JP2811663B2 - 感放射線性樹脂組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、感放射性樹脂組成物に
関する。さらに詳しくは、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、電
子線、分子線、γ線、シンクロトロン放射線、プロトン
ビ−ムなどの放射線に感応する高集積回路作成用レジス
トとして好適な感放射線性樹脂組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】ポジ型レジストは、高解像度のレジスト
パターンを与えるので、集積回路の製造において多く用
いられているが、近年における集積回路の高集積化に伴
って、より解像度の向上したレジストパターンを形成で
きるポジ型レジストが望まれている。すなわち、ポジ型
レジストによって微細なレジストパターンを形成する場
合、放射線照射により形成される潜像をアルカリ性水溶
液からなる現像液で現像する際に、放射線照射部がウェ
ハーと接している部分（パターンの裾）まで速やかに現
像されることが必要である。

【０００３】しかしながら、従来のボジ型レジストの場
合、形成すべきレジストパターンの間隔が０.８μｍ以
下になると、微細なパターン、ホールなどの露光量の少
ない部分での現像性およびパターン形状が不十分であっ
た。

【０００４】さらに集積回路の集積度の向上とともに、
ウェハーのエッチング方式が、従来のサイドエッチング
の大きいウェットエッチングから、サイドエッチングの
小さいドライエッチングに移行している。このドライエ
ッチングでは、エッチング時に熱によるレジストパター
ンが変化しないことが必要であるため、ポジ型レジスト
には耐熱性が必要であるが、従来のポジ型レジストは、
十分な耐熱性を備えているとはいい難いものであった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、感放
射線性樹脂組成物を提供することにある。本発明の他の
目的は、現像性に優れていると共に、高感度かつ高解像
度であり、形成されるパターン形状、耐熱性、露光余
裕、残膜性などにも優れたポジ型レジストとして好適な
感放射線性樹脂組成物を提供することにある。本発明の
さらに他の目的および利点は以下の説明から明かとなろ
う。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、本発明
の上記目的および利点は、（Ａ）パラクレゾール、キシ
レノールおよびトリメチルフェノールよりなる群から選
ばれる少なくとも１種の（ポリ）メチル置換フェノール
類（Ａ１）並びにメタクレゾール（Ａ２）とを、アルデ
ヒド類と重縮合して得られたアルカリ可溶性ノボラック
樹脂、および（Ｂ）下記構造式（１）

【０００７】

【化２】

【０００８】で表わされる化合物（以下、「化合物
（Ａ）」という）のキノンジアジドスルホン酸エステル
の少なくとも１種、を含有することを特徴とする感放射
線性樹脂組成物によって達成される。

【０００９】本発明において用いられるアルカリ可溶性
樹脂（以下、「樹脂（Ａ）」と称する）は、メタクレゾ
ールと、パラクレゾール、キシレノールおよびトリメチ
ルフェノールよりなる群から選ばれる（ポリ）メチル置
換フェノールの１種または２種以上とアルデヒド類とを
重縮合して得られたノボラック樹脂である。

【００１０】ここで、キシレノールとしては２,３−キ
シレノール、２,５−キシレノール、３,４−キシレノー
ル、３,５−キシレノールが好ましい。また、トリメチ
ルフェノールとしては２,３,５−トリメチルフェノール
が好ましい。

【００１１】これらのメタクレゾールを必須成分とする
ノボラック樹脂における（ポリ）メチル置換フェノール
の組み合わせとしては、種々組み合わされることができ
るが以下のものが好適に使用される。

【００１２】・メタクレゾールとパラクレゾール ・メタクレゾールと２,３−キシレノール、 ・メタクレゾールと２,３−キシレノールと３,４−キシ
レノール、 ・メタクレゾールと２,３−キシレノールと２,３,５−
トリメチルフェノール、 ・メタクレゾールとパラクレゾールと２,３−キシレノ
ール、 ・メタクレゾールと２,５−キシレノールと３,５−キシ
レノール、 ・メタクレゾールと２,５−キシレノールと２,３,５−
トリメチルフェノール、 ・メタクレゾールと３,４−キシレノール、 ・メタクレゾールと３,４−キシレノールと２,３,５−
トリメチルフェノール、 ・メタクレゾールと３,５−キシレノール、 ・メタクレゾールとパラクレゾールと３,５−キシレノ
ール、 ・メタクレゾールと３,５−キシレノールと２,３,５−
トリメチルフェノール、 ・メタクレゾールと２,３,５−トリメチルフェノール、 ・メタクレゾールとパラクレゾールと２,３,５−トリメ
チルフェノール。

【００１３】樹脂（Ａ）合成に際してのこれらの（ポ
リ）メチル置換フェノールの使用量は、メタクレゾール
／パラクレゾールの場合には、通常９５〜３５／５〜６
５（モル比）、好ましくは８０〜４０／２０〜６０（モ
ル比）であり、メタクレゾール／２,３−キシレノール
の場合には、通常９５〜１０／５〜９０（モル比）、好
ましくは８０〜２０／３０〜７０（モル比）であり、メ
タクレゾール／２,３−キシレノール／３,４−キシレノ
ールの場合には、通常９０〜１０／５〜８５／５〜６０
（モル比）、好ましくは８０〜２０／１０〜７０／１０
〜５０（モル比）であり、メタクレゾール／２,３−キ
シレノール／２,３,５−トリメチルフェノールの場合に
は、通常９０〜１０／５〜８５／５〜６０（モル比）、
好ましくは８０〜２０／１０〜７０／１０〜５０（モル
比）であり、メタクレゾール／パラクレゾール／２,３
−キシレノールの場合には、通常９０〜１０／５〜６０
／５〜８５（モル比）、好ましくは７０〜２０／１０〜
５０／１０〜７０（モル比）であり、メタクレゾール／
２,５−キシレノール／３,５−キシレノールの場合に
は、通常９０〜１０／５〜７０／５〜７０（モル比）、
好ましくは８０〜２０／１０〜６０／１０〜６０（モル
比）であり、メタクレゾール／２,５−キシレノール／
２,３,５−トリメチルフェノールの場合には、通常９０
〜１０／５〜７０／５〜６０（モル比）、好ましくは８
０〜２０／１０〜６０／１０〜５０（モル比）であり、
メタクレゾール／３,４−キシレノールの場合には、通
常９５〜５０／５〜５０（モル比）、好ましくは９０〜
５５／１０〜４５（モル比）であり、メタクレゾール／
３,４−キシレノール／２,３,５−トリメチルフェノー
ルの場合には、通常９０〜２０／５〜５０／５〜６０
（モル比）、好ましくは８０〜３０／１０〜４０／１０
〜５０（モル比）であり、メタクレゾール／３,５−キ
シレノールの場合には、通常９５〜３０／５〜７０（モ
ル比）、好ましくは９０〜４０／１０〜６０（モル比）
であり、メタクレゾール／パラクレゾール／３,５−キ
シレノールの場合には、通常９０〜１５／５〜６０／５
〜７０（モル比）、好ましくは８０〜３０／１０〜４５
／１０〜６０（モル比）であり、メタクレゾール／３,
５−キシレノール／２,３,５−トリメチルフェノールの
場合には、通常９０〜１５／５〜６０／５〜６０（モル
比）、好ましくは８０〜２０／１０〜５０／１０〜５０
（モル比）であり、メタクレゾール／２,３,５−トリメ
チルフェノールの場合には、通常９５〜４０／５〜６０
（モル比）、好ましくは９０〜５０／１０〜５０（モル
比）であり、メタクレゾール、パラクレゾールと２,３,
５−トリメチルフェノールの場合には、通常９０〜１０
／５〜６０／５〜６０（モル比）、好ましくは８０〜２
０／１０〜５０／１０〜５０（モル比）である。

【００１４】また、ここで用いられるアルデヒド類とし
ては、例えばホルムアルデヒド、トリオキサン、パラホ
ルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピルアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、
α−フェニルプロピルアルデヒド、β−フェニルプロピ
ルアルデヒド、ｏ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｍ−
ヒドロキシベンズアルデヒド、ｐ−ヒドロキシベンズア
ルデヒド、ｏ−クロロベンズアルデヒド、ｍ−クロロベ
ンズアルデヒド、ｐ−クロロベンズアルデヒド、ｏ−ニ
トロベンズアルデヒド、ｍ−ニトロベンズアルデヒド、
ｐ−ニトロベンズアルデヒド、ｏ−メチルベンズアルデ
ヒド、ｍ−メチルベンズアルデヒド、ｐ−メチルベンズ
アルデヒド、ｐ−エチルベンズアルデヒド、ｐ−ｎ−ブ
チルベンズアルデヒド、フルフラールなどを挙げること
ができる。これらのうち特にホルムアルデヒドを好適に
用いることができる。これらのアルデヒド類も単独でま
たは２種以上を組み合わせて用いることができる。

【００１５】上記アルデヒド類の使用量は、（ポリ）メ
チル置換フェノールの合計両１モルに対し、０.７〜３
モルが好ましく、より好ましくは０.８〜１.５モルであ
る。

【００１６】（ポリ）メチル置換フェノールとアルデヒ
ド類との重縮合に用いられる触媒としては、塩酸、硝
酸、硫酸、ギ酸、シュウ酸、酢酸などの酸性触媒を挙げ
ることができる。これらの酸性触媒の使用量は、好まし
くは（ポリ）メチル置換フェノールの合計量１モルに対
し、１×１０^-5〜５×１０^-1モルである。

【００１７】重縮合反応においては、好ましくは反応媒
質として水が用いられるが、重縮合反応に用いられる
（ポリ）メチル置換フェノールがアルデヒド類の水溶液
に溶解せず、反応初期から不均一系になる場合は、反応
媒質として親水性溶媒を使用することもできる。これら
の親水性溶媒としては、例えばメタノ−ル、エタノ−
ル、プロパノ−ル、ブタノ−ルなどのアルコ−ル類、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンなどの環状エ−テル類を
好ましいものとして挙げることができる。これらの反応
媒質の使用量は、好ましくは反応原料１００重量部当
り、２０〜１,０００重量部である。

【００１８】重縮合の温度は、反応原料の反応性に応じ
て、適宜調整することができるが、通常１０〜２００
℃、好ましくは７０〜１５０℃である。重縮合の方法と
しては、（ポリ）メチル置換フェノール類、アルデヒド
類、酸性触媒などを一括して仕込む方法、および酸性触
媒の存在下に（ポリ）メチル置換フェノール類、アルデ
ヒド類などを反応の進行とともに加えていく方法を採用
することができる。

【００１９】重縮合反応終了後、系内に存在する未反応
原料、酸性触媒、反応媒質などを除去するため、一般的
には、反応系の温度を１３０℃〜２３０℃に上昇させ、
減圧下、例えば２０〜５０mmHg程度で揮発分を留去し、
生成した樹脂（Ａ）を回収する。

【００２０】また本発明において用いる樹脂（Ａ）は、
ポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」と称
する）が、好ましくは４,０００〜２０,０００、特に好
ましくは５,０００〜１５,０００の範囲にあることが望
ましい。Ｍｗが２０,０００を超えると、本発明の組成
物をウェハーに均一に塗布しにくくなり、さらに現像性
および感度が低下し、またＭｗが４,０００未満である
と、耐熱性が低下する傾向がある。

【００２１】なお、Ｍｗの高い樹脂（Ａ）を得るために
は、例えば重縮合終了後に回収された樹脂（Ａ）を、エ
チルセロソルブアセテート、ジオキサン、メタノール、
酢酸エチルなどの良溶媒に溶解したのち、水、ｎ−ヘキ
サン、ｎ−ヘプタンなどの貧溶媒を混合し、次いで析出
する樹脂溶液層を分離し、高分子量の樹脂（Ａ）を回収
すればよい。

【００２２】また、樹脂（Ａ）以外に前記樹脂（Ａ）の
合成に用いられるフェノール類として例示した以外のフ
ェノール類、例えばフェノール、１−ナフトール、２−
ナフトールなどとフェノール類とホルムアルデヒド類の
縮合によって得られるアルカリ可溶性ノボラック樹脂を
本発明の効果を損なわない範囲で添加することもでき
る。

【００２３】また、樹脂（Ａ）のアルカリ溶解性を促進
するなどの目的で、低分子量のフェノール化合物を溶解
促進剤として添加することもできる。ここで使用される
低分子量化合物としては、ベンゼン環数２〜６程度のフ
ェノール化合物が好適であり、特に限定されるものでは
ないが、下記式（２ａ）〜（２ｈ）で表わされる化合物
を例示することができる。

【００２４】

【化３】

【００２５】

【化４】

【００２６】かかる低分子量のフェノール化合物の配合
量は、樹脂（Ａ）１００重量部当り、好ましくは５０重
量部以下、特に好ましくは５〜３５重量部の範囲とする
ことが有利である。本発明において用いられるキノンジ
アジドスルホン酸エステルは上記構造式（１）で表わさ
れる化合物Ａのキノンジアジドスルホン酸エステルであ
る。

【００２７】この構造式（１）において、置換もしくは
非置換アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−
ブチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、クミル基、
クロロメチル基、トリクロロメチル基、ヒドロキシエチ
ル基、ヒドロキシプロピル基、メトキシエチル基、エト
キシエチル基などを挙げることができる。その中でもメ
チル基、エチル基などが好ましい。置換もしくは非置換
アリール基の例としては、フェニル基、１−ナフチル
基、２−ナフチル基、４−メチルフェニル基、４−ヒド
ロキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−ニト
ロフェニル基、３−クロロフェニル基などを挙げること
ができる。その中でもフェニル基が好ましい。

【００２８】アルキル置換アリール基の例としては、２
−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−エチ
ルフェニル基、４−ｔ−ブチルフェニル基などを挙げる
ことができる。その中でも４−メチルフェニル基などが
好ましい。アルコール置換アリール基の例としては、２
−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−
ｔ−ブトキシフェニル基、４−フェノキシフェニル基な
どを挙げることができる。その中でも４−メトキシフェ
ニル基が好ましい。非置換アリール基の例としては、フ
ェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基などを挙げ
ることができる。その中でもフェニル基が好ましい。

【００２９】化合物Ａの合成方法としては、例えば特開
昭６１−１１２８９号公報に示されているように、α,
β−不飽和カルボニル化合物と置換あるいは非置換フェ
ノール類を酸触媒存在下で反応させる方法を挙げること
ができる。

【００３０】かかる構造式（１）で表わされる化合物
（Ａ）の具体例としては、１,１,３−トリス（４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン、１,１,３−トリス（３,５
−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１,
１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン、１,１,３−トリス（３,５−ジメチル
−２−ヒドロキシフェニル）プロパン、１,１,３−トリ
ス（４,５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）プロ
パン、１,１,３−トリス（５−メチル−２−ヒドロキシ
フェニル）プロパン、１,３,３−トリス（３,５−ジメ
チル−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１,３,３−ト
リス（２,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ブ
タン、１,３,３−トリス（４,５−ジメチル−２−ヒド
ロキシフェニル）ブタン、１,３,３−トリス（４−ヒド
ロキシフェニル）ブタン、１,３,３−トリス（３,５−
ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、１,３,３
−トリス（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタ
ン、１,１,３−トリス（４−ヒドロキシフェニル）ブタ
ン、

【００３１】 １,１,３−トリス（３,５−ジメチル−４−ヒドロキシ
フェニル）ブタン、 １,１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒドロキシ
フェニル）ブタン、 １,１,３−トリス（３,５−ジメチル−２−ヒドロキシ
フェニル）ブタン、 １,１,３−トリス（３,４−ジメチル−２−ヒドロキシ
フェニル）ブタン、 １,１,３−トリス（５−メチル−２−ヒドロキシフェニ
ル）ブタン、 １,１,３−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−３−フ
ェニルプロパン、 １,１,３−トリス（３,５−ジメチル−４−ヒドロキシ
フェニル）−３−フェニルプロパン、 １,１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒドロキシ
フェニル）−３−フェニルプロパン、 １,１,３−トリス（４,５−ジメチル−２−ヒドロキシ
フェニル）−３−フェニルプロパン、 １,１,３−トリス（３,５−ジメチル−２−ヒドロキシ
フェニル）−３−フェニルプロパン、 １,１,３−トリス（５−メチル−２−ヒドロキシフェニ
ル）−３−フェニルプロパン、 １,１,３−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−３−
（４−メトキシフェニル）−２−メチルプロパン、 １,１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒドロキシ
フェニル）−３−（４−メトキシフェニル）−２−メチ
ルプロパン、 １,１,３−トリス（３,５−ジメチル−４−ヒドロキシ
フェニル）−３−（４−メトキシフェニル）−２−メチ
ルプロパンなどを挙げることができる。

【００３２】本発明における感放射線成分である上記化
合物（Ａ）のキノンジアジドスルホン酸エステルとして
は、例えば化合物（Ａ）の１,２−ベンゾキノンジアジ
ド−４−スルホン酸エステル、１,２−ナフトキノンジ
アジド−４−スルホン酸エステル、１,２−ナフトキノ
ンジアジド−５−スルホン酸エステル、２,１−ナフト
キノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２,１−ナ
フトキノンジアジド−５−スルホン酸エステルなどを挙
げることができる。中でも好ましいものは、１,２−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホン酸エステルまたは
１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステ
ルである。

【００３３】該感放射線成分は、例えば前述の化合物
（Ａ）とナフトキノンジアジドスルホニルクロリドとの
エステル化反応により得ることができる。エステル化反
応におけるエステル化率は、化合物（Ａ）の水酸基１個
当り、好ましくは２０％〜１００％、より好ましくは４
０％〜９５％である。

【００３４】これらの感放射線成分は、１種単独でも２
種以上組み合わせても用いることができる。本発明の組
成物中における化合物（Ａ）のキノンジアジドスルホン
酸エステルの含有割合は、樹脂（Ａ）１００重量部当
り、好ましくは０.５〜９０重量部、より好ましくは２
〜５０重量部である。

【００３５】また、本発明の効果を損なわない範囲にお
いて、化合物（Ａ）のキノンジアジドスルホン酸エステ
ル以外のキノンジアジドスルホン酸を併用してもよい。
このようなキノンジアジドスルホン酸エステルとして
は、例えば２,３,４−トリヒドロキシベンゾフェノン、
２,３,４,４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、
３’−メトキシ−２,３,４,４’−テトラヒドロキシベ
ンゾフェノン、２,２’,５,５’−テトラメチル−２”,
４,４’−トリヒドロキシベンゾフェニルメタン、１,
１,１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１,
１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエ
タン、１,１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−
［１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチ
ル］−１−フェニルエタン、２,４,４−トリメチル−
２’,４’,７−トリヒドロキシ−２−フェニルフラバン
などの１,２−ベンゾキノンジアジド−４−スルホン酸
エステル、１,２−ナフトキノンジアジド−４−スルホ
ン酸エステルまたは１,２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸エステルなどを挙げることができる。

【００３６】本発明の組成物には、適宜増感剤、界面活
性剤などの各種配合剤を配合することができる。増感剤
は、レジストの感度を向上させるために配合される。こ
のような増感剤としては、例えば２Ｈ−ピリド−（３,
２−ｂ）−１，４−オキサジン−３（４Ｈ）−オン類、
１０Ｈ−ピリド−（３,２−ｂ）−（１，４）−ベンジ
チアジン類、ウラゾール類、ヒダントイン類、パルビツ
ール酸類、グリシン無水物類、１−ヒドロキシベンゾト
リアゾール類、アロキサン類、マレイミド類などが挙げ
られる。これらの増感剤の配合量は、樹脂（Ａ）１００
重量部に対し、好ましくは５０重量部以下、より好まし
くは３０重量部以下である。

【００３７】また界面活性剤は、組成物の塗布性や現像
性を改良するために配合される。このような界面活性剤
としては、例えばポリオキシエチレンラウリルエーテ
ル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシ
エチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレ
ンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジ
ラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等
のノニオン系界面活性剤；エフトップ ＥＦ３０１，Ｅ
Ｆ３０３，ＥＦ３５２（商品名、新秋田化成社製）、メ
ガファックス Ｆ１７１，Ｆ１７２，Ｆ１７３（商品
名、大日本インキ社製）、フロラード ＦＣ４３０，Ｆ
Ｃ４３１（商品名、住友スリーエム社製）、アサヒガー
ド ＡＧ７１０，サーフロン Ｓ−３８２，ＳＣ−１０
１，ＳＣ−１０２，ＳＣ−１０３，ＳＣ−１０４，ＳＣ
−１０５，ＳＣ−１０６（商品名、旭硝子社製）などの
フッソ系界面活性剤；オルガノシロキサンポリマーＫＰ
３４１（商品名、信越化学工業社製）；アクリル酸系ま
たはメタクリル酸系（共）重合体ポリフローＮｏ.７
５、Ｎｏ.９５（商品名、共栄社油脂化学工業社製）が
挙げられる。

【００３８】これらの界面活性剤の配合量は、組成物の
固形分１００重量部当り、好ましくは２重量部以下であ
る。さらに本発明の組成物には、放射線照射部の潜像を
可視化させ、放射線照射時のハレーションの影響を少な
くするために、染料や顔料を配合することができ、また
接着性を改善するために、接着助剤を配合することもで
きる。さらに必要に応じて保存安定剤、消泡剤なども配
合することができる。

【００３９】本発明の組成物は、前述した樹脂（Ａ）お
よび化合物（Ａ）のキノンジアジドスルホン酸エステル
ならびに前述した各種配合剤を、例えば固形分濃度が２
０〜４０重量％となるように溶剤に溶解させ、孔径０.
２μｍ程度のフィルターで濾過することによって有利に
調製することができる。

【００４０】この際に用いられる溶剤としては、例えば
エチレングリコ−ルモノメチルエ−テル、エチレングリ
コ−ルモノエチルエ−テル、メチルセロソルブアセテ−
ト、エチルセロソルブアセテ−ト、ジエチレングリコ−
ルモノメチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルモノエチ
ルエ−テル、プロピレングリコ−ルメチルエ−テルアセ
テ−ト、プロピレングリコ−ルプロピルエ−テルアセテ
−ト、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シク
ロヘキサノン、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２
−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキ
シ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ
−３−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロピオン
酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エト
キシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メ
チル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン
酸プロピル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどを用いること
ができる。これらの有機溶剤は単独で、または２種以上
の組合せで使用される。

【００４１】さらに、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ
−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、
Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベ
ンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニ
ルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１
−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコー
ル、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチ
ル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エ
チレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテ−
トなどの高沸点溶剤を添加することもできる。

【００４２】本発明の組成物は、これを回転塗布、流し
塗布、ロ−ル塗布などによって、例えばシリコンウェハ
ーまたはアルミニウムが被覆されたウェハーに塗布する
ことにより感放射線層を形成し、所定のマスクパターン
を介して該感放射線層に放射線を照射し、現像液で現像
することによりパターンの形成が行われる。

【００４３】また本発明の組成物をポジ型レジストとし
て使用する際には、ウェハーなどの上に該組成物を塗布
し、プレベークおよび放射線照射を行った後、７０〜１
４０℃で加熱する操作を行い、その後に現像することに
よって、本発明の効果をさらに向上させることもでき
る。

【００４４】本発明の組成物の現像液としては、例えば
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、
珪酸ナトリウム、メタ珪酸ナトリウム、アンモニア水、
エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、
ジ−ｎ−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジ
エチルアミン、ジメチルエタノ−ルアミン、トリエタノ
−ルアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、
テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロ
−ル、ピペリジン、１,８−ジアザビシクロ（５,４,
０）−７−ウンデセン、１,５−ジアザビシクロ−（４,
３,０）−５−ノナンなどのアルカリ性化合物を、濃度
が、例えば１〜１０重量％となるように溶解してなるア
ルカリ性水溶液が使用される。

【００４５】また該現像液には、水溶性有機溶媒、例え
ばメタノ−ル、エタノ−ルなどのアルコ−ル類や界面活
性剤を適量添加して使用することもできる。なお、この
ようなアルカリ性水溶液からなる現像液を用いて現像を
行った場合は、一般には引き続き水でリンスを行う。

【００４６】

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらの実施例によって、なんら制限され
るものではない。なお、実施例中のＭｗの測定およびレ
ジストの評価は、以下の方法により行ったものである。

【００４７】Ｍｗ：東ソー社製ＧＰＣカラム（Ｇ２００
０Ｈ６ ２本、Ｇ３０００Ｈ６ １本、Ｇ４０００Ｈ６
１本）を用い、流量１.５ml／分、溶出溶媒テトラヒド
ロフラン、カラム温度４０℃の分析条件で、単分散ポリ
スチレンを標準とするゲルパーミエーションクロマトグ
ラフ法により測定した。

【００４８】感度：ニコン社製ＮＳＲ−１７５５Ｇ７Ａ
縮小投影露光機（レンズの開口数；０.５４）で露光時
間を変化させ、波長４３６ｎｍのｇ線を用いて露光を行
うか、またはニコン社製ＮＳＲ−１７５５ｉ７Ａ縮小投
影露光機（レンズ開口数；０.５０）で露光時間を変化
させ、波長３６５ｎｍのｉ線を用いて露光を行い、つい
でテトラメチルアンモニウムヒドロキシド２.４重量％
水溶液を現像液として用い、２５℃で６０秒間現像し、
水でリンスし、乾燥してウェハー上にレジストパターン
を形成させ、０.６μｍのライン・アンド・スペースパ
ターン（１Ｌ１Ｓ）を１対１の幅に形成する露光時間
（以下、これを「最適露光時間」という）を求めた。

【００４９】解像度：最適露光時間で露光した時に解像
されている最小のレジストパターンの寸法を測定した。 残膜率：最適露光時間における現像後のパターンの厚さ
を現像前のレジスト膜の厚さで割り、この値を１００倍
して％の単位をつけて表わした。

【００５０】現像性：スカムや現像残りの程度を走査型
電子顕微鏡にて観察し、調べた。 耐熱性：クリーンオーブン中にレジストパターンを形成
したウェハーを入れて、パターンが崩れ始めたときの温
度を測定した。

【００５１】パターン形状：走査型電子顕微鏡を用い、
０.６μｍのレジストパターンの現像後の方形状断面の
下辺Ａと上辺Ｂを測定し、０.８５≦Ｂ／Ａ≦１である
場合を、パターン形状が良好であると判定した。但し、
パターン形状が裾を引いていたり逆テーパー状になって
いる場合は、Ｂ／Ａが上記範囲に入っていても良好と判
断しない。

【００５２】＜樹脂（Ａ）の合成＞ 合成例１ 攪拌機、冷却管および温度計を装着したフラスコに、 メタクレゾール ６４.８ｇ（０.６０モル） パラクレゾール ４３.３ｇ（０.４０モル） ３７重量％ホルムアルデヒド水溶液 １０５ｇ （ホルムアルデヒド：１.３モル） および シュウ酸２水和物 １.２６ｇ（０.０１モル） を仕込み、フラスコを油浴に浸し、内温を１００℃に保
持して攪拌しながら１８０分間重縮合を行ったのちに、
油浴温度を１８０℃まで上昇させ、同時にフラスコ内の
圧力を３０〜５０mmHgまで減圧し、水、シュウ酸、未反
応のホルムアルデヒド、メタクレゾール、パラクレゾー
ルなどを除去した。次いで溶融した樹脂を室温に戻して
回収しＭｗを測定したところ８,０００であった。この
樹脂を、樹脂（Ａ１）という。

【００５３】合成例２ 合成例１で用いたのと同様のフラスコに、 メタクレゾール ８０.０ｇ（０.７４モル） ２,３−キシレノール ３１.８ｇ（０.２６モル） ３７重量％ホルムアルデヒド水溶液 １８０ｇ （ホルムアルデヒド：１.８モル） および シュウ酸２水和物 １.２６ｇ（０.０１モル） を仕込み、フラスコを油浴に浸し、内温を１００℃に保
持して攪拌しながら６０分間重縮合を行ったのちに、 メタクレゾール ２８.１ｇ（０.２６モル） および ２,３−キシレノール ９０.４ｇ（０.７４モル） を加えてさらに１２０分間重縮合を行った。その後、合
成例１と同様に樹脂を回収しＭｗを測定したところ４,
０００であった。この樹脂を、樹脂（Ａ２）という。

【００５４】合成例３ 合成例１で用いたのと同様のフラスコに、 メタクレゾール ８６.５ｇ（０.８０モル） パラクレゾール ６４.９ｇ（０.６０モル） ２,３−キシレノール ９.７７ｇ（０.０８モル） ３７重量％ホルムアルデヒド水溶液 １５０ｇ （ホルムアルデヒド：１.８５モル） および シュウ酸２水和物 １.２６ｇ（０.０１モル） を仕込み、フラスコを油浴に浸し、内温を１００℃に保
持して攪拌しながら４０分間重縮合を行ったのちに、 メタクレゾール ２１.６ｇ（０.２０モル） および ２,３−キシレノール ３９.１ｇ（０.３２モル） を加えてさらに１２０分間重縮合を行った。その後、合
成例１と同様に樹脂を回収した。この樹脂をエチルセロ
ソルブアセテートに固形分が３０重量％になるように溶
解したのち、この樹脂溶液の重量に対し、０.３倍のメ
タノールおよび０.７５倍の水を加えて攪拌し放置し
た。放置することにより２層に分離したのち、樹脂溶液
層（下層）を取り出し、濃縮し脱水し乾燥して樹脂を回
収しＭｗを測定したところ５,８００であった。この樹
脂を、樹脂（Ａ３）という。

【００５５】合成例４ オートクレーブに メタクレゾール １１０.０ｇ（１.０２モル） ２,３−キシレノール ６２.３ｇ（０.５１モル） ２,３,５−トリメチルフェノール ２３.２ｇ（０.１７モル） ３７重量％ホルムアルデヒド水溶液 １５０ｇ （ホルムアルデヒド：１.７０モル） シュウ酸２水和物 ４.２８ｇ（０.０３４モル） 水 ５９.７ｇ および ジオキサン ４４０ｇ を仕込み、オートクレーブを油浴に浸し、内温を１３０
℃に保持して攪拌しながら８時間重縮合を行い、反応
後、室温まで戻し、内容物をビーカーに取り出した。こ
のビーカー中で２層に分離したのち、下層を取り出し、
濃縮し脱水し乾燥して樹脂を回収しＭｗを測定したとこ
ろ９,２００であった。この樹脂を、樹脂（Ａ４）とい
う。

【００５６】合成例５ オートクレーブに メタクレゾール ９７.３ｇ（０.９０モル） ２,３−キシレノール ３６.７ｇ（０.３０モル） ３,４−キシレノール ３６.７ｇ（０.３０モル） ３７重量％ホルムアルデヒド水溶液 １１３ｇ （ホルムアルデヒド：１.３９モル） シュウ酸２水和物 ９.４５ｇ（０.７５モル） 水 １２１ｇ および ジオキサン ５７６ｇ を仕込み、オートクレーブを油浴に浸し、内温を１３０
℃に保持して攪拌しながら８時間重縮合を行い、反応
後、室温まで戻し、内容物をビーカーに取り出した。こ
のビーカー中で２層に分離したのち、下層を取り出し、
濃縮し脱水し乾燥して樹脂を回収しＭｗを測定したとこ
ろ７,５００であった。この樹脂を、樹脂（Ａ５）とい
う。

【００５７】合成例６ 合成例１で用いたのと同様のフラスコに、 メタクレゾール ６０.６ｇ（０.５６モル） ３,４−キシレノール ７.３３ｇ（０.０６モル） ３７重量％ホルムアルデヒド水溶液 ７３ｇ （ホルムアルデヒド：０.９０モル） および シュウ酸２水和物 １.２６ｇ（０.０１モル） を仕込み、フラスコを油浴に浸し、内温を１００℃に保
持して攪拌しながら６０分間重縮合を行ったのちに、 メタクレゾール １５.１ｇ（０.１４モル） および ３,４−キシレノール ２９.３ｇ（０.２４モル） を加えてさらに１２０分間重縮合を行った。その後、合
成例１と同様に樹脂を回収しＭｗを測定したところ４,
５００であった。この樹脂を、樹脂（Ａ６）という。

【００５８】合成例７ 合成例１で用いたのと同様のフラスコに、 メタクレゾール ６９.２ｇ（０.６４モル） ３,４−キシレノール １２.２ｇ（０.１０モル） ３７重量％ホルムアルデヒド水溶液 ７５.５ｇ （ホルムアルデヒド：０.９３モル） および シュウ酸２水和物 ０.５０ｇ（４×１０^-3モル） を仕込み、フラスコを油浴に浸し、内温を１００℃に保
持して攪拌しながら６０分間重縮合を行ったのちに、 メタクレゾール １７.３ｇ（０.１６モル） および ２,３,５−トリメチルフェノール １３.６ｇ（０.１０モル） を加えてさらに９０分間重縮合を行った。その後、合成
例１と同様に樹脂を回収した。この樹脂をエチルセロソ
ルブアセテートに固形分が３０重量％になるように溶解
したのち、この樹脂溶液の重量に対し、０.３倍のヘプ
タンを加えて攪拌し、放置した。放置することにより２
層に分離したのち、樹脂溶液層（下層）を取り出し、濃
縮し脱水し乾燥して樹脂を回収しＭｗを測定したところ
４,３００であった。この樹脂を、樹脂（Ａ７）とい
う。

【００５９】合成例８ 合成例１で用いたのと同様のフラスコに、 メタクレゾール １３.０ｇ（０.１２モル） ３,５−キシレノール ３９.１ｇ（０.３２モル） ３７重量％ホルムアルデヒド水溶液 ７５.５ｇ （ホルムアルデヒド：０.９３モル） および シュウ酸２水和物 ０.１２６ｇ（１×１０^-4モル） を仕込み、フラスコを油浴に浸し、内温を１００℃に保
持して攪拌しながら３０分間重縮合を行ったのちに、 メタクレゾール ５１.９ｇ（０.４８モル） および ３,５−キシレノール ９.７８ｇ（０.０８モル） を加えてさらに６０分間重縮合を行った。その後、合成
例１と同様に樹脂を回収した。この樹脂をエチルセロソ
ルブアセテートに固形分が３０重量％になるように溶解
したのち、この樹脂溶液の重量に対し、０.４５倍のメ
タノールを加えて攪拌し、放置した。放置することによ
り２層に分離したのち、樹脂溶液層（下層）を取り出
し、濃縮し脱水し乾燥して樹脂を回収しＭｗを測定した
ところ４,０００であった。この樹脂を、樹脂（Ａ８）
という。

【００６０】合成例９ 合成例１で用いたのと同様のフラスコに、 メタクレゾール １３.０ｇ（０.１２モル） パラクレゾール ３２.４ｇ（０.３０モル） ３,５−キシレノール ３９.０ｇ（０.３２モル） ３７重量％ホルムアルデヒド水溶液 ５６.９ｇ （ホルムアルデヒド：０.７０モル） および シュウ酸２水和物 ０.０８３ｇ（６.６×１０^-4モル） を仕込み、フラスコを油浴に浸し、内温を１００℃に保
持して攪拌しながら３０分間重縮合を行ったのちに、 メタクレゾール ５１.９ｇ（０.４８モル） および ３,５−キシレノール ９.７７ｇ（０.０８モル） を加えてさらに４５分間重縮合を行った。その後、合成
例１と同様に樹脂を回収しＭｗを測定したところ８,９
００であった。この樹脂を、樹脂（Ａ９）という。

【００６１】合成例１０ 合成例１で用いたのと同様のフラスコに、 メタクレゾール １３.０ｇ（０.１２モル） ３,５−キシレノール ２９.３ｇ（０.２４モル） ２,３,５−トリメチルフェノール ２.７２ｇ（０.０２モル） ３７重量％ホルムアルデヒド水溶液 ７３.０ｇ （ホルムアルデヒド：０.９０モル） および シュウ酸２水和物 ０.６３ｇ（５×１０^-3モル） を仕込み、フラスコ油浴に浸し、内温を１００℃に保持
して攪拌しながら６０分間重縮合を行ったのちに、 メタクレゾール ５１.９ｇ（０.４８モル） ３,５−キシレノール ７.３３ｇ（０.０６モル） および ２,３,５−トリメチルフェノール １０.９ｇ（０.０８モル） を加えてさらに１２０分間重縮合を行った。その後、合
成例１と同様に樹脂を回収しＭｗを測定したところ４,
３００であった。この樹脂を、樹脂（Ａ１０）という。

【００６２】合成例１１ オートクレーブに メタクレゾール ８６.５ｇ（０.８モル） ２,３,５−トリメチルフェノール ２７.２ｇ（０.２モル） ３７重量％ホルムアルデヒド水溶液 ７５.１ｇ （ホルムアルデヒド：０.９２５モル） シュウ酸２水和物 ６.３０ｇ（０.０５モル） 水 ６６.４ｇ および ジオキサン ３４１.１ｇ を仕込み、オートクレーブを油浴に浸し、内温を１３０
℃に保持して攪拌しながら７時間重縮合を行い、反応
後、室温まで戻し、内容物をビーカーに取り出した。こ
のビーカー中で２層に分離したのち、下層を取り出し、
濃縮し脱水し乾燥して樹脂を回収しＭｗを測定したとこ
ろ９,５００であった。この樹脂を樹脂（Ａ１１）とい
う。

【００６３】合成例１２ 合成例１で用いたのと同様のフラスコに、 メタクレゾール １０３.８ｇ（０.９６モル） パラクレゾール ４３.３ｇ（０.４０モル） ２,３,５−トリメチルフェノール １０.９ｇ（０.０８モル） ３７重量％ホルムアルデヒド水溶液 １３８ｇ （ホルムアルデヒド：１.７０モル） および シュウ酸２水和物 １.２６ｇ（０.０１モル） を仕込み、フラスコを油浴に浸し、内温を１００℃に保
持して攪拌しながら３０分間重縮合を行ったのちに、 メタクレゾール ２６.０ｇ（０.２４モル） および ２,３,５−トリメチルフェノール ４３.６９ｇ（０.３２モル） を加えてさらに４０分間重縮合を行った。その後、合成
例１と同様に樹脂を回収した。この樹脂をエチルセロソ
ルブアセテートに固形分が３０重量％になるように溶解
したのち、この樹脂溶液の重量に対し、等量のメタノー
ルと０.７５倍の水を加えて攪拌し、放置した。放置す
ることにより２層に分離したのち、樹脂溶液層（下層）
を取り出し、濃縮し脱水し乾燥して樹脂を回収しＭｗを
測定したところ８,８００であった。この樹脂を、樹脂
（Ａ１２）という。

【００６４】合成例１３ 合成例１で用いたのと同様のフラスコに、 メタクレゾール ２１.６ｇ（０.２０モル） ３,５−キシレノール ５８.６ｇ（０.４８モル） ３７重量％ホルムアルデヒド水溶液 １４２ｇ （ホルムアルデヒド：１.７５モル） および シュウ酸２水和物 ０.５０４ｇ（４×１０^-3モル） を仕込み、フラスコを油浴に浸し、内温を１００℃に保
持して攪拌しながら４０分間重縮合を行ったのちに、 メタクレゾール ８６.６ｇ（０.８０モル） ３,５−キシレノール １４.７ｇ（０.１２モル） および ２,５−キシレノール ４８.９ｇ（０.４０モル） を加えてさらに１００分間重縮合を行った。その後、合
成例１と同様に樹脂を回収しＭｗを測定したところ４,
０５０であった。この樹脂を、樹脂（Ａ１３）という。

【００６５】合成例１４ オートクレーブに メタクレゾール ７０.３ｇ（０.６５モル） ２,５−キシレノール ２４.４ｇ（０.２０モル） ２,３,５−トリメチルフェノール ２０.４ｇ（０.１５モル） ３７重量％ホルムアルデヒド水溶液 ７７.１ｇ （ホルムアルデヒド：０.９５モル） シュウ酸２水和物 ２.５２ｇ（０.０２モル） 水 ３７.８ｇ および ジオキサン ２５９ｇ を仕込み、オートクレーブを油浴に浸し、内温を１３０
℃に保持して攪拌しながら７時間重縮合を行い、反応
後、室温まで戻し、内容物をビーカーに取り出した。こ
のビーカー中で２層に分離したのち、下層を取り出し、
濃縮し脱水し乾燥して樹脂を回収しＭｗを測定したとこ
ろ９,９００であった。この樹脂を樹脂（Ａ１４）とい
う。

【００６６】＜化合物（Ａ）の略称＞以下において、化
合物（Ａ）である、１,１,３−トリス（４−ヒドロキシ
フェニル）プロパンを化合物（Ａ１）、１,１,３−トリ
ス（２,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロ
パンを化合物（Ａ２）、１,１,３−トリス（４−ヒドロ
キシフェニル）ブタンを化合物（Ａ３）、１,１,３−ト
リス（２,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−
３−フェニルプロパンを化合物（Ａ４）、１,１,３−ト
リス（４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパ
ンを化合物（Ａ５）、と略称する。

【００６７】＜感放射線性化合物の合成＞ 合成例１７ 遮光下で、攪拌機、滴下ロートおよび温度計を装着した
フラスコに、 化合物（Ａ１） ３２.０ｇ（０.１モル） １,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド ５３.７ｇ（０.２モル） および ジオキサン １００ｇ を仕込、攪拌しながら溶解させた。次いで、フラスコを
３０℃に保持した水浴中に浸し、内温が３０℃一定とな
った時点で、この溶液に トリエチルアミン ２２.３ｇ（０.２２モル） を、内温が３５℃を超えないよう滴下ロートを用いてゆ
っくり滴下した。その後、析出したトリエチルアミン塩
酸塩を濾過により取り除き、濾液を大量の希塩酸中に注
ぎ込んで析出させ、次いで、析出物を濾取し、４０℃に
保った加熱真空乾燥機で一昼夜乾燥して反応生成物を得
た。この反応生成物をＮＱＤ１という。

【００６８】合成例１８ 化合物（Ａ２） ４０.５ｇ（０.１モル） １,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド ６７.２ｇ（０.２５モル） ジオキサン １００ｇ および トリエチルアミン ２７.９ｇ（０.２７５モル） を使用した他は合成例１７と同様にして反応生成物を得
た。この反応生成物をＮＱＤ２という。

【００６９】合成例１９ 化合物（Ａ３） ３３.４ｇ（０.１モル） １,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド ６７.２ｇ（０.２５モル） ジオキサン １００ｇ および トリエチルアミン ２７.９ｇ（０.２７５モル） を使用した他は合成例１７と同様にして反応生成物を得
た。この反応生成物をＮＱＤ３という。

【００７０】合成例２０ 化合物（Ａ４） ４８.１ｇ（０.１モル） １,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド ５３.７ｇ（０.２０モル） ジオキサン １００ｇ および トリエチルアミン ２２.３ｇ（０.２２モル） を使用した他は合成例１７と同様にして反応生成物を得
た。この反応生成物をＮＱＤ４という。

【００７１】合成例２１ 化合物（Ａ５） ３９.６ｇ（０.１モル） １,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド ５３.７ｇ（０.２０モル） ジオキサン １００ｇ および トリエチルアミン ２２.３ｇ（０.２２モル） を使用した他は合成例１７と同様にして反応生成物を得
た。この反応生成物物をＮＱＤ５という。

【００７２】合成例２２ 樹脂（Ｂ１） １０.０ｇ １,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド ５３.７ｇ ジオキサン １００ｇ および トリエチルアミン ５.７５ｇ を使用した他は合成例１７と同様にして感放射線性化合
物（Ｉ）を得た。

【００７３】合成例２３ 樹脂（Ｂ２） １０.０ｇ １,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド ５３.７ｇ ジオキサン １００ｇ および トリエチルアミン ６.８６ｇ を使用した他は合成例１７と同様にして感放射線性化合
物（ＩＩ）を得た。

【００７４】＜実施例１〜１８、比較例１〜６＞樹脂
Ａ、感放射線性化合物および溶剤を混合し、均一溶液と
したのち、孔径０.２μｍのメンブランフィルターで濾
過し、組成物の溶液を調整した。得られた溶液を、シリ
コン酸化膜を有するシリコンウェハー上にスピンナーを
用いて塗布したのち、ホットプレート上で９０℃にて
１.５分間プレベークして、厚さ１.２μｍのレジスト膜
を形成し、レクチルを介して、前記のように波長４３６
ｎｍ（ｇ線）または波長３６５ｎｍ（ｉ線）を用いて露
光し現像しリンスし乾燥したのち、該組成物の感度、解
像度、耐熱性、残膜率、現像性およびパターン形状につ
いての評価を行った。結果を、使用した樹脂と併せて、
表１に示す。なお、実施例１〜９および比較例１〜３
は、ｇ線を照射し、実施例１０〜１８および比較例４〜
６は、ｉ線を照射した。

【００７５】

【表１】

【００７６】（注１）添加量は重量部で示した。 （注２）樹脂（Ａ）のＸは、次のものである。メタクレ
ゾール／ホルマリン＝１／０.９（モル比）の割合のモ
ノマーをシュウ酸触媒を用い、合成例１と同様の方法で
得られた、分子量Ｍw：９,６００のノボラック樹脂。 （注３）溶解促進剤αおよびβは、次のものである。 α：１,１,１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタ
ン β：１,１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フ
ェニルエタン

【００７７】（注４）感放射線性化合物ＩおよびＩＩ
は、次のものである。 Ｉ：２,３,４−トリヒドロキシベンゾフェノン １.０
モルと、１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン
酸クロリド２.６モルとの縮合物。 ＩＩ：２,３,４,４’−テトラヒドロキシベンゾフェノ
ン １モルと、１,２−ナフトキノンジアジド−５−ス
ルホン酸クロリド４.０モルとの縮合物。 （注５）溶剤の種類は、次の通りである。 Ｓ１：エチルセロソルブアセテート Ｓ２：２−ヒドロキシプロピオン酸エチル Ｓ３：３−メトキシプロピオン酸メチル

【００７８】

【発明の効果】本発明の感放射線性樹脂組成物は、現像
性に優れていると共に、高感度かつ高解像度であり、パ
ターン形状、耐熱性、露光余裕、残膜性にも優たポジ型
レジストとして好適に使用できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三浦 孝夫 東京都中央区築地二丁目11番24号 日本 合成ゴム株式会社内 (56)参考文献 特開 平４−50851（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−1652（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G03F 7/004 - 7/18

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）パラクレゾール、キシレノールお
   よびトリメチルフェノールよりなる群から選ばれる少な
   くとも１種の（ポリ）メチル置換フェノール類並びにメ
   タクレゾールとを、アルデヒド類と重縮合して得られた
   アルカリ可溶性ノボラック樹脂、および（Ｂ）下記構造
   式（１） 【化１】 で表わされる化合物のキノンジアジドスルホン酸エステ
   ルの少なくとも１種、を含有することを特徴とする感放
   射線性樹脂組成物。