JP2813321B2 - 洗浄方法 - Google Patents
洗浄方法Info
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Description
品に付着している半田フラックス、研磨・研削加工など
に用いられるホットメルト接着剤を洗浄除去する洗浄方
法に関する。
フラックスが付着している。また、各種部品に研磨や研
削加工をする際、部品をホットメルト接着剤により治具
に固定しておき、加工後に接着剤を除去することによっ
て部品を治具から取り外す方法が採られる。従来、この
種の半田付け後のフラックスや研磨・研削加工後のホッ
トメルト接着剤を除去するためには、略称フロンで示さ
れる塩素化フッ素化炭化水素や、1,1,1−トリクロ
ロエタン、トリクロロエチレン,ジクロロメタンといっ
た塩素系溶剤が主として用いられてきた。
ン層破壊問題、地下水汚染問題などの環境問題を有する
ことが明かとなり、現在、これら塩素系溶剤の使用を差
し控える方向にある。そこで、これら塩素系溶剤を代替
する洗浄液が強く要望され、アルコール系、炭化水素
系、グリコールエーテル系、界面活性剤系など多くの代
替洗浄液が開発されている。
/またはホットメルト接着剤の洗浄においては、これら
代替洗浄剤は、洗浄能力が不十分であり、洗浄剤として
用いるには困難が伴う。また、多くの洗浄剤は、廃液処
理に産業廃棄を必要とし、新たな環境問題となるばかり
でなく、塩素系溶剤と比較して洗浄にかかるコストが大
きくなるなどの課題を有していた。さらに、これら代替
洗浄剤は、塩素系有機溶剤と異なり、揮発性に優れない
ために、洗浄後に被洗浄物に付着している洗浄剤を簡便
に除去することが困難であるという課題を有していた。
題を解決するもので、ジエチレングリコールジメチルエ
ーテルおよびジプロピレングリコールジメチルエーテル
よりなる群から選ばれる少なくとも一種のグリコールエ
ーテル系化合物と炭素数10個の炭化水素であるノルマ
ルデカンからなる洗浄液を用いて洗浄することを特徴と
する。
ーテル(以下DEGDMと略す)および/またはジプロ
ピレングリコールジメチルエーテル(以下DPGDMと
略す)とノルマルデカンの配合割合は、重量比でDEG
DMおよび/またはDPGDM:ノルマルデカン=30
〜90:70〜10の範囲内であれば、除去対象物の溶
解性が高く、より良好な洗浄性が得られる。なお、DE
GDMとDPGDMどちらか一方または両者の混合のど
ちらでもよい。ここに用いる洗浄液は、本質的にDEG
DMおよび/またはDPGDMとノルマルデカンからな
るものであり、洗浄性および揮発性に優れている。洗浄
液がグリコールエーテル系化合物または炭化水素のどち
らか一方のみからなる場合は、半田フラックスおよびホ
ットメルト接着剤の洗浄性が劣る。
た洗浄方法の詳細な工程図を示す。以下、図1にしたが
って、本発明の洗浄方法について説明する。a)の洗浄
工程において、半田フラックスやホットメルト接着剤な
どの除去対象物を付着している各種機器や部品などの被
洗浄物を洗浄液に浸漬して、除去対象物を洗浄除去す
る。次いで、b)の工程において、温風処理または減圧
処理などを用いることによって被洗浄物に付着している
洗浄液を乾燥除去する。そして、工程が終了し、機器ま
たは部品が完成する。
溶解している洗浄液は、これを蒸留によって除去対象物
と洗浄液を容易に分離することができる。分離に必要な
温度は、常圧の場合160℃程度であり、減圧条件で蒸
留を行えば、さらに低い温度で蒸留が行える。例えば、
20mmHg下では、分離に必要な蒸留温度は60℃程
度である。上記に示す蒸留を行った場合、蒸留されて得
られた液は、洗浄工程に使用する前の洗浄液と同等であ
り、得られた洗浄液を再度洗浄工程に使用することが可
能である。
は、防爆仕様で、50℃以上、好ましくは100℃以上
の加温能力を有し、供給バルブ、タンク、蒸発缶、減圧
機、冷却コンデンサー部より構成されたバッチ仕様、あ
るいは洗浄ラインとサービスタンクを経て連結されたも
のが望ましい。なお、本発明の洗浄方法は、プリント基
板に用いられる半田フラックスの除去、磁気記録機器な
どに用いられるフェライト製ヘッドなどの研磨工程、ま
たは超音波遅延素子などに用いられるガラスブロックな
どの研削工程などに用いられるホットメルト接着剤の除
去などに用いることができる。さらに、本発明の洗浄液
はプレス・切削加工などに用いられる加工油や各種機器
・部品に付着している指紋などの除去も可能であり、揮
発性が高いために、手拭き用として用いることもでき
る。
はこれらに限定されるものではない。表1は、以下の実
施例1〜16および比較例1〜6に用いる洗浄液の配合
例を示す。表中の数値は、配合割合の重量%を示す。
洗浄方法による半田フラックス除去性を評価する。コン
デンサおよび固定抵抗器を装着し、ロジン系半田フラッ
クス(半田フラックス:AGF−200−J3、アサヒ
化学株式会社製)を用いて、半田フラックス処理を行
い、半田付け処理を施したプリント基板(基板表面積5
cm2)をテストピースとした。このテストピースを表
1に示した洗浄液により洗浄した。ここで用いた洗浄工
程を表2に示す。なお、表2中の工程NO.は図1の工
程に対応する。洗浄工程においては、1000mlビー
カーに1000mlの洗浄液を入れ、そこに被洗浄物を
浸漬して洗浄した。また、超音波の周波数は47kH
z、出力は120Wである。
の半田フラックス除去性をテストピースに残存するイオ
ン量とロジンなどの樹脂分によって評価した。イオン量
の測定に用いた装置は、オメガメータ(アルファメタル
ズ株式会社製モデル600SC)である。また、プリン
ト基板に残存する樹脂分は、実体顕微鏡を用いて目視で
評価した。結果を表3に示す。
in2未満 △:10μg・NaCl/in2以上14μg・NaCl
/in2未満 ×:14μg・NaCl/in2以上 目視結果 ○:残存フラックスなし △:残存フラックスやや有り ×:残存フラックス多量有り
の洗浄方法によるホットメルト接着剤除去性を評価する
ビデオヘッドなどに用いられるフェライト製磁気ヘッド
(大きさ20×5mm、厚さ1mm)10個をホットメ
ルト接着剤(宗電子工業株式会社製 商品名エレクトロ
ンワックス)を用いてステンレス鋼製治具(大きさ15
0×30mm、厚さ2mm)1枚に接着した。これらの
ステンレス鋼製治具を、1000mlビーカーに入れた
表1に示す液1000mlに浸漬し、超音波を照射(4
7kHz、120W)しながら磁気ヘッドが治具からす
べて剥離するまでの時間を測定した。なお、浸漬時の液
温は40℃とした。結果を表4に示す。
本発明の洗浄方法に用いられる洗浄液は、半田フラック
ス除去性およびホットメルト接着剤除去性に優れたもの
である。一方、比較例における洗浄液は、グリコールエ
ーテル系化合物とノルマルデカンのどちらか一方のみの
組成であるため、半田フラックス除去性、およびホット
メルト接着剤除去性に劣る。
基板に対する揮発性について評価する。洗浄液には、D
PGDM50重量%とノルマルデカン50重量%の混合
物を用いた。コンデンサおよび固定抵抗器を装着し、ロ
ジン系半田フラックス(半田フラックス:AGF−20
0−J3、アサヒ化学株式会社製)を用いて、半田フラ
ックス処理を行い、半田付け処理を施したプリント基板
(基板表面積5cm2)をテストピースとした。前記に
示した洗浄液によりテストピースを洗浄した。ここに用
いた洗浄工程を表5に示す。なお、表5中の工程NO.
は図1の工程に対応する。また、洗浄工程は1000m
lビーカーに1000mlの洗浄液を入れ、被洗浄物を
浸漬して行った。また、超音波の周波数は47kHz、
出力は120Wである。
板を洗浄液から取り出し、60℃の雰囲気に保った乾燥
槽にプリント基板を放置し、プリント基板から洗浄液が
残存しなくなるまでの時間を測定した。乾燥槽放置後の
プリント基板に洗浄液が残存するか否かは、赤外分光分
析により洗浄液特有の波長の赤外ピークの有無によって
確認した。その結果、乾燥槽放置時間30秒で液の残存
は全く見られず、液は十分に揮発し乾燥されていること
が確認された。したがって、本発明の洗浄方法に用いら
れる洗浄液は、洗浄後の揮発性に優れたものである。
浄液による手拭き洗浄の方法について説明する。ウェス
にDPGDM30重量%とノルマルデカン70重量%の
混合物からなる洗浄液を滲み込ませた。治具などに用い
られるステンレス鋼製テストピース(大きさ150×3
0mm、厚さ2mm)に指紋を付着させ、これを前記ウ
ェスによって拭き取ると、完全に指紋は消えた。また、
拭き取り後に常温で放置したところ、1分以内にテスト
ピースから洗浄液は揮発し、洗浄液の残存は見られなか
った。
について評価する。洗浄液にはDPGDM60重量%と
ノルマルデカン40重量%の混合物からなる液を用い
た。この液90重量部に対し、ホットメルト接着剤10
重量部(日化精工株式会社製 商品名アドフィックス)
を溶解させた。こうしてホットメルト接着剤を溶解した
洗浄液16Lを20mmHg条件下で60℃に加温し、
60分間蒸留した。蒸留により得られた液を紫外分光光
度法を用いて分析したところ、ホットメルト接着剤の混
入は認められなかった。また、ガスクロマトグラフ法に
より前記の蒸留液を分析したところ、初期配合状態と同
じ洗浄液であることが確認された。次に、蒸留によって
得られた液を用いて、実施例5〜8と同様にフェライト
ヘッドの洗浄実験を行ったところ、5分以内に全てのフ
ェライトヘッドが治具から剥離し、初期配合状態の洗浄
液と同等のホットメルト接着剤除去性が得られた。
およびホットメルト接着剤の洗浄性に優れ、しかも揮発
性に優れる洗浄液を用いるので、被洗浄物から容易に半
田フラックスおよびホットメルト接着剤を除去すること
ができる。また、洗浄液は蒸留により再生できるので、
産業廃棄物を著しく低減し、洗浄にかかるコストを大幅
に低減することができる。
る。
Claims (3)
- 【請求項1】 半田フラックスおよびホットメルト接着
剤よりなる群から選ばれる除去対象物を被洗浄物から除
去するための洗浄方法であって、ジエチレングリコール
ジメチルエーテルおよびジプロピレングリコールジメチ
ルエーテルよりなる群から選ばれる少なくとも一種のグ
リコールエーテル系化合物とノルマルデカンの混合物か
らなる洗浄液を用いて被洗浄物を洗浄することを特徴と
する洗浄方法。 - 【請求項2】 さらに、被洗浄物に付着した洗浄液を温
風乾燥または減圧乾燥によって除去する工程を有する請
求項1記載の洗浄方法。 - 【請求項3】 洗浄後の除去対象物を溶解している洗浄
液を蒸留によって前記除去対象物から分離する工程およ
び分離された洗浄液を再使用して被洗浄物を洗浄する工
程を有する請求項1記載の洗浄方法。
Priority Applications (4)
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CN96102422A CN1098373C (zh) | 1995-02-17 | 1996-02-15 | 零件的洗净方法 |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
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---|---|---|---|---|
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-
1995
- 1995-08-18 JP JP21080595A patent/JP2813321B2/ja not_active Expired - Fee Related
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