保護被覆膜の静摩擦係数を測定したと
ころ0.08であり、このことは油滴に対する静摩擦係数が
少ないので仮に油滴に類似したオイルミストのような塵
埃等が付着しても容易に布等を用いて拭き取り可能とな
る。
また本発明の光ディスクの第２実施例は上記保護被覆
膜11としてフルオロカーボンを有するアクリル酸エステ
ルと他の2P（Photo Polymer）樹脂、つまり感光樹脂と
を共重合させた樹脂を透明基板上に塗布して形成する。
そしてこの上に前記した鉱油を滴下したところ、その油
滴の保護被覆膜に対する接触角は50度で充分弾くことが
判明した。
膜11としてフルオロカーボンを有するアクリル酸エステ
ルと他の2P（Photo Polymer）樹脂、つまり感光樹脂と
を共重合させた樹脂を透明基板上に塗布して形成する。
そしてこの上に前記した鉱油を滴下したところ、その油
滴の保護被覆膜に対する接触角は50度で充分弾くことが
判明した。
また上記保護被覆膜に対して表面粗さが0.005μｍの
ガラス板に対する静摩擦係数は0.09であり、前記したよ
うに、オイルミスト等の塵埃を容易に布等を用いて拭き
取ることができる。
ガラス板に対する静摩擦係数は0.09であり、前記したよ
うに、オイルミスト等の塵埃を容易に布等を用いて拭き
取ることができる。
また上記第１、および第２実施例の保護被覆膜を形成
した光ディスクをドライブに挿入し、容量が500×500×
1000mmのデシケータ内に設置し、該デシケータ内にオイ
ルミストに性質が類似した市販の線香の煙を充満させ、
この中で２時間放置した後、第５図に示すようにその光
ディスク14にレーザ光を半径方向より見てディスクの内
部の位置Ａ、中央部の位置Ｂ、外部の位置Ｃの三点に照
射してその反射光量を測定した。
した光ディスクをドライブに挿入し、容量が500×500×
1000mmのデシケータ内に設置し、該デシケータ内にオイ
ルミストに性質が類似した市販の線香の煙を充満させ、
この中で２時間放置した後、第５図に示すようにその光
ディスク14にレーザ光を半径方向より見てディスクの内
部の位置Ａ、中央部の位置Ｂ、外部の位置Ｃの三点に照
射してその反射光量を測定した。
またこのように煙が充満しているデシケータ内で２時
間放置した後、クリーニング材（商品名；ミクロスタ
ー、帝国人絹株式会社製）を用いたクリーニングドライ
ブ（日本電気株式会社製、商品名；ディスククリーナ、
型式;PC−00101−11）で基板の表面を拭き取った後のレ
ーザ光の反射光量を測定した。
間放置した後、クリーニング材（商品名；ミクロスタ
ー、帝国人絹株式会社製）を用いたクリーニングドライ
ブ（日本電気株式会社製、商品名；ディスククリーナ、
型式;PC−00101−11）で基板の表面を拭き取った後のレ
ーザ光の反射光量を測定した。
第２図は本発明の保護被覆膜を形成した光ディスクを
２時間前記の煙に曝した場合、および表面をクリーニン
グ材で拭き取った後の反射光量を示す線図である。
２時間前記の煙に曝した場合、および表面をクリーニン
グ材で拭き取った後の反射光量を示す線図である。
図示するように曲線21に上記保護被覆膜を形成しない
従来の光ディスクの反射光量を示し、曲線22は第１実施
例のホスファゼン樹脂を保護被覆膜として形成した光デ
ィスクの反射光量曲線で、曲線23は第２実施例の含弗素
樹脂の2P樹脂を塗布した場合で、保護被覆膜を形成しな
い従来の光ディスクは反射光量が大幅に低下しているの
が判る。
従来の光ディスクの反射光量を示し、曲線22は第１実施
例のホスファゼン樹脂を保護被覆膜として形成した光デ
ィスクの反射光量曲線で、曲線23は第２実施例の含弗素
樹脂の2P樹脂を塗布した場合で、保護被覆膜を形成しな
い従来の光ディスクは反射光量が大幅に低下しているの
が判る。
このことは本発明の光ディスクのように保護被覆膜を
形成することで、オイルミストに類似した線香の煙を良
好に弾いて容易に付着しないことを示している。
形成することで、オイルミストに類似した線香の煙を良
好に弾いて容易に付着しないことを示している。
また曲線24,25は上記第１実施例、および第２実施例
の保護被覆膜を形成した光ディスクを上記煙に曝した
後、前記クリーニングドライブで拭き取った後の反射光
量を示しており、また曲線26は本発明の保護被覆膜を形
成しない従来の光ディスクを前記煙に曝した後、前記ク
リーニングドライブで拭き取った後の反射光量の曲線で
あり、このように本発明の保護被覆膜を形成した光ディ
スクは塵埃が付着しても容易に拭き取ることが可能なこ
とを示している。
の保護被覆膜を形成した光ディスクを上記煙に曝した
後、前記クリーニングドライブで拭き取った後の反射光
量を示しており、また曲線26は本発明の保護被覆膜を形
成しない従来の光ディスクを前記煙に曝した後、前記ク
リーニングドライブで拭き取った後の反射光量の曲線で
あり、このように本発明の保護被覆膜を形成した光ディ
スクは塵埃が付着しても容易に拭き取ることが可能なこ
とを示している。
なお、本発明者等は光ディスクを上記煙に曝した後、
クリーニングドライブで該ディスクの基板に付着した汚
れを拭き取ってその反射光量を測定したところ、煙に曝
さない以前の状態の反射光量に復帰するのは、前記した
保護被覆膜の鉱油に対する接触角度が40度以上で、かつ
表面粗さが0.005μｍのガラス板に対する静摩擦係数が
0.1以下の場合であることを実験的に確認した。
クリーニングドライブで該ディスクの基板に付着した汚
れを拭き取ってその反射光量を測定したところ、煙に曝
さない以前の状態の反射光量に復帰するのは、前記した
保護被覆膜の鉱油に対する接触角度が40度以上で、かつ
表面粗さが0.005μｍのガラス板に対する静摩擦係数が
0.1以下の場合であることを実験的に確認した。
なお、本実施例では光ディスクの基板に透明基板を用
いたが、不透明基板を用いても良く、要はレーザ光の入
射面に本実施例の保護被覆膜を形成すると良い。
いたが、不透明基板を用いても良く、要はレーザ光の入
射面に本実施例の保護被覆膜を形成すると良い。
また上記保護被覆膜は撥油性、或いは潤滑性の何れか
の特性を備えたものであると、上記塵埃の付着が少な
く、かつ塵埃が付着しても容易に拭き取り除去が可能と
なることを本発明者等は確認している。
の特性を備えたものであると、上記塵埃の付着が少な
く、かつ塵埃が付着しても容易に拭き取り除去が可能と
なることを本発明者等は確認している。
以上の説明から明らかなように本発明によれば光ディ
スクのレーザ光の入射面である基板の外表面に撥油性か
つ潤滑性の保護被覆膜を形成したので、この保護被覆膜
にオイルミスト的な汚れが付着し難く、また仮に付着し
ても容易に除去できるようになり、性能向上および信頼
性が向上した光ディスクが得られる効果がある。
スクのレーザ光の入射面である基板の外表面に撥油性か
つ潤滑性の保護被覆膜を形成したので、この保護被覆膜
にオイルミスト的な汚れが付着し難く、また仮に付着し
ても容易に除去できるようになり、性能向上および信頼
性が向上した光ディスクが得られる効果がある。
第１図は本発明の光ディスクの構造を示す断面図、 第２図は本発明の光ディスクの特性曲線を示す図、 第３図は油滴の保護被覆膜に接触する状態図、 第４図はガラス板の表面を示す模式図、 第５図は光ディスクの反射光量の測定位置を示す図、 第６図は従来の光ディスクを示す断面図である。 図において、 １は透明基板、2,4は保護層、３は記録層、５は接着
剤、11は保護被覆膜、12は油滴、13はガラス板、14は光
ディスク、21,22,23,24,25,26は光ディスクの特性曲線
を示す。
剤、11は保護被覆膜、12は油滴、13はガラス板、14は光
ディスク、21,22,23,24,25,26は光ディスクの特性曲線
を示す。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−290138（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−198232（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G11B 7/24
Claims (2)
- 【請求項１】基板上に記録層を設け、該記録層に前記基
板を透過したレーザ光を照射して情報の記録、再生を行
う光ディスクに於いて、 前記レーザ光を照射する面となる前記基板の外表面に撥
油性かつ潤滑性の保護被覆膜を設けたことを特徴とする
光ディスク。 - 【請求項２】前記保護被覆膜は、該保護被覆膜上に滴下
した油滴の前記保護被覆膜に対する接触角が40度以上で
かつ、該保護被覆膜に接触させた表面粗さが0.005μｍ
のガラス板の前記保護被覆膜に対する静摩擦係数が0.1
以下であることを特徴とする請求項（１）記載の光ディ
スク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2297793A JP2833197B2 (ja) | 1990-11-01 | 1990-11-01 | 光ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2297793A JP2833197B2 (ja) | 1990-11-01 | 1990-11-01 | 光ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04168636A JPH04168636A (ja) | 1992-06-16 |
| JP2833197B2 true JP2833197B2 (ja) | 1998-12-09 |
Family
ID=17851244
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2297793A Expired - Lifetime JP2833197B2 (ja) | 1990-11-01 | 1990-11-01 | 光ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2833197B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6680899B2 (en) | 2000-06-28 | 2004-01-20 | Tdk Corporation | Optical information medium |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000100008A (ja) | 1998-09-24 | 2000-04-07 | Fujitsu Ltd | 光磁気記録媒体及び光学ヘッド装置 |
-
1990
- 1990-11-01 JP JP2297793A patent/JP2833197B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6680899B2 (en) | 2000-06-28 | 2004-01-20 | Tdk Corporation | Optical information medium |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04168636A (ja) | 1992-06-16 |
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