KR100196953B1 - 부품의 세정방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 납땜 용제 및 고온 용융 접착제로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 제거 대상물을 피세정물로부터 제거하기 위한 세정방법을 제공하는 것을 목적으로 하며, 이 세정방법은, 소정의 글리콜 에테르 성분 및 소정의 파라핀계 탄화수소 성분으로 이루어진 세정액을 사용하여 상기 피세정물을 세정하는 공정을 포함하는 것을 구성으로 한다.

Description

부품의 세정 방법

본 발명은 각종 기기 및 부품에 부착되어 있는 납땜 융제 및 연마 연삭 가공 등에 있어서 사용되는 고온 용융 접착제를 세정 제거하는 세정 방법에 관한 것이다. 납땜을 행한 각종 기기 및 부품(예를 들면 프린트 기판)에는 납땜용 융제(납땜 융제)가 부착되어 있다. 이 부착된 납땜 융제 납땜후에 제거하지 않으면 안된다. 또한, 각종 부품에 연마 가공 또는 연삭 가공을 할 때에는 부품을 접착제에 의해서 치구에 고정하고 가공후에 접착제를 제거함으로써 부품을 치구로부터 분리시키는 방법이 행해지고 있다. 부품의 고정에 사용되는 접착제로서는 로진에스테르 수지 또는 페르펜페놀수지 등을 주성분으로 하는 연화점이 약 70℃인 고온 용융 접착제가 일반적이다.

종래에는, 상기한 바와 같이 납땜후의 융제 및 연마·연삭 가공후의 고온 용융 접착제를 제거하는데 통상 프레온이라고 알려져 있는 염소화불소화 탄화수소, 1,1,1-트리클로로에탄, 트리클로로에틸렌 및 디클로로메탄과 같은 염소계 용제가 주로 이용되어 왔다.

그러나, 상기와 같은 염소계 용제는 오존층 파괴, 지하수 오염 등의 환경 문제를 일으키는 것이 명백하게 되었다. 그러므로, 최근에는 이러한 염소계 용제의 사용을 줄이는 경향이다. 따라서, 이러한 염소계 용제를 대체할 수 있는 세정제에 대한 요구가 높아지고 있다. 이러한 대체 세정 액으로서 알콜계 , 탄화수소계 , 글리콜에 테르계 , 계면활성제계 등의 많은 세정제가 개발되어 있다.

그러나, 상기와 같은 대체 세정제는 납땜 융제 및/또는 고온 용융 접착제의 세정에 있어서 세정 능력 이 불충분하다. 그러므로 이러한 대체 세정제를 납땜 융제 및/또는 고온 용융 접착제의 세정제로서 이용하는 것은 곤란하다. 또한, 이들 대체 세정제는 염소계 용제와 달리 휘발성이 그다지 높지 않으므로, 세정후에 피세정물에 부착되어 있는 세정제를 간편하게 제거하기 곤란하다고 하는 과제를 지닌다. 또한, 이러한 대체 세정제의 대부분은 세정 처리후의 폐액 처리시에 산업 폐기물로서의 처리를 필요로 한다. 그 결과, 새로운 환경 문제가 발생하고, 게다가, 염소계 용제와 비교하여 세정에 드는 비용이 커지는 등의 과제를 지니고 있다. 종래의 대체 세정제 중에서, 알콜계 및 탄화수소계 세정제는 증류 재생을 행할 수 있으므로, 비교적 간편하게 산업 폐기물의 발생을 억제할 수 있다. 그러나, 이러한 세정제는 납점 융제 및 고온 용융 접착제에 대한 세정성이 불충분하다고 하는 과제를 지니고 있다.

염소계 용제의 대체물로서 글리콜에테르계 화합물과 탄화수소를 포함하는 세정제를 사용하는 것이 종래에 알려져 있었다. 예를 들면 일본국 공개특허공보 제(평 )3-146597호에는 탄소수 8 내지 12의 지방족 탄화수소와 극성 기를 가지는 유기 화합물을 포함하는 세정용 조성물이 기재되어 있다. 일본국 공개특허공보 제(평)4-341592호 및 일본국 공개특허공보 제(평)5-148499호에는 글리콜에테르계 화합물과 탄화수소를 포함하는 세정제가 기재되어 있으나, 이들 세정제에는 필수 성분으로서 계면활성제 및 물이 소정량 포함되어 있다. 일본국 공개특허공보 제(평)5-239495호에는 소정의 비점의 탄화수소와 소정의 글리콜에테르계 화합물을 포함하는 페이스트용 세정제가 기재되어 있다 일본국 공개특허공보 제(평)5-306482호에는 탄소수 10 내지 18의 탄화수소와 폴리알킬렌글콜이 C1내지 C3 알킬에테르 및 C4 및 C8 알킬에테르의 조합을 포함하는. 세정제 조성물이 기재되어 있다. 일본국 공개특허공보 제(평 )6-49493호에는 탄소수 4 내지 7의 지방족글리콜 모노저 급알킬에테르와 탄소수 6 내지 12와 탄화수소를 포함하는 세정제 조성물이 기재되어 있다. 그러나, 이 러한 세정제를 특히 고온 용융 접착제에 대하여 사용하는 것에 대해서는 상기 공보에 개시도 시사도 되어 있지 않다. 또한 상기 공보 모두는 이들 세정제를 증류 재생에 의해서 회수 및 재사용하는 것을 개시도 시사도하고 있지 않다.

본 발명의 제1세정 방법은 납땜 융제 및 고온 용융 접착제로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 제거 대상물을 피세정물로부터 제거하기 위한 세정 방법으로서, 실질적으로 글리콜에테르 성분(A) 및 파라핀계 탄화수소 성분(B)로 이루어 진 세정 액을 사용하여 상기 피세정물을 세정 하는 공정을 포함하며, 여기에서 상기 성분(A)는 일반식(I)및 (II)의 수용성 글리콜에테르계 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 글리콜에테르계 화합물이며, 상기 성분(B)은 탄소수 10 내지 13의 n-파라핀계 탄화수소 및 이소파라핀계 탄화수소로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 파라핀계 탄화수소이다.

상기식에서,

R¹및 R²는 각각 독립적으로 메틸기 또는 에틸기이고 R³및 R⁴는 메틸기이다.

바람직한 실시양태에 있어서, 상기 성분(A)과 상기 성분(B)와의 혼합비율은 중량비로 A:B=50:50 내지 90:10이다.

다른 바람직한 실시양태에 있어서, 상기 성분(A)은 디에틸렌글리콜 디메틸에테르 디에틸 렌글리콜에 틸메틸에테르 및 디에틸렌글리콜 디에틸에테르로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 글리콜에테르계 화합물이며. 그리고 상기 성분(B)는 n-운데칸, n-도데칸 및 이소도데칸으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 파라핀계 탄화수소이다.

또다른 바람직한 실시 양태에 있어서 상기 성분(A)은 디에틸렌글리콜 디메틸에테르 및 디프로필렌글리콜 디메틸에테르로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 글리콜에테르계 화합물이 며, 상기 성분(B)은 n-데칸이다.

다른 바람직한 실시 양태에 있어서, 본 발명의 제1방법은 피세정물에 부착되어 있는 세정액을 물로서 제거하는 공정을 또한 포함한다.

또다른 바람직한 실시 양태에 있어서, 본 발명의 제1방법은 피세정물에 부착된 세정액을 건조때 의해 제거하는 방법을 또한 포함한다.

또다른 바람직한 실시 양태에 있어서, 본 발명의 제1방법은 제거 대상물을 용해하고 있는 세정후의 세정액으로부터 증류에 의해서 세정액을 회수하는 공정 및 회수된 세정액을 재사용하여 피 세정물을 세정하는 공정을 또한 포함한다.

바람직한 실시 양태에 있어서, 제거 대상물은 고온 용융 접착제이다.

본 발명의 제2세정 방법은 납땜 융제 및 고온 용융 접착제로 이루어진 그룹으로부터 선택 되는 제거 대상물을 피세정물로부터 제거하기 위한 세정 방법으로서, 실질적으로 글리콜에테르 성분(A) 및 파라핀계 탄화수소 성분(B)로 이루어지며, 760mmHg에서 상기 성분(A)의 평균 비점과 상기 성분(B)의 평균 비점의 차가 10℃ 이내인 세정액을 사용하여 상기 피 세정물을 세정하는 공정 및 상기 제거 대상물을 용해하고 있는 세정후의 세정액으로부터 증류에 의해서 세정액을 회수하는 공정을 포함하며, 여기에서 상기 성분(A)은 일반식(III) 및 (IV)의 수용성 글리콜에테르계 화합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 글리 콜에 테르계 화합물이며, 상기 성분(B)는 탄소수 10 내지 13의 n-파라핀계 탄화수소 및 이소파라핀계 탄화수소로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 파라핀계 탄화수소이다.

상기식에서, R⁵은 탄소수 1내 지 4의 지방족기 이고, R⁶은 수소 이고, R⁷은 메틸기 또는 에틸기이고, R⁸은 수소이다.

바람직한 실시 양태에 있어서, 상기 성분(A)과 상기 성분(B)의 혼합 비율은 중량비로 A:B=50:50 내 지 90:10이다.

다른 바람직한 실시 양태에 있어서, 상기 성분(A)은 디에틸렌글리콜, 모노에틸에테르, 디에 틸렌글리콜 모노이소프로필에테르, 디에틸렌글리콜 모노프로필에테르, 디에틸렌글리콜 모노이소부틸에테르 및 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 글리콜에테르계 화합물이며, 그리고 상기 성분(B)은 n-도데칸, n-트리데칸 및 이소트리데칸으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 파라핀계 탄화수소이다.

또다른 바람직한 실시 양태에 있어서, 본 발명의 제2방법은 피세정물에 부착되어 있는 상기 세정액을 물로서 제거하는 공정을 또한 포함한다.

또다른 바람직한 실시 양태에 있어서, 본 발명의 제2방법은 증류에 의해 회수된 세정 액을 재사용하여 피세정물을 세정 하는 공정을 또한 포함한다.

따라서, 본 발명은 이하의 이점을 제공할 수 있다.

(1) 납땜 융제 및/또는 고온 용융 접착제에 대한 세정성이 높은 세정 방법을 제공하고, (2) 납땜 융제 및/또는 고온 용융 접착제를 용해하고 있는 세정후의 세정액으로부터 증류에 의해서 세정액을 회수하는 재이용이 가능한 세정 방법을 제공하고, (3) 피세정물에 부착된 세정 액을 물로서 용이하게 제거할 수 있는 세정 방법을 제공하고, (4) 피세정물에 부착된 세정액을 건조에 의해서 용이하게 제거하는 것이 가능한 세정 방법을 제공한다.

본 발명의 이러한 이점 및 다른 이점은 이하의 상세한 설명에 따라 당업자에게 분명하게 된다.

본 발명의 세정 방법은 납땜 융제 및 고온 용융 접착제로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 제거 대상물을 피세정물로부터 제거하기 위한 세정방법으로서, 소정의 글리콜 에테르 성분(A) 및 소정의 파라핀계 탄화수소 성분(B)으로 이루어진 세정액을 사용하여 피세정물을 세정하는 공정을 포함한다. 이하 이 공정을 세정 공정이라 한다. 실질적으로 성분(A) 및 성분(B)로부터 이루어진다는 것은 이 세정액이 성분(A) 및 성분(B) 이외에, 이 세정액의 성질에 영향을 주지 않는 성질 및 양의 불순물을 포함할 수 있다는 것을 의미한다.

본 발명의 세정 방법은 프린트 기판 등에 사용되는 납땜 융제의 제거에 이용되는 것이 가능하다. 또는 본 발명의 세정 방법은, 예를 들면, 자기 기록기기 등에 사용되는 페라이트제 헤드의 연마 공정 또는 초음파 지연 소자 등에 이용되는 유리 블록의 연삭 공정에 있어서, 치구와 연마·연삭 되는부품을 고정하기 위해서 사용되는 고온 용융 접착제의 제거에 사용하는 것이 가능하다. 그러나. 본 발명의 세정 방법의 사용 목적은 상기의 경우에 한정되지 않고, 납땜 융제 및/또는 고온 용융 접착제의 제거를 필요로 하는 임의의 목적에 사용된다.

본 발명의 세정 방법에 의해서 제거되는 납땜 융제 성분은 일반적으로 로진 수지 및 활성제로 이루어지고, 활성제의 종류로서는 할로겐화 수소산염 및 디카본산 등의 유기산을 들 수 있다. 본 발명의 세정 방법에 의해서 제거되는 용융 접착제로서는 주성분이 로진 수지, 테르펜 수지, 테르펜페놀 수지 , 폴리에스테르계 수지 , 파라핀 등을 들 수 있다.

상기 세정 공정은 제거 대상물이 부착된 피세정물을 소정의 세정액에 침지하고, 필요에 따라서 초음파를 조사하거나, 혹은 요동시킴으로써 행해진다. 통상, 이 세정 공정은 상온 내지 801℃, 바람직하게는 40 내지 601℃에서 행해진다. 세정 공정은 1회, 또는 세정액을 바꿔서, 수회 반복하여 행하는것도 가능하다 또는, 세정 공정은 세정액으로 적신 직물등으로서 피세정물을 닦는 것도 가능하다.

세정 공정후, 필요한 경우, 세정액이 부착된 피 세정물을 물로 세척하여 남은 세정액을 제거할 수 있다. 이 공정을 이하 헹굼 공정이라고도 한다. 헹굼 공정은 세정액이 부착된 피세정물을 물에 침지시켜 수행한다. 이 헹굼 공정도 세정 공정와 마찬가지로 수회 반복하여 행할 수 있다.

상기 세정 공정후 노는 상기 헹굼 공정후, 피세 정물에 부착되어 있는 물 혹은 세정액을 건조 제거 할 수 있다. 이 공정을 이하 건조 공정이라고도 한다. 제거 건조는 풍건, 온풍 건조, 및 감압 건조 등의 임의의 수단으로 행할 수 있다 본 발명의 방법에 의하면, 세정물에 따라서는, 헹굼 공정을 행하지 않고, 세정 공정 종료후 건조 공정만을 행하는 것도 가능하다.

본 발명에 의하면, 제거 대상물을 용해하고 있는 세정 공정후의 세정액을 증류에 의해서 용이하게 제거 대상물과 분리하고, 재생 회수할 수 있다. 증류에 의해서 얻어지는 액은 세정 공정에 사용하기 전의 세정액과 동등하고, 다시 세정 공정에 사용하는 것이 가능하다 여기에서 사용전의 세정액과 동등이라는 것은 성분(A)과 성분(B)의 혼합 비율이 실질적으로 변화하지 않고(변화가 5중량% 이하, 바람직하게는 2중량% 이 하), 제거 대상물의 혼입이 실질적으로 인지되지 않는(혼입 5중량%, 이하, 바람직 하게는 2중량% 이하 )것 을 의미한다.

또한, 본 발명에 의하면, 세정액을 용해하고 있는 헹굼 공정후의 물을 증류에 의해 용이 하게 세정액과 분리하고, 재생 회수할 수 있다. 증류에 의해 얻어지는 액은 실질상 세정액을 용해하고 있지 않은 물이며 (혼입 5중량%이하, 바람직하게는 2중량%, 이하), 재차 헹굼 공정에 사용하는 것이 가능하다. 또한 증류후의 잔사는 세정백과 동등하며, 재차 세정 공정에 사용하는것이 가능하다.

이하 본 발명의 바람직한 실시 양태에 대해 설명한다.

(1) 본 발명의 제1세정 방법에 있어서 이용되는 글리콜에테르 성분 (A)는 일반식(I) 및 (II)의 수용성 글리콜 에테르계 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상이다.

[화학식 1]

[화학식 2]

상기식에서, R¹및 R²는 각각 독립적으로 메틸기 또는 에틸기 이고, R³및 R⁴는 메틸기이다.

상기식에서 나타내듯이, 일반식 (1)의 화합물은 옥시에틸렌 부가 몰수가 2인 디에틸 렌글리콜 디알킬에테르이며, R¹및 R²로 표시되는 알킬기는 탄소수 1또는 2의 알킬기 (즉 메틸기 또는 에틸기 )이다. 일반식 (1)의 수용성 글리콜에테르계 화합물로서는 디에틸렌글리콜 디메틸에 테르, 디 에틸렌글리콜 에틸메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르를 들 수 있다. 일반식(I)에 있어서 R¹또는 R²탄소수 3 이상의 알킬기인 글리콜 에테르계 화합물을 이용한 경우 얻어지는 세정액은 제거 대상물의 용해성 및 물에 의한 헹굼성이 떨어진다. 옥시에틸렌 부가 몰수가 1인 경우(즉 에틸렌글리콜 디알킬에테르의 경우), 인화점이 세정 온도에 가깝게 되기 때문에, 안전성이 떨어진다. 옥시에틸렌 부가 몰수가 3 이상인 경우 , 제거 대상물의 용해성이 떨어진다. 옥시에틸렌 부가 몰수가 1인 경우(즉 에틸렌글리콜 디알킬에테르의 경우), 인화점이 세정 온도에 가깝게 되기 때문에, 안전성이 떨어진다. 옥시에틸렌 부가 몰수가 3 이상인 경우, 제거 대상물의 용해성이 떨어진다. R¹또는 R²가 수소원자인 화합물, 즉 디알킬렌글리콜 모노알킬에테르도 후술하는 바와 같이 본 발명의 세정 방법에 이용할 수 있으나, 특히 고온 용융접착제를 제거하기 위해서는 디알킬에테르가 보다 바람직하다.

일반식(II)의 화합물은 디프로필렌글리콜 디메틸에테르이며, 일반식중R³및 R⁴로 표시 되는 알킬기는 탄소수 1의 알킬기(즉 메틸기 )이다. 일반식(II)에 있어서 R³또는 R⁴가 탄소수 2이상의 알킬기인 글리콜 에테르계 화합물은 수용성이 아니므로, 얻어지는 세정액의 물에 의한 헹굼성 이 극단으로 떨어진다. 옥시프로필렌 부가 몰수가 1인 경우, 인화성이 세정 온도에 가깝게 되기 때문에, 안전성이 떨어진다. 옥시프로필렌 부가 몰수가 3 이상인 경우, 제거 대상물의 용해성이 떨어 진다. R³또는 R⁴가 수소원자인 화합물, 즉 디알킬렌글리콜 모노알킬레테르도, 후술과 같이 본 발명의 세정 방법에 이용할 수가 있으나, 특히 고온 용융 접착제를 제거하기 위해서는 디알킬에테르가 보다 바람직하다.

본 발명의 제1세정 방법에 있어서 이용되는 파라핀계 탄화수소(B)는 탄소수 10 내지 13의 n-파라핀계 탄화수소 또는 이소파라핀계 탄화수소로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상이다. 본 발명에 사용되는 탄화수소로서, n-데칸, 이소데칸, n-운데칸, 이소운데칸, n-도데칸, 이소도데칸, n-트리데칸, 이소트리데칸을 들 수 있다. 탄소수 10 미만의 파라핀계 탄화수소는 인화점이 세정 온도 이하가 되기 때문에, 안전성을 고려하면 대량으로 사용하는 것은 바람직하지 않다. 탄소수가 14 이상의 파라핀계 탄화수소는 제거 대상물의 용해성이 떨어진다.

성분(A)와 성분(B)는 임의의 혼합 비율로 이용할 수 있으나, 성분(A)또는 성분(B)의 어느 하나만으로 이루어진 세정액을 이용하면, 제거 대상물의 세정성이 떨어진다. 제거 대상물의 세정성 및 물에 의한 세척성의 양쪽 성능이 우수한 세정액을 얻기 위해서 성분(A)와 성분(B)는 바람직하게는 중량비로, A:B=30,70 내지 90:10, 보다 바람직 하게는 A:B=50:50 내지 90:10, 더욱 바람직하게는, A:B=50:,50 내 지 70:30으로 이용된다. 일반적으로, 성분(A)가 너무 많으면 제거 대상물의 용해성이 저하되고 성분(B)가 너무 많으면 물에 의한 세척성이 저하되는 경향이 있다.

성분(A)가 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 에틸메틸에테르 및 디에틸렌글리 콜 디애틸레테르로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 글리콜에테르계 화합물이며 성분(B)가 n-운데칸, n-도데칸 및 이소도데칸으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 파라핀계 탄화수소인 세정 액은, 특히 피제거물의 용해성이 높기 때문에 바람직하다. 이 경우, 성분(A)와 성분(B)의 바람직한 혼합 비율은 A:B=50:50 내지 90:10이다.

성분(A)가 디에틸렌글리콜 디메틸에테르 및 디프로필렌글리콜 디메틸에테르로 이루어진 그룹으로부터 선택되 는 1종 이상의 글리콜에테르계 화합물이며 성분(B)가 n-데칸인 세정액은 특히 세정성 및 휘발성 에 우수하기 때문에 바람직하다. 이 경우, 성분(A)와 성분(B)의 바람직한 혼합 비율은 A:B=30:70 내 지 90: 10이다 이 세정액을 이용하면, 세정 공정 후, 물에 의한 헹굼 공정을 행하지 않고, 직접 건조 공정을 행할 수 있다. 또한 이 세정액은 프레스, 절삭 가공 등에 이용되는 가공유와 각종 기기, 부품에 부착해 있는 지문 등의 제거도 가능하며, 휘발성이 높기 때문에, 수건용 세정액으로 이용할 수도 있다. 또한, 이 세정액은 세정성이 높기 때문에, 이 세정액을 이용해 납땜 융제를 제거 하면, 세정후의 피세 정물에 잔류하는 이온양을 매우 적게할 수 있다. 예를 들면 프린트 기판의 경우 이온이 잔류하면 절연 신뢰성에 악영향을 주므로, 이 세정액은 특히 프린트 기판 등을 세정 하는데 적당하다.

본 발명의 제1세정 방법에 있어서 성분(A)로서 디알킬에테르를 선택하면, 특히 고온 용융 접착제에 대한 용해성이 우수한 세정제가 얻어진다. 따라서, 본 발명의 제1세정 방법은 납땜 융제 또는 고온 용융 접착제를 제거하기 위해 이용되지만, 특히 고온 용융 접착제를 제거하는데 적당하다.

상술과 같이, 본 발명에 의하면 세정 공정으로 사용후의 세정액으로부터, 제거 대상물을 포함하지 않은 세정액을 증류에 의해 분리할 수 있다. 본 발명의 제1세정 방법에 있어서, 세정 액의 분리에 필요한 온도는, 세정 액의 종류에 따라 다르나. 상압인 경우, 1601℃ 내지 2501℃ 정도이며 , 감압하에서 더욱 낮은 온도로 분리할 수 있다. 예를 들면 , 20mmHg의 압력하에서는, 증류 온도는 601℃ 내지 110℃ 정도이다. 또한 헹굼 공정으로 사용후의 물을 증류에 따라 세정액과 분리 하는 경우, 물의 분리에 필요한 온도는, 상압에서는 물의 비점인 100℃ 정도이며, 감압하에서는 더욱 낮은 온도로 증류가 가능해진다. 예를 들면 20mmHg의 압력하에서는 증류에 필요한 온도는 35℃ 정도로 된다.

상기와 같이 세정액과 제거 대상물을 분리 하기도 하고, 물을 세정액으로부터 분리하기 위해 이용되는 감압 증류 장치는 방폭 사용으로, 50℃ 이상, 바람직하게는 100℃ 이상의 가온 능력을 갖고, 공급 밸브, 탱크, 증발 캔, 감압기 및 냉각 콘덴서 부로 구성된 배치 모양의 것, 또는 세정 라인 및 서비스 탱크와 연결된 것이 바람직하다.

(2) 발명의 제2세정 방법에 있어서 이용되는 글리콜 에테르 성분(A)는 일반식(III) 및 (IV)의 수용성 글리콜에테르계 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상이다.

[화학식 3]

[화학식 4]

상기식에서, R⁵는 탄소수 1내지 4의 지방족기이고, R⁶은 수소이고, R⁷은 메틸기 또는 에틸기이고, R⁸은 수소이다.

상기식에서 나타나듯이, 일반식(III)의 화합물은 옥시에틸렌 부가 몰수가 2인 디에틸렌글리 콜 모노지방족 에테르이다. 일반식 (III)중, R⁵로 표시 되는 지방족기는 바람직 하게는 탄소수 1내지 4의 알킬기이며, 예를 들면, 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸이다. 따라서, 바람직하게는 일반식(111)의 화합물은 디에틸렌글리콜 모노알킬에테르이다. 일반식(III)에 있어서 R⁵가 탄소수 5 이상의 지방족기인 경우, 얻어지는 세정액은 제거 대상물의 용해성 및 물에 의한 세척성이 떨어진다. 옥시에틸렌 부가 몰수가 1인 경우(즉 에틸렌글리콜 모노지방족에테르의 경우), 인화점이 세정 온도에 가깝게 되기 때문에, 안전성이 떨어진다. 옥시에틸렌 부가 몰수가 3 이상인 경 우, 제거 대상물의 용해성 이 떨어 진다.

일반식 (IV)의 화합물은 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르 또는 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르이며, 일반식중 R⁷로 표시되는 알킬기는 탄소수 1또는 2의 알킬기(즉 메틸기 또는 에틸기)이다. 일반식(IV)에 있어서 R⁷이 탄소수 3 이상의 화합물인 경우, 수용성이 떨어지기 때문에 얻어 지는 세정액의 물에 의한 헹굼성이 떨어지고, 제거 대상물의 용해성이 떨어진다. 옥시프로필렌부가 몰수가 1인 경우, 인화점이 세정 온도에 가깝게 되므로, 안전성이 떨어 진다 옥시프로필렌부가 몰수가 3 이상인 경우, 제거 대상물의 용해성이 떨어진다.

본 발명의 제2세정 방법에 있어서, 이용되는 파라핀계 탄화수소(B)는 탄소수 10내지 13의 n-파라핀계 탄화수소 및 이소파라핀계 탄화수소로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상이다. 본 발명에 사용되는 탄화수소로서는 n-데칸, 이소데칸, n-운데칸, 이소운데칸, n-도데칸, 이소도데칸, n-트리데칸, 이소트리데칸을 들 수 있다. 탄소수 10 미만의 파라핀계 탄화수소는 인화점 이 세정 온도 이하가 되기 때문에, 안전성이 떨어 진다. 탄소수가 14 이상의 파라핀계 탄화수소는 제거 대상물의 용해성 떨어진다.

본 발명에 제2세정 방법에 있어서는 글리콜에테르 성분(A)의 760mmHg에서 평균 비점과 파라핀계 탄화수소 성분(B)의 평균 비점의 차는 101℃ 이내이다. 평균 비점이란 각 성분의 실질적 비점으로, 예를 들면, 가스크로마그래프 법으로 승온하면서 각 성분의 측정을 행한 경우, 최대 피크를 나타낼 때의 온도를 나타낸다. 평균비점 차가 760mmHg에 있어서 10℃를 넘으면, 세정 공정 후에 증류에 의해 회수한 세정액에서 성분 A와 성분 B의 혼합 비율이 초기 혼합 비율과 어긋날 가능성이 있기 때문에 바람직 하지 않다. 탄소수가 14 이상인 파라핀계 탄화수소는 상기와 같이 제거 대상물의 용해성이 떨어지며, 글리콜 에테르계 성분(A)와의 평균 비점 차가 10℃를 넘으므로 바람 직하지 않다.

성분(A)와 성분(B)는 임의의 혼합 비율로 이용할 수 있으나, 성분(A) 또는 성분(B) 어느 하나만으로 이루어진 세정액을 이용하면 제거 대상물의 세정성이 떨어진다. 제거 대상물의 세정성 및 물에 의한 헹굼성 의 성능 모두에서 우수한 세정액을 얻기 위해서는 성분(A)와 성분(B)는 바람직하게는 중량비로 A:B=50:50 내지 90:10이다. 혼합 비율이 A:B=50:50 내지 70:30이면, 제거 대상물의 용해성 및 물에 의한 헹굼성이 더욱 좋아지므로, 보다 바람직하다. 일반적으로, 성분(A)가 너무 많으면 제거 대상물의 용해성이 저하되고, 성분(B)가 너무 많으면 물에 의한 헹굼성이 저하되는 경향이 있다.

본 발명의 제2세정 방법으로 얻어지는 세정액의 성분 조합예를 이하에 나타낸다 각 성분(B)에 대해서, 평균 비점의 차가 10℃ 이내인 성분(A)의 예를 기재하였다. 각 화합물명 뒤에 평균 비점을 기재하였다.

[예 1]

성분 B : n-운데칸(1921℃ )

성분 A : 디 에틸렌글리콜모노메틸에테르(194℃ ), 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르(202℃ ), 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르(188C), 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르(202℃).

[예 2]

성분 B : 이 소도데칸(197℃)

성분 A : 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르(194℃),

디에틸렌글리콜 모노에틸에테르(202℃), 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르(202℃ ).

[예 3]

성분 B : n-도데칸(210C )

성분 A : 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르(202℃),디에틸렌글리콜 모노이 소프로필에테르(207℃ ), 디에틸렌글리콜 모노프로필에테르(216℃ ), 디프로필렌글리콜 모노이소부틸 에테르(220℃), 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르 (202℃ ).

[예 4]

성분 B : n-트리 데칸(227℃ )

성분 A : 디에틸렌글리콜 모노이소부틸에 테르(220℃ ), 디에틸렌글리콜모노부틸에테르(231℃ ).

본 발명의 제2세정 방법에 있어서, 바람직 한 성분(A)와 성분(B)와의 조합은. 성분(A)가, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노이소프로필에테르, 디에틸렌글리콜 모노프로필에테르, 디에틸렌글리콜 모노이소부틸에테르 및 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 글리콜에테르이며, 성분(B)가 n-도데칸, n-트리 데칸 및 이소트리 데칸으로 이루어지는 그룹에서 선택되는 1종 이상의 파라핀계 탄화수소의 조합이다. 더욱 바람직한 조합은 상기 예 3에 표시된 조합, 즉 성분(A)가 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노이소프로필에테르, 디에틸렌글리콜 모노프로필에테르, 디에틸렌글리콜 모노이소부틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노에틸에 테르로 이루어지는 그룹에서 선택되는 1종 이상의 글리콜에테르이고, 성분(B)가 n-도데칸인 것의 조합이다. 이러한 조합의 경우, 제거 대상물인 납땜 융제 및 고온 용융 접착제의 용해성이 높고 인화점 이 701℃ 이상이므로 세정시의 안정성이 뛰어나다.

상술한 바와 같이 본 발명에 의하면 세정 공정후의 세정액에서 증류에 의해 제거 대상물을 포함하지 않은 세정액을 분류할 수 있다. 본 발명의 제2세정 방법 에 있어서, 세정액의 분리에 필요한 온도는 세정액의 종류에 따라 다르지만, 예를 들면, 디에틸렌글리콜모노이소부틸에테르와 n-트리 데칸과의 혼합물인 경우, 상압의 경우 230℃ 정도이며, 감압하에서는 120℃ 정도로 분리 할 수 있다. 더우기 헹굼후의 물을 증류에 의해 세정액과 분리하는 경우, 본 발명의 제2세정 방법에 있어서 물의 분리에 필요한 온도는 상압에서는 물의 비점인 1001℃ 정도이며, 감압하에서는 더 낮은 온도에서 증류가 가능하다. 예를 들면 20mmHg의 압력하에서는 증류에 필요한 온도는 35℃ 정도가 된다.

상기와 같이 세정 액과 제거 대상물을 분리 하거나 물을 세정액에서 분리하기 위해서 사용되는 감압 증류 장치는 상기한 본 발명의 제1의 세정 공정에서 사용되는 것과 같은 것이 바람직하다.

본 발명 의 제2세정 방법에 있어서는, 특히 성분(A)와 성분(B)의 평균 비점차를 소정값 이내로 함으로써 사용후의 세정 액을 증류하여 회수할 때 회수된 세정제와 초기 세정제의 조성 변화를 최소한으로 한정시킬 수 있다. 따라서 본 발명의 제2세정 방법은 사용후의 세정액을 증류에 의해 회수하는데 특히 적당하다.

[실시예]

이하, 본 발명을 실시예에 기초하여 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시 예로 한정되는 것은 아니다. 이 하의 실시 예 표중, 숫자는 특히 표시가 없는 경우에는 중량부를 나타낸다.

이하의 실시예 1 내지 7 및 비교예 1 및 2는 본 발명의 제1세정 방법의 실시예 및 비교예이다.

[실시예 1 및 비교예 1]

이하 표 1에 나타난 조성의 세정액을 사용하며 이하의 실험 I 내지 III를 수행한다.

표 1중 글리콜에테르계 화합물 A 내지 G 및 탄화수소 a 내지 e는 각각이하의 화합물을 나타낸다.

글리콜 에테르계 화합물:

A : 디에틸렌글리콜 디메틸에테르

B : 디에틸렌글리콜 에틸메틸에테

C : 디에틸렌글리콜 디에틸에테르

D : 디프로필렌글리콜 디메틸에테르

E . 디에틸렌글리콜 디부틸에테르

F : 트리에틸렌글리콜 디에틸에테르

G : 디프로필렌글리콜 에틸메틸에테르

파라핀 계 탄화수소 :

a : n-운데칸

b : 이소도데칸

c : n-도데칸

d : n-트리데칸

e : n-테트라데칸

[실험 I(실시예 1 및 비교예 1)]

비디오 헤드 등에 사용되는 페라이트제 자기 헤드(20×5mm, 두께 1mm)10개를 고온 용융 접착제(주성분 로진 수지, 종전자 공업 주식회사제, 상품명 일렉트론 왁스)를 사용해 스테인레스 스틸제 치구(150×30mm, 두께 2mm)1장에 접착한다. 이것을 표 1에 표시한 각 세정액에 60℃로 침지하고, 초음파(47kHz, 120W)를 조사하고, 자기 헤드가 치구에서 모두 박리되는 시간을 측정한다. 결과를 표 2에 나타낸다. 표중의 결과에 대한 평가 기준을 하기에 표시한다.

평가 기준:

◎ : 박리 시간 3분 미만

● : 박리 시간 3분 이상 5분 미만

△ : 박리 시간 5분 이상 10분 미만

× : 박리 시 간 10분 이상

[실험 II(실시예 1 및 비교예 1)]

초음파 자연. 소자 등에 사용되는 유리 블록(세로 100mm, 가로 20mm,높이 30mm)을 고온 용융 접착제(주성분 폴리에스테르계 수지, 일화정공 주식 회사 제품, 상품명 아도픽스)를 사용하여 스테인레스 스틸제 치구(세로150mm, 가로 100mm, 두께 2mm) 1장에 접착한다 유리를 1mm 두께로 절단하는 연삭 공정 종료후, 표 1에 나타내는 각 세정액에 60℃로 침지하고, 초음파(47kHz, 120W)를 조사하며, 절단된 유리가 치구에서 모두 박리하는 시간을 측정한다. 결과를 표 2에 표시한다. 표중의 결과에 대한 평가 기준을 하기에 표시한다.

평가 기중:

◎ : 박리 시간 5분 미만

○ : 박리 시간 5분 이상 10분 미만

△ : 박리 시간 10분 이상 15분 미만

× : 박리 시간 15분 이상

[실험 III(실시예 1및 비교예 1)]

실험 I에 사용한 것과 같은 페라이트제 자기 헤드 10개 및 스테인레스 스틸제 치구 1장을 표 1에서 나타낸 세정액에 601℃로 3분간 침지하고, 초음파(471KHz, 120W')를 조사하고 페라이트제 자기 헤드와 스테인레스 스틸제 치구를 완전히 박리한다. 그후 페라이트제 자기 헤드와 스테인레스 스틸제 치구를 상온의 이온 교환수에 30초 침지한다. 그후 100℃의 항온조에 이들 페라이트제 자기 헤드 및 스테인레스 스틸제 치구를 넣어 30분간 방치하고, 수분을 완전히 제거한 후에 페라이트제 자기 헤드 및 스테인레스 스틸제 치구에 잔존하는 액을 사염화탄소를 사용하여 추출한다. 이 추출액을 적외선 분광 광도법에 의해 분석하고, 세정백의 잔존 유무를 판정한다. 결과를 표 2에 표시한다 표중의 결과에 대한 평가기준을 이하에 나타낸다.

평가기준:

○ : 세정액이 잔존하지 않고, 헹굼성이 우수하다.

△ : 세정액이 조금 잔존하고, 헹굼성이 다소 떨어진다.

X : 세정액이 많이 잔존하고, 헹굼성이 떨어진다.

이상 실시예 1에서 나타낸 바와 같이.본 발명의 세정 방법에서 사용되는 세정 액은 고온 용융 접착제의 제거성 및 물에 의한 헹굼성이 우수하다.

한편 비교예 1의 세정액은 씨하에 설명하는 바와 같이 고온 용융 접착제의 제거에 부적당하다.

세정액(5) : 탄화수소를 포함하지 않고 수용성 글리콜 에테르만으로 이루어지며 고온 용융 접착제의 제거성이 떨어진다.

세정액(6) : 수용성 글리콜에테르를 포함하지 않고 탄화수소만으로 이루어지며 고온 용융 접착제의 제거성이 떨어짐과 동시에 헹굼성도 우수하지 못하다.

세정액(7) : 일반식 (I)에 있어서 R 또는 R 가 탄소수 3 이상의 글리콜에테르계 화합물을 사용하고 있고, 고온 용융 접 착제의 제거성 및 헹굼성이 우수하지 못하다.

세정액(8) : 일반식 (I)에 있어서 옥시에틸렌의 부가 몰수가 3 이상의 글리콜에테르계 화합물을 사용하고 있고, 고온 용융 접착제의 제거성이 떨어진다.

세정액(9) : 탄소수 14 이상의 탄화수소를 사용하고 있고, 고온 용융 접착제의 제거성이 떨어진다.

세정액(10) : 일반식 (II)에 있어서 R 가 탄소수 2(에틸기)의 글리콜에테르계 화합물을 사용하고 있고, 헹굼성이 떨어진다.

[실시예 2]

디에틸렌글리콜 에틸메틸에테르 60중량%와 n-도데칸 40중량%를 혼합한 세정액 90중량부에 고온 용융 접착제(일화 전공 주시회 사 제품, 상품명 아도픽스) 10중량부를 용해한다. 이 용액 16ℓ를 30mimHg의 감압하에서 110℃로 가온하여 증류한다. 증류는 60분간 수행한다.

증류에서 얻어진 액을 적외선 분광 광도법에 의해 분석한 결과, 고온 용융 접착제의 혼입 은 확인되지 않았다. 또한, 가스 크로마토그래프법에 의해 상기의 증류액을 분석한 바, 초기 배합 상태와 같은 세정액이라는 것이 확인되었다. 이 증류액을 사용하여 실시예 1의 실험 1과 같은 방법으로 페라이트 헤드와 치구의 박리 실험을 행한 바, 3분 이내에 모든 페라이트 헤드가 치구에서 박리되었다. 즉, 초기 배합 상태의 세정제와 동등한 고온 용융접 착제의 제거성을 얻었다.

[실시예 3]

비디오 헤드 등에 사용되는 페라이트에 자기 헤드(20×5mm, 두께 1mm)10개를 고온 용융 접착제(종전자 공업 주식회사제. 상품명 일렉트론 왁스)를 사용해 스테인레스 스틸제 치구(150×30mm, 두께 2mm) 1장에 접착한다. 표 3에 나타낸 공정 에 의해 자기 헤드를 치구에서 박리한다. 사용한 세정액은 디에틸렌글리콜디메틸에테르 70중량%와 이소도데칸 30중량%의 혼합물이다.

표 3중 세정 공정 1및 세정 공정 2는 세정액을 바꾸어 2회 세정한 것을 표시한다. 헹굼 공정 1및 헹굼 공정 2는 각각 수돗물 및 이온 교환수로 헹굼한 것을 표시한다.

표 3에 나타낸 공정에 의해 페라이트 헤드는 치구에서 박리하고 또 고온 용융 접착제도 충분히 제거되었다. 또한 헹굼 공정 1에서 발생하는 세정액과 수돗물이 혼합된 용액에 대해서 20mm1Hg의 감압하에서 35℃로 가온하여 감압 증류를 수행한 결과 얻어진 증류액은 대부분이 물이 며 혼합된 세정 액은 5중량%이하였다. 이 증류액은 헹굼 공정 1에서 재사용하는 것이 가능했다.

증류 잔사는 대부분이 세정액이며, 수분의 혼입은 5중량% 이하였다. 또한 증류 잔사중의 디에틸렌글리콜디메틸에테르와 이소도데칸의 비율은 초기 상태에서 거의 변하지 않았다. 따라서 이 증류 잔사를 세정 액으로 재사용하는 것이 가능했다.

[실시예 4 내지 비교예 2]

아래의 표 4에서 도시하는 조성의 세정액을 이용하여 아래의 실험 I 및 II를 수행한다.

DEGDM : 디에틸렌글리콜 디메틸에테르

DPGDM : 디프로필렌글리콜 디메틸에테르

[실험 I(실시예 4 및 비교예2)]

콘덴서 및 고정 저항기를 장착하고 납땜 처리를 실시한 프린트 기판(기판 표면적 5cm )을 시험 조각으로 한다. 납땜 처리는 로진계 납땜 융제(납땜 융제: AGF-200-J3, 아사히화학 주식회사 제품)를 이용하여 수행한다. 이시험 조작을 표 4에서 도시하는 각 세정제에 의해서 세정한다. 세정은 아래의 표 5에서 도시하는 공정으로 수행한다. 표 5에서, 세정 공정 1및 세정 공정 2는 세정액을 바꾸고 2회 세정한 것을 도시한다. 각 세정 공정은 1000ml 비이커내의 1000m1의 세정액을 넣고 세정액에 시험 조각을 침지하여 수행한다. 세정 공정 1에서 사용한 초음파의 주파수는 47kHz이고 출력은 120W이다.

표 5에서 도시하는 공정에 의해서 세정·건조한후 각 시험 조각에 잔존하는 이온량과 로진 등의 수지분을 측정함에 따라 각 세정액의 납땜 융제 제거성을 평가한다. 이온량의 측정에 이용한 장치는 이온성 잔사물량 측정 장치(오메가메터, 모델 600S, 알파 메탈즈 주식회사 제품)이다. 잔존하는 수지분은 실체 현미경을 이용하여 육안으로 평가한다. 결과를 표 6에서 도시한다. 표중의 결과에 대한 평가 기준을 다음에서 도시한다.

평가기준 :

[실험 II( 실시예 4 및 비교예 2)]

비디오 헤드 등에서 이용되는 페라이트제 자기 헤드(20×5mm, 두께1mm) 10개를 고온용융 접착제(종전자공업 주식회사 제품, 상품명 엘렉트론 왁스)를 이용하여 스테인레스 스틸제 치구(150×30mm, 두께 2mm) 1장에 접착한다. 이 것을 1000ml 비이커에 넣은 표 4의 각 세정 액(1000m1)에 401℃에서 침지하고, 초음파(47KHz, 120W)를 조사하고, 자기 헤드가 치구로부터 모두 박리하는 시간을 측정한다. 결과를 표 6에 나타냈다. 표중의 결과에 대한 평가 기준을 아래에서 도시한다.

평가기준 :

◎ : 박리시간 3분 미만

○ : 박리시간 3분 이상 5분 미만

△ : 박리시간 5분 이상 10분 미만

× : 박리시간 10분 이상

이상, 실시예 4에서 도시하는 바와 같이 본 발명의 세정 방법에 이용되는 세정액은 납땜 융제 제거성 및 고온 용융 접착제 제거성에 우수하다. 다른 한편, 비교예 2의 세정액은 글리콜에틸계 화합물과 탄화수소중 조성이 어느 하나로만 이루어지므로 납땜 융제 제거성 및 고온 용융 접착제 제거성에 떨어진다.

[실시예 5]

콘덴서 및 고정저항기를 장착하고 납땜 처리를 실시한 프린트 기판(기판 표면적 5cm )을 시험 조각으로 한다. 납땜 처리는 로진계 납땜 융제 (납땜 융제 : AGF-200-J3, 아사히 화학 주식회사 제품)를 이용하여 수행한다. 이 시험 조각을 디프로필렌 글리콜 디메틸에테르 50중량%와 n-데칸 50중량%과의 혼.합물을 이용하여 세정한다 세 정은 아래의 표 7에서 도시하는 공정으로 수행한다. 표 7중, 세정공정 1및 세정공정 2는 세정액을 바꾸고 2회 세정한 것을 도시한다. 각 세정 공정은 1000ml 비이커에 1000ml의 세정액 또는 물을 넣고, 그중에 시험 조각을 침지하여 수행한다. 세정공정 1에서 사용한 초음파의 주파수는 47KHz이고, 출력은 120W이다.

표 7에서 도시하는 세정공정 종료후에 시험조각을세정액으로부터 꺼내고 601℃로 유지시킨 건조통에 방치한후 시험조각상에서 세정액이 잔존하지 않을때까지의 시간을 측정한다 시험조각상의 세정액 유무는 적외선 분광분석법에 의해서 세정액으로부터의 특정 파장의 적외선 피크 유무를 관찰함으로써 확인된다. 이 결과, 건조통에서의 방치시간 30초에서 잔존하는 세정액이 없고 세정액이 충분히 휘발되고 건조되었음이 확인되었다.

[실시예 6]

디프로필렌글리콜디메틸에테르 30중량%와 n-데칸 70중량%와의 혼합물로 이루어지는 세정액을 직물에 스며들게 한다. 스테인레스 스틸제 시험조각(150×30mm, 두께 2mm)에 지문을 찍고 이것을 상기의 직물에 의해 지운 결과 지문은 완전히 없어졌다. 또한 지운뒤에 상온에서 시험조각을 방치한바 세정액은 1분이내에 시험조각으로부터 휘발되고 잔존하지 않았다.

[실시예 7]

디프로필렌글리콜 디메틸에테르 60중량%와 n-데칸 40중량%의 혼합물로 이루어지는 세정액 90중량부에 고온 용융 접착제(일화정공 주식회사 제품, 상품명 어드 픽스) 10중량부를 용해한다. 이 용액 16ℓ를 20mmHg의 감압하에서 601℃로 가온하고 60분간 증류한다.

증류액을 자외선분광광도법에 의해 분석한 바, 고온 용융 접착제의 혼입은 확인되지 않았다. 또한 가스 크로마토그래피 법에 의해 상기의 증류액을 분석한바, 초기 배합 상태와 같은 세정액임이 확인되었다. 이어서 증류에서 얻어 진 액을 이용하여 실시예 4의 실험 II와 같은 방법으로 페라이트 헤드와 침구의 박리 실험을 수행한 바, 5분이내에 모든 페라이트 헤드가 침구로부터 박리되었다. 즉, 초기 배합 상태의 세정제와 동등한 고온 용융 접착제의 제거성을 얻었다.

아래의 실험예 8 및 9 및 비교에 3 및 4는 본 발명의 제2의 세정방법의 실시 예 및 비교예이다.

[실시예 3 및 비교예 3]

아래의 표 8에서 도시하는 조성의 세정액을 이용하여, 아래의 실험 I 내지 III을 수행한다.

표 8중에서 글리콜 에테르계 화합물 H 내지 O 및 탄화수소 f 내지 j는 각각 아래의 화합물을 도시한다.

글리콜에테르계 화합물:

H : 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르

I : 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르

J : 디에틸레글리콜 모노이소프로필에테르

K : 디 에틸 렌글리콜 모노이소부틸에 테르

L : 디 에틸 렌글리 콜 모노부틸에테르

M : 디프로필렌글리콜 모노에 틸에 테르

N : 트리에 틸렌글리 콜 모노에틸에 테르

O : 디프로필렌글리콜 모노프로필에테르

파라핀계 탄화수소 :

f: n-데칸

g : 이소도데칸

h : n-도데칸

i : n-트리데칸

j : n-테트라데칸

[실험 I(실시예 8 및 비교예 8)]

콘덴서 및 고정 저항기를 장착하고 납땜 처 리를 실시한 프린트 기판(기판 표면적 5cm )을 시험조각으로 한다. 납땜 처리는 로진계 납땜 융제(납땜 융제 : AGF-200-J3, 아사히 화학 주식회사 제품)를 이용하여 수행한다. 이 시험조각을 표 8에서 도시하는 각 세정제에 의해서 세정한다. 세정은 아래의 표 9에서 도시하는 공정으로 수행한다. 세정공정 및 헹굼 공정은 1000ml 비이커에 1000m1의 세정액 또는 물을 넣고 그중에 시험조각을 침지하여 수행한다. 세정 공정에서 사용한 초음파의 주파수는 47KHz이고, 출력은 120W이다.

[실험 II(실시예 8 및 비교예 3)]

표 9에서 도시하는 공정에 의해서 세정·건조를 한 후 각 시험 조각에 잔존하는 이온량과 로진 등의 수지분을 측정하여 각 세정액의 납땜 융제의 제거성을 평가한다. 이온량의 측정에 이용한 장치는 이온성 잔사물량 측정 장치(오메가 메터, 모델 600SC, 알파메탈즈 주식회사 제품)이다. 잔존하는 수지분은 실체 현미경을 이용하여 육안으로 평가한다. 결과를 표 10에서 도시한다. 표중의 결과에 대한 평가기준을 아래에서 도시한다.

[실험 II(실시예 8 및 비교예3)]

비디오 헤드 등에 사유되는 페라이트제 자기 헤드(20×5mm, 두께 1mm)10개를 고온용융 접착제(슈덴시고교 가부시키가이샤 제품, 상품명 엘렉트론왁스)를 이용하여 스텐레스 스틸제 치구(150×30mm, 두께 2mm) 1장에 접착한다. 이것을 1000ml 비이커에 넣은 표 8의 각 세정 액(1000m1)에 40℃에서 침지하고, 초음파(47KHz, 120W)를 조사하고, 자기 헤드가 치 구로부터 모두 박리하는 시간을 측정한다. 결과를 표 10에 나타낸다. 표중의 결과에 대한 평가 기준을 이하에 나타낸다.

평가기준:

㉧ : 박리시간 7분 미만

○ : ◎리시간 7분 이상 10분 미만

△ : 박리시간 10분 이상 15분 미만

× : 박리시간 15분 이상

[실험 III(실시예 8 및 비교예 3)]

실험 II에 사용한 것과 동일의 페라이트 제품 자기 헤드 10개 및 스테인레스 스틸제 치구 1장을 표 8에 나타낸 각 세정액에 40℃에서 1분간 침지하고, 이어서 상온의 이온 교환수에 30초간 침지한다. 그 다음 100℃의 항온조에 이들 페라이트 제품 자기 헤드 및 스테인레스 스틸제 치구를 넣고 30 분간 방치하고, 수분을 완전하게 제거한 후에 페라이트제 자기 헤드 및 스테인레스 스틸제 치구에 잔존하는 액을 사염화탄소를 사용하여 추출한다. 이 추출액을 적외선분광 광도법에 의하여 분석하여, 세정액의 잔존의 유무를 평가한다. 결과를 표 10에 나타낸다. 표중의 결과에 대한 평가기준을 이하에 나타낸다.

평가기준:

O : 세정 액이 잔존하지 않고, 헹굼성 이 우수하다.

△ : 세정액이 약간 잔존하고, 헹굼성이 다소 떨어진다.

X : 세정 액이 많이 잔존하고, 헹굼성 이 떨어진다.

이상, 실시예 8에서 나타낸 것 같이, 본 발명의 세정 방법에서 사용되는 세정액은, 납땜 융제의 제거성 , 고온 용융 접 착제의 제거성 및 물에 의한 헹굼성 이 우수하다. 한편, 비교예 3의 세정액은, 이하에 설명 한 것 같이, 납땜 융제 및 고온 용융 접착제의 제거에는 부적당하다.

세정액(28) : 탄화수소만으로 이루어 지고, 납땜 융제 제거 성 및 헹굼성이 떨어짐.

세정액(29) : 수용성 글리콜에테르계 화합물만으로 이루어지고, 고온 용융 접착제의 제거성이 떨어짐.

세정액(30) : 옥시에틸렌 부가 몰수가 3이상인 글리콜 에테르계 화합물을 사용하고, 납땜 융제 제거성, 고온 용융 접착제 제거성 및 헹굼성이 떨어짐.

세정액(31) : 탄소수 14 이상의 탄화수소를 사용하고, 납땜 융제 제거성 , 고온 용융 접착제 및 헹굼성이 떨어짐.

세 정 액(32) : 일반식 (VI)에 있어서 R 이 탄소수 3 이상의 지방족기 인글리롤에테르계 화합물을 사용하고 , 납땜 융제 제거성 및 헹굼성이 떨어짐.

[실시예 9]

디에틸렌글리콜 모노이소부틸에 테르 70중량%와 n-트리데칸 30중량%를 혼합한 세정 액 90중량부에 고온 용융 접 착제(닛가 세이코 가부시키가이샤 제품, 상품명 아도픽스) 10중량부를 용해한다. 이 용액 6ℓ를 30mmHg의 감압하에서 110℃로 가온하고. 60분간 증류한다.

증류로 수득된 액을 적외선분광 광도법에 의해 분석한 바, 고온 용융 접착제의 혼입은 확인되지 않았다. 또한, 가스 크로마토그래피법에 의해 상기의 증류액을 분석한바, 초기 배합 상태와 동일한 세정액인 것이 확인되었다. 또한, 이 증류액을사용하여 실시예 8의 실험 II와 동일한 방법으로 페라이트 헤드와 치구의 박리 실험을 수행한바, 7분 이내에 모든 페라이트 헤드가 치구로부터 박리되었다. 즉, 초기 배합 상태의 세정제와 동등한 고온용융 접 착제의 제거성이 얻어졌다.

또한 표 9의 헹굼 공정 1에서 발생하는 세정액과 수돗물이 혼합된 용액(세정액 : 수돗물 = 15중량%: 85중량%,) 16ℓ에 대하여, 20mmHg에 감압하에서 35℃로 가온하여 60분간 감압 증류를 수행한바, 증류액 12mmHg가 수득되었다. 이 증류액의 대부분은 물이고, 혼입된 세정액은 2중량% 이하였다. 따라서, 수득된 증류액을 표 9에 나타낸 공정 1에서 재사용할 수 있다. 증류 잔사는 대부분이 세정액이며 혼입된 수분량은 2중량% 이하이다. 또한 증류 잔사 중의 디에틸렌글리콜 모노이소부틸 에테르와 n-트리 데칸의 비율은 초기 상태와 대부분 변화하지 않았다. 따라서, 이 증류 찬사를 세정액으로서 재사용하는 것이 가능하였다.

[비교예 4]

760mmHg에 있어서의 평균 비점 차이가 약 25℃인 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르(760mmHg에 있어서의 평균 비점 202C ) 85중량%와 n-트리데칸(760mmHg에 있어서의 평균 비점 227℃) 15중량%와의 혼합물로 이루어진 세정액 16ℓ를 30mmHg의 감압하에서 1101℃에서 60분간 증류한다. 수득된 증류액의 조성을 가스 크로마토그래피 법에 의하여 분석한다. 그 결과, 초기 배합상태와는 달리, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르가 90중량%를 초과하는 조성이었다. 이 증류액을 사용하여 실시예 8의 실험 11에 나타나는 방법으로 페라이트 자기 헤드를 치구로부터 박리하는 실험을 수행한 바, 박리에 요하는 시간은 10분을 넘었다.

상기와 같이, 본 발명에 의하면 납땜 융제 및/또는 고온 용융 접착제에 대한 세정성이 높은 세정 방법이 제공된다. 본 발명의 세정 방법 에 의하면 , 소정의 글리콜에테르계 화합물과 파라핀계 탄화수소를 조합하여 세정액으로 사용함으로써, 계면활성제를 사용하는일 없이 높은 세정성이 얻어지고, 동시에 제거 대상물을 용해하고 있는 세정후의 세정액으로부터 증류에 의하여 세정액을 회수하고, 재이용하는 것이 가능하게 된다. 따라서, 본 발명의 방법에 의하면, 산업 폐기물을 현저하게 줄이는 것이 가능하게 되고, 세정에 소요된 비용을 대폭적으로 절감할 수 있다.

또한 본 발명의 세정방법에 의하면, 피세정물에 부착한 세정 액을 물로 용이하게 제거하고 피 세정물에 부착한 세정액을 건조에 의하여 용이하게 제거하는 것이 가능하게 된다.

본 발명의 각종의 개량변경은, 본 발명의 범위 및 기술적 사상으로부터 이탈하는 일 없이, 당업자에 의하여 용이하게 이루어진다. 따라서, 첨부된 특허청구의 범위는 상기의 기재에 의하여 한정되는 것을 의도하지 않고, 차라리 넓게 해석되는 것이 의도된다.

Claims (13)

1. 납땜 융제 및 고온용융 접착제로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 제거 대상물을 피세정물로부터 제거하기 위한 세정 방법에 있어서, 실질적으로 글리콜 에테르 성분(A) 및 파라핀계 탄화수소 성분(B)로 이루어진 세정액을 사용하여 상기 피세정물을 세정하는 공정을 포함하고, 여기서 상기성분(A)가, 일반식 (I) 및 일반식(II)의 수용성 글리콜 에테르계 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 글리콜 에테르계 화합물이고, 상기 성분(B)가 탄소수 10내지 13의 n-파라핀계 탄화수소 및 이소파라핀계 탄화수소로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 파라핀계 탄화수소임을 특징으로 하는 세정방법.

   상기식에서, R¹및 R²는 각각 독립적으로 메틸기 또는 에틸기이고, R³및 R⁴는 메틸기이다.
2. 제1항에 있어서, 성분(A)와 성분(B)의 혼합 비율이 중량비로 A:B=50:50 내지 90:10임을 특징으로 하는 세정 방법.
3. 제1항에 있어서, 성분(A)가 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 에틸메틸에테르 및 디에틸렌 글리콜 디에틸에테르로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 글리콜 에테르계 화합물이고, 성분(B)가 n-운데칸, n-도데칸 및 이소도데칸으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 파라핀계 탄화수소임을 특징으로 하는 세정방법.
4. 제1항에 있어서, 성분(A)가 디에틸렌글리콜디메틸에테르 및 디프로필렌글리콜 디메틸에테르로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 글리콜 에테르계 화합물이고, 성분(B)가 n-데칸임을 특징으로 하는 세정방법.
5. 제1항에 있어서, 피세정물에 부착되어 있는 세정액을 물로 제거하는 공정을 추가로 포함함을 특정으로 하는 세정방법.
6. 제4항에 있어서, 피세정물에 부착된 세정액을 건조에 의하여 제거하는 공정을 추가로 포함함을 특징으로 하는 세정방법.
7. 제1항에 있어서, 제거 대상물을 용해하고 있는 세정후의 세정액으로부터 증류에 의하여 세정액을 회수하는 공정 및 회수된 세정 액을 재사용하여 피세정물을 세정하는 공정을 추가로 포함함을 특징으로 하는 세정방법.
8. 제1항에 있어서, 제거대상물이 고온 용융 접착제임을 특징으로 하는 세정방법.
9. 납땜 융제 및 고온 용융 접착제로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 제거 대상물을 피세 정물로부터 제거하기 위한 세정방법에 있어서, 실질적으로 글리콜 에테르 성분(A) 및 파라핀계 탄화수소 성분(B)로 이루어지고, 760mmHg에서 상기 성분(A)이 평균 비점과 상기 성분(B)의 평균 비점의 차이가 10℃ 이내인 세정액을 사용하여 상기 피세정물을 세정하는 공정 및 상기 제거 대상물을 용해하고 있는 세정후의 세정액으로부터 증류에 의하여 상기 세정액을 회수하는 공정을 포함하고, 여기서 상기 성분(A)가 (III) 및 일반식 (IV)의 수용성 글리콜 에테르계 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 글리콜 에테르계 화합물이고, 상기 성분(B)가 탄소수 10 내지 13의 n-파라핀계 탄화수소 및 이소파라핀계 탄화수소로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 파라핀계 탄화수소임을 특징으로 하는 세정방법.

   상기식에서, R⁵는 탄소수 1내지 4의 지방족이고, R⁶는 수소이고, R⁷은 메틸기 또는 에틸기 이고, R⁸은 수소이다.
10. 제9항에 있어서, 성분(A)와 성분(B)의 혼합비율이 중량비로 A:B=50:50 내지 90:10임을 특징으로 하는 세정방법.
11. 제9항에 있어서, 성분(A)가 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노이소프로필에테르, 디에틸렌글리콜 모노프로필에테르, 디에틸렌글리콜 모노이소부틸에테르 및 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 글리콜에테르계 화합물이고, 성분(B)가 n-도데칸, n-트리데칸 및 이소트리데칸으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 파라핀계 탄화수소임을 특징으로 하는 세정방법.
12. 제9항에 있어서, 피세정물에 부착되어 있는 세정액을 물로 제거하는 공정을 추가로 포함함을 특징으로 하는 세정방법.
13. 제9항에 있어서, 증류에 의해 회수된 세정액을 재사용하여 피세정물을 세정하는 공정을 추가로 포함함을 특징으로 하는 세정방법.