JP2793544B2 - シャドウマスクおよびこれを用いたカラー受像管と、このシャドウマスク用アンバー合金原板の製造方法ならびにこのシャドウマスクの製造方法 - Google Patents

シャドウマスクおよびこれを用いたカラー受像管と、このシャドウマスク用アンバー合金原板の製造方法ならびにこのシャドウマスクの製造方法

Info

Publication number
JP2793544B2
JP2793544B2 JP8027376A JP2737696A JP2793544B2 JP 2793544 B2 JP2793544 B2 JP 2793544B2 JP 8027376 A JP8027376 A JP 8027376A JP 2737696 A JP2737696 A JP 2737696A JP 2793544 B2 JP2793544 B2 JP 2793544B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
shadow mask
alloy
picture tube
color picture
cleanliness
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP8027376A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH08273554A (ja
Inventor
普三 菅井
二美男 盛
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP8027376A priority Critical patent/JP2793544B2/ja
Publication of JPH08273554A publication Critical patent/JPH08273554A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2793544B2 publication Critical patent/JP2793544B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Continuous Casting (AREA)
  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明はシャドウマスクおよ
びこれを用いたカラー受像管と、このシャドウマスク用
アンバー合金原板の製造方法ならびにこのシャドウマス
クの製造方法に関し、更に詳しくは、エッチング加工し
て開孔マトリックスを形成したときに表面欠陥が少なく
なるシャドウマスクおよびこれを用いたカラー受像管
と、このシャドウマスク用アンバー合金原板の製造方法
ならびにこのシャドウマスクの製造方法に関する。 【0002】 【従来の技術】カラー受像管蛍光面の直前には、所定の
設計基準に基づいてマトリックス状に穿設された多数の
開孔を有するシャドウマスクが配設されている。後方の
電子銃から射出された電子ビームは、これら開孔を通過
して蛍光面における所定位置の蛍光ドットに照射されて
そこにカラー画像を再現せしめる。 【0003】しかしながら、このとき射出された電子ビ
ームの全てが開孔を通過するわけではなく、一部はシャ
ドウマスクを直撃して該シャドウマスクを加熱する。そ
の結果、シャドウマスクは熱膨張して開孔の位置が設計
基準の位置からずれて変位し、蛍光面における色ずれ現
象を招くことがある。 【0004】このため、従来は、シャドウマスクをバイ
メタルで支持し加熱時のバイメタルによる湾曲を利用し
てシャドウマスク全体を蛍光面に近づけ、これにより設
計基準位置からのずれを修正するという方法が採られて
いる。 【0005】また最近では、低熱膨張特性を備えたNi
−Fe系合金であって36Ni−Feに代表されるアン
バー合金でシャドウマスクそれ自体を構成して色ずれ現
象を防止するということが試みられている。 【0006】ところで、このアンバー合金からシャドウ
マスクを製造する場合には、まず、所定の組成となるよ
うにNi,Feなどの各金属を溶解して合金塊を鋳造す
る。ついで得られた合金塊に鍛造、圧延の各処理を施し
て所定厚み(通常0.1〜0.3mm)の原板とする。
そして、この原板の開孔位置を例えば塩化第二鉄溶液で
エッチング加工して所定形状の開孔をマトリックス状に
穿設する。その後、全体を例えばスチームで酸化して、
熱輻射能の向上、乱反射の防止のために表面を黒化す
る。 【0007】一方、原板の素材として用いられるアンバ
ー合金には各種のものが知られているが、おしなべて、
Ni,Feなどの合金マトリックスの中に、MnO,S
iO2 ,MgO,Al2 3 ,MnS,TiCなどの酸
化物、硫化物、炭化物に代表され、エッチングに影響を
与える非金属介在物が微粒子の形で均一に分散されてい
るのが通例である。 【0008】 【発明が解決しようとする課題】上記した合金組織にな
っているアンバー合金の原板にエッチング加工を施す
と、これら非金属介在物とマトリックス成分とのエッチ
ング速度および電位が異なることに起因(一般に非金属
介在物の周囲のエッチング速度は極めて速い)して、形
状、大きさなどが設計基準から逸脱したり、開孔内壁面
の凹凸が激しくなったりしてシャドウマスクの孔形状欠
陥が発生したり孔径の不均一が発生する。 【0009】開孔がこのように不均一な状態になってい
ると、電子銃から射出された電子ビームはこの開孔形
状、内壁状態の不規則性によって照射経路が妨害される
ために適正な状態で蛍光面に照射されないこととなり、
色ムラ現象が生起する。 【0010】本発明は、エッチング加工時における孔形
状欠陥や孔径の不均一の発生が大いに抑制されるアンバ
ー合金原板を用いたシャドウマスクおよびこれを用いた
カラー受像管の提供を目的とする。 【0011】 【課題を解決するための手段】本発明者らは上記問題を
解決するために鋭意研究を重ねた結果、これら孔形状欠
陥等は原板の面内及び原板の厚み方向のいずれにおいて
も非金属介在物が均一に分散していることに起因すると
の知見を得た。つまり、エッチングは表面部から行われ
るので、時間的に余分にエッチングを受ける表面部の開
孔の横方向の広がりが、厚さ方向の中心部に比べて大き
くなるからである。 【0012】そしてこの知見に基づき、原板における非
金属介在物の分散態様とエッチング後の孔形状欠陥等と
の関係について種々の実験を重ねて調査した。その結
果、原板の表面における非金属介在物の存在量をその中
心部の存在量よりも少なくすると、非金属介在物とマト
リックス成分とのエッチング速度および電位が異なるこ
とにより、非金属介在物の周囲のエッチング速度が極め
て速いため、非金属介在物の存在量が多い中心部でのエ
ッチング速度が増大し、孔形状欠陥の発生および孔径の
不均一が抑制されるとの事実を見出し、本発明を開発す
るに至った。 【0013】すなわち本発明のシャドウマスクおよびこ
れを用いたカラー受像管と、このシャドウマスク用アン
バー合金原板の製造方法ならびにこのシャドウマスクの
製造方法は、アンバー合金原板を用いて製造するシャド
ウマスクにおいて、前記アンバー合金原板の表面部にお
ける非金属介在物の存在量が、前記アンバー合金原板の
中心部における存在量よりも少なく、かつ前記表面部に
おけるJIS G 0555で規定する方法で測定した
清浄度が0.01%以下であり、前記中心部におけるJ
IS G 0555で規定する方法で測定した清浄度が
0.03%以下であるアンバー合金原板を用いたことを
特徴とするシャドウマスク、およびアンバー合金原板か
らなるシャドウマスクを用いて製造するカラー受像管に
おいて、前記アンバー合金原板の表面部における非金属
介在物の存在量が、前記アンバー合金原板の中心部にお
ける存在量よりも少なく、かつ前記表面部におけるJI
SG 0555で規定する方法で測定した清浄度が0.
01%以下であり、前記中心部におけるJIS G 0
555で規定する方法で測定した清浄度が0.03%以
下であるアンバー合金原板を用いたことを特徴とするカ
ラー受像管、さらに所望する組成のアンバー合金となる
ように各成分金属を所定量配合した後溶解し、得られた
合金融液を連続鋳造によりインゴットとし、その後分塊
圧延、熱間圧延、冷間圧延を順次行うことを特徴とする
シャドウマスク用アンバー合金原板の製造方法、さらに
所望する組成のアンバー合金となるように各成分金属を
所定量配合した後溶解、鋳造して得られるシャドウマス
ク用アンバー合金原板のJIS G 0555で規定す
る方法で測定した清浄度が前記シャドウマスク用アンバ
ー合金原板の表面部で0.01%以下、前記シャドウマ
スク用アンバー合金原板の中心部で0.03%以下とな
るようにすることを特徴とするシャドウマスク用アンバ
ー合金原板の製造方法ならびに所望する組成のアンバー
合金となるように各成分金属を所定量配合した後溶解
し、得られた合金融液を連続鋳造によりインゴットと
し、その後分塊圧延、熱間圧延、冷間圧延を順次行い得
られたアンバー合金原板をエッチングすることを特徴と
するシャドウマスクの製造方法である。 【0014】この場合、原板表面部における非金属介在
物の存在量はJIS G 0555で規定する方法で測
定した清浄度が0.01%以下であり、また中心部にお
けるJIS G 0555で規定する方法で測定した清
浄度が0.03%以下であるが、その理由を以下に記載
する。 【0015】原板表面部の清浄度が0.01%よりも大
きい場合には、そこに分散する非金属介在物の存在量が
多いがゆえにエッチング加工時において孔形状欠陥およ
び開孔形状の不良を発生し易くなり、また中心部の清浄
度が0.03%よりも大きい場合には、穿設された開孔
の内壁面に露出する非金属介在物の量が多くなるがゆえ
にここを通過する電子ビームがその適正な進路を妨害さ
れる機会が増大して不都合であるからである。 【0016】ここにおいて、形成される開孔は電子ビー
ムの適正な通過を確保する見地から、図1に示す如く原
板1の表面部における開孔2の直径Rと中心部における
直径rとの間に4r>Rなる関係があることが望まし
い。 【0017】このようにして、開孔の内径が表面部から
中心部にわたって均一に近くなると、シャドウマスク自
体の強度が増大することもわかった。 【0018】 【発明の実施の形態】本発明のシャドウマスク、カラー
受像管に用いるアンバー合金原板は例えば次のようにし
て製造することができる。 【0019】まず所望する組成のアンバー合金となるよ
うに各成分金属を所定量配合してこれを溶解したり又は
所定組成のアンバー合金それ自体を溶解する。そして得
られた合金融液を連続鋳造してインゴットにする。 【0020】この連続鋳造により、合金融液は従来のバ
ッチ式の鋳造の場合に比べて大きな冷却速度で表面部か
ら冷却し、その結果、マトリックス中の非金属介在物は
中心部にむかって凝集することになる。つまり、インゴ
ットの表面から中心部にむけて非金属介在物の濃度勾配
が形成される。 【0021】この連続鋳造における鋳型サイズ、冷却水
量、鋳塊引上げ速度のような条件を適宜組み合わせて選
定することにより、最終的に得られた原板における非金
属介在物の清浄度を制御することが可能となる。 【0022】本発明の原板における前述した好ましい清
浄度の分布を得るためには、例えば、鋳型断面サイズを
厚さ100〜200mm,幅500〜1300mm,冷
却水量200〜500l/分,鋳塊引上げ速度400〜
2500mm/分とすることが好適である。 【0023】このようにして得られる鋳塊は、急冷によ
ってその表面部では介在物が少なく、中心部ほど介在物
が多い分布となる。 【0024】連続鋳造して得られたインゴットを通常の
方法に従って鍛造、圧延することにより所定厚みの板材
にまで加工することにより本発明のシャドウマスク、カ
ラー受像管に用いる原板が得られる。 【0025】(実施例) (1)原板の製造 組成が、Ni36重量%,Mn0.3重量%,Si0.
1重量%,Ti0.02重量%,残部Feであるアンバ
ー合金をルツボにとり、1580℃で溶解した。得られ
た融液をタンディッシュから流出速度600kg/分で
流出させ連続鋳造した。このときタンディッシュからピ
ンチロールまでの距離6mの間で850℃にまで冷却し
た。冷却速度140℃/分。 【0026】得られたインゴットを常法に従って分塊圧
延し、更に熱間圧延、冷間圧延を施して最終的に厚み
0.2mmのアンバー合金板とした。 【0027】(2)清浄度の測定 分塊圧延後の試料を厚み方向に切断し、その切断面を研
磨した。この切断面につきJIS G 0555に準拠
した方法で表面から中心部にかけて清浄度を測定した。
顕微鏡の倍率400倍、視野数60であった。 【0028】表面から中心部までの距離に対する表面か
らある箇所までの距離の比をxとしたとき、このxと、
清浄度との関係を表1に示した。なお、本願で中心部と
は、xの比が0.5以上の内側をいう。 【0029】 【表1】 (3)エッチング後の孔形状欠陥 (1)で得られた原板を常法に従って塩化第二鉄溶液で
エッチングして、設計基準が0.2mmφの開孔である
開孔マトリックスを形成してシャドウマスクを製作し
た。 【0030】このシャドウマスクを2個の支持具によっ
て水平に支持し、その斜上方から光を照射して、表面の
反射状態を目視観察した。 【0031】その結果、表面は略均質な反射状態を呈
し、部分的なしみ模様等は観察されなかった。これは、
シャドウマスクに孔形状欠陥が存在しないことを立証す
る現象である。 【0032】比較のために、非金属介在物が清浄度0.
09%で均一に分散している従来のアンバー合金原板を
用いたことを除いては、実施例と同様にしてシャドウマ
スクを製作し、孔形状欠陥の有無を観察したところ、シ
ャドウマスクの表面には島状に複数の模様が観察され
た。 【0033】 【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
用いるアンバー合金の原板からシャドウマスクを製作し
た場合、孔形状欠陥や孔径の不均一の発生が従来の原板
と比べて極端に減少する。また、原板の製造は連続鋳造
法で行われるので、生産性も高くなりコスト低下が可能
となって有用である。
【図面の簡単な説明】 【図1】本発明に用いる合金原板をエッチング加工して
形成した開孔を示す断面図である。 【符号の説明】 1…原板 2…開孔
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C22C 38/08 C22C 38/08

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 1.アンバー合金原板を用いて製造するシャドウマスク
    において、前記アンバー合金原板の表面部における非金
    属介在物の存在量が、前記アンバー合金原板の中心部に
    おける存在量よりも少なく、かつ前記表面部におけるJ
    ISG 0555で規定する方法で測定した清浄度が
    0.01%以下であり、前記中心部におけるJIS G
    0555で規定する方法で測定した清浄度が0.03
    %以下であるアンバー合金原板を用いたことを特徴とす
    るシャドウマスク。 2.非金属介在物は酸化物、硫化物、炭化物である請求
    項1記載のシャドウマスク。 3.非金属介在物はMnO,SiO2 ,MgO,Al2
    3 ,MnS,TiCである請求項1または2記載のシ
    ャドウマスク。 4.アンバー合金原板の表面部における開孔の直径を
    R、中心部における開孔の直径をrとした時、4r>R
    の関係を有する請求項1ないし3いずれか1項に記載の
    シャドウマスク。 5.アンバー合金原板からなるシャドウマスクを用いて
    製造するカラー受像管において、前記アンバー合金原板
    の表面部における非金属介在物の存在量が、前記アンバ
    ー合金原板の中心部における存在量よりも少なく、かつ
    前記表面部におけるJIS G 0555で規定する方
    法で測定した清浄度が0.01%以下であり、前記中心
    部におけるJIS G 0555で規定する方法で測定
    した清浄度が0.03%以下であるアンバー合金原板を
    用いたことを特徴とするカラー受像管。 6.非金属介在物は酸化物、硫化物、炭化物である請求
    項5記載のカラー受像管。 7.非金属介在物はMnO,SiO2 ,MgO,Al2
    3 ,MnS,TiCである請求項5または6記載のカ
    ラー受像管。 8.アンバー合金原板の表面部における開孔の直径を
    R、中心部における開孔の直径をrとした時、4r>R
    の関係を有する請求項5ないし7いずれか1項に記載の
    カラー受像管。 9.所望する組成のアンバー合金となるように各成分金
    属を所定量配合した後溶解し、得られた合金融液を連続
    鋳造によりインゴットとし、その後分塊圧延、熱間圧
    延、冷間圧延を順次行い得られる、表面部における非金
    属介在物の存在量が、中心部における存在量よりも少な
    く、かつ前記表面部におけるJIS G 0555で規
    定する方法で測定した清浄度が0.01%以下、前記中
    心部におけるJIS G 0555で規定する方法で測
    定した清浄度が0.03%以下のシャドウマスク用アン
    バー合金原板をエッチングすることを特徴とするシャド
    ウマスクの製造方法。 10.連続鋳造の際に、鋳型断面サイズを厚さ100〜
    200mm、幅500〜1300mmとする請求項
    載のシャドウマスクの製造方法。 11.連続鋳造の際に、冷却水量200〜500l/分
    とする請求項9または10記載のシャドウマスクの製造
    方法。 12.連続鋳造の際に、鋳塊引上げ速度400〜250
    0mm/分とする請求項9ないし11いずれか1項に記
    載のシャドウマスクの製造方法。
JP8027376A 1996-01-23 1996-01-23 シャドウマスクおよびこれを用いたカラー受像管と、このシャドウマスク用アンバー合金原板の製造方法ならびにこのシャドウマスクの製造方法 Expired - Lifetime JP2793544B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8027376A JP2793544B2 (ja) 1996-01-23 1996-01-23 シャドウマスクおよびこれを用いたカラー受像管と、このシャドウマスク用アンバー合金原板の製造方法ならびにこのシャドウマスクの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8027376A JP2793544B2 (ja) 1996-01-23 1996-01-23 シャドウマスクおよびこれを用いたカラー受像管と、このシャドウマスク用アンバー合金原板の製造方法ならびにこのシャドウマスクの製造方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61125677A Division JPH0738297B2 (ja) 1986-06-02 1986-06-02 シヤドウマスク用アンバー合金原板

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11854997A Division JP2799166B2 (ja) 1997-05-09 1997-05-09 シャドウマスクの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH08273554A JPH08273554A (ja) 1996-10-18
JP2793544B2 true JP2793544B2 (ja) 1998-09-03

Family

ID=12219337

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8027376A Expired - Lifetime JP2793544B2 (ja) 1996-01-23 1996-01-23 シャドウマスクおよびこれを用いたカラー受像管と、このシャドウマスク用アンバー合金原板の製造方法ならびにこのシャドウマスクの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2793544B2 (ja)

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS613835A (ja) * 1984-06-19 1986-01-09 Nippon Mining Co Ltd Fe−Ni系合金の製造方法
JPS6184356A (ja) * 1984-09-29 1986-04-28 Dainippon Printing Co Ltd 微細エッチング加工用素材

Also Published As

Publication number Publication date
JPH08273554A (ja) 1996-10-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2007231423A (ja) 鉄/ニッケル合金のシャドーマスクの製造方法
JPS61223188A (ja) エツチング時のスジむらの発生を抑制したシヤドウマスク用鉄−ニツケル系合金
JP2793544B2 (ja) シャドウマスクおよびこれを用いたカラー受像管と、このシャドウマスク用アンバー合金原板の製造方法ならびにこのシャドウマスクの製造方法
JP2799166B2 (ja) シャドウマスクの製造方法
JPH09143625A (ja) シャドウマスク用Fe−Ni系合金素材
JPH0738297B2 (ja) シヤドウマスク用アンバー合金原板
JPS6364514B2 (ja)
JP2002030389A (ja) エッチング穿孔性に優れたFe−Ni系合金シャドウマスク用素材
JP3157239B2 (ja) シャドウマスク材
JP3509643B2 (ja) 薄板化した後のエッチング性に優れた低熱膨張合金鋼スラブおよびその製造方法
JPH1180839A (ja) スジむら抑制効果に優れた電子部品用低熱膨張合金薄板の製造方法
JP2795028B2 (ja) エッチング加工性に優れたシャドウマスク用金属薄板
JPH1040827A (ja) シャドウマスクの製造方法
JPH0569601B2 (ja)
JP2001262231A (ja) エッチング穿孔性に優れたFe−Ni系合金シャドウマスク用素材の製造方法
JPH03191024A (ja) シャドウマスク用鉄―ニッケル基合金素材の製造方法
JP2001303198A (ja) エッチング穿孔性に優れたFe−Ni系合金シャドウマスク用素材並びに介在物の簡易観察方法および電子線透過孔均一性の判別方法
JP3615300B2 (ja) スジむら発生のないシャドウマスク用素材の製造方法
JPS63286524A (ja) シヤドウマスクの製造方法
JPS6316525A (ja) シヤドウマスクの製造方法
JPH11189846A (ja) エッチング穿孔性に優れたFe−Ni系合金シャドウマスク用素材
JPH1150200A (ja) エッチング性に優れた電子部品用低熱膨張合金薄板
JPH05144384A (ja) シヤドウマスク用素材
JPH0738296B2 (ja) シヤドウマスク用アンバー合金原板
JP2000096190A (ja) エッチング時にすじむらが発生しないシャドウマスク用素材およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term